JPS581065A - 無電解金めっき浴および方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は金属や真空蒸着済みのセラミックなどの各１
の生地上に金を析出せしめるための改曳され次無電解め
っき浴に関する。

無電解めっきは外部から電流を流すことなく生地の表面
にめっき膜を作らせる方法である。無電解めっきの定義
は精確なものではない。多くの場合、自己触媒飄の還元
析出及び置換析出の両方が無電解めっきといわれている
。無電解金属めつ−鉱鴬解めつ１！１技術の適用が困−
か又は不可能であるような、用心深く、かつ隔離された
部分を有するような部品のめつき能力に優れている。

一つの金ＩＩ４か浴液から他の金属を置き換える場合に
置換析出が起こる。この置換扛反応条件下にある金属類
の電位又祉還元電位によって制御せられる。一般に陰性
の電位を有する金属（活性金属）は陰性電位のより小さ
い、すなわちよシ陽性の金属よりもｉｌ［へのイオン化
傾向が大きい、この工程は金属の１１表面か完全に被榎
されてしまうと斜燻するが、ある場合にはこの皮膜の厚
さは分子的な析出工程を想定した場合よシ屯厚くなって
いる。

この現象は金属の表面における置換反応の機構が均質的
な性格でないと考えれば説明がつく。もし金属表面が、
よシ活性の強い部分と、より活性の弱い部分（よｐ責の
部分）とから成っているとすれば、より強い活性点は陽
極となＬｉｔい活性点は陰極になる。そこで置換析出は
、腐食反応と全く同機に魅他的半−反応と陽極的牛−反
応とから成る混合電位反応を伴う力ルバニ置換反応とい
える。反応中はいかなる瞬間でも陰極点と１）極一点は
―黴鏡的な尺度で生ｍｕｍ上に交互に分布せられている
べきである。従って金は陰極点に析出するのに対して、
陽極点では生地金属の酸化が起こる。

一般にどのような金属めっき系でも、原子と表面との相
互反応が強いと為い核密度を生じ、相互反応が弱いと広
くスペースをとった核を生ずる。ガルバニ置換によって
得られる皮膜は通常、多、孔質である。

近年になって、無電解金めつきに関するかなり重畳な文
献が散見されるようになった。無電解金属めっき及びこ
れに伴う諸問題に関して特に興味がもてる米国特許は、
米ａｉ％許＠Ｊ、Ｉｆｔ、り／を号（Ｍｅ　Ｃｏｒｗａ
ａｋ　）　＋同第ｊ、ｊＰ７−２４号（Ｂｅ１ｌｉｓ　
）　１同第Ｊ、７００．４１　Ａり号（０ｋｉｎａｋａ
　）　纂同第３．り／７，１１１号（Ｂａｋ＠ｒ　）　
　ならびにこれらに引用の特許である。

関連する文献に／ｄ　、　Ｒｉｏｂ　、　Ｌ）、Ｗ、に
よるＰｒｏａ　。

λｍ＠ｒｉａａｎ　　Ｋｌ＠ｅｔｒｏｐｌａｔｉｎｇ　
　５ｏａｒ＊Ｌｙ、ｊｆ（／り７１）；Ｙ、０ｋｉｎａ
ｋａによるＰｌａｋｉｎｇ　１７．　？／＄頁（ｌり７
０）ｒ及びＹ、　０ｋｉａａｋａ及びＣ，Ｗｏｌｏｗｏ
ｄｉａｋらによるＰｌａｔｉｎｇ　ＩＩ　、　１０１０
　（／り７／）などがある、これらの文献の主体が、無
電解めっき浴において金又蝶関連の金属、源としてシア
ン化アルカリ金属を−示し、還元剤としてアルカリ金属
ボロヒドライド及びアミンボランを開示している点に関
する＠夕この発明に関連がある。例えは、　０ｋｊｎａ
ｋａによる／Ｐ７０年発表の記事及び米国特許＠　Ｊ、
７００，４７　ｔり号には次の成分を有する無電解めっ
き浴が記載されている： （１）　　可溶性のアルカリ土属金錯塩；（２）　　シ
アン化カリウムのような遊離シアン化物の逼刺量； （３）　　水酸化カリウムのようなアルカリ剤；及び（
４）　　ポルヒト２イド又はアミンボラン。

