JPH1197203A - 半導体装置用のシャント抵抗素子およびその実装方法 - Google Patents
半導体装置用のシャント抵抗素子およびその実装方法Info
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Abstract
ュールへの組付けが容易な半導体装置用のシャント抵抗
素子を提供する。 【解決手段】セラミックス基板5を挟んでその表面側に
所定の抵抗値に合わせて設計したサイズの計測用精密抵
抗材料(マンガニン,コンスタンタンなどの銅合金)か
らなるシート状抵抗体6,および裏面に銅板7を重ね合
わせて、銀ろうなどを用いた活性化金属法により一体に
接合し、かつ抵抗体の両端に電流,電圧検出用のボンデ
ィング電極部8を形成し、半導体チップを実装した基
板,あるいはモジュールの銅ベース板上に半田接合して
組付ける。
Description
に適用するIGBTモジュールなどを実施対象に、半導
体装置に組み込んでその主回路電流を検出するシャント
抵抗素子、およびその実装方法に関する。
を内蔵したIGBTモジュールの回路図を示す。なお、
図示例はモータ運転制御用のインバータに適用した6個
組のIGBTモジュールである。図において、1はIG
BT、2はフリーホイーリングダイオード、3が出力電
流検出用のシャント抵抗素子であり、IGBT1,ダイ
オード2,およびシャント抵抗素子3を半導体実装用基
板(図示せず)に実装してモジュールを組み立ててお
り、ここでシャント抵抗素子3は負荷(モータ)4に給
電する出力回路に接続されている。
来構造例を示すものであり、計測用抵抗材料(銅合金)
の板を図示のようにU字形に曲げ加工し、その両端に形
成した電極部を半導体実装用基板の回路パターンに半田
付けしている。
来構造のシャント抵抗素子は、製作面で加工精度を上げ
ることが難しくて製品の抵抗値にばらつきが生じ易く、
このことが電流検出精度を低める原因となっている。な
お、銅ベース上に絶縁層,銅合金の抵抗層を接着剤で接
合し、抵抗層にニッケルメッキを施して電流,電圧検出
用のボンディング電極部を形成したチップ型の抵抗素子
も知られているが、この抵抗素子は耐熱温度が低く、そ
のためにパワー半導体モジュールに組み付ける際の半田
付け温度が制限されるなどの問題があってその取り扱い
性に難点がある。
ものとして、抵抗値精度,耐熱性,組立性の面に優れた
シャント抵抗素子の出現が望まれている。この発明は上
記の点に鑑みなされたものであり、その目的は前記要望
に応えて抵抗値精度,耐熱性,放熱性が高く,かつモジ
ュールへの組付けが容易な半導体装置用のシャント抵抗
素子、およびその実装方法を提供することにある。
に、この発明のシャント抵抗素子は、セラミックス基板
を挟んでその表面に所定の抵抗値に合わせて設計したサ
イズの計測用精密抵抗材料からなるシート状抵抗体,お
よび裏面に銅板を活性化金属法により一体に接合し、か
つ前記抵抗体に電流,電圧検出用のボンディング電極部
を形成した構成とする(請求項1)。
の温度係数が小さく、特性の経年変化が少ない)として
知られている銅−マンガン合金(マンガニン),あるい
は銅−ニッケル合金(コンスタンタン)を採用し、所要
の抵抗値に合わせてエッチング,プレスなどにより高精
度に加工したシート状の抵抗体を、銀ロウなどを用いた
活性化金属法により耐熱,伝熱性の高いセラミックス基
板(アルミナ,窒化アルミニウム,窒化けい素など)に
接合することにより、チップ型のシャント抵抗体とし
て、高い抵抗値精度,並びに高温での半田付けにも耐え
る高い耐熱性,伝熱性が確保できる。
ント抵抗素子の耐熱性を活かし、次記の実装方法を採用
して半導体装置の組立工程の合理化を図ることができ
る。 (1) 半導体実装用基板の回路パターン上に半導体チッ
プ,およびシャント抵抗素子を載置し、同じ半田付け工
程で基板に半導体チップ,およびシャント抵抗素子を半
田付けする(請求項2)。
ップを実装した基板,およびシャント抵抗素子を載置
し、同じ半田付け工程で銅ベースに半導体実装基板,お
よびシャント抵抗素子を半田付けする(請求項3)。 (3) 半導体装置の銅ベース板上に半導体チップを実装し
た基板を載置するとともに、該基板上にシャント抵抗素
子を載置し、同じ半田付け工程で銅ベースと基板,およ
び基板とシャント抵抗素子との間を半田付けする(請求
項4)。
半導体チップと一緒に半導体装置のモジュールに組み込
むことにより、その組立工数を削減してコストの低減化
が図れる。
1ないし図6に示す実施例で説明する。まず、図1(a),
(b) に、この発明の実施例によるチップ型シャント抵抗
素子3の構造を示す。この実施例においては、アルミ
ナ,窒化アルミニウム,窒化けい素などの高伝熱性セラ
ミックス基板5(基板の厚さ0.635mm)に対し、そ
の表面側に銅−マンガン合金(マンガニン),あるいは
銅−ニッケル合金(コンスタンタン)の計測用精密抵抗
材料で作られた方形シート状の抵抗体6(抵抗体の厚さ
0.3mm,一辺の長さ:5〜10mm)を、裏面側には薄
銅板7(厚さ0.3mmの銅箔)を重ね合わせ、銀ろうな
どを用いた活性化金属法により一体に接合し、さらに抵
抗体6の両端部にニッケルなどのメッキを施して電流,
および電圧検出用のボンディング電極部8を形成する。
抵抗素子の製品仕様に合わせて所定の抵抗値(例えば
0.65mΩ),許容熱抵抗値(1.18℃/W以下)
を確保するようにその外形サイズ,ボンディング電極部
8の引出し位置などを設計し、エッチング,プレスなど
により高精度に加工する。また、セラミックス基板5に
