JPH07334838A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH07334838A JPH07334838A JP12595594A JP12595594A JPH07334838A JP H07334838 A JPH07334838 A JP H07334838A JP 12595594 A JP12595594 A JP 12595594A JP 12595594 A JP12595594 A JP 12595594A JP H07334838 A JPH07334838 A JP H07334838A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 表面が適度に粗いバックコート膜を有する磁
気記録媒体を提供することを目的とする。 【構成】 真空雰囲気下において支持体の一面側に磁性
金属膜を設ける磁性金属成膜工程と、真空雰囲気下にお
いて支持体の他面側に非磁性金属膜を設けるバックコー
ト成膜工程と、このバックコート成膜工程で設けられた
非磁性金属膜を真空雰囲気下においてｐＨ４．５〜５．
５の酸によりエッチングする粗面化工程とを具備する磁
気記録媒体の製造方法。
気記録媒体を提供することを目的とする。 【構成】 真空雰囲気下において支持体の一面側に磁性
金属膜を設ける磁性金属成膜工程と、真空雰囲気下にお
いて支持体の他面側に非磁性金属膜を設けるバックコー
ト成膜工程と、このバックコート成膜工程で設けられた
非磁性金属膜を真空雰囲気下においてｐＨ４．５〜５．
５の酸によりエッチングする粗面化工程とを具備する磁
気記録媒体の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属薄膜型の磁気記録
媒体の製造方法に関するものである。
媒体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体には、非磁
性支持体であるフィルム上に磁性粉やバインダを溶剤中
に分散させた磁性塗料を塗布してなる塗布型のものと、
バインダを用いず、金属磁性粒子をフィルム上に堆積さ
せてなる金属薄膜型のものとがある。
性支持体であるフィルム上に磁性粉やバインダを溶剤中
に分散させた磁性塗料を塗布してなる塗布型のものと、
バインダを用いず、金属磁性粒子をフィルム上に堆積さ
せてなる金属薄膜型のものとがある。
【０００３】これらの中、金属薄膜型の磁気記録媒体
は、磁性層にバインダを含まないことから、磁性材料の
充填密度が高く、高密度記録に適したものであると言わ
れている。ところで、現在発売又は開発されている金属
薄膜型の磁気記録媒体は、図３に示される構成のものと
なっている。図３中、３１は厚さが２〜５０μｍのポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、３２は、
例えば真空蒸着法を用いて構成された厚さが１５００Å
のＣｏ−Ｎｉ（８０％−２０％）合金磁性膜、３３は潤
滑層、３４はバックコート層である。尚、このバックコ
ート層３４は、粒径が１０〜１００ｎｍのカーボンブラ
ックとバインダ樹脂とを塗料中に分散させ、グラビア
法、リバース法又はダイ塗工方式で、乾燥後の厚さが
０．５〜１μｍになるよう塗布することによって構成さ
れたものである。
は、磁性層にバインダを含まないことから、磁性材料の
充填密度が高く、高密度記録に適したものであると言わ
れている。ところで、現在発売又は開発されている金属
薄膜型の磁気記録媒体は、図３に示される構成のものと
なっている。図３中、３１は厚さが２〜５０μｍのポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、３２は、
例えば真空蒸着法を用いて構成された厚さが１５００Å
のＣｏ−Ｎｉ（８０％−２０％）合金磁性膜、３３は潤
滑層、３４はバックコート層である。尚、このバックコ
ート層３４は、粒径が１０〜１００ｎｍのカーボンブラ
ックとバインダ樹脂とを塗料中に分散させ、グラビア
法、リバース法又はダイ塗工方式で、乾燥後の厚さが
０．５〜１μｍになるよう塗布することによって構成さ