Ｏｋｉｍａｋａ　ｃ）Ｋよるｌり７／ＩＩｊ−発表の論
文及びＢａｋ＠ｒによる米ｆｆｉ％許１ｇＪ、Ｗ／７．
ＩＩｊ号で祉これらの特殊なめつき浴の使用時の間勉点
、特にシアン化物＊１１増加した場合に伴う問題点が指
摘されている。他の問題点は浴補給に胸する問題と。

めっきの一度か約−，１＜クロンに接近し友時に伴う浴
の不安定化の問題である。また好ましくない金の沈殿を
回避しなけれはならないという問題点もあつ良。

米国特許第Ｊ、ｆ　／　７．ｒ　Ｉ　１号では、ある樵
の特殊なイきド類から造つ次アルカリ金属イきド錯体を
金普九はその関連金属源として用いることによって前記
の問題点が克服された。無電解金めっきの−を好ましい
範囲である約／／ないし／４’に維持するためには、前
記のＢａｋｅｒによる特許ではクエン酸塩等のようなア
ルカリ金属塩緩衡剤の添加が好オしいことが暗示せられ
ている。

また従来の置換置めっきに関する技術は浴の−に関して
次の二つのカテゴリーに分けることができる： Ａ、中性又はアルカリ性浴（ｐＨ７−／ｊ）最も普遍的
な浴であって、アルカリ金属の炭駿塩もしくは水酸化物
ならひにクエン酸塩奄しく蝶ＥＤＴムのようなキレート
剤の存在下でＫ　（Ａｕ　（ＣＮ）２　）又祉塩化金と
しての金塩を含有している。

Ｂ、酸性浴（−６又はそれ以下） 酸性媒体にお轄る金の置換めっきを扱った特許の数は少
ない。−３，０−４，０における最初の酸性型換金めつ
きは／り１０都の後手に開発され次。

Ｍａ　Ｎａ　ｌ　ｌ　ｙの米国特許第−ＪＪ＆、ｊ／よ
号は塩化金。

クエン酸塩及び遊離のＨＣＩ　（ｐｋｌ　ｏ、３−７．
ｏ　）の混合物を用いて欽めっきした一銅箔を金めっき
する方法に関する。Ｅｄｍｏｎの米国特許第３．コ／ダ
、コター号は酸性浴を研究した結果、　ｐ）ＩＪｊ　−
３，０において硫酸を用いてグルマニクムダイオード上
に、２０ξクロインチ（Ｏ０！ξクロン）全皮膜を得た
ものである。Ｃ，Ａ、Ｌ＠ｖｉの米国特許Ｓλ、タタ！
、≠７３（！ｔｈではｐｉ′１３．０以下で弗化水素駿
を用゛いた同様の酸性金めつき溶液を使用している。ク
エン酸塩を用いる酸性の全置換めっき浴は一２０分間で
アミクロインチないしｌミクｐインチ（０，７ミクロン
ないし０，２ミクロン）厚の皮膜を形成し得ることが発
見され良。

Ｏｄｅ及びＨａｙａｓｂｉ　Ｃ）Ｆｉ触媒としての塩化
コバルト及び錯化剤／還元剤としてのチオウレアを含有
する無電解金めつ！溶液を−発し比。ニッケル上へのめ
つき生成速［ＵｐＨＡ−７において！ミグ９フフ時であ
った。しかしこの浴扛、金住地上への金めつきが可能で
あることが０ｋｉａａｋａによってつきとめられ九ので
、イオン置換による浸せきめつきと称するよｐも寧ろ自
己触媒型無電解めっきであると考えられる。

他方、電子産業において最も多く利用されている無電解
めっきは耐火金属上への金の直接めっき法である。Ｉｎ
ａｂａらの米１３ｉ１４９許第３．タタＪ、１０１号に
よれはタングステン及びモリブデン上への金の直接めっ
き法が研究開発された。この浴はアルカリ媒質（ｐＨｒ
−／ｊ　）中で、Ｎ　ｒ　Ｃ／　２及びＺｎＣｌ２のよ
うな金属塩ならびに錯化剤としてのＥＤＴＡの存在下で
シアン化金カリウム、四塩化金酸カリウムを使用する。

