JPS5817608A - イオンプレ−テイング装置 - Google Patents
イオンプレ−テイング装置Info
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- JPS5817608A JPS5817608A JP11529381A JP11529381A JPS5817608A JP S5817608 A JPS5817608 A JP S5817608A JP 11529381 A JP11529381 A JP 11529381A JP 11529381 A JP11529381 A JP 11529381A JP S5817608 A JPS5817608 A JP S5817608A
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- Japan
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- coil
- modulated wave
- metal
- ferromagnetic metal
- strip
- Prior art date
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- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
- H01F41/20—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates by evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高抗磁力の磁器記録媒体を製造しうるイオン
ブレーティング装置に関するものである。
ブレーティング装置に関するものである。
オーディオやＶＴＲ，磁気ディスク等に用いられる磁気
記録媒体として、高記録密度や小型化等のために、基体
に強磁性体金属をこの基体の法線からある入射角をもっ
て斜めに蒸着したものが用いられるようになってきた。
記録媒体として、高記録密度や小型化等のために、基体
に強磁性体金属をこの基体の法線からある入射角をもっ
て斜めに蒸着したものが用いられるようになってきた。
この斜め蒸着による磁気記録媒体は、従来は第１図に示
す通り、基体として帯状材１を用い、この帯状材１がバ
ックローラに接触しガイドされ始める箇所泰で、蒸発源
４かもの強磁性体金属５が付着するようにしている。そ
のため、蒸発した強磁性体金属５の何割かは帯状材１に
付着することなくガイド等６に付着し浪費される欠点が
ある。
す通り、基体として帯状材１を用い、この帯状材１がバ
ックローラに接触しガイドされ始める箇所泰で、蒸発源
４かもの強磁性体金属５が付着するようにしている。そ
のため、蒸発した強磁性体金属５の何割かは帯状材１に
付着することなくガイド等６に付着し浪費される欠点が
ある。
また、このようなロスを少しでも改善するために入射角
を低くして強磁性体金属を帯状材に付着することもある
が、抗磁力が低下する欠点があった。
を低くして強磁性体金属を帯状材に付着することもある
が、抗磁力が低下する欠点があった。
本発明は９以上の欠点を改良し、高抗磁力の磁気記録媒
体が得られ１強磁性体金属の付着効率を改善しうるイオ
ンブレーティング装置の提供を目的と、するものである
。
体が得られ１強磁性体金属の付着効率を改善しうるイオ
ンブレーティング装置の提供を目的と、するものである
。
本発明は、上記の目的を達成するために、基体に強磁性
体金属を斜めに付着し５るイオンブレーティング装置に
おいて、槽内に酸素ガスを充填し。
体金属を斜めに付着し５るイオンブレーティング装置に
おいて、槽内に酸素ガスを充填し。
強磁性体金属の蒸発路の途中にコイルを配設し該コイル
に振幅変調波または周波数変調波を流すことを特徴とす
るイオンブレーティング装置を提供するものである。
に振幅変調波または周波数変調波を流すことを特徴とす
るイオンブレーティング装置を提供するものである。
以下２本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第２図において、１１は円筒状の真空槽であり。
一部が突起１２状になっており真空排気系に接続され槽
１１内を所定の真空度に保持するようになってい木。１
３はこの真空槽１１内に酸素ガスを導入し充填するため
のノズルである。１４はプラスチ、クフィルム等の帯状
材１５を供給しうる供給ローラである。１６は帯祥材１
５を巻き取るための巻取ｐ−ラである。１７及び１８は
帯状材１５をガイドするための案内ローラである。１９
