JPS5817607A - イオンプレ−テイング装置 - Google Patents
イオンプレ−テイング装置Info
- Publication number
- JPS5817607A JPS5817607A JP11529281A JP11529281A JPS5817607A JP S5817607 A JPS5817607 A JP S5817607A JP 11529281 A JP11529281 A JP 11529281A JP 11529281 A JP11529281 A JP 11529281A JP S5817607 A JPS5817607 A JP S5817607A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- back roller
- source
- ferromagnetic metal
- strip
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
- H01F41/20—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates by evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高抗磁力の磁気記録媒体の得られるイオンブ
レーティング装置に関するものである。
レーティング装置に関するものである。
オーディオやＶＴＲ，磁気ディスク等に用いられる磁気
記録媒体として、最近、基体に強磁性体金属をこの基体
の法線からある入射角をもって斜めに蒸着したものが実
用化されるようになってきた。
記録媒体として、最近、基体に強磁性体金属をこの基体
の法線からある入射角をもって斜めに蒸着したものが実
用化されるようになってきた。
この斜め蒸着による磁気記録媒体は、従来は第１図に示
す通り、基体として帯状材１を用い、この帯状材１がバ
ックローラ２に接触しガイドされ始める箇所６で、蒸発
ｉ［ｔ４からの強磁性体金属５が付着するようにしてい
る。そのために蒸発した強磁性体金属５の何割かは帯状
材１に付着することなくガイド６等に付着し浪費される
欠点がある。
す通り、基体として帯状材１を用い、この帯状材１がバ
ックローラ２に接触しガイドされ始める箇所６で、蒸発
ｉ［ｔ４からの強磁性体金属５が付着するようにしてい
る。そのために蒸発した強磁性体金属５の何割かは帯状
材１に付着することなくガイド６等に付着し浪費される
欠点がある。
また、このようなｐスを少しでも改善するために入射角
を低くして強磁性体金属を（１シ状材に付着することも
あるが、抗磁力が低下する欠点があった。
を低くして強磁性体金属を（１シ状材に付着することも
あるが、抗磁力が低下する欠点があった。
本発明は９以上の欠点を改良し、高抗磁力の磁気記録媒
体が得られ１強磁性体金属の付着効率を改善しうるイオ
ンブレーティング装置の提供を目的とするものである。
体が得られ１強磁性体金属の付着効率を改善しうるイオ
ンブレーティング装置の提供を目的とするものである。
上記の目的を達成するために９本発明は、基体に強磁性
体金属を斜めに付着しパックルーラにより冷却し５るイ
オンブレーティング装置において。
体金属を斜めに付着しパックルーラにより冷却し５るイ
オンブレーティング装置において。
槽内に酸素ガスを充填し、パックルーラに脈流又は任意
の周期のパルス電圧を印加することを特徴とするイオン
ブレーティング装置を提供するものである。
の周期のパルス電圧を印加することを特徴とするイオン
ブレーティング装置を提供するものである。
以下１本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第２図において、１１は円筒状の真空槽であり。
一部が突起１２状になっており、真空排気系に接続され
、槽１１内を所定の真空度に保持するようになっている
。１６はこの真空槽１１内に酸素ガスを導入し充填する
ためのノズルである。１４はプラスチックフィルム等の
帯状材１５を供給する供給ローラである。１６は帯状材
１５を巻き取るための巻取ｐ−ラである。１７及び１８
は帯状材１５をガイドするための案内ローラである。１
９はバックローラであり、帯状材１５に付着した強磁性
体金属を冷却するものである。２０はバックローラ１９
の下部に配設された平板状のマスクである。２１は蒸発
源であり、コバルト等の強磁性体金属２２が収容されて
おり、マスク２０の一側端の下部に配設され特に真空槽
１１と絶縁されている。２６はバンクローラ１９と蒸発
源２１との間に脈流又はパルス電圧を印加しうる電源で
ある。
、槽１１内を所定の真空度に保持するようになっている