Ｒ，Ｔｕｒｅｂｌｏｏｄは米！！１％許第Ｊ、ＩｔＪＩ
ｊＯ号において、耐火金属上ヘコオクロンないし３きク
ロン厚の無電解金めつきを施す方法を開示している。こ
の方法では緩価状３Ｉ（ｐＨ／　Ｊ、０−／　Ｊ、７　
）においてシアン化金カリウム及び有機キレート剤を用
いる。

この発明の目的は、従来公知の浴の欠点を克服しうる無
電解金めつき浴の提供にある。

他の目的は各種の金属生地上へ金−を析出させるための
無電解金めつき浴の提供にある。

この発明のその他の目的は、真空蒸着処塩ｔｍし友セラ
ンツク生地上に金を析出せしめうるような無電解金めつ
き浴の提供にある。・ この発明のさらにその他の目的祉、優れた安定性を維持
しながら著しく改善せられた膜厚と優れた厚さで生地上
に金を析出せしめうるような無電解金めつき浴の提供に
ある。

この発明によれば、３価の全錯塩を、浴の−が約０．／
ないし４．Ｏ１好ましくは約Ｑ、コないしり、０の範囲
に維持しうる量での有機カルボン酸及び／又社鉱酸と共
に使用すると改良され九無電解めっき浴と金めつき法と
が達成できることが分った。

この発明の他の提案は、コバルト、ニッケル又は鉄のよ
うな金属触媒成分を浴へ添加することである。

一般に、浴温は約−０℃ないし浴の沸点以下。

好筐しくに約１０℃なｈ（、ｔｚ”ｃの範Ｈ以内である
。

この方法によｐ住成する全皮膜の典微的な厚さは約Ｏ０
よきクロンないし７２ミクロンの範囲である。

この無電解浴は、浴の調製に用いたと同じ３価の金儲塩
か又は他の１１１類の３価の余録化物を添加するととに
より容易に補給が達成できる。これらの−化物は浴の中
で形成させてもよい。

この発明によるめっき浴のユニークな特性によれば、浸
せき法を用いて各種の生地上に金めつきを行なうことが
可能である。例えは各種の金属のみならず、真空蒸着を
施したセラミックもまためっきできる。セラミックの場
合には機種に先立って予備洗浄を行なうのが好筐しく、
約ＰＨｏ、コないしｐＨＪの浴を用いるのがよい。

ｔｆｃ前記したように、この発明にょる熱電解めっき浴
は、１０ｐｐｍのような小量でも自己触媒型めっき又祉
無電解めっきの安定性を阻害する傾向がめるニッケルや
他の金ａ−上へも直接に金管析出せしめることがＷＪ能
でｉる。める槍の金鋼失地は少なくとも１００℃に加熱
して予備処理するのが好壜しい。

また金属生地か又り真空蒸着したセラミックのりずれか
をめっきする場合に浴成分の一つとして金属触媒を用い
ると有利な場合かあることも分った。かかる金属触媒扛
この発明によるめっき浴の好ましい操東に対して必須の
ものであるとは考えられない。

前記したように、この発明の本質的に重要な特徴は各種
の生地上に金を析出させるための極めて効果的な置換／
無電解めっき浴のｖ４製にある。この処方には３価の金
の錯塩、浴の−を約０．／ないし６．Ｏ１好ましくは０
．２ないしダ、０に維持するのに十分な量の有機酸及び
／又は鉱酸が包含せられている。

３価の金儲塩は浴に可溶性の金（ｍ）　＃化物であれは
いずれでもよく、この金と共存する他のイオンがそのめ
っき浴又はそのめっき操作のいずれに対しても逆効果を
及ぼさないようなものであれｔよよい、このような錯塩
の例を挙けると、シアノ金酸アルカリ金属塩及びアル力
り金属の金イミド類である。この錯塩はそのｔま加える
か浴中で形成させてもよい。

浴中での一塩の形ｇ氷絵しては、浴可彪性の３価の金化
合物のいずれもか使用可能であり、金駿アルカリ金輌塩
、水酸化金鈑アルカリ土属塩、金（ｌｉｔ）ハロケン化
物及びその他かその例である。これらの化合物Ｆｉ７ｆ
ｒ望の麓の金が浴中に提供されるのに十分な飯で浴中に
添加する。シアン化アルカリ金属又はイミドのような餡
化剤は浴中でＰ９ｒ望の金（１）錯塩が形成されるのに
十分な量で添加する。