抵抗体6を接合する方法としては、抵抗体6が銅合金で
あることから、直接接合法として知られているダイレク
ト・ボンディング・カッパー法に代えて、銀ペーストな
どを用いた活性化金属法により接合する。
用した半導体モジュールの回路組立体の構造例を図2,
図3に示す。なお、図中で9はIGBT1,ダイオード
2を搭載した半導体実装用基板(例えばダイレクト・ボ
ンディング・カッパー基板)、10は放熱用の銅ベース
板(例えば厚さ3mmの銅板)、11は各部品の間を接合
した半田層、12は各回路部品と基板の回路パターンと
の間に配線したボンディングワイヤである。
抗素子3が半導体チップ(IGBT1,ダイオード2)
とともに基板9の回路パターンに搭載して半田付けされ
ている。一方、図3の回路組立体では、シャント抵抗素
子3が基板9を介さずに銅ベース板10の上に直接搭載
して半田付けされている。そして、図2の回路組立体に
おいて、シャント抵抗素子3を半導体実装用基板9に組
付ける際には、図4で示すように基板9の上にIGBT
1,ダイオード2,およびシャント抵抗素子3(図1に
示した抵抗素子の銅板7を下面に向ける)をそれぞれ半
田シート13を介して重ね合わせ、同じ半田付け工程で
基板9にIGBT1,ダイオード2,およびシャント抵
抗素子3を同時に半田付け(溶融点300℃程度の半田
を用いる)、その後に基板9を銅ベース板10に搭載し
て低温半田で半田付けする。なお、半田シート13の代
わりに基板9に半田ペーストを塗布しておいてもよい。
示す方法がある。この実施例では、あらかじめIGBT
1,ダイオード2を実装しておいた基板9を、半田ペー
スト14を塗布した銅ベース板10の上に載置するとと
もに、基板9上の所定位置に半田ペースト14を塗布し
てここにシャント抵抗素子3を載置し、この状態で銅ベ
ース板10と基板9,および基板9とシャント抵抗素子
3の間を同じ半田付け工程で同時に半田接合する。な
お、半田ペースト14の代わりに半田シートを用いても
よい。
ャント抵抗素子3の実装方法を示すものである。すなわ
ち、この実施例では半田ペースト14を塗布した銅ベー
ス板10の上に、あらかじめ半導体チップを実装した基
板9,およびシャント抵抗素子3を搭載し、同じ半田付
け工程で、銅ベース板10と基板9,およびシャント抵
抗素子3との間を同時に半田接合する。
セラミックス基板を挟んでその表面に所定の抵抗値に合
わせて設計したサイズの計測用精密抵抗材料からなるシ
ート状抵抗体,および裏面に銅板を重ね合わせて活性化
金属法により一体に接合し、前記抵抗体に電流,電圧検
出用のボンディング電極部を形成してシャント抵抗素子
を構成したことにより、抵抗値精度,並びに耐熱性,伝
熱性が高く、実使用面でも電流検出精度,信頼性に優れ
たシャント抵抗素子を提供することができる。
耐熱性を活かして請求項2〜4の実装方法を採用するこ
とにより、半田付けの工数を減らして半導体装置の組立
工程の合理化,並びにコストの低減化が図れる。
造図であり、(a) は平面図、(b) は側面図
の回路組立体部分の構成図
成図
実装方法の説明図
実装方法の説明図
図
路図
平面図、(b) は側面図
Claims (4)
- 【請求項1】半導体装置に組み込んでその主回路電流を
検出するシャント抵抗素子であって、セラミックス基板
を挟んでその表面に所定の抵抗値に合わせて設計したサ
イズの計測用精密抵抗材料からなるシート状抵抗体,お
よび裏面に銅板を活性化金属法により一体に接合し、か
つ前記抵抗体に電流,電圧検出用のボンディング電極部
を形成してなることを特徴とする半導体装置用シャント
抵抗素子。 - 【請求項2】半導体実装用基板の回路パターン上に半導
体チップ,およびシャント抵抗素子を載置し、同じ半田
付け工程で基板に半導体チップ,およびシャント抵抗素
子を半田付けすることを特徴とする請求項1に記載のシ
ャント抵抗素子の実装方法。 - 【請求項3】半導体装置の銅ベース板上に半導体チップ
を実装した基板,およびシャント抵抗素子を載置し、同
じ半田付け工程で銅ベースに半導体実装基板,およびシ
ャント抵抗素子を半田付けすることを特徴とする請求項
1に記載のシャント抵抗素子の実装方法。 - 【請求項4】半導体装置の銅ベース板上に半導体チップ
を実装した基板を載置するとともに、該基板上にシャン
ト抵抗素子を載置し、同じ半田付け工程で銅ベースと基
板,および基板とシャント抵抗素子との間を半田付けす
ることを特徴とする請求項1に記載のシャント抵抗素子
の実装方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
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---|---|
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
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CN118173554A (zh) * | 2024-03-08 | 2024-06-11 | 苏州纳芯微电子股份有限公司 | 半导体器件 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3758331B2 (ja) | 2006-03-22 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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