JPS5812151B2 - カイシツポリエステルニジクエンシンフイルム セイゾウホウホウ - Google Patents
カイシツポリエステルニジクエンシンフイルム セイゾウホウホウInfo
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Landscapes
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- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はポリエステルフィルムの少なくとも片面に下塗
り層を積層させることによって二次加工性が改良された
ポリエステルニ軸延伸フィルムの製造方法に関するもの
である。
り層を積層させることによって二次加工性が改良された
ポリエステルニ軸延伸フィルムの製造方法に関するもの
である。
ポリエステル、とくにポリエチレンテレフタレート二軸
延伸フィルムは透明性9寸法安定性2強靭註等優れた特
徴を有しているのでこの性質を利用して写真用感剤材料
、金属蒸着用原反、製図用原反、磁気テープ用原反、包
装材料等に従来から多く用いられてきた。
延伸フィルムは透明性9寸法安定性2強靭註等優れた特
徴を有しているのでこの性質を利用して写真用感剤材料
、金属蒸着用原反、製図用原反、磁気テープ用原反、包
装材料等に従来から多く用いられてきた。
この場合これらの粗塗に対してポリエステルニ軸延伸フ
ィルム単体で使用される例は極めて稀であり、例えば写
真用フィルムベース用ではゼラチン層間の接着性を、磁
気テープベース用では磁性体層との接着性を向上させる
ため、通常は各用途において各々適当な下塗り剤をフィ
ルム上に付与し、実用に供しているのが現状であ。
ィルム単体で使用される例は極めて稀であり、例えば写
真用フィルムベース用ではゼラチン層間の接着性を、磁
気テープベース用では磁性体層との接着性を向上させる
ため、通常は各用途において各々適当な下塗り剤をフィ
ルム上に付与し、実用に供しているのが現状であ。
しかしながら、一般にポリエステルニ軸延伸フィルム面
と親和性を有する下塗り剤の場合は表層材との接着性に
劣り、また表層材と親和性を有するものは概してポリエ
ステルニ軸延伸フィルム面との接着性に劣るという欠点
がある。
と親和性を有する下塗り剤の場合は表層材との接着性に
劣り、また表層材と親和性を有するものは概してポリエ
ステルニ軸延伸フィルム面との接着性に劣るという欠点
がある。
さらに例え前記した両接着註を満足する下塗り剤であっ
ても表層材のぬれ特注が劣り、均一に塗布できなかった
り、著しい帯電性が作業性を著しく低下させたりする問
題がある。
ても表層材のぬれ特注が劣り、均一に塗布できなかった
り、著しい帯電性が作業性を著しく低下させたりする問
題がある。
また下塗り層をフィルムに積層させる方法として、最近
二軸延伸フィルム製膜工程中で下塗り層を積層し、一挙
に複合二軸延伸フィルムを得る方法が低いコストでかつ
高品質を有する点で注目され改良がなされており、本発
明者らは先に界面活性剤を0.01〜10重量係含み、
かつ分子量600〜6,000のポリアルキレンエーテ
ルグリコール成分を2〜70重量係共重合せしめたブロ
ックポリエーテルエステルをポリエチレンテレフタレー
ト二軸延伸フィルムに積層することを提案した。
二軸延伸フィルム製膜工程中で下塗り層を積層し、一挙
に複合二軸延伸フィルムを得る方法が低いコストでかつ
高品質を有する点で注目され改良がなされており、本発
明者らは先に界面活性剤を0.01〜10重量係含み、
かつ分子量600〜6,000のポリアルキレンエーテ
ルグリコール成分を2〜70重量係共重合せしめたブロ
ックポリエーテルエステルをポリエチレンテレフタレー
ト二軸延伸フィルムに積層することを提案した。
この方法は下塗り層と基体フィルム、下塗り層と表層材
との接着効果および再生産性は優れている反面、下塗り
剤のブロックポリエーテルエステルを水分散液にするこ
とが困難で例え水分散液にした場合でも粗大粒子が発生