錯塩として添加するか又は浴中で錯塩を形成させるかの
いずれにしても、３価の金儲塩を形成させるのに便用す
るイミド＠は次の′−一般式すなわち； （１１ＲＮＣＨＯ又は ＝　−１、−、Ｊ を有する。

一般式（１）のイミドの場合、Ｒ［スルホニル−〇−フ
ェニレン（−ａｏ、−ｃ、ａ４−）のような置換アリレ
ン基であるのが好ましく、形成され九そのイミドはスル
ホ−安息香酸イミド（すなわちサッカリン又社Ｏ−ベン
ゾスルフィきド）　ＣｔＬ（ＳＯｚＸＣＯ）Ｊ伍である
。一般式（２）のイミドの場合は、Ｒ１１Ｃ，Ｈ。

のようなアルキレン基が好ましく、形成されるイミドは
スクシンイミドであるか又はＲかＣｔｈＨ４（〇−７二
二レン）のようなアリレンの場合には形成するイミドＦ
ｉ７タルイミドである。

３価の金−塩は、生地上に金を析出させるのに効果的な
十分な童であって浴中への一塩の最大溶解度以下で浴中
に存在せしめる。典鳳的にはこの錯塩は、浴中へ約ｏ、
−２Ｈ７ｔないしコ０９／ｌ、好１しくＢ約０．ｚｌ／
ｌないしｔｏｙ／ｌ（Ｄ金が金遣れるような十分な量に
おいて添加する。

ここで用いる”アルカリ金属”なる用語にはナトリウム
、カリウム、リチウム、ルビジウム及びセシウムならび
にアンモニウムか包含される。多〈の場合でカリウムが
好ましいアルカリ金属ではあるが、その他のアルカリ金
属を使用して４同じ結果が得られる。

１有機カルボン酸”なる月齢に鉱モノカルボンＷＲ，ポ
リカルボン歇及びアミノカルボン酸が包含せられる。一
般的には、このモノカルボン酸及びポリカルボン酸は炭
素数ｌないし１１カルボキシル基／簡ないしグ簡及び水
酸基／簡ないし６簡を有する。使用できる酸の実例には
酢酸、クエン酸。

―有酸、安息香酸、修酸、アスコルビン駿、イソアスコ
ルビンｌｌ、グルコン酸、グルコヘプトン酸。

グリコール酸、グルタル酸及びその他が包含される。

アミノカルボン酸は前記したモノカルボン酸及びポリカ
ルボン酸と同じであって、７箇ないし１箇のアミ７基か
含まれている。かかるアミノカルボン酸の実例としては
、グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、アスパラギ
ン酸、グルタミンＩ［。

セリン、リシン、フルギニン、スレオニン、フェニルア
ラニン及びその他が挙けられる。

この発明のめつき浴中には、有機酸と共に、または有機
酸の代わりに鉱酸を含みうる。かかる鉱酸の代表的なも
のは塩化水嵩酸、硫酸、ｐん酸及びその他である。

１機酸及び／又は鉱酸は浴の−を０．／ないし６、Ｏ１
好ましくはＯ，コないしａ、Ｏに維持するのに十分な量
で浴中に存在させる。典型的には、有機酸の含有量鉱約
ｚｏｐ７ｔで、好ましく扛約／　Ｉｉ／１ないし≠０１
１７Ｑであり、無機酸の含有量は約１００１／ｌ以下、
好壕しくは１０１／ｌないしＪ　ｏ　ｏ　ｌ／／１であ
る。

通常、浴温は約コＯ℃ないし約２！℃、好筐しくｕ約ｐ
ｏ”ｃないし約１１”ＣｌＩＣ＠持せられる。生地の浸
せき時間社生地のｍｓ、所望する膜厚その他の因子によ
って広範囲に変動する。膜厚が０．２ミクロンないし７
２ミクロンの場合、約５分ないし参時間の浸せき時間が
典型的である。

この置換金めつき浴は非触媒型で操作するのが好オしい
が、ある目的においては前記したようにコバルト、ニッ
ケル又は鉄のような金属触ｇ成分もまた含有させうる。

かかる触媒を使用する場合には、この金属イオンは１例
えは硫酸塩′、塩化物、りん酸塩及びその他のイオン化
しうる塩成分として龜加する。

この発明による無電解めっき浴の特に有利な点の一つは
、ＩＦＬ＜多様な生地上に優れた金めつきを失成せしめ
うろことである。３価の金成分を含有するこのように比
較的に単純な糸をなす浴が。