。１６はこの真空槽１１内に酸素ガスを導入し充填する
ためのノズルである。１４はプラスチックフィルム等の
帯状材１５を供給する供給ローラである。１６は帯状材
１５を巻き取るための巻取ｐ−ラである。１７及び１８
は帯状材１５をガイドするための案内ローラである。１
９はバックローラであり、帯状材１５に付着した強磁性
体金属を冷却するものである。２０はバックローラ１９
の下部に配設された平板状のマスクである。２１は蒸発
源であり、コバルト等の強磁性体金属２２が収容されて
おり、マスク２０の一側端の下部に配設され特に真空槽
１１と絶縁されている。２６はバンクローラ１９と蒸発
源２１との間に脈流又はパルス電圧を印加しうる電源で
ある。
すなわち、電源２２により第３図仔）又は（ロ）に示す
通りの脈流又はパルス電圧をハックμｍう１９と蒸発源
２１との間に印加する。蒸発源２１に収容された強磁性
体金属２２は加熱溶融され蒸発し、ノ・７クローラ１９
と蒸発源２１との間に形成されたプラズマ中を通過する
際にイオン化されて正イオンとなるとともにプラズマ中
の電界により加速されて帯状材１５に付着する。付着し
た強磁性体金属はバックローラ１９により直ちに冷却さ
れ帯状材１５に固着される。そしてバックローラ１９と
蒸発源２１との間には脈流又はパルス電圧が印加されて
いるので強磁性体金属２２が帯状材１５に付着する速度
が周期的に変化し、しかも酸素が充填されているので、
付着速度により強磁性体金属２２とその酸化物とが生じ
帯状材１５の表面に交互に積層される。従って、全体と
して高抗磁力の金属層が形成される。
通りの脈流又はパルス電圧をハックμｍう１９と蒸発源
２１との間に印加する。蒸発源２１に収容された強磁性
体金属２２は加熱溶融され蒸発し、ノ・７クローラ１９
と蒸発源２１との間に形成されたプラズマ中を通過する
際にイオン化されて正イオンとなるとともにプラズマ中
の電界により加速されて帯状材１５に付着する。付着し
た強磁性体金属はバックローラ１９により直ちに冷却さ
れ帯状材１５に固着される。そしてバックローラ１９と
蒸発源２１との間には脈流又はパルス電圧が印加されて
いるので強磁性体金属２２が帯状材１５に付着する速度
が周期的に変化し、しかも酸素が充填されているので、
付着速度により強磁性体金属２２とその酸化物とが生じ
帯状材１５の表面に交互に積層される。従って、全体と
して高抗磁力の金属層が形成される。
例えば、基体に厚さ３６μのポリエステルフィルムから
なる帯状材１５を用い、真空槽１１内にはアルゴンと酸
素との混合ガスを充填して３Ｘ１０Ｔｏｒｒの真空度と
し、バックローラ１９と蒸発源２１との間に周波数２．
０ Ｈｌｇ 、実効値５ＫＶの脈流を印加し、フィルム
上に１５０ＯＡの厚さの強磁性体金属とその酸化物との
積層物からなる金属層を形成した本発明による磁気記録
媒体と、真空度が同一で電圧３ＫＶの直流電圧を印加し
基体等の条件を同一にして製造した従来の磁気記録媒体
との入射角に対する抗磁力を測定したところ第４図に示
すグラフの通りの結果が得られた。すなわち１本考案に
よれば。
なる帯状材１５を用い、真空槽１１内にはアルゴンと酸
素との混合ガスを充填して３Ｘ１０Ｔｏｒｒの真空度と
し、バックローラ１９と蒸発源２１との間に周波数２．
０ Ｈｌｇ 、実効値５ＫＶの脈流を印加し、フィルム
上に１５０ＯＡの厚さの強磁性体金属とその酸化物との
積層物からなる金属層を形成した本発明による磁気記録
媒体と、真空度が同一で電圧３ＫＶの直流電圧を印加し
基体等の条件を同一にして製造した従来の磁気記録媒体
との入射角に対する抗磁力を測定したところ第４図に示
すグラフの通りの結果が得られた。すなわち１本考案に
よれば。
低入射角度においても高抗磁力の磁気記録媒体が得られ
９例えば、５０度の入射角において本発明によればＨｃ
＝９５０エルステッドで従来は５７０エルステ、トとな
り、前者による方が約１７倍の値を示している。
９例えば、５０度の入射角において本発明によればＨｃ
＝９５０エルステッドで従来は５７０エルステ、トとな
り、前者による方が約１７倍の値を示している。
以上の通り１本発明によれば、抗磁力が改善され、特に
低入射角度における抗磁力の改善が著しく入射角度を高
くすることなく金属層を形成できるので強磁性体金属が
マスクや真空層の内壁に付着して浪費される割合を減少
できる等積々の効果を有するイオンブレーティング装置
が得られる。
低入射角度における抗磁力の改善が著しく入射角度を高
くすることなく金属層を形成できるので強磁性体金属が
マスクや真空層の内壁に付着して浪費される割合を減少
できる等積々の効果を有するイオンブレーティング装置
が得られる。
第１図は従来のイオンブレーティング装置の断面図、第
２図は本発明の実施例の断面図、第３Ｍピ）及び（ロ）