するため、コーテングバー、グラビアロールへのつまり
を生じ、塗布むらの原因となるため均一で高品質のフィ
ルムが得難い欠点を有する。
との接着効果および再生産性は優れている反面、下塗り
剤のブロックポリエーテルエステルを水分散液にするこ
とが困難で例え水分散液にした場合でも粗大粒子が発生
するため、コーテングバー、グラビアロールへのつまり
を生じ、塗布むらの原因となるため均一で高品質のフィ
ルムが得難い欠点を有する。
また有機溶媒とした場合でも溶剤回収装置の付設9等装
置が繁雑化するほか作業環境の悪化を伴なう等の欠点が
ある。
置が繁雑化するほか作業環境の悪化を伴なう等の欠点が
ある。
本発明者らは、前記した従来の下塗り層を有するポリエ
ステル二軸延伸フィルムの欠点を改善するため鋭意検討
した結果、有効な水溶性下塗り剤を見出し、本発明に到
達したのである。
ステル二軸延伸フィルムの欠点を改善するため鋭意検討
した結果、有効な水溶性下塗り剤を見出し、本発明に到
達したのである。
本発明の目的は、均一な下塗り層を有し、各用途におけ
るバインダー、蒸着金属膜との接着性に優れ、かつ再生
量 二軸延伸フィルムの製造方法を提供するにある。
るバインダー、蒸着金属膜との接着性に優れ、かつ再生
量 二軸延伸フィルムの製造方法を提供するにある。
このような本発明の目的は、ポリエステルフィルムの少
なくとも片面に、分子量600〜6,000のポリエチ
レングリコール20〜80重量係を共重合させたブロッ
クポリエーテルエステルと10〜30重量%の蔭イオン
系界面活注剤からなる接着剤の水溶液を塗布した後延伸
することによって達成できる。
なくとも片面に、分子量600〜6,000のポリエチ
レングリコール20〜80重量係を共重合させたブロッ
クポリエーテルエステルと10〜30重量%の蔭イオン
系界面活注剤からなる接着剤の水溶液を塗布した後延伸
することによって達成できる。
使用する下塗り剤であるブロックポリエーテルエステル
中のポリエチレングリコール共重合量は20〜80重量
%が必要で30〜70重量%がより好ましい。
中のポリエチレングリコール共重合量は20〜80重量
%が必要で30〜70重量%がより好ましい。
また該ポリエチレングリコールの分子量は600〜6,
000である。
000である。
分子量600以下のポリエチレングリコールではブロッ
ク註が小さくなるため弾けが不十分となり、また分子量
が6,000以上のものではポリエチレングリコール成
分がポリエステルにとけなくなるため弾性,接着力とも
に著しく低下する。
ク註が小さくなるため弾けが不十分となり、また分子量
が6,000以上のものではポリエチレングリコール成
分がポリエステルにとけなくなるため弾性,接着力とも
に著しく低下する。
またポリエチレングリコールの共重合量が20重量係以
下では水に対する溶解性および弾性が低下し、80重量
係以上では接着力が著しく低下する。
下では水に対する溶解性および弾性が低下し、80重量
係以上では接着力が著しく低下する。
本発明で用いられるポリエチレングリコールには、他の
ポリアルキレングリコール単位を40モル係以下を共重
合せしめたポリエチレングリコール/ポリアルキレング
リコール共重合体も含む。
ポリアルキレングリコール単位を40モル係以下を共重
合せしめたポリエチレングリコール/ポリアルキレング
リコール共重合体も含む。
またブロックポリエーテルエステルの固有粘度(O−ク
ロルフェノール中25℃で測定した値)は特に限定はな
いが0.3以下では接着力が不足するので0、3以上の
ものが好ましい。
ロルフェノール中25℃で測定した値)は特に限定はな
いが0.3以下では接着力が不足するので0、3以上の
ものが好ましい。
ブロックポリエーテルエステルのジカルボン酸成分とし
てはテレフタル酸,イソフタル酸,フクル酸,1.4ー
ナフタレンジカルボン酸,2,5−ナフタレンジカルボ
ン酸,2.6−ナフタレンジカルボン酸,ナフタル酸,
ビフエニルジカルボン酸。
てはテレフタル酸,イソフタル酸,フクル酸,1.4ー
ナフタレンジカルボン酸,2,5−ナフタレンジカルボ
