JPH11323553A - エアロック装置 - Google Patents
エアロック装置Info
- Publication number
- JPH11323553A JPH11323553A JP11041740A JP4174099A JPH11323553A JP H11323553 A JPH11323553 A JP H11323553A JP 11041740 A JP11041740 A JP 11041740A JP 4174099 A JP4174099 A JP 4174099A JP H11323553 A JPH11323553 A JP H11323553A
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- JP
- Japan
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- airlock
- chamber
- air lock
- chambers
- passage
- Prior art date
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G21/00—Supporting or protective framework or housings for endless load-carriers or traction elements of belt or chain conveyors
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Specific Conveyance Elements (AREA)
- Spray Control Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 雰囲気的に互いに分離された２つの室の間で
のワークの連続的な搬送が可能となり、しかも不都合な
制約が生じないようなエアロック装置を提供する。 【解決手段】 エアロック通路２４内に、互いに隣接し
た室１，４の間で移動可能で、かつエアロックを通過さ
せたいワーク３，１３を収容するエアロックチャンバ７
ａ〜７ｍが設けられており、該エアロックチャンバが、
ワークのローディングおよびアンローディングを行うた
めのエアロックチャンバ開口２０を有しており、さらに
エアロックチャンバ７ａ〜７ｍが、シール装置を有して
おり、該シール装置が、エアロック通路２４のエアロッ
ク通路内壁と協働して、エアロックチャンバ７ａ〜７ｍ
の内室を、エアロック通過時に前記室１，４から雰囲気
的にシールしている。
のワークの連続的な搬送が可能となり、しかも不都合な
制約が生じないようなエアロック装置を提供する。 【解決手段】 エアロック通路２４内に、互いに隣接し
た室１，４の間で移動可能で、かつエアロックを通過さ
せたいワーク３，１３を収容するエアロックチャンバ７
ａ〜７ｍが設けられており、該エアロックチャンバが、
ワークのローディングおよびアンローディングを行うた
めのエアロックチャンバ開口２０を有しており、さらに
エアロックチャンバ７ａ〜７ｍが、シール装置を有して
おり、該シール装置が、エアロック通路２４のエアロッ
ク通路内壁と協働して、エアロックチャンバ７ａ〜７ｍ
の内室を、エアロック通過時に前記室１，４から雰囲気
的にシールしている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、雰囲気的に互いに
分離された室に対してワークを連続的に導入しかつ／ま
たは導出するためのエアロック装置であって、前記室を
互いに接続する少なくとも１つのエアロック通路が設け
られている形式のものに関する。
分離された室に対してワークを連続的に導入しかつ／ま
たは導出するためのエアロック装置であって、前記室を
互いに接続する少なくとも１つのエアロック通路が設け
られている形式のものに関する。
【０００２】
【従来の技術】このような形式のエアロック装置は、た
とえばドイツ連邦共和国特許出願第Ｐ２７４７０６１号
明細書に基づき公知である。この慣用のエアロック装置
は、真空室内で被覆したいエンドレスな支持ベルトをエ
アロック装置によって、標準圧を有する周辺の外室から
被覆室に導入するか、もしくは被覆プロセスが行われた
後に被覆室から導出するために働く。大気圧である外圧
と、真空助成された被覆プロセスのために汎用される最
大１０−３ｍｂａｒの真空圧との間の圧力差は、圧力段
区間を介して維持される。この圧力段区間は相前後して
配置された複数のスリット状のオリフィスを有してお
り、これらのオリフィスを通って支持ベルトが案内され
る。固有の被覆室内の圧力に対する圧力差を埋める、こ
のような「ベルトエアロック」の主要構成要素は、スリ
ットまたはギャップとして形成されたオリフィスであ
る。オリフィスは空気流に対して著しい抵抗を付与する
ので、真空ポンプの使用下に所望の圧力差を形成するこ
とが可能となる。被覆室と外室との間を雰囲気的に、つ
まり気圧的に十分に分離することを保証するためには、
オリフィスを支持ベルトの横断面に適合させて、被覆室
内への、たとえば空気の通過を阻止することが必要とな
る。このようなエアロック装置をさらに制限する要因
は、支持ベルト自体がオリフィスのシール機能のために
必要とされるので、被覆室内の圧力上昇を回避するため
には、支持ベルトを常にエンドレスに公知のエアロック
装置に通して搬送することができなければならないこと
である。このことは、この公知のエアロック装置の使用
を、エアロックを通じて搬送され得るワークに関して著
しく制限してしまうので極めて不都合となる。
とえばドイツ連邦共和国特許出願第Ｐ２７４７０６１号
明細書に基づき公知である。この慣用のエアロック装置
は、真空室内で被覆したいエンドレスな支持ベルトをエ
アロック装置によって、標準圧を有する周辺の外室から
被覆室に導入するか、もしくは被覆プロセスが行われた
後に被覆室から導出するために働く。大気圧である外圧
と、真空助成された被覆プロセスのために汎用される最
大１０−３ｍｂａｒの真空圧との間の圧力差は、圧力段
区間を介して維持される。この圧力段区間は相前後して
配置された複数のスリット状のオリフィスを有してお
り、これらのオリフィスを通って支持ベルトが案内され
る。固有の被覆室内の圧力に対する圧力差を埋める、こ
のような「ベルトエアロック」の主要構成要素は、スリ
ットまたはギャップとして形成されたオリフィスであ
る。オリフィスは空気流に対して著しい抵抗を付与する
ので、真空ポンプの使用下に所望の圧力差を形成するこ
