JPS617509A - 片面絶縁導体の製造方法 - Google Patents

片面絶縁導体の製造方法

Info

Publication number
JPS617509A
JPS617509A JP12961484A JP12961484A JPS617509A JP S617509 A JPS617509 A JP S617509A JP 12961484 A JP12961484 A JP 12961484A JP 12961484 A JP12961484 A JP 12961484A JP S617509 A JPS617509 A JP S617509A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductor
electrodeposition
foil
layer
electrodeposited
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP12961484A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0414448B2 (ja
Inventor
中尾 貞夫
英二 石橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainichi Nippon Cables Ltd
Original Assignee
Dainichi Nippon Cables Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainichi Nippon Cables Ltd filed Critical Dainichi Nippon Cables Ltd
Priority to JP12961484A priority Critical patent/JPS617509A/ja
Publication of JPS617509A publication Critical patent/JPS617509A/ja
Publication of JPH0414448B2 publication Critical patent/JPH0414448B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Processes Specially Adapted For Manufacturing Cables (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Insulated Conductors (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 I 技術分野 本発明は、箔状導体の片面が電着層で絶縁さtした片面
絶縁導体の製造方法に関するものである。
得らnた片面絶縁導体は、可とう性プリント配線用基板
、電磁シーμド材などとして用いらILる。
11  背景技術 従来、片面絶縁導体の製造方法における電着層形成方式
としては、マスキングフィルム接着方式が知らルていた
。この方式は、箔状導体の絶縁しない面にマスキングフ
ィルムを接着し、こnを電着浴に浸漬導入して実質的に
片面のみに電着層を形成したのち該フィルムを取り除く
ものである。
しかしながら、この方式には、マスキングフィルム、そ
の接着工程、取り除き工程などを必要とする欠点があっ
た。
一方1本発明者らが属するグループは、上記の欠点を克
服した方式を先に提案している。そ1しは、ロール密接
方式と2枚重合せ方式である。前者は、電着浴に一部を
浸漬させたロールに箔状導体を密接するように導入して
電着浴内を通過させ電着層を他面に形成するものでめ9
.後者は箔状導体の2枚を重合せて電着浴に浸漬導入し
、重合せ面線外の面に電着層を形成するものである。
本発明は、電着層の形成を電着塗料片面接触方式で行う
ことを特徴とする片面絶縁導体の製造方法を提供するも
のである。これは、本質的にマスキング方式に属ざない
ものの開発を目的としてなしたものである。
… 発明の開示 本発明の片面絶縁導体の製造方法は、電着浴の電着塗料
に対し箔状導体をその片面が接触する状態に連続的に導
入し、箔状導体が前記電着浴部を通過する間に電着処理
して箔状導体の片面に電着層を形成し、得ら1した電着
層形成導体全焼付は処理することを内容とする。
本発明において用いらILる箔状導体としては、例えば
厚さ5〜500μm1好ましくは10〜200μm、特
に好ましくは15〜100μmの銅箔、アルミニウム箔
、鉄箔のような金属箔など?あけることができる。その
幅は、5〜200crnが一般的であるが、こrtに限
定さILない。
また、電着塗料としては1例えば水あるいは水と有機溶
剤との混合溶剤音用いた分散型ないし溶液型のアニオン