ン酸,2.6−ナフタレンジカルボン酸,ナフタル酸,
ビフエニルジカルボン酸。
1、2−ビス(フェノキシ)エタンーP,P′ージカル
ボン酸,蓚酸,マロン酸,コハク酸,グルタール酸,ア
ジピン酸,ピメリン酸,アゼライン酸。
ボン酸,蓚酸,マロン酸,コハク酸,グルタール酸,ア
ジピン酸,ピメリン酸,アゼライン酸。
セバシン酸,1.3−シクロペンタンジカルボン酸。
1、2−シクロヘキサンジカルボン酸,1,4−シクロ
ヘキサンシカルボン酸,および芳香族オキシ酸であるP
−ヒドロキシエトキシ安息香酸やこれらのエステル形成
性誘導体が用いられ、好ましくはテレフタル酸,イソフ
タル酸,2.6−ナフタレンジカルボン酸,1.2−ビ
ス(フェノキシ)エタン−P,P′−ジカルボン酸およ
びそれらのエステル形成性誘導体等が用いられ、特に好
ましくはテレフタル酸,イソフタル酸,2.6−ナフタ
レンジカルボン酸,1.2−ビス(フェノキシ)エタン
−P,P′−ジカルボン酸からえらばれた2種以上の併
用である。
ヘキサンシカルボン酸,および芳香族オキシ酸であるP
−ヒドロキシエトキシ安息香酸やこれらのエステル形成
性誘導体が用いられ、好ましくはテレフタル酸,イソフ
タル酸,2.6−ナフタレンジカルボン酸,1.2−ビ
ス(フェノキシ)エタン−P,P′−ジカルボン酸およ
びそれらのエステル形成性誘導体等が用いられ、特に好
ましくはテレフタル酸,イソフタル酸,2.6−ナフタ
レンジカルボン酸,1.2−ビス(フェノキシ)エタン
−P,P′−ジカルボン酸からえらばれた2種以上の併
用である。
なお、ポリエチレンテレフタレートを主体とするポリエ
ステルに対するブロックポリエーテルエステルの接着性
を高めるためには芳香族ジカルボン酸および/またその
エステル形成性誘導体の使用が好ましいが、これらの芳
香族ジカルボン酸を単独で用いた場合は十分な接着力,
水に対する溶解性が発現しないので、2種以上のジカル
ボン酸を共重合することが望ましい。
ステルに対するブロックポリエーテルエステルの接着性
を高めるためには芳香族ジカルボン酸および/またその
エステル形成性誘導体の使用が好ましいが、これらの芳
香族ジカルボン酸を単独で用いた場合は十分な接着力,
水に対する溶解性が発現しないので、2種以上のジカル
ボン酸を共重合することが望ましい。
また1種のジカルボン酸を使用する場合には、グリコー
ル成分を2種以上共重合することにより、十分な接着力
や溶解性を発現させることができるので好ましい。
ル成分を2種以上共重合することにより、十分な接着力
や溶解性を発現させることができるので好ましい。
ブロックポリエーテルエステルのグリコール成分として
はエチレングリコール,1.2−プロパンジオール,1
.3−プロパンジオール,2.4−ジメチル−2エチル
ヘキサン−1.3−ジオール,ネオペンチルグリコール
,2−エチル−2−ブチル−1、3−プロパンジオール
,1.3−ブタンジオール。
はエチレングリコール,1.2−プロパンジオール,1
.3−プロパンジオール,2.4−ジメチル−2エチル
ヘキサン−1.3−ジオール,ネオペンチルグリコール
,2−エチル−2−ブチル−1、3−プロパンジオール
,1.3−ブタンジオール。
1、4ブタンジオール,1.5ペンタジオール,1.6
−ヘキサンジオール,P−キシリレングリコール。
−ヘキサンジオール,P−キシリレングリコール。
ジエチレングリコール,トリエチレングリコール。
テトラエチレングリコール,ペンタエチレングリコール
,ヘキサエチレングリコール等のグリコールがあげられ
るが、特にエチレングリコール。
,ヘキサエチレングリコール等のグリコールがあげられ
るが、特にエチレングリコール。
1、3−プロパンジオール,1.4−ブタンジオール。
1、4シクロヘキサンジメタノール等が好ましい。
ブロックポリエーテルエステルの合成には、ポリエチレ
ンテレフタレート等を合成する方法をそのまま適用でき
る。
ンテレフタレート等を合成する方法をそのまま適用でき
る。
例えば所定量のジカルボン酸ジメチルエステルとグリコ
ールを通常のエステル交換触媒の存在下で140〜24