とが可能となる。被覆室と外室との間を雰囲気的に、つ
まり気圧的に十分に分離することを保証するためには、
オリフィスを支持ベルトの横断面に適合させて、被覆室
内への、たとえば空気の通過を阻止することが必要とな
る。このようなエアロック装置をさらに制限する要因
は、支持ベルト自体がオリフィスのシール機能のために
必要とされるので、被覆室内の圧力上昇を回避するため
には、支持ベルトを常にエンドレスに公知のエアロック
装置に通して搬送することができなければならないこと
である。このことは、この公知のエアロック装置の使用
を、エアロックを通じて搬送され得るワークに関して著
しく制限してしまうので極めて不都合となる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、冒頭
で述べた形式のエアロック装置を改良して、雰囲気的に
互いに分離された２つの室の間でのワークの連続的な搬
送が可能となり、しかも上で述べたような不都合な制約
が生じないようなエアロック装置を提供することであ
る。
で述べた形式のエアロック装置を改良して、雰囲気的に
互いに分離された２つの室の間でのワークの連続的な搬
送が可能となり、しかも上で述べたような不都合な制約
が生じないようなエアロック装置を提供することであ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明の構成では、エアロック通路内に、互いに隣接
した前記室の間で移動可能で、かつエアロックを通過さ
せたいワークを収容する少なくとも１つのエアロックチ
ャンバが設けられており、該エアロックチャンバが、ワ
ークのローディングおよびアンローディングを行うため
のエアロックチャンバ開口を有しており、さらにエアロ
ックチャンバが、少なくとも１つのシール装置を有して
おり、該シール装置が、エアロック通路のエアロック通
路内壁と協働して、エアロックチャンバの内室を、エア
ロック通過時に前記室から雰囲気的にシールしているよ
うにした。
に本発明の構成では、エアロック通路内に、互いに隣接
した前記室の間で移動可能で、かつエアロックを通過さ
せたいワークを収容する少なくとも１つのエアロックチ
ャンバが設けられており、該エアロックチャンバが、ワ
ークのローディングおよびアンローディングを行うため
のエアロックチャンバ開口を有しており、さらにエアロ
ックチャンバが、少なくとも１つのシール装置を有して
おり、該シール装置が、エアロック通路のエアロック通
路内壁と協働して、エアロックチャンバの内室を、エア
ロック通過時に前記室から雰囲気的にシールしているよ
うにした。
【０００５】
【発明の効果】本発明によるエアロック装置は、同一の
雰囲気圧を有する２つの室の間でも、請求項２に記載し
たような互いに異なる雰囲気圧を有する２つの室の間で
も、エアロックを通じてワークを通過させるために適し
ている。
雰囲気圧を有する２つの室の間でも、請求項２に記載し
たような互いに異なる雰囲気圧を有する２つの室の間で
も、エアロックを通じてワークを通過させるために適し
ている。
【０００６】請求項３に記載したように、前記室の一方
の室が標準大気圧の雰囲気圧を有していて、他方の室が
負圧の雰囲気圧を有していると、特別な利点が得られ
る。エアロックを通じてワークを負圧室内に導入する
か、もしくは負圧室から導出する間、負圧が維持された
ままとなるので、たとえば負圧室内で実施される、真空
圧を必要とする処理プロセスを連続的に実施することが
できる。本発明によれば、特に、処理したいワークの導
入および／または導出のために真空室を通気して、引き
続き排気することは必要とならない。したがって、本発
明によるエアロック装置を用いると、ワークを有効に時
間的およびコスト的にも好都合に、外室とは異なる雰囲
気特性を有する室内に搬入するか、もしくはこの室から
搬出することが可能となる。
の室が標準大気圧の雰囲気圧を有していて、他方の室が
負圧の雰囲気圧を有していると、特別な利点が得られ
る。エアロックを通じてワークを負圧室内に導入する
か、もしくは負圧室から導出する間、負圧が維持された
ままとなるので、たとえば負圧室内で実施される、真空
圧を必要とする処理プロセスを連続的に実施することが
できる。本発明によれば、特に、処理したいワークの導
入および／または導出のために真空室を通気して、引き
続き排気することは必要とならない。したがって、本発
明によるエアロック装置を用いると、ワークを有効に時
間的およびコスト的にも好都合に、外室とは異なる雰囲
気特性を有する室内に搬入するか、もしくはこの室から
搬出することが可能となる。
【０００７】実際には、被覆プロセスの間に最大１０
−３ｍｂａｒの負圧の雰囲気圧を有する真空被覆室に、
本発明によるエアロック装置を用いて、被覆したいワー
クが、標準大気圧の雰囲気圧を有する外室から有効に装
入されるか、もしくは真空被覆室内で被覆されたワーク
（基板）が有効にアンロード（搬出）される。
−３ｍｂａｒの負圧の雰囲気圧を有する真空被覆室に、
本発明によるエアロック装置を用いて、被覆したいワー
クが、標準大気圧の雰囲気圧を有する外室から有効に装
入されるか、もしくは真空被覆室内で被覆されたワーク
（基板）が有効にアンロード（搬出）される。
【０００８】請求項５に記載の構成により、エアロック
装置の特に単純な構成が得られる。この構成では、エア
ロック装置が、主として回転ラックケーシングと、この
回転ラックケーシング内に回転可能に支承されたエアロ
ックチャンバ車とを有する回転ラック型エアロックから
成っている。エアロックチャンバ車には周面側で個々の
エアロックチャンバが凹設されており、これらのエアロ
ックチャンバに設けられた個々のエアロックチャンバ開
口は半径方向で接近可能である。つまり、エアロックチ
ャンバ開口は半径方向でワークの出し入れを可能にす
る。請求項６に記載の構成では、エアロック通路を形成
する回転ラックケーシングが周面側に複数のシール装置
を有しており、これらのシール装置がエアロック通過搬
送時にエアロック通路のエアロック通路内壁に密に接触
している。これにより、個々のエアロックチャンバは互
いにかつ、たとえば互いに異なる雰囲気圧を有する室か
ら雰囲気的に隔離されている。個々のエアロックチャン
バが高い雰囲気圧を有する方の室から、低い雰囲気圧を
有する方の室へ移動する際に、これらのエアロックチャ
ンバの圧力を圧力段を介して調整し、これにより、エア
ロックチャンバ内に連行された雰囲気ガスが真空室に侵
入することを回避することが有利であることが判った。
このためには、適当なポンプ、たとえば真空ポンプを用
