JPH0143447B2 - - Google Patents
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- JPH0143447B2 JPH0143447B2 JP11529381A JP11529381A JPH0143447B2 JP H0143447 B2 JPH0143447 B2 JP H0143447B2 JP 11529381 A JP11529381 A JP 11529381A JP 11529381 A JP11529381 A JP 11529381A JP H0143447 B2 JPH0143447 B2 JP H0143447B2
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- ferromagnetic metal
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- ion plating
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
- H01F41/20—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates by evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
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- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高抗磁力の磁気記録媒体を製造しう
るイオンプレーテイング装置に関するものであ
る。
るイオンプレーテイング装置に関するものであ
る。
オーデイオやVTR、磁気デイスク等に用いら
れる磁気記録媒体として、高記録密度や小型化等
のために、基体に強磁性体金属をこの基体の法線
からある入射角をもつて斜めに蒸着したものが用
いられるようになつてきた。
れる磁気記録媒体として、高記録密度や小型化等
のために、基体に強磁性体金属をこの基体の法線
からある入射角をもつて斜めに蒸着したものが用
いられるようになつてきた。
この斜め蒸着による磁気記録媒体は、従来は第
1図に示す通り、基体としては帯状材1を用い、
この帯状材1がバツクローラに接触しガイドされ
始める箇所3で、蒸発源4から強磁性体金属5が
付着するようにしている。そのため、蒸発した強
磁性体金属5の何割かは帯状材1に付着すること
なくガイド等6に付着し浪費される欠点がある。
また、このようなロスを少しでも改善するために
入射角を低くして強磁性体金属を帯状材に付着す
ることもあるが、抗磁力が低下する欠点があつ
た。
1図に示す通り、基体としては帯状材1を用い、
この帯状材1がバツクローラに接触しガイドされ
始める箇所3で、蒸発源4から強磁性体金属5が
付着するようにしている。そのため、蒸発した強
磁性体金属5の何割かは帯状材1に付着すること
なくガイド等6に付着し浪費される欠点がある。
また、このようなロスを少しでも改善するために
入射角を低くして強磁性体金属を帯状材に付着す
ることもあるが、抗磁力が低下する欠点があつ
た。
本発明は、以上の欠点を改良し、高抗磁力の磁
気記録媒体が得られ、強磁性体金属の付着効率を
改善しうるイオンプレーテイング装置の提供を目
的とするものである。
気記録媒体が得られ、強磁性体金属の付着効率を
改善しうるイオンプレーテイング装置の提供を目
的とするものである。
本発明は、上記の目的を達成するために、基体
に強磁性体金属を斜めに付着しうるイオンプレー
テイング装置において、槽内に酸素ガスを充填
し、強磁性体金属の蒸発路の途中にコイルを配設
し該コイルに振幅変調波または周波数変調波を流
すことを特徴とするイオンプレーテイング装置を
提供するものである。
に強磁性体金属を斜めに付着しうるイオンプレー
テイング装置において、槽内に酸素ガスを充填
し、強磁性体金属の蒸発路の途中にコイルを配設
し該コイルに振幅変調波または周波数変調波を流
すことを特徴とするイオンプレーテイング装置を
提供するものである。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。
る。
第2図において、11は円筒状の真空槽であ
り、一部が突起12状になつており、真空排気系
に接続され槽11内を所定の真空度に保持するよ
うになつている。13はこの真空槽11内に酸素
ガスを導入し充填するためのノズルである。14
はプラスチツクフイルム等の帯状材15を供給し
うる供給ローラである。16は帯祥材15を巻き
取るための巻取ローラである。17及び18は帯
状材15をガイドするための案内ローラである。
19はバツクローラであり、帯状材15に付着し
た強磁性体金属を冷却するもので、電源20によ
り直流電圧が印加されている。21はバツクロー
ラ19の下部に配設されている平板状のマスクで
ある。22は蒸発源であり、半円筒状のルツボか
らなり、コバルト等の強磁性体金属23が収容さ
れている。24はバツクローラ19と蒸発源22
の間に強磁性体金属23の蒸発路の途中に配設さ
れたコイルであり、電源25により振幅変調波ま
たは周波数変調波が通電される。
り、一部が突起12状になつており、真空排気系
に接続され槽11内を所定の真空度に保持するよ
うになつている。13はこの真空槽11内に酸素
ガスを導入し充填するためのノズルである。14
はプラスチツクフイルム等の帯状材15を供給し
うる供給ローラである。16は帯祥材15を巻き
取るための巻取ローラである。17及び18は帯
状材15をガイドするための案内ローラである。
19はバツクローラであり、帯状材15に付着し
た強磁性体金属を冷却するもので、電源20によ
り直流電圧が印加されている。21はバツクロー
ラ19の下部に配設されている平板状のマスクで
ある。22は蒸発源であり、半円筒状のルツボか
らなり、コバルト等の強磁性体金属23が収容さ
れている。24はバツクローラ19と蒸発源22
の間に強磁性体金属23の蒸発路の途中に配設さ
れたコイルであり、電源25により振幅変調波ま
たは周波数変調波が通電される。
すなわち、バツクローラ19には直流電圧が印
加され、コイルには第3図イまたはロに示す通り
の振幅変調波または周波数変調波が流れるので、
蒸発源22に収容され加熱溶融された強磁性体金
属23は蒸発の過程で何%かがイオン化され帯状
材15に付着する。この際、コイル24に流れる
信号の作用により強磁性体金属23が帯状材15
に付着する速度が周期的に変化する。そして真空
槽11内には酸素が充填されているので、付着速
度の変化により帯状材15の表面には強磁性体金
属23とその酸化物とが交互に積層される。その
ため、従来よりも高抗磁力の磁気記録媒体が得ら
れる。