なぜそれ程に効果があるのか、その機構については未だ
完全に解明されていない。

ニッケル以外でも、この発明が有利に適用できる生地と
してニッケル合金、銅、鋼合金５タングステン、そりマ
ンガンなどが挙けられる。この発明の重要な一つの提案
は真空蒸着したセラミック生地のめつきである。かかる
真空蒸着生地の実例としては、アルｉす、アルオナーペ
リリア及びその他の通常の基体上にスクリーン印刷した
モリマンガン、タングステン、無電解ニッケル、銅など
である。

多くの場合、めっきに先立って生地を予備洗浄するのが
好ましい。例えｔｊ真空蒸着したセラミックは熱アルカ
リ溶液中で３分ないしｉｏ分ソーΦングし１次いで水洗
いして脱脂する０次いでこの脱脂済みの失地ｔ−ｌコＯ
″Ｆ（≠１℃）の塩化水嵩酸（２０重量ｓ）温液中に浸
せきし、引き続いて冷水ですすぐ。モリブテンマンガン
及びタングステン生地に対しては、超音波清浄を行なっ
たはうかよい場合かときどきある。ある場合には、この
金属生地を一定時間、ｉｏｏ℃ないしｒθＯ℃に単に加
熱することにより予備処理してもよい。しかしながら生
地の予備清浄又は予備処理の正確な方法は決定的なもの
でもなく、又この発明の特徴でもない。

無電解めっき方法もま九被めつき生地の種類及び所望の
結果によって変わる。通常の場合、−回の浸せきて十分
であるが一段浸せき法も採用できる。例えば先ず生地を
１時間、置換金めつき浴中に置き、乾燥し１次いで水素
ガス中で３分間ないしｉｏ仕分間参００℃ないしＰＯＯ
℃において焼成する。部分的にめっきしたこの生地を再
び３時間以内、この浴中に浸せきし、前と同様に焼成し
て優れた書着性と所望する厚さのめつき膜をうる。

この発明は次の実施例を参照することによシ、さらに明
瞭に理解されよう。

実施例／ 次に記載した鎖成分から無電解めつき浴を１ｌｌＩ製し
次１ 成　　　　分　　　　　　　　　　　　　量　１１／１
金、シアノ金（１酸カリウムとして　　　　　＋、０ク
エン酸　　　　　　　１！、０ 塩化水素酸（７７饅）　　　　　　　　１ｏｏｕ／ｚモ
リマンガンで９真空蒸着し予備清浄し次セラミック住地
をＡＪ７Ｑでコ時間３０分、浴に浸せきした。生じ良金
めつき膜の厚さは七ミクロンないし２．１ミクロンであ
Ｌ　　Ｌつかル密着してお夕、き裂はみられなかった。

めっき操作を通じて浴の安定性は良好であった。　　　
。

実施例コ −連の無電解やつき浴を次のようにして調製し九　： 成　　　　分　　　　　　　　　　　量　１１／１金、
シアン金（Ｉｔ）酸カリウムとして　　　　λ、Ｏクエ
ン酸　　　　　　　　λ０，０ 塩化水＊＠　（Ｊ７ｓ）　　　　　　１ｏｏｙａ／１塩
化ニツケルをこの浴に加えてニッケルイオ／がｏ、ｏｉ
　Ｉ／ｌないしＪ、Ｏｉｌ／ｌの範囲になるようにした
。

水素ガス中で約１１Ｑ’Ｃ：、に予備加熱済みの無電解
ニッケル生地を約１０℃で−、約１時間、これらの浴中
に浸せきし良、生じためつきの厚さ燻約コミクロンであ
った。

実施例Ｊ 次の鎖成分を用いて他の無電解金めつき浴を調製したＸ 成　　　分　　　　　　　　　　　　量　Ｉ／ノ金、ス
ルホ安息香酸イミド 金カリウムとして　　　　　　　　　　　蓼、Ｏ塩化水
素ＷＲ（Ｊ７％）　　　　　　　１００　Ｎ／１予備清
浄によシ酸化物を除いたタングステン生地を浴温１０℃
において約１時間、浴中に浸せきした。約λｘｉクロン
のめつき膜を生成し良。