いてエアロック通路が排気されるようになっている。こ
のためには、エアロック通路が複数の吸込管片を介して
真空ポンプに接続されている。真空ポンプの設計は、エ
アロック通路内の雰囲気圧が、真空室への基板の搬送路
にわたって連続的にまたは段階的に減少するか、または
外室への基板の搬送路にわたって増大するように設定さ
れている（請求項７参照）。したがって、互いに隣接し
合った個々のエアロックチャンバは、その位置に関連し
て互いに異なる圧力を有するようになる。
装置の特に単純な構成が得られる。この構成では、エア
ロック装置が、主として回転ラックケーシングと、この
回転ラックケーシング内に回転可能に支承されたエアロ
ックチャンバ車とを有する回転ラック型エアロックから
成っている。エアロックチャンバ車には周面側で個々の
エアロックチャンバが凹設されており、これらのエアロ
ックチャンバに設けられた個々のエアロックチャンバ開
口は半径方向で接近可能である。つまり、エアロックチ
ャンバ開口は半径方向でワークの出し入れを可能にす
る。請求項６に記載の構成では、エアロック通路を形成
する回転ラックケーシングが周面側に複数のシール装置
を有しており、これらのシール装置がエアロック通過搬
送時にエアロック通路のエアロック通路内壁に密に接触
している。これにより、個々のエアロックチャンバは互
いにかつ、たとえば互いに異なる雰囲気圧を有する室か
ら雰囲気的に隔離されている。個々のエアロックチャン
バが高い雰囲気圧を有する方の室から、低い雰囲気圧を
有する方の室へ移動する際に、これらのエアロックチャ
ンバの圧力を圧力段を介して調整し、これにより、エア
ロックチャンバ内に連行された雰囲気ガスが真空室に侵
入することを回避することが有利であることが判った。
このためには、適当なポンプ、たとえば真空ポンプを用
いてエアロック通路が排気されるようになっている。こ
のためには、エアロック通路が複数の吸込管片を介して
真空ポンプに接続されている。真空ポンプの設計は、エ
アロック通路内の雰囲気圧が、真空室への基板の搬送路
にわたって連続的にまたは段階的に減少するか、または
外室への基板の搬送路にわたって増大するように設定さ
れている（請求項７参照）。したがって、互いに隣接し
合った個々のエアロックチャンバは、その位置に関連し
て互いに異なる圧力を有するようになる。
【０００９】エアロックチャンバと、エアロックケーシ
ングの内壁との間に配置されたシール装置は、エアロッ
クチャンバ車の周面に沿ってシール作用を発揮する複数
のスライダシールエレメントと、複数の半径方向シール
部材とから成っている。これらの半径方向シール部材は
一貫して延びるように、たとえばシールベルトとして一
体に全周にわたって延びるようにエアロックチャンバ車
に配置されていて、エアロックチャンバ車の軸方向にお
ける大気空気の通過を阻止している。シール装置は乾式
シール装置として形成されていると有利である。このこ
とは潤滑剤の使用を回避する。このためには、耐摩耗性
の弾性プラスチック、たとえばテフロン（登録商標）か
ら成る個々のスライダを使用することが提案される。
ングの内壁との間に配置されたシール装置は、エアロッ
クチャンバ車の周面に沿ってシール作用を発揮する複数
のスライダシールエレメントと、複数の半径方向シール
部材とから成っている。これらの半径方向シール部材は
一貫して延びるように、たとえばシールベルトとして一
体に全周にわたって延びるようにエアロックチャンバ車
に配置されていて、エアロックチャンバ車の軸方向にお
ける大気空気の通過を阻止している。シール装置は乾式
シール装置として形成されていると有利である。このこ
とは潤滑剤の使用を回避する。このためには、耐摩耗性
の弾性プラスチック、たとえばテフロン（登録商標）か
ら成る個々のスライダを使用することが提案される。
【００１０】請求項８に記載の構成では、エアロックチ
ャンバに対するワークもしくは基板のローディングおよ
び／またはアンローディングのために、複数のローディ
ング装置が設けられており、これらのローディング装置
は有利には直径方向で互いに向かい合い、かつエアロッ
クチャンバ車に対して隣接して、雰囲気的に互いに分離
された室に配置されている。このようなローディング・
アンローディング装置はそれぞれグリップ装置を有して
おり、これらのグリップ装置は、たとえば未処理の基板
をエアロックを通じて処理室に導入するために個々のエ
アロックチャンバに搬入し、かつ処理済みの基板をエア
ロックを通じて導出するために個々のエアロックチャン
バに搬入するようになっている。
ャンバに対するワークもしくは基板のローディングおよ
び／またはアンローディングのために、複数のローディ
ング装置が設けられており、これらのローディング装置
は有利には直径方向で互いに向かい合い、かつエアロッ
クチャンバ車に対して隣接して、雰囲気的に互いに分離
された室に配置されている。このようなローディング・
アンローディング装置はそれぞれグリップ装置を有して
おり、これらのグリップ装置は、たとえば未処理の基板
をエアロックを通じて処理室に導入するために個々のエ
アロックチャンバに搬入し、かつ処理済みの基板をエア
ロックを通じて導出するために個々のエアロックチャン
バに搬入するようになっている。
【００１１】さらに請求項９に記載の構成では、本発明
によるエアロック装置が、真空被覆プロセスによって被
覆したい基板を、被覆源を有する被覆室内へ導入しかつ
被覆室から導出するために使用することが提案されてい
る。被覆源としては、蒸発させられかつ／またはスパッ
タリングされた被覆材料から成る雲を発生させて、被覆
したい基板に沈着させるための公知の蒸発源および／ま
たは陰極スパッタリング源が適している。基板は、プラ
スチック容器、たとえばプラスチックボトルから成って
おり、そしてその外壁には、光学的に透明な、ただしガ
スおよび／または液体の通過に対して不透過性の遮断層
が析出される。このためには、蒸発源もしくは陰極スパ
ッタリング源によってシリコン含有の源材料が蒸発させ
られるか、もしくはスパッタリングされ、この源材料
は、被覆室内に導入された酸素を含有する反応ガスと反
応して、ＳｉＯ２層としてプラスチック容器に沈着す
る。
によるエアロック装置が、真空被覆プロセスによって被
覆したい基板を、被覆源を有する被覆室内へ導入しかつ
被覆室から導出するために使用することが提案されてい
る。被覆源としては、蒸発させられかつ／またはスパッ
タリングされた被覆材料から成る雲を発生させて、被覆
したい基板に沈着させるための公知の蒸発源および／ま
たは陰極スパッタリング源が適している。基板は、プラ