れたものである。
【０００４】ここで、バックコート層の役割は次のよう
な点にある。 （１）導電性を持たせることにより、帯電防止を図り、
ゴミの付着を防止する。 （２）表面性（摩擦係数）を改善して、走行安定性を得
る。 （３）表の磁性層と裏とのバランスとを図り、反りの発
生を防止する。 このように、金属薄膜型の磁気記録媒体であっても、バ
ックコート層は依然として塗布型となっている。
な点にある。 （１）導電性を持たせることにより、帯電防止を図り、
ゴミの付着を防止する。 （２）表面性（摩擦係数）を改善して、走行安定性を得
る。 （３）表の磁性層と裏とのバランスとを図り、反りの発
生を防止する。 このように、金属薄膜型の磁気記録媒体であっても、バ
ックコート層は依然として塗布型となっている。
【０００５】ところで、バックコート層を先に塗布して
から磁性層を真空蒸着すると、真空系においてバックコ
ート層からの脱ガス（バインダの溶剤から発生）が生
じ、真空度が低下し、蒸着がうまくいかず、磁性膜が良
好に形成できず、高性能な磁気記録媒体が得られない。
この為、真空中で磁性膜を形成した後、大気中に取り出
し、バックコート層を塗布している。
から磁性層を真空蒸着すると、真空系においてバックコ
ート層からの脱ガス（バインダの溶剤から発生）が生
じ、真空度が低下し、蒸着がうまくいかず、磁性膜が良
好に形成できず、高性能な磁気記録媒体が得られない。
この為、真空中で磁性膜を形成した後、大気中に取り出
し、バックコート層を塗布している。
【０００６】しかしながら、この方法は、バックコート
層を塗布する工程で、磁性層が汚れたり、ゴミが付着
し、ドロップアウトが増加するといった問題点がある。
又、カーボンブラックの導電性は良好であるが、バイン
ダ量が多い為、導電性が低下してしまい、帯電防止効果
が低いといった問題点もある。
層を塗布する工程で、磁性層が汚れたり、ゴミが付着
し、ドロップアウトが増加するといった問題点がある。
又、カーボンブラックの導電性は良好であるが、バイン
ダ量が多い為、導電性が低下してしまい、帯電防止効果
が低いといった問題点もある。
【０００７】
【発明の開示】前記のような点に鑑みて、バックコート
層を金属薄膜型の磁性層と同様に金属薄膜で構成しよう
とすることが試みられた。しかしながら、真空蒸着法な
どの乾式メッキ手段により構成される金属薄膜は （１）導電性を持たせることにより、帯電防止を図り、
ゴミの付着を防止する。 （３）表の磁性層と裏とのバランスとを図り、反りの発
生を防止する。 の特長を奏することが出来るものの、 （２）表面性（摩擦係数）を改善して、走行安定性を得
る。 の特長は却って悪くなり、決して満足できるものではな
い。
層を金属薄膜型の磁性層と同様に金属薄膜で構成しよう
とすることが試みられた。しかしながら、真空蒸着法な
どの乾式メッキ手段により構成される金属薄膜は （１）導電性を持たせることにより、帯電防止を図り、
ゴミの付着を防止する。 （３）表の磁性層と裏とのバランスとを図り、反りの発
生を防止する。 の特長を奏することが出来るものの、 （２）表面性（摩擦係数）を改善して、走行安定性を得
る。 の特長は却って悪くなり、決して満足できるものではな
い。
【０００８】例えば、金属薄膜型のバックコート層の表
面粗さＲａは１〜４ｎｍ、Ｒｚは１０〜５０ｎｍであ
り、摩擦係数が０．６にもなり、走行性が極めて悪いの
である。本発明は係る問題点に鑑みてなされたものであ
り、表面が適度に粗いバックコート膜を有する磁気記録
媒体を提供することを目的とする。
面粗さＲａは１〜４ｎｍ、Ｒｚは１０〜５０ｎｍであ
り、摩擦係数が０．６にもなり、走行性が極めて悪いの
である。本発明は係る問題点に鑑みてなされたものであ
り、表面が適度に粗いバックコート膜を有する磁気記録
媒体を提供することを目的とする。
【０００９】この本発明の目的は、真空雰囲気下におい
て支持体の一面側に磁性金属膜を設ける磁性金属成膜工
程と、真空雰囲気下において支持体の他面側に非磁性金
属膜を設けるバックコート成膜工程と、このバックコー
ト成膜工程で設けられた非磁性金属膜を真空雰囲気下に
おいてｐＨ４．５〜５．５の酸によりエッチングする粗