0℃に加熱し、生成するメタノールを留去しながらエス
テル交換反応を行なわせ、ついで通常の重合触媒および
亜リン酸エステルやリン酸エステル等の着防剤および所
定量のポリエチレングリコールを添加してから、200
〜290℃。
ールを通常のエステル交換触媒の存在下で140〜24
0℃に加熱し、生成するメタノールを留去しながらエス
テル交換反応を行なわせ、ついで通常の重合触媒および
亜リン酸エステルやリン酸エステル等の着防剤および所
定量のポリエチレングリコールを添加してから、200
〜290℃。
0.01〜50mmHgの高温真空下でエチレングリコ
ールを留去させ重縮合する方法、またジカルボン酸およ
びグリコールを直接150〜250℃で常圧あるいは加
圧下に反応させ、生成する水を留去しつつエステル化し
、ついでポリエチレングリコール等を添加し重縮合する
方法によって得られる。
ールを留去させ重縮合する方法、またジカルボン酸およ
びグリコールを直接150〜250℃で常圧あるいは加
圧下に反応させ、生成する水を留去しつつエステル化し
、ついでポリエチレングリコール等を添加し重縮合する
方法によって得られる。
なおポリエチレングリコールはエステル交換後あるいは
、エステル化後に加えるのが好ましいが、エステル交換
前あるいはエステル化前に加えることもできる。
、エステル化後に加えるのが好ましいが、エステル交換
前あるいはエステル化前に加えることもできる。
本発明で用いられる陰イオン系界面活性剤としては特に
限定はないが、本発明の効果をより発揮させるためには
、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベ
ンゼンスルホン酸カリウム等のアルキルベンゼンスルホ
ン酸のアルカリ金属塩、硫酸モノドデシルモノナトリウ
ム、硫酸モノドデシルモノカリウム、硫酸モノヘキサデ
シルモノナトリウム、硫酸モノヘキサデシルモノカリウ
ム等の硫酸モノアルキルモノアルカリ金属塩がより好ま
しく使用できる。
限定はないが、本発明の効果をより発揮させるためには
、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベ
ンゼンスルホン酸カリウム等のアルキルベンゼンスルホ
ン酸のアルカリ金属塩、硫酸モノドデシルモノナトリウ
ム、硫酸モノドデシルモノカリウム、硫酸モノヘキサデ
シルモノナトリウム、硫酸モノヘキサデシルモノカリウ
ム等の硫酸モノアルキルモノアルカリ金属塩がより好ま
しく使用できる。
またこの陰イオン系界面活性剤のブロックポリエーテル
エステルに対する配合量は10〜30重量%が好ましい
。
エステルに対する配合量は10〜30重量%が好ましい
。
10重量%以下では、ポリエーテルエステルが水に溶解
しにくく、例え溶解しても粗粒化した樹脂の分散粒子が
発生しやすい。
しにくく、例え溶解しても粗粒化した樹脂の分散粒子が
発生しやすい。
また30重量%以上では、接着力が低下する。
下塗り削氷溶液(接着剤水溶液)中におけるブロックポ
リエーテルエステルの含有率は特に限定されないが通常
1〜20重量%であり、好ましくは4〜15重量%であ
る。
リエーテルエステルの含有率は特に限定されないが通常
1〜20重量%であり、好ましくは4〜15重量%であ
る。
含有率が1重量%以下では低濃度のためポリマ塗布の作
業上が悪く、また20重量%以上では溶液の粘度が大き
すぎて作業上が低下するので好ましくない。
業上が悪く、また20重量%以上では溶液の粘度が大き
すぎて作業上が低下するので好ましくない。
前記ブロックポリエーテルエステル接着剤水溶液は、
■ ブロックポリエーテルエステルの粉末あるいはペレ
ットを陰イオン系界面活性剤水溶液に加熱溶解せしめる
方法。
ットを陰イオン系界面活性剤水溶液に加熱溶解せしめる
方法。
■ 陰イオン系界面活性剤を含むブロックポリエーテル
エステルの溶融物に水を加えて加熱溶解せしめる方法。
エステルの溶融物に水を加えて加熱溶解せしめる方法。
■ 陰イオン系界面活性剤およびブロックポリエーテル
エステルを95℃以下の沸点を有し、かつ水に溶解し、
