JPS61153821A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS61153821A JPS61153821A JP27794984A JP27794984A JPS61153821A JP S61153821 A JPS61153821 A JP S61153821A JP 27794984 A JP27794984 A JP 27794984A JP 27794984 A JP27794984 A JP 27794984A JP S61153821 A JPS61153821 A JP S61153821A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- magnetic recording
- recording medium
- plasma
- forming
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 ゛本発明
は、磁気記録媒体およびその製造方法に関するものであ
る。さらに詳しくは、コンピュータデータや音声、ビデ
オ信号記録用のディスク型、カード型。
は、磁気記録媒体およびその製造方法に関するものであ
る。さらに詳しくは、コンピュータデータや音声、ビデ
オ信号記録用のディスク型、カード型。
テープ型などの高密度記鈴が可能で高信頼性の磁気記録
媒体およびその製造方法に関するものである。
媒体およびその製造方法に関するものである。
従来の技術 ・
従来より、磁気記録媒体には、大きく別けて塗布型と蒸
着型がある。
着型がある。
塗布型の磁気記録媒体では、一般にＦｅ ２０ 、やＣ
０全添加した１ −Ｆｅ２Ｏ３等の磁性粉末全ポリビニ
ール。
０全添加した１ −Ｆｅ２Ｏ３等の磁性粉末全ポリビニ
ール。
ブチラール、トリエン、メチルイソブチルケト／等に混
合分散して塗料化し、媒体基体表面に４〜６μｍの厚み
で塗布するものである。
合分散して塗料化し、媒体基体表面に４〜６μｍの厚み
で塗布するものである。
一方、蒸着型の磁気記録媒体では、蒸着方法を。
用いて磁性材料を媒体基体に蒸着するものである。
発明が解決しようとする問題点
このような塗布型の磁気記録媒体は、製造が容易な反面
、磁性粉末を小さくすることに限界があり、高密度記録
用としては性能が不十分であまた。
、磁性粉末を小さくすることに限界があり、高密度記録
用としては性能が不十分であまた。
また蒸着型の磁気記録媒体は、記録密度は塗布型のもの
に比べ良くなるが、磁性金属層が表面に出ているため耐
久性に問題がある。そこで、１ｏＯ０〜２０００人の金
属を電子ビームかスパッタ法で蒸着した上へ、オーバー
コートを行い、さらに出猟記録媒体表面に潤滑性を与え
るために滑剤を塗布しているが、まだ十分な耐久性が得
られていない現状である。さらに、オーバーコートか消
削が塗布されているため、記録用の磁気ヘッドの磁界を
相当大きくする必要があった・ 問題点を解決するための手段 本発明は上記問題点を解決するため、磁気記録媒体′の
基体表面にプラズマ成膜法により、磁性粒子分散膜より
なる磁気記録層を形成したものである０また磁気記録媒
体の基体表面に、磁性粒子分散膜形成用原料ガス雰囲気
中で磁性物質を蒸発付着させて磁性粒子分散膜を形成す
るようにしたものである８ ・ 作用 本発明は上記した構成により、耐久性の高い、高密度・
高信頼性の磁気記録媒体を提供することができる６また
本発明の製造方法により、製造された磁気記録媒体の表
面に、磁性粒子が露出することがなくなり、オーバーコ
ートが不要となる。
に比べ良くなるが、磁性金属層が表面に出ているため耐
久性に問題がある。そこで、１ｏＯ０〜２０００人の金
属を電子ビームかスパッタ法で蒸着した上へ、オーバー
コートを行い、さらに出猟記録媒体表面に潤滑性を与え
るために滑剤を塗布しているが、まだ十分な耐久性が得
られていない現状である。さらに、オーバーコートか消
削が塗布されているため、記録用の磁気ヘッドの磁界を
相当大きくする必要があった・ 問題点を解決するための手段 本発明は上記問題点を解決するため、磁気記録媒体′の
基体表面にプラズマ成膜法により、磁性粒子分散膜より
なる磁気記録層を形成したものである０また磁気記録媒
体の基体表面に、磁性粒子分散膜形成用原料ガス雰囲気
中で磁性物質を蒸発付着させて磁性粒子分散膜を形成す
るようにしたものである８ ・ 作用 本発明は上記した構成により、耐久性の高い、高密度・
高信頼性の磁気記録媒体を提供することができる６また
本発明の製造方法により、製造された磁気記録媒体の表
面に、磁性粒子が露出することがなくなり、オーバーコ
ートが不要となる。
実施例