スチック容器、たとえばプラスチックボトルから成って
おり、そしてその外壁には、光学的に透明な、ただしガ
スおよび／または液体の通過に対して不透過性の遮断層
が析出される。このためには、蒸発源もしくは陰極スパ
ッタリング源によってシリコン含有の源材料が蒸発させ
られるか、もしくはスパッタリングされ、この源材料
は、被覆室内に導入された酸素を含有する反応ガスと反
応して、ＳｉＯ２層としてプラスチック容器に沈着す
る。
【００１２】本発明のさらに別の有利な構成は、その他
の請求項に記載されている。
の請求項に記載されている。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を図
面につき詳しく説明する。
面につき詳しく説明する。
【００１４】雰囲気的に互いに分離された、つまり気圧
的に互いに分離された室１，４に対してワークを連続的
に導入しかつ／または導出するためのエアロック装置２
は、主として、回転ラックケーシング２４として形成さ
れたエアロック通路６を有しており、このエアロック通
路６はワークである基板３，１３を処理するための一方
の室４（以下、「処理室」と呼ぶ）を他方の室（以下、
「外室」と呼ぶ）に接続している。処理室４は壁５を有
している。エアロック装置２は回転ラックケーシング２
４の他に、この回転ラックケーシング２４内に回転可能
に支承されたエアロックチャンバ車１０を有している。
このエアロックチャンバ車１０には、周面側で互いに等
間隔を置いて配置された個々のエアロックチャンバ７ａ
〜７ｍが形成されている。エアロックを通じてワークも
しくは基板３を外室１から処理室４へ持ち込むために
は、個々のワークもしくは基板３が、図２〜図７に書き
込まれた装入ステーションＡにおいて、搬送区間Ｔ
１（図２参照）を介して、外室１に配置された装入ステ
ーションＡにまで案内される。装入ステーションＡは引
渡しハンドリング装置１５′を有しており、この引渡し
ハンドリング装置１５′にはグリップ装置１６′が対応
している。このグリップ装置１６′によって、搬送区間
Ｔ１を介して案内されて来た基板３が、有利には端部側
で把持される。次いで、グリップ装置１６′の、半径方
向に向けられた伸張運動と、引渡しハンドリング装置１
５′の１８０゜の回転運動とが同時に行われることによ
り、基板３は空のエアロックチャンバ７ａに対して位置
決めされる。次いで、基板３は、グリップ装置１６′
の、エアロックチャンバ７ａの方向に向けられた伸張運
動によって、エアロックチャンバ開口２０（図１１参
照）を通じてエアロックチャンバ７ａ内に導入される。
それと同時に、被覆済みの基板１３が同様に、ただし逆
の運動経過で、引渡しハンドリング装置１５と、これに
対応するグリップ装置１６とによってエアロックチャン
バ７ｍから取り出される。エアロックチャンバ７ａ〜７
ｍに持ち込まれた基板３；１３を真空室として形成され
た処理室４の方向もしくは外室１の方向へ搬送するため
には、エアロックチャンバ車１０が、図１〜図８に示し
た回転方向Ｒで回転する。エアロックチャンバ７ａ〜７
ｍ内の圧力を、外室１に配置された装入ステーションＡ
およびアンローディングステーションＨもしくは処理室
４に配置された引渡しステーションＢおよびＧの範囲に
おける圧力に適合させるためには、エアロック通路を形
成する回転ラックケーシング２４が、半径方向に分配さ
れて配置された複数の吸込管片８を介して真空ポンプ
（図示しない）に接続されている。個々の真空ポンプ
は、圧力Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ ４（図１参照）がその数
え上げた順序で減少していくように、つまり外室１に配
置された装入ステーションＡおよびアンローディングス
テーションＨを起点として、処理室４に配置された引渡
しステーションＢおよびＧに向かって減少していくよう
に設計されている。個々のエアロックチャンバ７ａ〜７
ｍはシール装置３０，３２，３３，３４，３５，３６に
よって雰囲気的に互いに完全に隔離されていると同時
に、外室１と処理室４とからも完全に隔離されているの
で、それぞれ６つのエアロックチャンバ７ａ〜７ｆもし
くは７ｇ〜７ｍは、それぞれ１つの「圧力段区間」を形
成している。この圧力段区間は、外室１に存在する大気
が処理室４へ侵入することを有効に阻止すると同時に、
処理室４内の雰囲気圧を一定に維持したまま、外室１か
ら処理室４へのもしくは処理室４から外室１への基板
３；１３の搬送を可能にする。エアロックを通じて処理
室４に持ち込まれた基板３は、装入ステーションＡもし
くはアンローディングステーションＨの場合と同様の方
法で、引渡しステーションＢにおいて引渡しハンドリン
グ装置１７′とグリップ装置１８′とによって搬送ベル
ト（図示しない）に引き渡される。この搬送ベルトは搬
送区間Ｔ２（図１に一点鎖線により示す）を通って走行
する。たとえば旋回可能な保持装置によって搬送ベルト
に着脱可能に固定された基板３は、搬送区間Ｔ２に沿っ
て個々の処理ステーションの手前を運動させられる。
的に互いに分離された室１，４に対してワークを連続的
に導入しかつ／または導出するためのエアロック装置２
は、主として、回転ラックケーシング２４として形成さ
れたエアロック通路６を有しており、このエアロック通
路６はワークである基板３，１３を処理するための一方
の室４（以下、「処理室」と呼ぶ）を他方の室（以下、
「外室」と呼ぶ）に接続している。処理室４は壁５を有
している。エアロック装置２は回転ラックケーシング２
４の他に、この回転ラックケーシング２４内に回転可能
に支承されたエアロックチャンバ車１０を有している。
このエアロックチャンバ車１０には、周面側で互いに等
間隔を置いて配置された個々のエアロックチャンバ７ａ
〜７ｍが形成されている。エアロックを通じてワークも
しくは基板３を外室１から処理室４へ持ち込むために
は、個々のワークもしくは基板３が、図２〜図７に書き
込まれた装入ステーションＡにおいて、搬送区間Ｔ
１（図２参照）を介して、外室１に配置された装入ステ
ーションＡにまで案内される。装入ステーションＡは引
渡しハンドリング装置１５′を有しており、この引渡し
ハンドリング装置１５′にはグリップ装置１６′が対応
している。このグリップ装置１６′によって、搬送区間
Ｔ１を介して案内されて来た基板３が、有利には端部側
で把持される。次いで、グリップ装置１６′の、半径方
向に向けられた伸張運動と、引渡しハンドリング装置１
５′の１８０゜の回転運動とが同時に行われることによ
り、基板３は空のエアロックチャンバ７ａに対して位置