実施例ｑ 次の成分からめつき浴を調製した！ 成　　　分　　　　　　　　　　　　１ｋｌｌ／ｌ−１
金、金酸カリクムとして　　　　　　　　　６シアン化
カリウム９１ クエン酸　　　　　　　　参〇 亭金駿カリウムを７γノ金歇カリウムに変える九めに添
加 酸化物のない銅生地を、浴温ｊＯ”Ｃ，で約７時間、浴
中に浸せきし次ところ／、０ミクロンの金めつきが得ら
れ虎。

上記の実施例は、この発明による改ｊＬ＃ｌＩｉ電解め
っき浴が従来公知の無電解めっき浴の欠点を克服できる
だけでなく、各種の生地上に性状及び肉厚において優れ
た金めつきを生成させうろことを示している。浴の安定
性も優れていた。この発明による無電解めつき浴社広範
で、かつ電子産業のようなユニークな分野への応用が可
能であシ、引っかけめっき十バレルめつきにおいて通常
使用すると同じ技術を利用することができる。

前記の実施例は単に説明のためのものでＴｏ９゜この発
明の鞠神と範囲に反することなく種々に変更することが
できるものである。

特許出願人　　７ツカーーケミカルズ・アンド・プラス
チックスーコーポレーション

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）生地上に金を析出せしめるのに少なくとも十分な
   量であって浴中への錯塩の最高溶解度以下の量の３価の
   金の錯塩と、浴の−を約０．　／ないし１．０に調整す
   るのに十分な量での次の少なくとも一つの成分、すなわ
   ち： （−）　　有機カルギン飯、及び （ｂ）鉱酸 とから成る生地上へ金めつきを施すための無電解めっき
   浴。
2. （２）３価の金儲塩がシアノ金（１）　ＩＩ！アルカリ
   金属塩及び金（１）駿イミドから選択せられることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項に記載の無電解めっき浴
   。
3. （３）　　アルカリ金属がカリウムであることを特徴と
   する特許請求の範囲第一２項に記載の無電解めっき浴。
4. （４）有機カルボン酸か酢酸、クエン酸、論石駿、修＊
   、アスコルビン識及びアミノカルボン酸から成る部類か
   ら選択せられることを特徴とする特許請求の範囲第１項
   に記載の無電解めっき浴。
5. （５）　　有機カルボン酸がクエン酸であることを特徴
   とする特許請求の範８菖ダ項に記載の無電解めっき浴。
6. （６）鉱酸か塩化水素酸、硫酸及びシん敗から成る部類
   から選択せられることをｌＦ＃黴とする特許請求の範Ｓ
   纂／項に記載の無電解めつき浴。
7. （７）　　鉱酸が塩化水＊＊であることを特徴とする特
   許請求の範Ｓ第を項に記載の無電解めっき浴。
8. （８）　　この浴が更にコバルト、ニッケル及び鉄イオ
   ンから成る部類から選択せられる金属イオンの触媒量を
   含有していることを特徴とする特許請求の範Ｓ＃！／項
   に記載の無電解めっき浴。
9. （９）　　次の成分、すなわち： 成　　　分　　　　　　　　　　　　　量　１／／１（
   ａ）　　３価の金、３価の金儲塩として　　Ｏ，コ！−
   一〇（ｂ）　　有機カルボン５１Ｏ−ｊ　０（Ｏ）鉱　
   ｇ　　　　　　ｏ−ｔｏｏ！１４／１（ｄ）　　コバル
   ト、具ツケル又は鉄イオ７　　　　ｏ−ｉ。 から成る無電解金めつき浴であって、仁のめつき浴中に
   成分（ｂ）及び（旬の少なくとも一種が浴の−を約Ｏ，
   コないし蓼、Ｏの範Ｈに維持するのに十分な量において
   書−ｖｒ４ｔられている金めりき浴。 ０（ｌ　　特許請求の範囲第１項、第２項、第３項、萬
   参項、第ｊ項％Ｉ１１項、無７項、ｗｉ１項及び菖り項
   に記載の金めつき浴中に該生地を、生地上に金の置換め
   っきが形成されるのに十分な時間にわたって浸せきする
   ことから成る生地上への金めつき方法。