まず、本発明の一実施例における磁気記録媒体を、その
製造方法を説明することで説明する。第１図に示すよう
に、真空チャンバー１内に、薄膜形成用原料ガス（例え
ば、テトラクロロエチレン。
製造方法を説明することで説明する。第１図に示すよう
に、真空チャンバー１内に、薄膜形成用原料ガス（例え
ば、テトラクロロエチレン。
スチレン、キシレン、ブタジェン、メチルメタアクリレ
ート等の重合性有機モノマーをムｒ で希釈したもの）
を導入し、ターゲット２とした磁性材料（例えば、Ｆｅ
、 ）ｉｉ 、 Ｃｏ 、 Ｏｒ 、 Ｍｎ 、 希
土類金属、あるいはそれらの合金や酸化物）と、ディス
ク状の磁気記録媒体の基体３（例えば、五ｅ。
ート等の重合性有機モノマーをムｒ で希釈したもの）
を導入し、ターゲット２とした磁性材料（例えば、Ｆｅ
、 ）ｉｉ 、 Ｃｏ 、 Ｏｒ 、 Ｍｎ 、 希
土類金属、あるいはそれらの合金や酸化物）と、ディス
ク状の磁気記録媒体の基体３（例えば、五ｅ。
Ｃｕ、ガラス、ポリエステル等のプラスチック）を載置
したサセプター４の間に真空度１０−５〜１０ｔｏｒｒ
程度で、高周波電源６か５高周波電圧（例えば、１３゜
５６ＭＨ２）ｔ−印加し、磁性材料をスパッタリング法
で蒸発させながら原料ガスをプラズマ重合して磁性金属
粒子の分散した磁気記録層６を形成しディスク状の磁気
記録媒体７’を製造することができる− 例えば、原料ガスとしてムｒベース０２Ｆ４ガスを用い
、磁性材料としてＮ＝ ７ Ｏｒ金合金用いると、ポリ
テトラフロロエチレン中にＮｉ −Ｃｒ磁性粒子の分散
した磁気記録層６が形成される。
したサセプター４の間に真空度１０−５〜１０ｔｏｒｒ
程度で、高周波電源６か５高周波電圧（例えば、１３゜
５６ＭＨ２）ｔ−印加し、磁性材料をスパッタリング法
で蒸発させながら原料ガスをプラズマ重合して磁性金属
粒子の分散した磁気記録層６を形成しディスク状の磁気
記録媒体７’を製造することができる− 例えば、原料ガスとしてムｒベース０２Ｆ４ガスを用い
、磁性材料としてＮ＝ ７ Ｏｒ金合金用いると、ポリ
テトラフロロエチレン中にＮｉ −Ｃｒ磁性粒子の分散
した磁気記録層６が形成される。
なお、上述の実施例では、磁性粒子を蒸発させる手段と
して、スパッタリング法を用いたが、雰囲気ガスのプラ
ズマ化を伴う方法、例えば、イオンプレーティング法や
クラスタイオンビーム蒸着法を用いても同じ効果が得ら
れることは明らかであるＯ また、研性体の蒸発速度あるいは雰囲気ガスの流量で磁
性体粒子の大きさや分散濃度を制御できることは言うま
でもない〇 さらに、薄膜材料ガスの代りに、成膜用非磁性体材、科
を磁性材料と同一時に蒸着させても同じ効果が得られる
ことは明、らかである。 １、一方、磁気記録層６
を、異る材質の磁性金属による２層構造とする場合には
、ターゲットを変えて連続または２回にわけて成膜を行
なえば良い。
して、スパッタリング法を用いたが、雰囲気ガスのプラ
ズマ化を伴う方法、例えば、イオンプレーティング法や
クラスタイオンビーム蒸着法を用いても同じ効果が得ら
れることは明らかであるＯ また、研性体の蒸発速度あるいは雰囲気ガスの流量で磁
性体粒子の大きさや分散濃度を制御できることは言うま
でもない〇 さらに、薄膜材料ガスの代りに、成膜用非磁性体材、科
を磁性材料と同一時に蒸着させても同じ効果が得られる
ことは明、らかである。 １、一方、磁気記録層６
を、異る材質の磁性金属による２層構造とする場合には
、ターゲットを変えて連続または２回にわけて成膜を行
なえば良い。
例えば第２図に示すようにＧｏ−Ｑｒ分散層８・とＭＬ
−Ｆｅ分散層９の２層構造も容易に作成が可能である
。
−Ｆｅ分散層９の２層構造も容易に作成が可能である
。
また、より高密度記録を実現するためには、上述の如く
媒体基体３表面に磁気記録層・６を形成する際、媒体基
体３裏面より磁場を印加しておくことにより、磁化容易
軸をそろえる。すなわち、成膜された磁性金属粒子の磁
気モーメントｉ一定に配向させることが可能である。例
えば、第３図に示すように、磁気モーメント１０″１媒
体基体面に対して垂直に配向させる場合には、媒体基体
裏面より垂直成分の優勢な磁場１１を媒体基体表面に対
し略垂直に印加しておけば良い。また、磁気モーメント
の方向を交互に変えたい場合は、磁場として交流磁石１
２を用い、媒体基体の送り（第３図中、矢印ム方向）に
同期させながら遮蔽板１３を介して磁性粒子を蒸発させ
てやれば良い。
媒体基体３表面に磁気記録層・６を形成する際、媒体基
体３裏面より磁場を印加しておくことにより、磁化容易
軸をそろえる。すなわち、成膜された磁性金属粒子の磁
気モーメントｉ一定に配向させることが可能である。例
えば、第３図に示すように、磁気モーメント１０″１媒