決めされる。次いで、基板３は、グリップ装置１６′
の、エアロックチャンバ７ａの方向に向けられた伸張運
動によって、エアロックチャンバ開口２０（図１１参
照）を通じてエアロックチャンバ７ａ内に導入される。
それと同時に、被覆済みの基板１３が同様に、ただし逆
の運動経過で、引渡しハンドリング装置１５と、これに
対応するグリップ装置１６とによってエアロックチャン
バ７ｍから取り出される。エアロックチャンバ７ａ〜７
ｍに持ち込まれた基板３；１３を真空室として形成され
た処理室４の方向もしくは外室１の方向へ搬送するため
には、エアロックチャンバ車１０が、図１〜図８に示し
た回転方向Ｒで回転する。エアロックチャンバ７ａ〜７
ｍ内の圧力を、外室１に配置された装入ステーションＡ
およびアンローディングステーションＨもしくは処理室
４に配置された引渡しステーションＢおよびＧの範囲に
おける圧力に適合させるためには、エアロック通路を形
成する回転ラックケーシング２４が、半径方向に分配さ
れて配置された複数の吸込管片８を介して真空ポンプ
（図示しない）に接続されている。個々の真空ポンプ
は、圧力Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ ４（図１参照）がその数
え上げた順序で減少していくように、つまり外室１に配
置された装入ステーションＡおよびアンローディングス
テーションＨを起点として、処理室４に配置された引渡
しステーションＢおよびＧに向かって減少していくよう
に設計されている。個々のエアロックチャンバ７ａ〜７
ｍはシール装置３０，３２，３３，３４，３５，３６に
よって雰囲気的に互いに完全に隔離されていると同時
に、外室１と処理室４とからも完全に隔離されているの
で、それぞれ６つのエアロックチャンバ７ａ〜７ｆもし
くは７ｇ〜７ｍは、それぞれ１つの「圧力段区間」を形
成している。この圧力段区間は、外室１に存在する大気
が処理室４へ侵入することを有効に阻止すると同時に、
処理室４内の雰囲気圧を一定に維持したまま、外室１か
ら処理室４へのもしくは処理室４から外室１への基板
３；１３の搬送を可能にする。エアロックを通じて処理
室４に持ち込まれた基板３は、装入ステーションＡもし
くはアンローディングステーションＨの場合と同様の方
法で、引渡しステーションＢにおいて引渡しハンドリン
グ装置１７′とグリップ装置１８′とによって搬送ベル
ト（図示しない）に引き渡される。この搬送ベルトは搬
送区間Ｔ２（図１に一点鎖線により示す）を通って走行
する。たとえば旋回可能な保持装置によって搬送ベルト
に着脱可能に固定された基板３は、搬送区間Ｔ２に沿っ
て個々の処理ステーションの手前を運動させられる。
【００１５】図１に示した実施例では、これらの処理ス
テーションが、真空被覆のための個々の真空源（図示し
ない）を有している。これらの真空源、たとえば蒸発源
および／または陰極スパッタリング源は、公知の形式で
被覆源中心点に対して、蒸発もしくはスパッタリングさ
れた被覆材料の半径方向対称的な三次元の密度分布９を
形成する。被覆源のプロセスパラメータと被覆材料とに
関連した放出特性に相応して、図１に示したように「２
５％の密度分布９」もしくは「５０％の密度分布１２」
が形成される。
テーションが、真空被覆のための個々の真空源（図示し
ない）を有している。これらの真空源、たとえば蒸発源
および／または陰極スパッタリング源は、公知の形式で
被覆源中心点に対して、蒸発もしくはスパッタリングさ
れた被覆材料の半径方向対称的な三次元の密度分布９を
形成する。被覆源のプロセスパラメータと被覆材料とに
関連した放出特性に相応して、図１に示したように「２
５％の密度分布９」もしくは「５０％の密度分布１２」
が形成される。
【００１６】容器である基板３，１３の容器外壁面でも
容器底面でも均一でかつ均質な被覆を保証するために
は、基板３，１３がまず容器外壁被覆位置において、有
利には被覆室もしくは処理室４の底部に配置された被覆
源に対して斜めに位置調整される。容器外壁被覆位置Ｐ
ｓで基板３，１３を搬送する間、基板３，１３はその長
手方向軸線を中心にして回転させられ、これにより全周
被覆が保証される。外壁面の被覆が行われた後に、搬送
区間Ｔ２は反転装置（図１には図示していない）によっ
て１８０゜だけ反転させられ、それと同時に基板３，１
３は斜めの容器壁被覆位置Ｐｓから鉛直方向の容器底被
覆位置Ｐｖに変位される。被覆源に対して位置調整され
た底面を有する基板は、被覆源の傍らを通って案内さ
れ、この場合、図１に示したように基板３，１３は、こ
のときに同時に容器外壁被覆位置Ｐｓに位置する基板
３，１３の上方で被覆される。容器底被覆位置Ｐｖで搬
送区間Ｔ ２を通過した後に、基板３，１３は反転装置１
１によって第１の容器底被覆位置Ｐｖに対して平行に、
ただし第１の容器底被覆位置Ｐｖとは反対の方向で、別
の容器底被覆位置Ｐｖに設けられた被覆源に沿って運動
させられる。この被覆段階に続いて、搬送区間はもう一
度１８０゜だけ反転し、そしてさらに最後の被覆段階が
続いている。基板３はこの最後の被覆段階を容器外壁被
覆位置Ｐｓで通過する。
容器底面でも均一でかつ均質な被覆を保証するために
は、基板３，１３がまず容器外壁被覆位置において、有
利には被覆室もしくは処理室４の底部に配置された被覆
源に対して斜めに位置調整される。容器外壁被覆位置Ｐ
ｓで基板３，１３を搬送する間、基板３，１３はその長
手方向軸線を中心にして回転させられ、これにより全周
被覆が保証される。外壁面の被覆が行われた後に、搬送
区間Ｔ２は反転装置（図１には図示していない）によっ
て１８０゜だけ反転させられ、それと同時に基板３，１
３は斜めの容器壁被覆位置Ｐｓから鉛直方向の容器底被
覆位置Ｐｖに変位される。被覆源に対して位置調整され
た底面を有する基板は、被覆源の傍らを通って案内さ
れ、この場合、図１に示したように基板３，１３は、こ
のときに同時に容器外壁被覆位置Ｐｓに位置する基板
３，１３の上方で被覆される。容器底被覆位置Ｐｖで搬
送区間Ｔ ２を通過した後に、基板３，１３は反転装置１
１によって第１の容器底被覆位置Ｐｖに対して平行に、
ただし第１の容器底被覆位置Ｐｖとは反対の方向で、別
の容器底被覆位置Ｐｖに設けられた被覆源に沿って運動
させられる。この被覆段階に続いて、搬送区間はもう一
度１８０゜だけ反転し、そしてさらに最後の被覆段階が
続いている。基板３はこの最後の被覆段階を容器外壁被
覆位置Ｐｓで通過する。
【００１７】被覆された基板１３は搬送ベルトによって
搬送区間Ｔ２に沿って引渡しステーションＧにまで搬送
される。被覆済みの基板１３が引渡しステーションＧに