はバックローラであり、帯状材１５に付着した強磁性体
金属を冷却するもので。
１１内を所定の真空度に保持するようになってい木。１
３はこの真空槽１１内に酸素ガスを導入し充填するため
のノズルである。１４はプラスチ、クフィルム等の帯状
材１５を供給しうる供給ローラである。１６は帯祥材１
５を巻き取るための巻取ｐ−ラである。１７及び１８は
帯状材１５をガイドするための案内ローラである。１９
はバックローラであり、帯状材１５に付着した強磁性体
金属を冷却するもので。
電源２０により直流電圧が印加されている。２１はバッ
クローラ１９の下部に配設されている平板状のマスクで
ある。２２は蒸発源であり 、 ＋゛
半円筒状のルツボからなり、コバルト等の強磁性
体金属２６が収容されている。２４はパックルーラ１９
と蒸発源２２の間に強磁性体金属２３の蒸発路の途中に
配設されたコイルであり、電源２５により振幅変調波ま
たは周波数変調波が通電される。
クローラ１９の下部に配設されている平板状のマスクで
ある。２２は蒸発源であり 、 ＋゛
半円筒状のルツボからなり、コバルト等の強磁性
体金属２６が収容されている。２４はパックルーラ１９
と蒸発源２２の間に強磁性体金属２３の蒸発路の途中に
配設されたコイルであり、電源２５により振幅変調波ま
たは周波数変調波が通電される。
すなわち、パックルーラ１９には直流電圧が印加され、
コイルには第３図ビ）または（ロ）に示す通りの振幅変
調波または周波数変調波が流れるので、蒸発源２２に収
容され加熱溶融された強磁性体金属２３は蒸発の過程で
何チかがイオン化され帯状材１５に付着する。この際、
コイル２４に流れる信号の作用により強磁性体金属２３
が帯状材１５に付着する速度が周期的に変化゛する。そ
して真空槽１１内には酸素が充填されているので、付着
速度の変化により帯状材１５の表面には強磁性体金属２
６とその鹸化物とが交互に積層される。そのため、従来
よりも高抗磁力の磁気記録媒体が得られる。
コイルには第３図ビ）または（ロ）に示す通りの振幅変
調波または周波数変調波が流れるので、蒸発源２２に収
容され加熱溶融された強磁性体金属２３は蒸発の過程で
何チかがイオン化され帯状材１５に付着する。この際、
コイル２４に流れる信号の作用により強磁性体金属２３
が帯状材１５に付着する速度が周期的に変化゛する。そ
して真空槽１１内には酸素が充填されているので、付着
速度の変化により帯状材１５の表面には強磁性体金属２
６とその鹸化物とが交互に積層される。そのため、従来
よりも高抗磁力の磁気記録媒体が得られる。
例えば、基体に厚さ３６μのポリエステルフィルムを用
い、真空槽１１内にはアルゴンと酸素との混４ 合ガスを充填して３Ｘ １０ Ｔｏｒｒの真空度とし、
バックローラ１９には３ＫＶの直流電圧を印加し、コイ
ル２５には周波数λＯＨｘ、実効値０．３ Ａの振幅変
調電流を流しフィルム上に強磁性体金属とその酸化物と
からなる厚さ１５００Ａの金属層を形成した本発明によ
る磁気記録媒体と、コイル２５に周波数２０Ｈ葛。
い、真空槽１１内にはアルゴンと酸素との混４ 合ガスを充填して３Ｘ １０ Ｔｏｒｒの真空度とし、
バックローラ１９には３ＫＶの直流電圧を印加し、コイ
ル２５には周波数λＯＨｘ、実効値０．３ Ａの振幅変
調電流を流しフィルム上に強磁性体金属とその酸化物と
からなる厚さ１５００Ａの金属層を形成した本発明によ
る磁気記録媒体と、コイル２５に周波数２０Ｈ葛。
実効値０．３ Ａの正弦波を流し他の条件は本発明と同
一にして製造した従来のものについて１強磁性体金属の
入射角に対する抗磁力を測定したところ第４図に示すグ
ラフの通りの結果が得られた。すなわち１本考案によれ
ば、低入射角においても高抗磁力の磁気記録媒体が得ら
れ２例えば、４０度の入射角において本発明によればＨ
Ｃ＝９５０エルステッドであり、従来がＨｃ＝６００エ
ルステッドであるから約１６倍改良されている。
一にして製造した従来のものについて１強磁性体金属の
入射角に対する抗磁力を測定したところ第４図に示すグ
ラフの通りの結果が得られた。すなわち１本考案によれ
ば、低入射角においても高抗磁力の磁気記録媒体が得ら
れ２例えば、４０度の入射角において本発明によればＨ
Ｃ＝９５０エルステッドであり、従来がＨｃ＝６００エ
ルステッドであるから約１６倍改良されている。
なお、電源２０によりバックローラ１９に脈流や方形波
の電圧を印加すれば、その周波数等の選択によりコイル
による効果と相乗され１強磁性体金属２３の付着速度が
変化するので、同じように強磁性体金属２３とその酸化
物とが帯状材表面に交互に積層きれ抗磁力が改善される
。
の電圧を印加すれば、その周波数等の選択によりコイル
による効果と相乗され１強磁性体金属２３の付着速度が