しかも該ブロックポリエーテルエステルを溶解する有機
溶剤に溶解せしめたあと、この溶液に水を加え、ついで
常圧あるいは減圧下で有機溶剤を留去せしめる方法。
エステルを95℃以下の沸点を有し、かつ水に溶解し、
しかも該ブロックポリエーテルエステルを溶解する有機
溶剤に溶解せしめたあと、この溶液に水を加え、ついで
常圧あるいは減圧下で有機溶剤を留去せしめる方法。
などで調製できる。
なお陰イオン系界面活性剤は、接着剤水溶液調製時に添
加してもよいが、陰イオン系界面活性剤の耐熱性がよく
、かつブロックポリエーテルエステルの重合反応および
分解等の悪影響がない場合にはブロックポリエーテルエ
ステルの重縮合反応時に添加することも可能である。
加してもよいが、陰イオン系界面活性剤の耐熱性がよく
、かつブロックポリエーテルエステルの重合反応および
分解等の悪影響がない場合にはブロックポリエーテルエ
ステルの重縮合反応時に添加することも可能である。
またブロックポリエーテルエステルを製造する際にポリ
マの耐熱性を向上せしめるため、抗酸化剤として高沸点
を有するヒンダードフェノール類等を添加することも可
能であり、その他必要に応じてブロッキング防止剤、顔
料、染料、無機微粒子等を含有させることができる。
マの耐熱性を向上せしめるため、抗酸化剤として高沸点
を有するヒンダードフェノール類等を添加することも可
能であり、その他必要に応じてブロッキング防止剤、顔
料、染料、無機微粒子等を含有させることができる。
なお前記した接着剤の〃水溶液〃とは物理化学的な意味
で厳密性を有するものではなく、水に大部分が溶解し、
一部が微分散しているようなものも含むものである。
で厳密性を有するものではなく、水に大部分が溶解し、
一部が微分散しているようなものも含むものである。
本発明における基体フィルムを構成するポリエステルは
、その構成単位の少なくとも70%がポリエチレンテレ
フタレートである。
、その構成単位の少なくとも70%がポリエチレンテレ
フタレートである。
本発明の下塗り層を有する二軸延伸ポリエステルフィル
ムは、 ■ 基体となるポリエステル無延伸フィルムに所定量の
前記したブロックポリエーテルエステル水溶液を塗布し
、逐次あるいは同時に二軸延伸する方法。
ムは、 ■ 基体となるポリエステル無延伸フィルムに所定量の
前記したブロックポリエーテルエステル水溶液を塗布し
、逐次あるいは同時に二軸延伸する方法。
■ 基体となるポリエステル無延伸フィルムをあらかじ
め一方向に延伸しておき、これに所定量のブロックポリ
エーテルエステル水溶液を塗布した後−次延伸方向と直
角方向に延伸する方法。
め一方向に延伸しておき、これに所定量のブロックポリ
エーテルエステル水溶液を塗布した後−次延伸方向と直
角方向に延伸する方法。
によって得られる。
本発明の効果をとりまとめると次のとおりである。
■ 得られた下塗り層を積層したフィルムは、その下塗
りが二次加工時の表層材を構成するバインダに対する接
着註、蒸着金属に対する付着力易印刷註等に優れており
、二次加工性に富んだものとなる。
りが二次加工時の表層材を構成するバインダに対する接
着註、蒸着金属に対する付着力易印刷註等に優れており
、二次加工性に富んだものとなる。
■ 下塗り層表面に優れた静電防止能力があるため、二
次加工時の作業註が優れている。
次加工時の作業註が優れている。
■ 下塗り剤を有機溶剤で溶解しないため、毒性。
引火性等の作業環境問題に対する配慮を大幅に簡素化で
きる。
きる。
以下実施例をあげて本発明を詳述する。
実施例 1
ポリエチレンテレフタレートを溶融押出し、60℃でキ
ャストした後70℃の予熱ロール。
ャストした後70℃の予熱ロール。
100℃の延伸ロール、15℃の冷却ロール群。
および周速の異なるニップロール等の延伸装置および条
件で長さ方向に3.3倍で延伸して一軸延伸フイルムを
製造した。
件で長さ方向に3.3倍で延伸して一軸延伸フイルムを
製造した。
別にジカルボン酸成分としてテレフタル酸50モル%、
イソフタル酸50モル%、ジオール成分としてエチレン
グリコール、および40重量係の分子 4,000のポ