おいて引渡しハンドリング装置１７とグリップ装置１８
とによってエアロックチャンバ車１０のエアロックチャ
ンバ７ａ〜７ｍに引き渡された後に、この基板１３は回
転方向Ｒにおけるエアロックチャンバ車１０の回転によ
ってアンローディングステーションＨにまで移動させら
れ、このアンローディングステーションＨにおいて基板
１３は、上で説明したように図２〜図７に示した引渡し
ハンドリング装置１５とグリップ装置１６とによって搬
送区間Ｔ１に供給される（図２参照）。
搬送区間Ｔ２に沿って引渡しステーションＧにまで搬送
される。被覆済みの基板１３が引渡しステーションＧに
おいて引渡しハンドリング装置１７とグリップ装置１８
とによってエアロックチャンバ車１０のエアロックチャ
ンバ７ａ〜７ｍに引き渡された後に、この基板１３は回
転方向Ｒにおけるエアロックチャンバ車１０の回転によ
ってアンローディングステーションＨにまで移動させら
れ、このアンローディングステーションＨにおいて基板
１３は、上で説明したように図２〜図７に示した引渡し
ハンドリング装置１５とグリップ装置１６とによって搬
送区間Ｔ１に供給される（図２参照）。
【００１８】回転ラック型エアロックとしてのエアロッ
ク装置２の構成は、図８に詳しく示されている。このエ
アロック装置２は位置固定の回転ラックケーシング２４
を有しており、この回転ラックケーシング２４内には、
エアロックチャンバ車１０が軸４４に回転可能に配置さ
れており、この場合、回転ラックケーシング２４によっ
て取り囲まれた室がエアロック通路４１を形成してい
る。軸４４は、軸受けカバー４０；４２内に嵌入された
２つの軸受け４８；４６によって保持される。符号１４
は、エアロックチャンバ車１０の半径方向外側の壁プレ
ートを示しており、符号１９ａ，１９ｂは回転ラックケ
ーシング２４の上側および下側のカバー部分を示してお
り、符号３８はエアロックチャンバ車１０を駆動する歯
車を示している。エアロックチャンバ車１０には、個々
のエアロックチャンバ７ａ〜７ｍが形成されており、こ
れらのエアロックチャンバ７ａ〜７ｍはそれぞれ直径方
向で向かい合って位置していて、しかも互いに等間隔を
置いてエアロックチャンバ車１０の周面にわたって配置
されている。図８から判るように、エアロックチャンバ
７ｃ；７ｊ（図８には見えていないその他のエアロック
チャンバも同様である）はシール装置（３４，３４′，
３６，３２ａ，３２ｂ，５０ａ，５０ｂ）によってエア
ロック通路４１に対して雰囲気的に圧力密に、特に真空
密に、有利には高真空密に隔離されている。シール装置
は、それぞれ個々のエアロックチャンバ７ｃ；７ｊの上
方および下方に形成された半径方向シール部材５０ａ，
５０ｂを有しており、この半径方向シール部材５０ａ，
５０ｂは図９および図１０に示したように、エアロック
通路内壁２２と、スライダ３２ｂとに対してエアロック
チャンバを雰囲気的にシールする。符号５２で示したシ
ールエレメントは、図９および図１０に示した環状の部
分をエアロックチャンバ車１０に対してシールするため
に働く。スライダ３２ｂはエアロックチャンバ車１０と
固く結合されていて、エアロックチャンバ７ａ〜７ｍに
対して隣接して配置されている。スライダ３２ｂは、対
応するスライダ３２ａに形成された滑子案内に案内さ
れ、この場合、スライダ３２ｂとスライダ３２ａとの間
に設けられた弾性変形可能な補償部材３６によって、両
スライダ３２ｂ，３２ａはばね弾性的に密に接触した状
態に保持される。スライダ３２ａ；３２ｂは半径方向に
おいて、ねじ３５によってエアロックチャンバ車１０に
位置固定されたばね部材３４，３４′（図１１に示した
スライダ３２ａ，３３ａ参照）によって半径方向外側に
向かって押圧され、この場合、スライダ３２ａ，３２ｂ
はエアロックチャンバ車１０の回転時でも、エアロック
通路内壁２２との動的な密な接触状態に保持される。し
たがって、前記シール装置（３４，３４′，３６，３２
ａ，３２ｂ，５０ａ，５０ｂ）により、個々のエアロッ
クチャンバ７ａ〜７ｍがエアロック搬送過程の間、雰囲
気的にかつ十分に真空密に互いに隔離されていることが
保証されている。
ク装置２の構成は、図８に詳しく示されている。このエ
アロック装置２は位置固定の回転ラックケーシング２４
を有しており、この回転ラックケーシング２４内には、
エアロックチャンバ車１０が軸４４に回転可能に配置さ
れており、この場合、回転ラックケーシング２４によっ
て取り囲まれた室がエアロック通路４１を形成してい
る。軸４４は、軸受けカバー４０；４２内に嵌入された
２つの軸受け４８；４６によって保持される。符号１４
は、エアロックチャンバ車１０の半径方向外側の壁プレ
ートを示しており、符号１９ａ，１９ｂは回転ラックケ
ーシング２４の上側および下側のカバー部分を示してお
り、符号３８はエアロックチャンバ車１０を駆動する歯
車を示している。エアロックチャンバ車１０には、個々
のエアロックチャンバ７ａ〜７ｍが形成されており、こ
れらのエアロックチャンバ７ａ〜７ｍはそれぞれ直径方
向で向かい合って位置していて、しかも互いに等間隔を
置いてエアロックチャンバ車１０の周面にわたって配置
されている。図８から判るように、エアロックチャンバ
７ｃ；７ｊ（図８には見えていないその他のエアロック
チャンバも同様である）はシール装置（３４，３４′，
３６，３２ａ，３２ｂ，５０ａ，５０ｂ）によってエア
ロック通路４１に対して雰囲気的に圧力密に、特に真空
密に、有利には高真空密に隔離されている。シール装置
は、それぞれ個々のエアロックチャンバ７ｃ；７ｊの上
方および下方に形成された半径方向シール部材５０ａ，
５０ｂを有しており、この半径方向シール部材５０ａ，
５０ｂは図９および図１０に示したように、エアロック
通路内壁２２と、スライダ３２ｂとに対してエアロック
チャンバを雰囲気的にシールする。符号５２で示したシ
ールエレメントは、図９および図１０に示した環状の部
分をエアロックチャンバ車１０に対してシールするため
に働く。スライダ３２ｂはエアロックチャンバ車１０と
固く結合されていて、エアロックチャンバ７ａ〜７ｍに
対して隣接して配置されている。スライダ３２ｂは、対
応するスライダ３２ａに形成された滑子案内に案内さ
れ、この場合、スライダ３２ｂとスライダ３２ａとの間
に設けられた弾性変形可能な補償部材３６によって、両
スライダ３２ｂ，３２ａはばね弾性的に密に接触した状
態に保持される。スライダ３２ａ；３２ｂは半径方向に
おいて、ねじ３５によってエアロックチャンバ車１０に
位置固定されたばね部材３４，３４′（図１１に示した
スライダ３２ａ，３３ａ参照）によって半径方向外側に