系又はカチオン系塗料をあけることができる。すなわち
、その例としてはアクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、アクリル酸エステル、メタクリlv酸エステル、ア
クロレインなどからなる群の1種又は2種以上と、グリ
シジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリ
フレグリシジルエーテル、アクリルアミド、メチロール
アクリルアミド、エチロールアクリルアミドなどからな
る群の1種又は2種以上と、アクリ/L/酸、メタクリ
ル酸、エチルアクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、ツ
マ−μ酸などからなる群の1種又は2種以上とを適宜に
反応させて共重合させた、あるいはさらにスチレン又は
アμキルヌチレン、ジビニルベンゼン、クロロスチレン
のようなスチレン誘導体全配合した重合度がi o、o
 o o −t、ooo、oo。
の樹脂を水に分散させた焼付は処理により橋かけ構造形
成能を有するフェスなどをあげることができる。もちろ
ん、電着塗料は上記のものに限定ζnるものでない。
本発明の方法においては、まず電着浴の電着塗料に対し
箔状導体をその片面が接触する状態に連続的に導入する
。その導入方式としては1例えば電着浴より電着塗料を
オーバーフローさせてそのオー7< −−y a −5
に対シて導入するオーバーフロ一方式(第1図)、多孔
板を介して下方より電着塗料を供給し、多孔板の上部に
電着塗料層を形成させてこの層に導入する方式、電着浴
9としての板21の側方より電着塗料10全供給し、板
の上部に電着塗料層を形成させてこの層に導入する方式
(第2図)、比較的大型のプール状電着浴の電虜塗狛の
表面ないし表層に導入する方式などをあげることかでき
る。もちろん、上記の方式に限定さ匙ない。なお、上記
した多孔板又は板を用いる方式においては当該板を電着
浴における電極に兼ねさせてもよい。一方、導入する箔
状導体の端部を折り曲けて電着塗料が該導体の電着処理
しない面に流入しないように対処し−Cもよい。
第1図は、上記のオーバーフロ一方式を適用した本発明
の方法を表わしたものである。すなわち、まず電着浴9
より電層塗料lO全オーバーフローさせてそのオーバー
フロー液に対し箔状導体2をその片面が接触する状態に
連続的に導入する。こILにより、箔状導体の片面と電
着塗料との接触状態が形成さnて電着処理が可能となる
。なお、図の実施例では巻取りロール1より送9出さn
た箔状導体が方向転、換ロール8.4を介してオーバー
フロー液に列し連続的に導入さfるようになっている。
また、オーバーフロー液の過分は、電着浴の浴槽の外構
部9bに受は入nらn、新たに供給さ扛た電着塗料とと
もに循環ポンプ7と連結パイプ8を介して浴槽の水槽9
aに戻さfるようになっている。こうして、電着塗料の
オーバーフロー状態が維持さnる。オーバーフロ一方式
において電着浴の浴槽の幅−実施例においては水槽9a
の幅−は、導入する箔状導体の幅よりも狭くすることが
箔状導体のオーバーフロー液との接触面以外の面(実施
例では上面)にオーバーフロー液の及ぶことを防止する
点で、ひいては箔状導体の片面のみに電着層を形成する
点で望ましい。狭くする幅の程度は、電着塗料の粘度、
オーバーフロー状態、箔状導体の導入速度などの電着条
件に応じ適宜決定さルる。通常の場合、その程度は5〜
20mが適当である。すなわち、浴槽の外側面が箔状導
体の端よす2.5〜10覇程度内側に位置する状態を両
側Vこ形成しうる程度が適当である。
次に、導入した箔状導体2を電着塗料のオーバーフロー
液eこ接触させたまま電着浴部を通過させ、通過する間
に電着処理して箔状導体の片面(接触部)に電着層を形
成する。こうして、片面pこ電着層を有する電着層形成
導体12が得らnる。電着処理は、箔状導体と電着塗料
との間に電位差(電着電圧)を与えることにより行われ
るのであるが、図では箔状導体にはロール電極5を介し
て、電着塗料には板電極6を介して電着電圧を与えてい
る。
図における電極は、電着塗料がアニオン系のものである
のでロー/L/電極が陽極とざnている。なお、電着塗
料中に板電極6を設ける場合には、板電極をネットなど
の多孔板とすることが、オーバーフロー液面の乱れなど
を防止するうえで好ましい。
また、11は方向転換リールであるがこnは、対向する
方向転換ロー)v4とともに眠盾浴に可能なかぎり近接
させて設けである。方向転換ロール4と11との間隙を
可能なかさ゛り狭<L、−C1この間における箔状導体
の振1nf防止ないし抑制し、箔状導体とオーバーフロ
ー液との平面的な接触状態を維持して厚さの均一性にす
ぐ几るt着層を形成するためである。常温における一般
