JPH01166329A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH01166329A JPH01166329A JP32460387A JP32460387A JPH01166329A JP H01166329 A JPH01166329 A JP H01166329A JP 32460387 A JP32460387 A JP 32460387A JP 32460387 A JP32460387 A JP 32460387A JP H01166329 A JPH01166329 A JP H01166329A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic recording
- recording medium
- magnetic layer
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 abstract description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 abstract description 5
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 abstract description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 abstract description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 9
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- BCCOBQSFUDVTJQ-UHFFFAOYSA-N octafluorocyclobutane Chemical compound FC1(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F BCCOBQSFUDVTJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019407 octafluorocyclobutane Nutrition 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒
体の製造方法に関するものであり、特に高周波側での出
力が高く、耐久性、耐蝕性に優れた磁気記録媒体の製造
法を提供するものである。
体の製造方法に関するものであり、特に高周波側での出
力が高く、耐久性、耐蝕性に優れた磁気記録媒体の製造
法を提供するものである。
従来の技術
金属薄膜型磁気記録媒体の耐久性、耐蝕性の向上に対す
る保護膜形成法としては１塗布法、２スパッタ法、３有
機蒸着法、４プラズマＣＶＤ法などが知られている。
る保護膜形成法としては１塗布法、２スパッタ法、３有
機蒸着法、４プラズマＣＶＤ法などが知られている。
この中で、プラズマＣＶＤ法は各種ガスをプラズマ中で
活性な状態に励起させて保護膜をつくる方法である。特
に金属薄膜型の磁気記録媒体においては、この金属面に
通電する方法によるＤＣプラズマＣＶＤ法が可能とな９
、より強固な保護膜をつくることができる。
活性な状態に励起させて保護膜をつくる方法である。特
に金属薄膜型の磁気記録媒体においては、この金属面に
通電する方法によるＤＣプラズマＣＶＤ法が可能とな９
、より強固な保護膜をつくることができる。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、磁気記録媒体に通電するローラーがメタ
ルローラーの場合、微弱な電流では欠陥の発生はないが
、流す電流が大きくなると電流の集中により発熱し、こ
の熱により非磁性基板であるポリエチレンテレフタレー
ト（Ｐ Ｅ ’Ｉ）が熱により磁気記録媒体として使え
なくなる。一方これを防ぐため通電ローラーを絶縁性の
もの又はアースにおとさないものにする°と、ローラー
と媒体の間で電流が流れないため欠陥は発生しないが媒
体が帯電し、異常放電が発生するという問題があった。
ルローラーの場合、微弱な電流では欠陥の発生はないが
、流す電流が大きくなると電流の集中により発熱し、こ
の熱により非磁性基板であるポリエチレンテレフタレー
ト（Ｐ Ｅ ’Ｉ）が熱により磁気記録媒体として使え
なくなる。一方これを防ぐため通電ローラーを絶縁性の
もの又はアースにおとさないものにする°と、ローラー
と媒体の間で電流が流れないため欠陥は発生しないが媒
体が帯電し、異常放電が発生するという問題があった。
すなわちＤＣプラズマＣＶＤ法によりたとえばダイヤモ
ンド状炭素膜を金属薄膜型磁気記録媒体の保護膜として
形成すると、この媒体のスチル耐久性、走行耐久性を著
しく向上できる。しかし、流れる電流が大きくなるとメ
タルローラーにおいては磁気テープ表面への電流の局部
集中がおこり、その発熱のためＰＥＴが局部的にダメー
ジを受けて磁気テープには致命的欠陥となる。つまり、
ドロップアウトの増加やヘッド目づまりの原因となる。
ンド状炭素膜を金属薄膜型磁気記録媒体の保護膜として
形成すると、この媒体のスチル耐久性、走行耐久性を著
しく向上できる。しかし、流れる電流が大きくなるとメ
タルローラーにおいては磁気テープ表面への電流の局部
集中がおこり、その発熱のためＰＥＴが局部的にダメー
ジを受けて磁気テープには致命的欠陥となる。つまり、
ドロップアウトの増加やヘッド目づまりの原因となる。
この問題点を解決するため本発明は磁気記録媒体上にＤ
ＣプラズマＣＶＤ法により保護膜をつくる際、この磁性
層に相当量の電流を流しても媒体にいかなる欠陥も発生
しない製造方法を提供するものである。
ＣプラズマＣＶＤ法により保護膜をつくる際、この磁性
層に相当量の電流を流しても媒体にいかなる欠陥も発生
しない製造方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段
本発明は、この目的を達成するため磁気記録媒体の磁性
層全プラズマＣＶＤ処理し保護膜を形成する際磁性層面
全表面抵抗値が１ｏ３Ω／ｄ〜１０６Ω／ｉの半導体材
料よりなるローラを介して通電するものでおる。
層全プラズマＣＶＤ処理し保護膜を形成する際磁性層面
全表面抵抗値が１ｏ３Ω／ｄ〜１０６Ω／ｉの半導体材
料よりなるローラを介して通電するものでおる。
作 用
この方法により特性の優れた磁気記録媒体となる。
実施例
以下、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
まず、異常に大きい突起のない表面粗さのコントロール
された５ ００ ｗ幅のポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（たとえば表面最大粗さが３００人〜４００人、
中心線平均粗さが６０人〜１６０人であり山状突起の密
度が１間２当り１０４〜１０８個）上に真空蒸着法によ
り酸素を導入し７ながらＣ０８ＯＮ １２゜の磁性層を