リエチレングリコールとからブロックポリエーテルエス
テルを製造し、該ブロックポリエーテルエステルにドデ
゛シルベンゼンスルホン酸ソーダ12重量%を添加した
後比較的粘稠でやや白濁したブロックポリエーテルエス
テル4係水溶液を調製した。
イソフタル酸50モル%、ジオール成分としてエチレン
グリコール、および40重量係の分子 4,000のポ
リエチレングリコールとからブロックポリエーテルエス
テルを製造し、該ブロックポリエーテルエステルにドデ
゛シルベンゼンスルホン酸ソーダ12重量%を添加した
後比較的粘稠でやや白濁したブロックポリエーテルエス
テル4係水溶液を調製した。
一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムに60℃
に保ったブロックポリエーテルエステル4%水溶液を塗
布した後、該フィルムを100℃の予熱ゾーン、120
℃の延伸ゾーン、200℃の熱固定ゾーンからなるステ
ンタ一式横延伸装置に連続的に導びき、横方向に3.4
倍に延伸した。
に保ったブロックポリエーテルエステル4%水溶液を塗
布した後、該フィルムを100℃の予熱ゾーン、120
℃の延伸ゾーン、200℃の熱固定ゾーンからなるステ
ンタ一式横延伸装置に連続的に導びき、横方向に3.4
倍に延伸した。
かくして得られた表面改質ポリエチレンテレフクレート
ニ軸延伸フィルムの厚みは二軸延伸基体層が30μ、下
塗り層0.1μであった。
ニ軸延伸フィルムの厚みは二軸延伸基体層が30μ、下
塗り層0.1μであった。
得られた表面改質二軸延伸フィルムの表面改質面側に以
下に示す表面マット加工を行ない、マット処理状態とマ
ット処理剤とフィルムとの接着強さを評価した。
下に示す表面マット加工を行ない、マット処理状態とマ
ット処理剤とフィルムとの接着強さを評価した。
マット化処理剤とフィルムとの接着強さを処理面の上に
ニチバン(株)製24mm幅のセロテープを貼りつけ、
これを剥離する操作を行なったところ、ブロックポリエ
ーテルエステル層を持たないポリエチレンテレフタレー
トフィルムの場合、簡単に剥離したが本発明のフィルム
は極めて強固に接着していた。
ニチバン(株)製24mm幅のセロテープを貼りつけ、
これを剥離する操作を行なったところ、ブロックポリエ
ーテルエステル層を持たないポリエチレンテレフタレー
トフィルムの場合、簡単に剥離したが本発明のフィルム
は極めて強固に接着していた。
また、表面改質面は静電防止効果(表面固有抵抗101
1Ω)に優れているためマット加工も容易に行なわれる
ことがわかった。
1Ω)に優れているためマット加工も容易に行なわれる
ことがわかった。
(マット加工法)
樹脂分40%のポリウレタン系接着剤20部。
樹脂分40%のイソシアネート系硬化剤20を40部の
酢酸エチルに加え、加温しながら溶解する。
酢酸エチルに加え、加温しながら溶解する。
この接着剤の溶液中に東亜合成化学工業(株)製のつや
消し剤(F−1)16部を加え均一に混合する、別に2
0部の酢酸エチルにクロトン酸含量8%の酢酸ビニル、
クロトン酸共重合体4部を粉末状にして加え均一に溶解
せしめる。
消し剤(F−1)16部を加え均一に混合する、別に2
0部の酢酸エチルにクロトン酸含量8%の酢酸ビニル、
クロトン酸共重合体4部を粉末状にして加え均一に溶解
せしめる。
両者の酢酸エチル混合液を加え、均一に混合撹拌して得
られたマット化処理剤をグラビアロールを用いて泊−に
塗布し約70℃の温度で5秒度乾燥する。
られたマット化処理剤をグラビアロールを用いて泊−に
塗布し約70℃の温度で5秒度乾燥する。
実施例 2
実施例1で得た下塗り層を積層した二軸延伸フィルムに
、減圧下でチルミニラムを金属蒸着させた後、ポリエス
テル粘着テープで蒸着強度を調べたところ極めて硫固な
金属蒸着が行なわれていた。
、減圧下でチルミニラムを金属蒸着させた後、ポリエス
テル粘着テープで蒸着強度を調べたところ極めて硫固な
金属蒸着が行なわれていた。
実施例 3
実施例1で得られた二軸延伸フィルムの表面改質面に磁
性体を含んだ塩化ビニル−酢酸ビニル系バインダーを塗