は印加電圧の波形、第４図は入射角度を変えた際の抗磁
力の変化のグラフを示す。 １１・・・・・・真空槽、１５・・・・・・帯状材。 １９・・・・・・バックローラ、２１・・・・・・蒸発
源。 ２２・・・・・・強磁性体金属、２６・・・・・・電源
。 特許出願人 日立コンデンサ株式会社
２図は本発明の実施例の断面図、第３Ｍピ）及び（ロ）
は印加電圧の波形、第４図は入射角度を変えた際の抗磁
力の変化のグラフを示す。 １１・・・・・・真空槽、１５・・・・・・帯状材。 １９・・・・・・バックローラ、２１・・・・・・蒸発
源。 ２２・・・・・・強磁性体金属、２６・・・・・・電源
。 特許出願人 日立コンデンサ株式会社
Claims (1)
- １１１ 基体に強磁性体金属を該基体の法線に対して
所定の入射角度で斜めに付着しバックμ−ラにより冷却
しうるイオンブレーティング装置において、槽内に酸素
ガスを充填し、バックローラに脈流又は任意の周期のパ
ルス電圧を印加することを特徴とするイオンブレーティ
ング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11529281A JPS5817607A (ja) | 1981-07-24 | 1981-07-24 | イオンプレ−テイング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11529281A JPS5817607A (ja) | 1981-07-24 | 1981-07-24 | イオンプレ−テイング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5817607A true JPS5817607A (ja) | 1983-02-01 |
| JPH0143446B2 JPH0143446B2 (ja) | 1989-09-20 |
Family
ID=14659040
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11529281A Granted JPS5817607A (ja) | 1981-07-24 | 1981-07-24 | イオンプレ−テイング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5817607A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60155427U (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-16 | 株式会社 カリタ | コ−ヒ−抽出装置 |
| EP0160479A2 (en) * | 1984-04-24 | 1985-11-06 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for forming a thin film |
| US5015493A (en) * | 1987-01-11 | 1991-05-14 | Reinar Gruen | Process and apparatus for coating conducting pieces using a pulsed glow discharge |
-
1981
- 1981-07-24 JP JP11529281A patent/JPS5817607A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60155427U (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-16 | 株式会社 カリタ | コ−ヒ−抽出装置 |
| EP0160479A2 (en) * | 1984-04-24 | 1985-11-06 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for forming a thin film |
| US5015493A (en) * | 1987-01-11 | 1991-05-14 | Reinar Gruen | Process and apparatus for coating conducting pieces using a pulsed glow discharge |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0143446B2 (ja) | 1989-09-20 |
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