１０００人形成した後、この磁性層上へ真空度ｏ、１Ｔ
ｏττ、 １３．５６ｈＴｈで高周波出力１００Ｗの粂
件でパーフルオロシクロブタンのプラズマ重合膜を厚さ
約２０人連続巻取式の装置で形成した後さらにこのプラ
ズマ重合膜上へ表面抵抗値が１ｏ３Ｑ／ｃｄ〜１０６Ω
／ｄの範囲にあるもの例えばアルミナーテタニアン系、
アモルファスシリコン系または導電ゴム等よりなる通電
ローラー１により金属薄膜磁性層２をマイナスとし、電
極３をプラズマとしてＤＣプラズマＣＶＤ法によりダイ
ヤモンド状炭素膜を形成する。なお、膜厚はピンホール
が発生しない程度の厚さ以上であれば問題ないが、一般
的には２０μｍ〜６晴程度がよい。この際、ガス組成は
Ａｒ ： ＣＨ４＝１ ： ６として導入管４より導入
し０．３Ｔｏｒｒの真空度で約１００人の厚みをつける
。なお、６は放電管、６はキャンである。このようにし
てできた磁気テープの単位面積１ｒｒＬ２ 当りの欠陥
の数をカウントし。
された５ ００ ｗ幅のポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（たとえば表面最大粗さが３００人〜４００人、
中心線平均粗さが６０人〜１６０人であり山状突起の密
度が１間２当り１０４〜１０８個）上に真空蒸着法によ
り酸素を導入し７ながらＣ０８ＯＮ １２゜の磁性層を
１０００人形成した後、この磁性層上へ真空度ｏ、１Ｔ
ｏττ、 １３．５６ｈＴｈで高周波出力１００Ｗの粂
件でパーフルオロシクロブタンのプラズマ重合膜を厚さ
約２０人連続巻取式の装置で形成した後さらにこのプラ
ズマ重合膜上へ表面抵抗値が１ｏ３Ｑ／ｃｄ〜１０６Ω
／ｄの範囲にあるもの例えばアルミナーテタニアン系、
アモルファスシリコン系または導電ゴム等よりなる通電
ローラー１により金属薄膜磁性層２をマイナスとし、電
極３をプラズマとしてＤＣプラズマＣＶＤ法によりダイ
ヤモンド状炭素膜を形成する。なお、膜厚はピンホール
が発生しない程度の厚さ以上であれば問題ないが、一般
的には２０μｍ〜６晴程度がよい。この際、ガス組成は
Ａｒ ： ＣＨ４＝１ ： ６として導入管４より導入
し０．３Ｔｏｒｒの真空度で約１００人の厚みをつける
。なお、６は放電管、６はキャンである。このようにし
てできた磁気テープの単位面積１ｒｒＬ２ 当りの欠陥
の数をカウントし。
その差を確認する。更に、このダイヤモンド状炭素膜上
に塗布法又は有機蒸着法により含フツ素脂肪酸化を３０
人付着させた後スリッターにより８駒幅に裁断する。こ
のようにして作成された８ｔ！ｒ！Ｒビデオ用金属薄膜
型テープをコダック社の８１１ＩＩＩＩＶＴＲでドロッ
プアウトの数を調べｆｃ。 ドロップアウトカウンター
はシバツクｆｉｌい１６μＢ、−１８ｄＢ以上のものを
カウントした。その後２３°Ｃ−１０劫特殊環境におい
て、２０ｇの加速テンションでスチル耐久性を調べた。
に塗布法又は有機蒸着法により含フツ素脂肪酸化を３０
人付着させた後スリッターにより８駒幅に裁断する。こ
のようにして作成された８ｔ！ｒ！Ｒビデオ用金属薄膜
型テープをコダック社の８１１ＩＩＩＩＶＴＲでドロッ
プアウトの数を調べｆｃ。 ドロップアウトカウンター
はシバツクｆｉｌい１６μＢ、−１８ｄＢ以上のものを
カウントした。その後２３°Ｃ−１０劫特殊環境におい
て、２０ｇの加速テンションでスチル耐久性を調べた。
その結果を表−１に示す。
第１表より明らかなようにサンプル席１〜２のメタルロ
ーラーは通電量が多くなると欠陥が増えてドロップアウ
トの原因となっているがサンプルム３〜８の各種半導体
的ローラーは通電量が１Ａ近くになっても欠陥は発生せ
ず、ドロップアウトも安定している。なお、３００ｍＡ
以上の通電量では、使用するガスによりダイヤモンド状
炭素膜の成膜スピードは異なるが、おおよそ２０ｍ／ｓ
〜６０ｍ／ｓが可能である。また、通電量が多いほどス
チル耐久性が高いのもわかる。
ーラーは通電量が多くなると欠陥が増えてドロップアウ
トの原因となっているがサンプルム３〜８の各種半導体
的ローラーは通電量が１Ａ近くになっても欠陥は発生せ
ず、ドロップアウトも安定している。なお、３００ｍＡ
以上の通電量では、使用するガスによりダイヤモンド状
炭素膜の成膜スピードは異なるが、おおよそ２０ｍ／ｓ
〜６０ｍ／ｓが可能である。また、通電量が多いほどス
チル耐久性が高いのもわかる。
このようにメタルローラーの表面を半導体材料で６０μ
ｍ〜５０００μｍの厚みコーティングし、表面電気抵抗
を１ｏ３Ω／ｄ〜１０６Ω／ｄにすると、磁気テープと
しての不都合がなく量産的スピードで金属薄膜型磁気記
録媒体の磁性面上にダイヤモンド状炭素膜を形成するこ
とができる。
ｍ〜５０００μｍの厚みコーティングし、表面電気抵抗
を１ｏ３Ω／ｄ〜１０６Ω／ｄにすると、磁気テープと
しての不都合がなく量産的スピードで金属薄膜型磁気記
録媒体の磁性面上にダイヤモンド状炭素膜を形成するこ
とができる。
その結果、金属薄膜型磁気記録媒体のメチル耐久性、耐
蝕性を著しく向上させることが可能となる。
蝕性を著しく向上させることが可能となる。
発明の効果
以上のように本発明の製造方法によればステル耐久性、
耐蝕性の著しく向上された金属薄膜型磁気記録媒体を量
産的スピードで製造することができる。
耐蝕性の著しく向上された金属薄膜型磁気記録媒体を量
産的スピードで製造することができる。
第１図は本発明の一実施例における磁気記録媒体の製造
方法を示すための構成図である。 １・・・・・・通電ローラー、２・・・・・・磁気記録
媒体、３・・・・・・電極、４・・・・・・ガス導入管
、６・・・・・・放電管、６・・・・・・キャン。
方法を示すための構成図である。 １・・・・・・通電ローラー、２・・・・・・磁気記録
媒体、３・・・・・・電極、４・・・・・・ガス導入管
、６・・・・・・放電管、６・・・・・・キャン。
Claims (1)
- 磁気記録媒体の磁性層をプラズマＣＶＤ処理し保護膜を
形成する際、磁性層面を表面抵抗値が１０＾３Ω／ｃｍ
＾２〜１０＾６Ω／ｃｍ＾２の半導体材料よりなるロー
ラーを介して通電する磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32460387A JPH01166329A (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32460387A JPH01166329A (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01166329A true JPH01166329A (ja) | 1989-06-30 |
| JPH0551967B2 JPH0551967B2 (ja) | 1993-08-04 |
Family
ID=18167665