体基体面に対して垂直に配向させる場合には、媒体基体
裏面より垂直成分の優勢な磁場１１を媒体基体表面に対
し略垂直に印加しておけば良い。また、磁気モーメント
の方向を交互に変えたい場合は、磁場として交流磁石１
２を用い、媒体基体の送り（第３図中、矢印ム方向）に
同期させながら遮蔽板１３を介して磁性粒子を蒸発させ
てやれば良い。
なおまた、媒体基体３としてガラス、ＰＭＭＡ 。
ホリカーボネート等の透明基体を用いることにより、光
磁気記録媒体として用いることが可能である。例えば０
６ ＴｂｙＣｏ ７＋４等のような組成を高精度
に制御する必要がある光磁気記録媒体には本発明が適し
ている。
磁気記録媒体として用いることが可能である。例えば０
６ ＴｂｙＣｏ ７＋４等のような組成を高精度
に制御する必要がある光磁気記録媒体には本発明が適し
ている。
発明の効果
以上述べてきたように、本発明によれば耐久性の高い高
密度・高信頼性磁気記録媒体を提供できる。また磁気記
録媒体の表面に、磁性粒子が露出することがないので、
従来のようなオーバーコートを必要としない。さらに、
雰囲気ガスとしてｃ２ｙ、 含むガスを用いると、ク
ロロカーボンポリマーで基体表面が被われていることに
なるので磁気記録媒体の耐摩耗性を向上させることがで
きる。
密度・高信頼性磁気記録媒体を提供できる。また磁気記
録媒体の表面に、磁性粒子が露出することがないので、
従来のようなオーバーコートを必要としない。さらに、
雰囲気ガスとしてｃ２ｙ、 含むガスを用いると、ク
ロロカーボンポリマーで基体表面が被われていることに
なるので磁気記録媒体の耐摩耗性を向上させることがで
きる。
第１図は本発明の一実施例における８気記録媒体の製造
装置の概略図、第２図は本発明の方法により製造した磁
気記録層ふ；２層の磁気記録媒体の断面図、第３図は本
発明の一実施例における磁気を 記録媒体の磁気記録層の磁化容易軸を媒体基体表面に垂
直にそろえる方法を説明するための図である。 ３・・・・・・磁気記録媒体の基体、６・・・・・・磁
気記録層、７・・・・・・磁気記録媒体。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名無
１ 図 ｔｓｉｌ子・ｒシバ°− Ｗ４２ 図 第３１１ 手続補正書 昭和６０年 １副１７日 ｌ事件の表示 昭和６９年特許願第２７７９４９号 ２発明の名称 磁気記録媒体およびその製造方法 ３補正をする者 事件との関係 特 許 出 願
人任 所 大阪府門真市大字門真１００６番地名
称 （５８２）松下電器産業株式会社代表者 山
下 俊 彦 ４代理人 〒５７１ − 所 大阪府門真市大字門真１００６番地松下電器
産業株式会社内 ６補正の対象 ６、補正の内容 ′ ” （１）明細書第６ページ第７行から同第８行の「成膜用
非磁性体材料を磁性材料と同時に蒸着させても同じ」を
「成膜用非磁性体材料、たとえばＡｄ 、Ｃｕ 等を磁
性材料と同時に蒸着させたり、あるいはＳ １０２を形
成する（ Ｓ ＩＨ４＋ Ｎ２０ ）カスカＳｉ３Ｎ４
ヲ形成すル（ＳｉＨ，、Ｃ＃２＋ＮＨ３） カス雰囲気
中でスパッタリングを行なっても同じ」に補正します。 （２）同第６ページ第９行の「明らかである。」の後に
次の文を追加します。 ［なお、このとき、ターゲットとサセプタの間に直流バ
イアスを印加しなから成膜を行なうと、より高密度な磁
気記録層を形成できる。」（３）図面の第１図を別紙の
通り補正します。
装置の概略図、第２図は本発明の方法により製造した磁
気記録層ふ；２層の磁気記録媒体の断面図、第３図は本
発明の一実施例における磁気を 記録媒体の磁気記録層の磁化容易軸を媒体基体表面に垂
直にそろえる方法を説明するための図である。 ３・・・・・・磁気記録媒体の基体、６・・・・・・磁
気記録層、７・・・・・・磁気記録媒体。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名無
１ 図 ｔｓｉｌ子・ｒシバ°− Ｗ４２ 図 第３１１ 手続補正書 昭和６０年 １副１７日 ｌ事件の表示 昭和６９年特許願第２７７９４９号 ２発明の名称 磁気記録媒体およびその製造方法 ３補正をする者 事件との関係 特 許 出 願
人任 所 大阪府門真市大字門真１００６番地名
称 （５８２）松下電器産業株式会社代表者 山
下 俊 彦 ４代理人 〒５７１ − 所 大阪府門真市大字門真１００６番地松下電器
産業株式会社内 ６補正の対象 ６、補正の内容 ′ ” （１）明細書第６ページ第７行から同第８行の「成膜用
非磁性体材料を磁性材料と同時に蒸着させても同じ」を
「成膜用非磁性体材料、たとえばＡｄ 、Ｃｕ 等を磁
性材料と同時に蒸着させたり、あるいはＳ １０２を形
成する（ Ｓ ＩＨ４＋ Ｎ２０ ）カスカＳｉ３Ｎ４