的な電着処理条件としては、電着電圧1〜60■、導入
通過速度1〜10fflん、電着塗料の固形分濃度10
〜25%、通過(処理)時間1〜60秒間などが適当で
ある。
ついで、得らnた電着層形成導体12を焼付は処理する
のであるが、本発明においては焼付は処理に先立って溶
剤処理、予備焼付は処理をすることが好ましい。
図において18は、電着層形成導体12における電着層
を溶剤処理するための溶剤処理室である。
電着層を溶剤で処理することにより電着樹脂粒子間の凝
結が促進さnてピンホールなどのない絶縁性にすぐする
電着絶縁層が形成さnやすくなる利点がある。その際、
用いる溶剤としては例えば、エチレングリコ−/1/%
グリセリンのようなアルコール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレンクリコールジグチpエーテ
ル、エチレングリコ−pモノフェニルエーテルのような
エチレングリコールエーテル、N、N−ジメチルホルム
アミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチ/L
/−2−ピロリドンのような含窒素溶剤、ジメチルスル
ホキシド ができる。また、高温(800〜600℃)水蒸気で処
理してもよい。特に、N,N−ジメチルホμムアミド,
N,N−ジメチルアセトアミドなどが好ましく用いらf
る。蒸気状態のこ扛らの溶剤で処理することがより好ま
しい。溶剤処理は、溶剤の種類や温度などの条件により
適宜決定さ牡るが通常8〜80秒間で十分で必る。
他方、予備焼付は処理は、後続の本焼付は処理を円滑に
行うためのものであり、本焼付は温度の1/8〜815
の温度を有する予備処理室14を5秒〜2分間かけて通
過式せることにより行わ1しる。
この処理は,箔状導体の電着層を有しない面(N出面)
の酸化を防止ないし抑制するために非酸化性雰囲気で行
うことが望ましいが、処理温度が比較的低いので空気雰
囲気であってもよい。
焼付は処理は、必要に応じ溶剤処理、予備焼付は処理さ
nた電着層形成導体12を加熱処理して電着層と箔状導
体とを強固に接着させるために行う。この際、橋かけ構
造形成能を有する電着量料金用いた場合には、橋かけ構
造を形成させるべく処理される。焼付は処理は、図にお
いて焼付は炉17を通過させることにより行わnるが、
通常300〜500℃、10秒〜2分間の加熱処理で十
分である。また、焼付は処理は箔状導体の露出面の酸化
を防止ないし抑制するためにアルゴンガスのような希ガ
ス雰囲気、チッ素ガス雰囲気、還元性雰囲気などの非酸
化性雰囲気で行う”ことが望ましい。特に、プリント配
線用基板としての片面絶縁導体を得ることを目的とする
場合には、焼付は処理を非酸化性雰囲気で行って露出面
への回路配線の形成や半田付けなどが容易なものとする
ことが好ましい。こうして通常、厚さ5〜100μmの
電着絶縁層金有する片面絶縁導体18が得らILる。
なお、図において15,16、19は方向転換ロールで
あり、20は得られた片面絶縁導体18の巻取りロール
である。一方、場合によっては得らnた片面絶縁導体の
両端部を取り除くための、あるいは用途に応じた幅のも
のとするための切断手段、例えばカッタ(図示せず)な
どを該ローμm9と巻取りロー/l/ 20との間など
に設けてもよい。
1■  発明の利点 本発明によtば、箔状導体にマスク処理を施場ないで簡
便な装置により′、かつ、簡単な操作、少ない工程数で
片面絶縁導体を連続的に生産効率よく得ることができる
。また、電着絶縁層の厚さなどを容易に調節できるとと
、もに、薄くても絶縁性にすぐnる電着絶縁層を実質的
に箔状導体の片面のみに直接に、かつ、強固な接着状態
で形成できて、接着剤などの接合材を要しない利点も有
している。
加えて、得られた片面絶縁導体は可とり性、絶縁性、絶
縁層の平滑性にすぐ1し、かつ、比較的耐熱性にもすぐ
Iして直接半田付けが可能であり、また箔状導体と絶縁
層とが剥離しにくい。その結果、信頼性、長期安定性に
すぐれる利点を有しており、可とう性プリント配線用基
板、電磁シールド材などとして好ましく用いらnる。
■ 実施例 幅150■、長i200tm、深さ180mの氷槽(9
a’)の周囲に外構(9b)を有する浴槽にアクリル系
水分散型電着塗料(固形分15%、PH4,5,V−5
51−20:菱電化成社製)を入Iした電着浴(9)よ
り、循環ポンプ(7)、連結ノくイブ(8)を介して電
着塗料を過剰ぎみに本槽内に供給することによって電着
塗料をオーバーフローさせ、この状態を維持はせた。オ
ーバーフロー液の高さは、氷槽の頂点上方約5朝であっ
た。
次に、形成さnたオーバフロー液に対し幅160覇、厚
さ85μmの銅箔f 8 m、7分の速度で連続的に導
入した。銅箔の両端はそnぞn前記木樽(9a)の外側
面より5喘はみ出した状態にめった。また、銅箔の片面