面化工程とを具備することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法によって達成される。
て支持体の一面側に磁性金属膜を設ける磁性金属成膜工
程と、真空雰囲気下において支持体の他面側に非磁性金
属膜を設けるバックコート成膜工程と、このバックコー
ト成膜工程で設けられた非磁性金属膜を真空雰囲気下に
おいてｐＨ４．５〜５．５の酸によりエッチングする粗
面化工程とを具備することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法によって達成される。
【００１０】本発明の磁気記録媒体における支持体、特
に非磁性の支持体は、ＰＥＴ等のポリエステル、ポリア
ミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネー
ト、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロー
ス系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、
ガラスやセラミック等の無機系材料が用いられる。この
支持体の一面側には、蒸着手段やスパッタ手段といった
乾式メッキ手段によって真空雰囲気下において金属薄膜
型の磁性膜が設けられる。金属磁性膜を構成する磁性粒
子の材料としては、例えばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の
他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ
−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、あるいはこれらにＡｌ等の
金属を含有させたもの等が用いられる。尚、金属磁性膜
の成膜時には酸化性ガスなどが供されていて、金属磁性
膜の表面層には酸化膜からなる保護層が形成されること
が好ましい。
に非磁性の支持体は、ＰＥＴ等のポリエステル、ポリア
ミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネー
ト、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロー
ス系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、
ガラスやセラミック等の無機系材料が用いられる。この
支持体の一面側には、蒸着手段やスパッタ手段といった
乾式メッキ手段によって真空雰囲気下において金属薄膜
型の磁性膜が設けられる。金属磁性膜を構成する磁性粒
子の材料としては、例えばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の
他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ
−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、あるいはこれらにＡｌ等の
金属を含有させたもの等が用いられる。尚、金属磁性膜
の成膜時には酸化性ガスなどが供されていて、金属磁性
膜の表面層には酸化膜からなる保護層が形成されること
が好ましい。
【００１１】支持体の他面側には、真空雰囲気下におい
てバックコート膜（金属薄膜）が設けられる。このバッ
クコート膜は、本発明にあっては、例えば蒸着手段によ
って構成された金属薄膜である。バックコート膜を構成
する金属粒子の材料としては、例えばＡｌ，Ｚｎ，Ｓ
ｎ，Ｎｉ，Ａｇ，Ｆｅ，Ｔｉなどの金属が用いられる。
又、Ｃｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群
の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金、Ａ
ｌ−Ｓｉ系合金、Ｔｉ合金等が用いられる。尚、Ｃｕ−
Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中から選
ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金におけるＣｕ含