布し85℃、20秒間乾燥した。
性体を含んだ塩化ビニル−酢酸ビニル系バインダーを塗
布し85℃、20秒間乾燥した。
得られた磁性体コーテングフィルムは、ブロックポリエ
ーテル層を持たないポリエチレンテレフタレートフィル
ムを使用したものに比べ、格段に優れた接着強度を有し
ていた。
ーテル層を持たないポリエチレンテレフタレートフィル
ムを使用したものに比べ、格段に優れた接着強度を有し
ていた。
また、表面が極めて均一であるため、磁性体層を設けて
もドロップアウトが少なく、極めて望ましい磁気特性を
有していた。
もドロップアウトが少なく、極めて望ましい磁気特性を
有していた。
実施例 4
実施例1と同様な方法で両者にブロックポリエーテルエ
ステル共重合体水溶液を塗布し、得られたフィルムの片
面に銅を金属蒸着させ、一方の面にスクリーン印刷イン
キを塗布した。
ステル共重合体水溶液を塗布し、得られたフィルムの片
面に銅を金属蒸着させ、一方の面にスクリーン印刷イン
キを塗布した。
ブロックポリエーテルエステル層を持たない通常の二軸
延伸フィルムに同様な処理をしたものに比べ、はるかに
堅牢な接着効果を示した。
延伸フィルムに同様な処理をしたものに比べ、はるかに
堅牢な接着効果を示した。
実施例 5
固有粘度0.63.軟化点260℃のポリエチレンテレ
フタレートを溶融押出して、150μの未延伸フィルム
を得た。
フタレートを溶融押出して、150μの未延伸フィルム
を得た。
このフィルムの片面に実施例1のブロックポリエステル
エーテル水溶液を塗布した後、95℃で同時二軸延伸を
行ない引きつづき幅方向にやや弛緩させつつ200℃で
熱処理した。
エーテル水溶液を塗布した後、95℃で同時二軸延伸を
行ない引きつづき幅方向にやや弛緩させつつ200℃で
熱処理した。
得られた表面処理フィルムは滑り註に優れ、かつ静電防
止効果を有し、実施例1と同様の極めて優れた易接着効
果を示した。
止効果を有し、実施例1と同様の極めて優れた易接着効
果を示した。
実施例 6
酸成分としてテレフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸
(モル比は5:4:1)、ジオール成分としてエチレン
グリコールおよび分子量2,000のポリエチレングリ
コール60重量係からなるブロックポリエーテルエステ
ルに、硫酸モノドデシルモノナトリウムを18重量%添
加した4係水溶液を調製した。
(モル比は5:4:1)、ジオール成分としてエチレン
グリコールおよび分子量2,000のポリエチレングリ
コール60重量係からなるブロックポリエーテルエステ
ルに、硫酸モノドデシルモノナトリウムを18重量%添
加した4係水溶液を調製した。
該ブロックポリエーテルエステル水溶液を用い、実施例
5と同様な方法で表面改質された15μのポリエチレン
テレフタレートニ軸伸フィルムを得た。
5と同様な方法で表面改質された15μのポリエチレン
テレフタレートニ軸伸フィルムを得た。
このフィルムの処理面に実施例3の方法で磁性体をコー
チングした後得られたフィルムの磁性体接着強度を調べ
たところ極めて強固な接着性を有していた。
チングした後得られたフィルムの磁性体接着強度を調べ
たところ極めて強固な接着性を有していた。
実施例 7
酸成分としてテレフタル酸、イソフタル酸。
(モル比6:4)、ジオール成分としてエチレングリコ
ールおよび分子量3,000のポリエチレングリコール
40重量係からなるブロックポリエーテルエステルにド
デシルベンゼンスルホン酸ソーダを20重量%添加した
ブ爾ツクポリエーテルエステル10%水溶液を用いたほ
かは、実施例1と同様な方法で二軸延伸フィルムを得た
後マット化処理を行なった。
ールおよび分子量3,000のポリエチレングリコール
40重量係からなるブロックポリエーテルエステルにド
デシルベンゼンスルホン酸ソーダを20重量%添加した
ブ爾ツクポリエーテルエステル10%水溶液を用いたほ
かは、実施例1と同様な方法で二軸延伸フィルムを得た
後マット化処理を行なった。
また別に二軸延伸フィルムに実施例2と同じチルミニラ