と接触したオーバーフロー液は、銅箔の幅方向の全部に
行きわたる状態にあっ起。
ついで、上記の状態を維持させたまま銅箔を電層処理し
た。すなわち、電着浴部を通過させた。
電着処理条件は、電着電圧15v、温度25℃、通電時
間約4秒間(導入通過速度sm7’分)、陽極:銅箔で
あった。
続いて、得らIした電着層形成導体(12)f:N、N
−ジメチルホルムアミド蒸気雰囲気を形成した溶剤処理
室(18)に導入し15秒間かけて電着層を溶剤処理し
た。
そののち、溶剤処理し7ヒ該導体(12)を温度180
℃、空気雰囲気の予備処理室(14)に導入し80秒間
かけて予備焼付は処理して電着層を乾燥させた。
最後に、予備焼付は処理した該導体(12)’Th温度
860℃、チッ累雰囲気の焼付は炉(17)に導入し8
0秒間かけて加熱処理し、電着層が橋かけ横進を形成し
た目的物の片面絶縁導体(18)を得た。その電着絶縁
層の厚さは40μmでめった。また、片面絶縁導体よ0
電着絶縁層を剥ぎとることはできなかった。
得らrした該導体の特性を次の方法によって評価した。
(1)絶縁破壊電圧 長さ105の試料の電着絶縁面上に幅5III+11、
長さ80箇、厚み4mの銅板をのせ、試料の絶縁きれて
いない面と銅板との間に電圧を500 v/秒の昇圧速
度で印加することにより行った。
(2)半田耐熱性 JIS 0 6481に従い、温度800℃、80秒間
の条件で行った。
(8)耐熱性 1180 6481に従い、温度260℃、1時間の条
件で行った。
結果は、絶縁破壊電圧が6.OKVであり、半田耐熱性
及び耐熱性のいずnの試験にも合格した。
【図面の簡単な説明】
第1図は、オーバーフロ一方式を適用した実施例のフロ
ーチャート、第2図は板を用いて形成した電着浴の例を
表わした説明断面図である。 2:箔状導体、5:ローμ電極、6:多孔板電極、9:
電着浴、10:電着塗料、12:を着層形成導体、18
二m剤処理室、14:予備処理室、17:焼付は炉、1
8二片面絶縁導体、21:板

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、電着浴の電着塗料に対し箔状導体をその片面が接触
    する状態に連続的に導入し、箔状導体が前記電着浴部を
    通過する間に電着処理して箔状導体の片面に電着層を形
    成し、得られた電着層形成導体を焼付け処理することを
    特徴とする片面絶縁導体の製造方法。 2、電着層形成導体を溶剤処理したのちに焼付け処理す
    る特許請求の範囲第1項記載の方法。
JP12961484A 1984-06-21 1984-06-21 片面絶縁導体の製造方法 Granted JPS617509A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12961484A JPS617509A (ja) 1984-06-21 1984-06-21 片面絶縁導体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12961484A JPS617509A (ja) 1984-06-21 1984-06-21 片面絶縁導体の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS617509A true JPS617509A (ja) 1986-01-14
JPH0414448B2 JPH0414448B2 (ja) 1992-03-12

Family

ID=15013817

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12961484A Granted JPS617509A (ja) 1984-06-21 1984-06-21 片面絶縁導体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS617509A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08105U (ja) * 1987-10-19 1996-01-23 株式会社吉野工業所 液体噴出器
JP2008222546A (ja) * 2007-03-08 2008-09-25 Special Coating Lab Internatl 液体中の成分の濃度調節装置、特に、光学ガラスまたは他の基板用のワニスタンクに入れるワニスの組成に含まれるアルコールの濃度調節装置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8692442B2 (en) 2012-02-14 2014-04-08 Danfoss Polypower A/S Polymer transducer and a connector for a transducer