有量は７０〜９０ａｔ％、Ａｌ含有量は８〜２５ａｔ
％、Ｍｎ含有量が０．５〜４ａｔ％で、Ｆｅ含有量が
０．４〜５ａｔ％で、Ｎｉ含有量が０．４〜４ａｔ％で
あり、Ｍｎ，Ｆｅ，Ｎｉの総含有量が１〜６ａｔ％であ
ることが好ましい。又、Ａｌ−Ｓｉ系合金におけるＡｌ
含有量は１５〜７０ａｔ％、Ｓｉ含有量が１５〜７０ａ
ｔ％であることが好ましい。このバックコート膜の成膜
時にはＯ元素、Ｎ元素あるいはＣ元素などの成分を有す
る反応性ガスなどが供されていて、金属薄膜は酸化物、
窒化物あるいは炭化物に一部が変成される。
てバックコート膜（金属薄膜）が設けられる。このバッ
クコート膜は、本発明にあっては、例えば蒸着手段によ
って構成された金属薄膜である。バックコート膜を構成
する金属粒子の材料としては、例えばＡｌ，Ｚｎ，Ｓ
ｎ，Ｎｉ，Ａｇ，Ｆｅ，Ｔｉなどの金属が用いられる。
又、Ｃｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群
の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金、Ａ
ｌ−Ｓｉ系合金、Ｔｉ合金等が用いられる。尚、Ｃｕ−
Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中から選
ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金におけるＣｕ含
有量は７０〜９０ａｔ％、Ａｌ含有量は８〜２５ａｔ
％、Ｍｎ含有量が０．５〜４ａｔ％で、Ｆｅ含有量が
０．４〜５ａｔ％で、Ｎｉ含有量が０．４〜４ａｔ％で
あり、Ｍｎ，Ｆｅ，Ｎｉの総含有量が１〜６ａｔ％であ
ることが好ましい。又、Ａｌ−Ｓｉ系合金におけるＡｌ
含有量は１５〜７０ａｔ％、Ｓｉ含有量が１５〜７０ａ
ｔ％であることが好ましい。このバックコート膜の成膜
時にはＯ元素、Ｎ元素あるいはＣ元素などの成分を有す
る反応性ガスなどが供されていて、金属薄膜は酸化物、
窒化物あるいは炭化物に一部が変成される。
【００１２】支持体の一面側の磁性金属膜、支持体の他
面側の非磁性金属膜（バックコート膜）はどちらが先に
設けられても良い。但し、一連の連続した工程で磁気記
録媒体を製造する場合、バックコート膜の酸エッチング
工程を考慮すると、バックコート膜を成膜し、そしてバ
ックコート膜の酸エッチング工程が終了した後、磁性金
属膜を成膜すると言った手順で行うことが好ましい。
面側の非磁性金属膜（バックコート膜）はどちらが先に
設けられても良い。但し、一連の連続した工程で磁気記
録媒体を製造する場合、バックコート膜の酸エッチング
工程を考慮すると、バックコート膜を成膜し、そしてバ
ックコート膜の酸エッチング工程が終了した後、磁性金
属膜を成膜すると言った手順で行うことが好ましい。
【００１３】この粗面化工程で用いられる酸は、バック
コート膜の金属種によっても変わるが、希塩酸や酢酸の
ような弱酸が用いられる。本発明において、ｐＨ４．５
〜５．５の酸によるエッチングを採用したのは、次の理
由による。すなわち、一般的なエッチング手段としては
数々の手法がある。例えば、酸素イオン等を用いたイオ
ンエッチング等の手法が知られている。
コート膜の金属種によっても変わるが、希塩酸や酢酸の
ような弱酸が用いられる。本発明において、ｐＨ４．５
〜５．５の酸によるエッチングを採用したのは、次の理
由による。すなわち、一般的なエッチング手段としては
数々の手法がある。例えば、酸素イオン等を用いたイオ
ンエッチング等の手法が知られている。
【００１４】しかしながら、これらの数有るエッチング
手段の中でも、磁気記録媒体のバックコート膜のエッチ
ング手段としてはイオンエッチングのような手段を採用
することは出来なかった。つまり、イオンエッチングを
磁気記録媒体のバックコート膜の粗面化に採用した場合
には、時間が掛かり過ぎること、又、所望の粗面が得ら
れ難く、採用できるものではなかった。
手段の中でも、磁気記録媒体のバックコート膜のエッチ
ング手段としてはイオンエッチングのような手段を採用
することは出来なかった。つまり、イオンエッチングを