ム金属蒸着させた。
ム金属蒸着させた。
得られたマット化剤処理および金属蒸着処理フィルムを
粘着テープによる方法で調べたところ優れた接着効果を
有していた。
粘着テープによる方法で調べたところ優れた接着効果を
有していた。
Claims (1)
- 1 ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、分子量
600〜6,000のポリエチレングリコール20〜8
0重量係を共重合させたブロックポリエーテルエステル
と10〜30重量係の陰イオン系界面活性剤からなる接
着剤の水溶液を塗布した後延伸することを特徴とする改
質ポリエステルニ軸延伸フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP49022378A JPS5812151B2 (ja) | 1974-02-27 | 1974-02-27 | カイシツポリエステルニジクエンシンフイルム セイゾウホウホウ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP49022378A JPS5812151B2 (ja) | 1974-02-27 | 1974-02-27 | カイシツポリエステルニジクエンシンフイルム セイゾウホウホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS50115284A JPS50115284A (ja) | 1975-09-09 |
| JPS5812151B2 true JPS5812151B2 (ja) | 1983-03-07 |
Family
ID=12080971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP49022378A Expired JPS5812151B2 (ja) | 1974-02-27 | 1974-02-27 | カイシツポリエステルニジクエンシンフイルム セイゾウホウホウ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5812151B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS6044149B2 (ja) * | 1980-11-14 | 1985-10-02 | 東レ株式会社 | 複合フイルム |
| US4548855A (en) * | 1982-11-02 | 1985-10-22 | Toray Industries, Inc. | Polyester film for magnetic recording medium |
| US4486483A (en) * | 1983-07-11 | 1984-12-04 | American Hoechst Corporation | Polyester film primed with organic acid salts |
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| JPS6221147A (ja) * | 1985-07-22 | 1987-01-29 | Shinichiro Arakawa | 写真感光用印画材 |
| US7521410B2 (en) | 2004-03-26 | 2009-04-21 | Arrowstar, Llc | Compositions and methods for imparting odor resistance and articles thereof |
-
1974
- 1974-02-27 JP JP49022378A patent/JPS5812151B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS50115284A (ja) | 1975-09-09 |
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