加され、コイルには第3図イまたはロに示す通り
の振幅変調波または周波数変調波が流れるので、
蒸発源22に収容され加熱溶融された強磁性体金
属23は蒸発の過程で何%かがイオン化され帯状
材15に付着する。この際、コイル24に流れる
信号の作用により強磁性体金属23が帯状材15
に付着する速度が周期的に変化する。そして真空
槽11内には酸素が充填されているので、付着速
度の変化により帯状材15の表面には強磁性体金
属23とその酸化物とが交互に積層される。その
ため、従来よりも高抗磁力の磁気記録媒体が得ら
れる。
例えば、基体に厚さ36μのポリエステルフイル
ムを用い、真空槽11内にはアルゴンと酸素との
混合ガスを充填して3×10-4Torrの真空度とし、
バツクローラ19には3KVの直流電圧を印加し、
コイル25には周波数20Hz、実効値0.3Aの振幅
変調電流を流しフイルム上に強磁性体金属とその
酸化物とからなる厚さ1500Aの金属層を形成した
本発明による磁気記録媒体と、コイル25に周波
数20Hz、実効値0.3Aの正弦波を流し他の条件は
本発明と同一にして製造した従来のものについ
て、強磁性体金属の入射角に対する抗磁力を測定
したところ第4図に示すグラフの通りの結果が得
られた。すなわち、本考案によれば、低入射角に
おいても高抗磁力の磁気記録媒体が得られ、例え
ば、40度の入射角において本発明によればHc=
950エルステツドであり、従来がHc=600エルス
テツドであるから約1.6倍改良されている。
ムを用い、真空槽11内にはアルゴンと酸素との
混合ガスを充填して3×10-4Torrの真空度とし、
バツクローラ19には3KVの直流電圧を印加し、
コイル25には周波数20Hz、実効値0.3Aの振幅
変調電流を流しフイルム上に強磁性体金属とその
酸化物とからなる厚さ1500Aの金属層を形成した
本発明による磁気記録媒体と、コイル25に周波
数20Hz、実効値0.3Aの正弦波を流し他の条件は
本発明と同一にして製造した従来のものについ
て、強磁性体金属の入射角に対する抗磁力を測定
したところ第4図に示すグラフの通りの結果が得
られた。すなわち、本考案によれば、低入射角に
おいても高抗磁力の磁気記録媒体が得られ、例え
ば、40度の入射角において本発明によればHc=
950エルステツドであり、従来がHc=600エルス
テツドであるから約1.6倍改良されている。
なお、電源20によりバツクローラ19に脈流
や方形波の電圧を印加すれば、その周波数等の選
択によりコイルによる効果と相乗され、強磁性体
金属23の付着速度が変化するので、同じように
強磁性体金属23とその酸化物とが帯状材表面に
交互に積層され抗磁力が改善される。
や方形波の電圧を印加すれば、その周波数等の選
択によりコイルによる効果と相乗され、強磁性体
金属23の付着速度が変化するので、同じように
強磁性体金属23とその酸化物とが帯状材表面に
交互に積層され抗磁力が改善される。
以上の通り、本発明によれば、抗磁力が改善さ
れ、特に、低入射角度における抗磁力の改善が著
しく、入射角度を高くすることなく金属層を形成
できるので蒸発した強磁性体金属がマスクや真空
槽の内壁に付着して浪費される割合を減少できる
等種々の効果を有するイオンプレーテイング装置
が得られる。
れ、特に、低入射角度における抗磁力の改善が著
しく、入射角度を高くすることなく金属層を形成
できるので蒸発した強磁性体金属がマスクや真空
槽の内壁に付着して浪費される割合を減少できる
等種々の効果を有するイオンプレーテイング装置
が得られる。
第1図は従来のイオンプレーテイング装置の断
面図、第2図は本発明の実施例の断面図、第3図
イ及びロはコイルに流す振幅変調波または周波数
変調波の波形、第4図は強磁性体金属の入射角度
を変化した場合の抗磁力の変化のグラフを示す。 11……真空槽、13……ノズル、15……帯
状材、19……バツクローラ、23……強磁性体
金属、24……コイル、25……電源。
面図、第2図は本発明の実施例の断面図、第3図
イ及びロはコイルに流す振幅変調波または周波数
変調波の波形、第4図は強磁性体金属の入射角度
を変化した場合の抗磁力の変化のグラフを示す。 11……真空槽、13……ノズル、15……帯
状材、19……バツクローラ、23……強磁性体
金属、24……コイル、25……電源。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 基体に強磁性体金属を該基体の法線に対して
所定の入射角度で斜めに付着しうるイオンプレー
テイング装置において、槽内に酸素ガスを充填
し、強磁性体金属の蒸発路の途中にコイルを配設
し該コイルに振幅変調波または周波数変調波を流
すことを特徴とするイオンプレーテイング装置。 2 基体に接する電極に脈流または方形波を印加
する特許請求の範囲第1項記載のイオンプレーテ
イング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11529381A JPS5817608A (ja) | 1981-07-24 | 1981-07-24 | イオンプレ−テイング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11529381A JPS5817608A (ja) | 1981-07-24 | 1981-07-24 | イオンプレ−テイング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5817608A JPS5817608A (ja) | 1983-02-01 |
JPH0143447B2 true JPH0143447B2 (ja) | 1989-09-20 |
Family
ID=14659064
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11529381A Granted JPS5817608A (ja) | 1981-07-24 | 1981-07-24 | イオンプレ−テイング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5817608A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60155427U (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-16 | 株式会社 カリタ | コ−ヒ−抽出装置 |
-
1981
- 1981-07-24 JP JP11529381A patent/JPS5817608A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5817608A (ja) | 1983-02-01 |
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