磁気記録媒体のバックコート膜の粗面化に採用した場合
には、時間が掛かり過ぎること、又、所望の粗面が得ら
れ難く、採用できるものではなかった。
【００１５】そして、化学エッチングに目が向けられた
訳であるが、アルカリエッチングは支持体フィルムに損
傷が起き、これも採用できなかった。しかしながら、ｐ
Ｈ４．５〜５．５の酸によるエッチング手段を用いた
処、この場合には上手く行ったのである。しかも、処理
に時間が掛からなかった。そして、上記のようにして得
られた磁気記録媒体は、そのバックコート表面が比較的
粗いものとなり、平滑過ぎるものではないことから、走
行に際して貼り付くと言った現象が起き難く、つまり摩
擦係数が適度なものとなり、走行性が良好で、記録・再
生特性に優れたものが得られる。すなわち、上記のよう
に構成された金属薄膜は、その表面粗さＲａ（中心線平
均粗さ）が５〜３０ｎｍ、Ｒｚ（十点平均粗さ）が８０
〜４００ｎｍのものとなり、摩擦係数が０．１〜０．３
程度のものとなって、走行性が優れたものである。又、
導電性も有り、帯電防止が図れ、ゴミの付着が防止され
る。又、表の磁性層と裏とのバランスとが図れ、ヘッド
タッチも良いものとなる。
訳であるが、アルカリエッチングは支持体フィルムに損
傷が起き、これも採用できなかった。しかしながら、ｐ
Ｈ４．５〜５．５の酸によるエッチング手段を用いた
処、この場合には上手く行ったのである。しかも、処理
に時間が掛からなかった。そして、上記のようにして得
られた磁気記録媒体は、そのバックコート表面が比較的
粗いものとなり、平滑過ぎるものではないことから、走
行に際して貼り付くと言った現象が起き難く、つまり摩
擦係数が適度なものとなり、走行性が良好で、記録・再
生特性に優れたものが得られる。すなわち、上記のよう
に構成された金属薄膜は、その表面粗さＲａ（中心線平
均粗さ）が５〜３０ｎｍ、Ｒｚ（十点平均粗さ）が８０
〜４００ｎｍのものとなり、摩擦係数が０．１〜０．３
程度のものとなって、走行性が優れたものである。又、
導電性も有り、帯電防止が図れ、ゴミの付着が防止され
る。又、表の磁性層と裏とのバランスとが図れ、ヘッド
タッチも良いものとなる。
【００１６】以下、具体的な実施例を挙げて本発明を説
明する。
明する。
【００１７】
〔実施例１〕図１は本発明になる磁気記録媒体の製造方
法が実施される装置の概略図、図２は得られた磁気記録
媒体の概略図である。各図中、１ａは非磁性金属膜（バ
ックコート膜）形成用の第１の真空槽、１ｂはバックコ
ート膜に対するエッチングが行われる第２の真空槽であ
り、これら第１の真空槽１ａと第２の真空槽１ｂとは連
絡通路１ｃを介してつながっている。
法が実施される装置の概略図、図２は得られた磁気記録
媒体の概略図である。各図中、１ａは非磁性金属膜（バ
ックコート膜）形成用の第１の真空槽、１ｂはバックコ
ート膜に対するエッチングが行われる第２の真空槽であ
り、これら第１の真空槽１ａと第２の真空槽１ｂとは連
絡通路１ｃを介してつながっている。
【００１８】２は第１の真空槽１ａ内に配設された冷却
キャンロール、３は防着板、４はルツボ、５は非磁性金
属（Ｃｕ−Ａｌ系合金）、６は酸素ガス吐出用のノズル
である。７ａは第１の真空槽１ａ内に配設された供給側
ロール、７ｂは第２の真空槽１ｂ内に配設された巻取側
ロールであり、供給側ロール７ａに巻回されている支持
体（フィルム）８が冷却キャンロール２に沿って巻か
れ、そしてガイドローラに添接案内され、連絡通路１ｃ
を通って第２の真空槽１ｂ側に案内され、第２の真空槽
１ｂ内に配設されたガイドローラ９ａ，９ｂ，９ｃに沿
って走行し、巻取側ロール７ｂに巻き取られて行くよう
になっている。
キャンロール、３は防着板、４はルツボ、５は非磁性金
属（Ｃｕ−Ａｌ系合金）、６は酸素ガス吐出用のノズル
である。７ａは第１の真空槽１ａ内に配設された供給側
ロール、７ｂは第２の真空槽１ｂ内に配設された巻取側
ロールであり、供給側ロール７ａに巻回されている支持
体（フィルム）８が冷却キャンロール２に沿って巻か
れ、そしてガイドローラに添接案内され、連絡通路１ｃ
を通って第２の真空槽１ｂ側に案内され、第２の真空槽
１ｂ内に配設されたガイドローラ９ａ，９ｂ，９ｃに沿