US8891222B2 (en) 2012-02-14 2014-11-18 Danfoss A/S Capacitive transducer and a method for manufacturing a transducer

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58174271A (ja) * 1982-04-05 1983-10-13 Showa Electric Wire & Cable Co Ltd 片面絶縁被覆金属テ−プの製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58174271A (ja) * 1982-04-05 1983-10-13 Showa Electric Wire & Cable Co Ltd 片面絶縁被覆金属テ−プの製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08105U (ja) * 1987-10-19 1996-01-23 株式会社吉野工業所 液体噴出器
JP2008222546A (ja) * 2007-03-08 2008-09-25 Special Coating Lab Internatl 液体中の成分の濃度調節装置、特に、光学ガラスまたは他の基板用のワニスタンクに入れるワニスの組成に含まれるアルコールの濃度調節装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0414448B2 (ja) 1992-03-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3981691A (en) Metal-clad dielectric sheeting having an improved bond between the metal and dielectric layers
DE1078197B (de) Gedruckte Schaltung
US4735676A (en) Method for forming electric circuits on a base board
JPS5856758B2 (ja) ドウハクヒヨウメンシヨリホウホウ
KR930008926B1 (ko) 구리얼룩 방지방법 및 구리얼룩 방지처리 용액
US4783247A (en) Method and manufacture for electrically insulating base material used in plated-through printed circuit panels
JPS617509A (ja) 片面絶縁導体の製造方法
DE3828700C2 (de) Kupferplattierter Leiterrahmen für Halbleiter-Kunststoff-Gehäuse
JPH09272994A (ja) ファインパターン用電解銅箔
JPS60258492A (ja) 錫メツキ線の製造方法
US3770594A (en) Plating metal onto small flexibly based conductors
US1509101A (en) Process and apparatus for coating wire
JP3086376B2 (ja) 平角状超薄膜絶縁電線の製造方法
JPH111793A (ja) リフロー半田めっき材およびその製造方法
US4876116A (en) Metal conductors with improved solderability
JPS6248089A (ja) 金属芯基板及びその製造法
US4334973A (en) Process for electrophoretically forming an imide coating on wire
JPH0680894B2 (ja) 金属コアプリント基板の製造方法
EP0186655A2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Verbundleiterplatte
JP2000178793A (ja) 金属ポリイミド基板の製造方法
RU1470116C (ru) Способ изготовления электрического провода с полиимидной изоляцией
JPS62226695A (ja) 回路ボ−ドの製造方法
JPS5814759B2 (ja) スルホ−ルを有す印刷配線板用金属材料基板へ樹脂層を塗布形成させる方法
JPS6248087A (ja) アルミニウム芯基板及びその製造方法
JPS6341996B2 (ja)