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32460387A Granted JPH01166329A (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01166329A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6468617B1 (en) | 1993-07-20 | 2002-10-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Apparatus for fabricating coating and method of fabricating the coating |
| US6835523B1 (en) | 1993-05-09 | 2004-12-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Apparatus for fabricating coating and method of fabricating the coating |
| US7449221B2 (en) * | 2001-06-29 | 2008-11-11 | Sony Corporation | Metallic thin film type magnetic recording medium and method of manufacturing thereof |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62241137A (ja) * | 1986-04-11 | 1987-10-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 |
-
1987
- 1987-12-22 JP JP32460387A patent/JPH01166329A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62241137A (ja) * | 1986-04-11 | 1987-10-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6835523B1 (en) | 1993-05-09 | 2004-12-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Apparatus for fabricating coating and method of fabricating the coating |
| US6468617B1 (en) | 1993-07-20 | 2002-10-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Apparatus for fabricating coating and method of fabricating the coating |
| US7449221B2 (en) * | 2001-06-29 | 2008-11-11 | Sony Corporation | Metallic thin film type magnetic recording medium and method of manufacturing thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0551967B2 (ja) | 1993-08-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4193268B2 (ja) | 薄膜形成装置および薄膜形成方法ならびに案内ガイドロール | |
| JP3419045B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01166329A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0833994B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS5817543A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS60219626A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2523839B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2661727B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP3008666B2 (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01245417A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0154776B2 (ja) | ||
| JP2861450B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPS58220244A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH0613335A (ja) | プラズマｃｖｄ成膜方法 | |
| JPH0644558A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3606416B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法及びその製造装置 | |
| JPH0991653A (ja) | 記録媒体 | |
| JP2548231B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01245416A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01243234A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH07282445A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0833993B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH07334838A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH02158910A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS63146223A (ja) | 磁気記録媒体の製造装置および製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070804 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080804 Year of fee payment: 15 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080804 Year of fee payment: 15 |