って走行し、巻取側ロール７ｂに巻き取られて行くよう
になっている。
【００１９】１０はガイドローラ９ａとガイドローラ９
ｂとの間の位置において非磁性の支持体８上に設けられ
たバックコート膜に摺接するスポンジ体であり、このス
ポンジ体１０にはエッチング液（ｐＨ４．５の希塩酸）
が供給されている。１１ａ，１１ｂ，１１ｃは、スポン
ジ体１０とガイドローラ９ｂとの間の位置において非磁
性の支持体上に設けられたバックコート膜に摺接するス
ポンジ体である。そして、スポンジ体１１ａによってエ
ッチング後の汚れを拭き取り、その後スポンジ体１１ｂ
に供給された水によって表面の洗浄を行い、その後スポ
ンジ体１１ｃによって拭き取るように構成されている。
ｂとの間の位置において非磁性の支持体８上に設けられ
たバックコート膜に摺接するスポンジ体であり、このス
ポンジ体１０にはエッチング液（ｐＨ４．５の希塩酸）
が供給されている。１１ａ，１１ｂ，１１ｃは、スポン
ジ体１０とガイドローラ９ｂとの間の位置において非磁
性の支持体上に設けられたバックコート膜に摺接するス
ポンジ体である。そして、スポンジ体１１ａによってエ
ッチング後の汚れを拭き取り、その後スポンジ体１１ｂ
に供給された水によって表面の洗浄を行い、その後スポ
ンジ体１１ｃによって拭き取るように構成されている。
【００２０】すなわち、第２の真空槽１ｂ内において、
蒸着により設けられたバックコート膜を大気中にさらす
前に真空中でエッチング作業を行い、そしてクリーニン
グ作業が行われるよう構成されている。上記のように構
成させた装置において、第１の真空槽１ａ内を１０-4〜
１０-6Ｔｏｒｒ程度、例えば２×１０-5Ｔｏｒｒの真空
度に排気した後、抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加
熱などによりルツボ４内の非磁性金属５を蒸発させ、Ｐ
ＥＴフィルム等の支持体８に対して１８００Å厚さのバ
ックコート膜１２を形成する。
蒸着により設けられたバックコート膜を大気中にさらす
前に真空中でエッチング作業を行い、そしてクリーニン
グ作業が行われるよう構成されている。上記のように構
成させた装置において、第１の真空槽１ａ内を１０-4〜
１０-6Ｔｏｒｒ程度、例えば２×１０-5Ｔｏｒｒの真空
度に排気した後、抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加
熱などによりルツボ４内の非磁性金属５を蒸発させ、Ｐ
ＥＴフィルム等の支持体８に対して１８００Å厚さのバ
ックコート膜１２を形成する。
【００２１】このようにしてバックコート膜１２が形成
された後、ｐＨ４．５の希塩酸に濡らされ、バックコー
ト膜１２はエッチングを受け、そして洗浄、拭き取り、
乾燥工程を経て巻き取られる。次いで、斜め蒸着手段と
言った乾式メッキ手段により、バックコート膜１２と反
対側の面に磁性膜（Ｃｏ−Ｎｉ合金膜）１３を１６００
Å厚さ成膜した。
された後、ｐＨ４．５の希塩酸に濡らされ、バックコー
ト膜１２はエッチングを受け、そして洗浄、拭き取り、
乾燥工程を経て巻き取られる。次いで、斜め蒸着手段と
言った乾式メッキ手段により、バックコート膜１２と反
対側の面に磁性膜（Ｃｏ−Ｎｉ合金膜）１３を１６００
Å厚さ成膜した。
【００２２】この後、フッ素系の潤滑剤（ＦＯＭＢＬＩ
Ｎ Ｚ ＤＩＡＣ 日本モンテジソン社製）をフッ素不
活性液体（フロリナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム
社製）に０．１％となるよう希釈・分散させた塗料をダ
イ塗工方式により乾燥後の厚さが２０Å程度となるよう
に塗布し、１００℃で乾燥させ、８ｍｍ幅にスリット
し、磁気テープを得た。
Ｎ Ｚ ＤＩＡＣ 日本モンテジソン社製）をフッ素不
活性液体（フロリナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム
社製）に０．１％となるよう希釈・分散させた塗料をダ
イ塗工方式により乾燥後の厚さが２０Å程度となるよう
に塗布し、１００℃で乾燥させ、８ｍｍ幅にスリット
し、磁気テープを得た。
【００２３】〔実施例２〕実施例１において、ｐＨ４．