向かって押圧され、この場合、スライダ３２ａ，３２ｂ
はエアロックチャンバ車１０の回転時でも、エアロック
通路内壁２２との動的な密な接触状態に保持される。し
たがって、前記シール装置（３４，３４′，３６，３２
ａ，３２ｂ，５０ａ，５０ｂ）により、個々のエアロッ
クチャンバ７ａ〜７ｍがエアロック搬送過程の間、雰囲
気的にかつ十分に真空密に互いに隔離されていることが
保証されている。
【図１】エアロック装置と、これに隣接した処理室と、
処理室内でのワークの搬送区間とを示す縦断面図であ
る。
処理室内でのワークの搬送区間とを示す縦断面図であ
る。
【図２】図１に示したエアロック装置のエアロックチャ
ンバ車と、対応するローディング装置とを、２つのエア
ロックチャンバがローディングされた状態で示す断面図
である。
ンバ車と、対応するローディング装置とを、２つのエア
ロックチャンバがローディングされた状態で示す断面図
である。
【図３】図２に示したエアロック装置を、エアロックチ
ャンバ車とローディング装置とが引き続き所定のタイミ
ングで送られた搬送段階で示す断面図である。
ャンバ車とローディング装置とが引き続き所定のタイミ
ングで送られた搬送段階で示す断面図である。
【図４】図３に示したエアロック装置を、エアロックチ
ャンバ車とローディング装置とが引き続き所定のタイミ
ングで送られた搬送段階で示す断面図である。
ャンバ車とローディング装置とが引き続き所定のタイミ
ングで送られた搬送段階で示す断面図である。
【図５】図４に示したエアロック装置を、エアロックチ
ャンバ車とローディング装置とが引き続き所定のタイミ
ングで送られた搬送段階で示す断面図である。
ャンバ車とローディング装置とが引き続き所定のタイミ
ングで送られた搬送段階で示す断面図である。
【図６】図５に示したエアロック装置を、エアロックチ
ャンバ車とローディング装置とが引き続き所定のタイミ
ングで送られた搬送段階で示す断面図である。
ャンバ車とローディング装置とが引き続き所定のタイミ
ングで送られた搬送段階で示す断面図である。
【図７】図６に示したエアロック装置を、エアロックチ
ャンバ車とローディング装置とが引き続き所定のタイミ
ングで送られた搬送段階で示す断面図である。
ャンバ車とローディング装置とが引き続き所定のタイミ
ングで送られた搬送段階で示す断面図である。
【図８】図１のＳ―Ｓ′線に沿った回転ラック型エアロ
ックの断面図である。
ックの断面図である。
【図９】シール装置を備えたエアロックチャンバ車の周
面の一部を示す拡大図である。
面の一部を示す拡大図である。
【図１０】図９のＵ―Ｕ′線に沿った断面図である。
【図１１】図２に示したエアロックチャンバ車のエアロ
ックチャンバと、対応するシール装置とを示す拡大図で
ある。
ックチャンバと、対応するシール装置とを示す拡大図で
ある。
１ 外室、 ２ エアロック装置、 ３ ワークもしく
は基板、 ４ 処理室、 ５ 壁、 ６ エアロック通
路、 ７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ，７ｅ，７ｆ，７ｇ，７
ｈ，７ｉ，７ｊ，７ｋ，７ｌ，７ｍ エアロックチャン
バ、 ８ 吸込管片、 ９ 密度分布、 １０ エアロ
ックチャンバ車、 １１ 反転装置、１２ 密度分布、
１３ ワークもしくは基板、 １４ 壁プレート、
１５，１５′ 引渡しハンドリング装置、 １６，１
６′ グリップ装置、 １７，１７′ 引渡しハンドリ
ング装置、 １８，１８′ グリップ装置、 １９ａ，
１９ｂ カバー部分、 ２０ エアロックチャンバ開
口、 ２２ エアロック通路内壁、 ２４ 回転ラック
ケーシング、 ３０，３０′ シール装置、 ３２ａ，
３２ｂ，３３ａ スライダ、 ３４，３４′ ばね部
材、 ３５ ねじ、 ３６ 補償部材、 ３８ 歯車、
４０ 軸受けカバー、 ４１ エアロック通路、 ４
２ 軸受けカバー、 ４４ 軸、 ４６，４８ 軸受
け、 ５０ａ，５０ｂ 半径方向シール部材、 ５２
シールエレメント、 Ａ 装入ステーション、 Ｂ 引
渡しステーション、 Ｇ 引渡しステーション、 Ｈ
アンローディングステーション、 Ｒ 回転方向、 Ｐ
ｓ 容器外壁被覆位置、 Ｐｖ 容器底被覆位置、 Ｔ
１，Ｔ２ 搬送区間
は基板、 ４ 処理室、 ５ 壁、 ６ エアロック通
路、 ７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ，７ｅ，７ｆ，７ｇ，７
ｈ，７ｉ，７ｊ，７ｋ，７ｌ，７ｍ エアロックチャン
バ、 ８ 吸込管片、 ９ 密度分布、 １０ エアロ
ックチャンバ車、 １１ 反転装置、１２ 密度分布、
１３ ワークもしくは基板、 １４ 壁プレート、
１５，１５′ 引渡しハンドリング装置、 １６，１
６′ グリップ装置、 １７，１７′ 引渡しハンドリ
ング装置、 １８，１８′ グリップ装置、 １９ａ，
１９ｂ カバー部分、 ２０ エアロックチャンバ開
口、 ２２ エアロック通路内壁、 ２４ 回転ラック
ケーシング、 ３０，３０′ シール装置、 ３２ａ，
３２ｂ，３３ａ スライダ、 ３４，３４′ ばね部
材、 ３５ ねじ、 ３６ 補償部材、 ３８ 歯車、
４０ 軸受けカバー、 ４１ エアロック通路、 ４
２ 軸受けカバー、 ４４ 軸、 ４６，４８ 軸受
け、 ５０ａ，５０ｂ 半径方向シール部材、 ５２
シールエレメント、 Ａ 装入ステーション、 Ｂ 引
渡しステーション、 Ｇ 引渡しステーション、 Ｈ
アンローディングステーション、 Ｒ 回転方向、 Ｐ
ｓ 容器外壁被覆位置、 Ｐｖ 容器底被覆位置、 Ｔ
１，Ｔ２ 搬送区間
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ユルゲン ヘンリッヒ ドイツ連邦共和国 リメスハイン アム ゲオルゲンヴァルト ５ (72)発明者 クラウス ミヒャエル ドイツ連邦共和国 ゲルンハウゼン シェ ーネ アウスジヒト 16アー (72)発明者 ゲルト レードリング ドイツ連邦共和国 オーベルツハウゼン シラーシュトラーセ 17 (72)発明者 ユルゲン ウルリッヒ ドイツ連邦共和国 シェーネック リング シュトラーセ 17
Claims (9)
- 【請求項１】 雰囲気的に互いに分離された室に対して
ワークを連続的に導入しかつ／または導出するためのエ
アロック装置であって、前記室を互いに接続する少なく
とも１つのエアロック通路が設けられている形式のもの
において、エアロック通路（２４，４１）内に、互いに
隣接した前記室（１，４）の間で移動可能で、かつエア
ロックを通過させたいワーク（３，１３）を収容する少
なくとも１つのエアロックチャンバ（７ａ〜７ｍ）が設