ヲ形成すル（ＳｉＨ，、Ｃ＃２＋ＮＨ３） カス雰囲気
中でスパッタリングを行なっても同じ」に補正します。 （２）同第６ページ第９行の「明らかである。」の後に
次の文を追加します。 ［なお、このとき、ターゲットとサセプタの間に直流バ
イアスを印加しなから成膜を行なうと、より高密度な磁
気記録層を形成できる。」（３）図面の第１図を別紙の
通り補正します。
Claims (8)
- （１）基体表面にプラズマ成膜法で形成した磁性粒子分
散膜よりなる磁気記録層を有してなる磁気記録媒体。 - （２）磁性粒子分散膜が、有機材料と磁性金属またはそ
の酸化物粒子よりなる特許請求の範囲第１項記載の磁気
記録媒体。 - （３）有機材料としてフッ化炭素を含む特許請求の範囲
第２項記載の磁気記録媒体。 - （４）基体表面に、磁性粒子分散膜形成用原料ガス雰囲
気中で磁性物質を蒸発付着させて磁性粒子分散膜を形成
する磁気記録媒体の製造方法。 - （５）磁性粒子分散膜形成用原料ガスとして有機物を用
いる特許請求の範囲第４項記載の磁気記録媒体の製造方
法。 - （６）磁性粒子を蒸発させるのに、スパッタリング蒸着
、イオンプレーティング、クラスターイオンビーム蒸着
等の雰囲気ガスのプラズマ化を伴う方法を用いる特許請
求の範囲第５項記載の磁気記録媒体の製造方法。 - （７）磁性粒子が、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｍｎ、希
土類金属あるいはそれらの合金や酸化物である特許請求
の範囲第６項記載の磁気記録媒体の製造方法。 - （８）磁性粒子分散膜を形成するに際し、基体に磁場を
印加し、磁化容易軸をそろえるようにした特許請求の範
囲第４項記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27794984A JPS61153821A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27794984A JPS61153821A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61153821A true JPS61153821A (ja) | 1986-07-12 |
Family
ID=17590515
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27794984A Pending JPS61153821A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61153821A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8273407B2 (en) * | 2006-01-30 | 2012-09-25 | Bergendahl Albert S | Systems and methods for forming magnetic nanocomposite materials |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52153412A (en) * | 1976-06-15 | 1977-12-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of electric substrate |
| JPS5888829A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
-
1984
- 1984-12-26 JP JP27794984A patent/JPS61153821A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52153412A (en) * | 1976-06-15 | 1977-12-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of electric substrate |
| JPS5888829A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8273407B2 (en) * | 2006-01-30 | 2012-09-25 | Bergendahl Albert S | Systems and methods for forming magnetic nanocomposite materials |
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