変化するので、同じように強磁性体金属２３とその酸化
物とが帯状材表面に交互に積層きれ抗磁力が改善される
。
以上の通り９本発明によれば、抗磁力が改善され、特に
、低入射角度における抗磁力の蔽善が著しく、入射角度
を高（することなく金属層を形成できるので蒸発した強
磁性体金属がマスクや真空槽の内壁に付着して浪費され
る割合を減少できる等積々の効果を有するイオンブレー
ティング装置が得られる。
、低入射角度における抗磁力の蔽善が著しく、入射角度
を高（することなく金属層を形成できるので蒸発した強
磁性体金属がマスクや真空槽の内壁に付着して浪費され
る割合を減少できる等積々の効果を有するイオンブレー
ティング装置が得られる。
第１図は従来のイオンブレーティング装置の断面図、第
２図は本発明の実施例の断面図、第３図（イ）及び（＝
−）はコイルに流す振幅変調波または周波数変調波の波
形、第４図は強磁性体金属の入射角度を変化した場合の
抗磁力の変化のグラフを示す。 １１・・・・・・真空槽、１３・・・・・・ノズル、１
５・・・・・帯状材。 １９・・・・・・バックローラ、２３・・・・・・強磁
性体金属。 ２４・・・・・・コイル、２５・・・・・・電源。 特許出願人 日立コンデンサ株式会社
２図は本発明の実施例の断面図、第３図（イ）及び（＝
−）はコイルに流す振幅変調波または周波数変調波の波
形、第４図は強磁性体金属の入射角度を変化した場合の
抗磁力の変化のグラフを示す。 １１・・・・・・真空槽、１３・・・・・・ノズル、１
５・・・・・帯状材。 １９・・・・・・バックローラ、２３・・・・・・強磁
性体金属。 ２４・・・・・・コイル、２５・・・・・・電源。 特許出願人 日立コンデンサ株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ＋１１ 基体に強磁性体金属を該基体の法線に対して
所定の入射角度で斜めに付着しうるイオンブレーティン
グ装置において、槽内に酸素ガスを充填し２強磁性体金
属の蒸発路の途中にコイルを配設し該コイルに振幅変調
波または周波数変調波を流すことを特徴とするイオンブ
レーティング装置。 （２） 基体に接する電極に脈流または方形波を印加す
る特許請求の範囲第１項記載のイオンブレーティング装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11529381A JPS5817608A (ja) | 1981-07-24 | 1981-07-24 | イオンプレ−テイング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11529381A JPS5817608A (ja) | 1981-07-24 | 1981-07-24 | イオンプレ−テイング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5817608A true JPS5817608A (ja) | 1983-02-01 |
| JPH0143447B2 JPH0143447B2 (ja) | 1989-09-20 |
Family
ID=14659064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11529381A Granted JPS5817608A (ja) | 1981-07-24 | 1981-07-24 | イオンプレ−テイング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5817608A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60155427U (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-16 | 株式会社 カリタ | コ−ヒ−抽出装置 |
-
1981
- 1981-07-24 JP JP11529381A patent/JPS5817608A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60155427U (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-16 | 株式会社 カリタ | コ−ヒ−抽出装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0143447B2 (ja) | 1989-09-20 |
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