けられており、該エアロックチャンバ（７ａ〜７ｍ）
が、ワーク（３，１３）のローディングおよびアンロー
ディングを行うためのエアロックチャンバ開口（２０）
を有しており、さらにエアロックチャンバ（７ａ〜７
ｍ）が、少なくとも１つのシール装置（３０）を有して
おり、該シール装置（３０）が、エアロック通路（２
４，４１）のエアロック通路内壁（２２）と協働して、
エアロックチャンバ（７ａ〜７ｍ）の内室を、エアロッ
ク通過時に前記室（１，４）から雰囲気的にシールして
いることを特徴とするエアロック装置。 - 【請求項２】 前記室（１，４）が、互いに異なる雰囲
気圧を有している、請求項１記載のエアロック装置。 - 【請求項３】 前記室のうち一方の室（１）が標準大気
圧を有しており、他方の室（４）が負圧を有している、
請求項１記載のエアロック装置。 - 【請求項４】 負圧を有する方の室（４）が処理室もし
くは真空被覆室として形成されており、該真空被覆室内
で被覆プロセスの間に最大１０−３ｍｂａｒの雰囲気圧
が調節されている、請求項１から３までのいずれか１項
記載のエアロック装置。 - 【請求項５】 当該エアロック装置が回転ラック型エア
ロックとして形成されていて、回転ラック室（２４）
と、該回転ラック室（２４）内に回転可能に支承された
エアロックチャンバ車（１０）とを有しており、該エア
ロックチャンバ車（１０）に周面側で少なくとも１つの
エアロックチャンバ（７ａ〜７ｍ）が設けられており、
該エアロックチャンバ（７ａ〜７ｍ）が、エアロックを
通過させたいワークのローディングおよびアンローディ
ングを行うためのエアロックチャンバ開口（２０）を備
えており、該エアロックチャンバ開口（２０）が、エア
ロックチャンバ車（１０）の全周にわたって延びる側縁
部に形成されている、請求項１から４までのいずれか１
項記載のエアロック装置。 - 【請求項６】 エアロックチャンバ車（１０）に周面側
で複数のシール装置（３０）が設けられており、該シー
ル装置（３０）がシールエレメント（５０ｂ，５２，３
２ａ，３２ｂ）を有しており、該シールエレメント（５
０ｂ，５２，３２ａ，３２ｂ）が、装入ステーション
（Ａ）から引渡しステーション（Ｂ）への基板（３，１
３）のエアロック通過過程の間、もしくは引渡しステー
ション（Ｇ）からアンローディングステーション（Ｈ）
への基板（３，１３）のエアロック通過過程の間、エア
ロック通路（４１）のエアロック通路内壁（２２）に密
に接触していて、エアロックチャンバ（７ａ〜７ｍ）
が、外室として形成された一方の室（１）からも、処理
室として形成された他方の室（４）からも雰囲気的に密
に隔離されるようになっている、請求項１から５までの
いずれか１項記載のエアロック装置。 - 【請求項７】 エアロック通路（４１）が差動圧力段と
して形成されていて、エアロック通路（４１）内のエア
ロックチャンバ圧が、外室（１）に設けられた装入ステ
ーション（Ａ）もしくはアンローディングステーション
（Ｈ）を起点として、エアロック通路（４１）の、エア
ロック通路内壁（２２）と、エアロックチャンバ車（１
０）の半径方向外側の壁プレート（１４）との間に形成
された区分を巡って、引渡しステーション（Ｂ）もしく
は引渡しステーション（Ｇ）の方向に向かって、外室
（１）に形成された雰囲気圧から、処理室（４）に形成
された圧力にまで減少している、請求項１から６までの
いずれか１項記載のエアロック装置。 - 【請求項８】 エアロックチャンバ車（１０）に対して
ワークである基板（３，１３）をローディングしかつ／
またはアンローディングするために複数のローディング
装置（１５，１５´；１７，１７´）が設けられてお
り、該ローディング装置が、グリップ装置（１６，１６
´；１８，１８´）によって、未処理の基板（３）をエ
アロックチャンバ（７ａ〜７ｍ）内に搬入するか、もし
くは処理済の基板（１３）をエアロックチャンバ（７ａ
〜７ｍ）から搬出するようになっている、請求項１から
７までのいずれか１項記載のエアロック装置。 - 【請求項９】 処理室（４）内に少なくとも１つの被覆
源、有利には、蒸発させられた被覆材料および／または
スパッタリングされた被覆材料から成る雲を発生させ
て、被覆したい基板（３，１３）に沈着させるための蒸
発源および／または陰極スパッタリング源が設けられて
おり、基板（３，１３）が、被覆源の前に移動可能に配
置されている、請求項１から８までのいずれか１項記載
のエアロック装置。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1998107031 DE19807031A1 (de) | 1998-02-19 | 1998-02-19 | Schleuseneinrichtung zum Ein- und/oder Ausbringen von Substraten in und/oder aus einer Behandlungskammer |
| DE29802947U DE29802947U1 (de) | 1998-02-19 | 1998-02-19 | Schleuseneinrichtung zum Ein- und/oder Ausbringen von Substraten in und/oder aus einer Behandlungskammer |
| DE29802947.2 | 1998-02-19 | ||
| DE19807031.4 | 1998-02-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11323553A true JPH11323553A (ja) | 1999-11-26 |
Family
ID=26043994
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11041740A Pending JPH11323553A (ja) | 1998-02-19 | 1999-02-19 | エアロック装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6196154B1 (ja) |
| EP (1) | EP0943699B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11323553A (ja) |
| DE (1) | DE59810465D1 (ja) |
Cited By (3)
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