５の希塩酸の代わりにｐＨ５．２の酢酸を用いて同様に
行った。 〔比較例１〕実施例１において、ｐＨ４．５の希塩酸の
代わりにｐＨ４の塩酸を用いて同様に行った。
５の希塩酸の代わりにｐＨ５．２の酢酸を用いて同様に
行った。 〔比較例１〕実施例１において、ｐＨ４．５の希塩酸の
代わりにｐＨ４の塩酸を用いて同様に行った。
【００２４】〔比較例２〕実施例１において、ｐＨ４．
５の希塩酸の代わりにｐＨ６．５の希塩酸を用いて同様
に行った。 〔比較例３〕化学エッチングの手段ではなく、バックコ
ート層に酸素イオンを照射して粗面化した。
５の希塩酸の代わりにｐＨ６．５の希塩酸を用いて同様
に行った。 〔比較例３〕化学エッチングの手段ではなく、バックコ
ート層に酸素イオンを照射して粗面化した。
【００２５】〔特性〕上記のようにして得られた８ｍｍ
ＶＴＲ用磁気テープについて、２０℃、５０％ＲＨの雰
囲気下で摩擦係数並びにジッターを調べたので、その結
果を表−１に示す。
ＶＴＲ用磁気テープについて、２０℃、５０％ＲＨの雰
囲気下で摩擦係数並びにジッターを調べたので、その結
果を表−１に示す。
【００２６】
【効果】本発明によれば、表面粗さが大きく、摩擦係数
が小さく、走行性が改善されており、ジッターが起き難
い磁気記録媒体が得られる。
が小さく、走行性が改善されており、ジッターが起き難
い磁気記録媒体が得られる。
【図１】本発明になる磁気記録媒体の製造装置の概略図
【図２】本発明になる磁気記録媒体の概略図
【図３】従来の磁気記録媒体の概略図
１ａ 第１の真空槽 １ｂ 第２の真空槽 ２ 冷却キャンロール ５ 非磁性金属 ７ａ 供給側ロール ７ｂ 巻取側ロール ８ 支持体 ９ａ，９ｂ，９ｃ ガイドローラ １０ スポンジ体 １１ａ，１１ｂ，１１ｃ スポンジ体
フロントページの続き (72)発明者 若林 繁美 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内 (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】 真空雰囲気下において支持体の一面側に
磁性金属膜を設ける磁性金属成膜工程と、真空雰囲気下
において支持体の他面側に非磁性金属膜を設けるバック
コート成膜工程と、このバックコート成膜工程で設けら
れた非磁性金属膜を真空雰囲気下においてｐＨ４．５〜
５．５の酸によりエッチングする粗面化工程とを具備す
ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12595594A JPH07334838A (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12595594A JPH07334838A (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07334838A true JPH07334838A (ja) | 1995-12-22 |
Family
ID=14923113
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12595594A Pending JPH07334838A (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07334838A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106373879A (zh) * | 2016-10-14 | 2017-02-01 | 华南理工大学 | 一种敷铜板腐蚀设备 |
-
1994
- 1994-06-08 JP JP12595594A patent/JPH07334838A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106373879A (zh) * | 2016-10-14 | 2017-02-01 | 华南理工大学 | 一种敷铜板腐蚀设备 |
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