JP6040075B2 - 真空成膜装置及び成膜方法 - Google Patents
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Description
第2の原料ガス:H2O
不活性ガス:N2
N2流量:各1SLM
TMAの原料容器の温度:20〜80℃
H2Oの原料容器の温度:20〜80℃
成膜圧力:30〜500Pa
ガス流路系の温度:20〜80℃
処理対象物の表面積:8000cm2
反応室(成膜エリア)の容量:770mm×960mm×10mmt
反応室の温度:90〜150℃
バッファタンク容量:14〜140cc
排気ボックス24のシール条件:1つの孔11aの開いたシール部材11を用いて、N2ガスを100〜1000sccmの流量で連続して流して成膜を行った。
例えば、上記条件で、図8の(1)の工程の時間を2秒、(2)の工程の時間を20秒、(3)の工程の時間を2秒、及び(4)の工程の時間を20秒として、成膜することができる。
11 シール部材 11a 孔
12 内壁面 13 中空部分
21 反応室 21a 天板
21b 底壁 22 ゲートバルブ
23 搬送室 24 排気ボックス
24a 内壁面 25 支持部材
26 ガスノズル 27 上部防着板
27a、27b 上部防着板 28 下部防着板
29、31 下部防着板 30 側壁防着板
41、43 防着板 42 ガス導入ポート
61 第1ガス供給系 61a 第1原料容器
61b、61c、61e バルブ 61d バッファタンク
62 第2ガス供給系 62a 第2原料容器
62b、62c、62e バルブ 62d バッファタンク
63 ガス供給系 63a 不活性ガス源
63b、63d バルブ 63c マスフローコントローラー
64 ガス供給系 64a、64c バルブ
64b マスフローコントローラー 65 トラップ
66 第3ガス供給系 66a バルブ
67 排出・排気系 67a バルブ
68 圧力調整用バルブ 69 真空ポンプ
71 外筒部材 72 第1のガス導入口
73 蓋部材 74 底部材
75 内筒部材 76 第2のガス導入口
77 ガス拡散室 78 原料ガス排出口
S 処理対象物
Claims (8)
- 複数の原料ガスを交互にパルス的に反応室に供給し、該反応室内に設けられた昇降自在の支持ステージ上に載置される処理対象物上で原料ガスの反応により成膜するためのALD真空成膜装置であって、該反応室から排出される原料ガスが通過する排気ボックスがその内部に防着板が挿入されて構成され、該排気ボックスの内壁面にシール機構が設けられ、このシール機構は、中空のシール部材からなり、該シール部材の内部にガスを連続的に導入して膨張させると、該排気ボックスの内部に向かって膨張して、挿入された防着板の表面に当接し、該排気ボックスの内壁と防着板の表面との隙間をシールするよう構成され、このシール部材には、導入したガスを吐出するための少なくとも1つの孔が設けられていることを特徴とするALD真空成膜装置。
- 前記複数の原料ガスのそれぞれを供給する各供給手段の途中に、それぞれの原料ガスを充填するバッファタンクが設けられ、このバッファタンク内に充填された原料ガスをガスノズルから反応室内に供給するように構成されていることを特徴とする請求項1記載のALD真空成膜装置。
- 前記複数の原料ガスがトリメチルアルミニウムガス及びH2Oガスの組み合わせであることを特徴とする請求項1又は2記載のALD真空成膜装置。
- 前記排気ボックスの下流側には、成膜に寄与せずに排出される第1の原料ガス及び第2の原料ガスが導入されるトラップが設けられ、このトラップには、さらに第2の原料ガスの供給源からその原料ガスの一部が導入されるように構成されており、また、トラップの下流側には真空成膜装置内の圧力を調整するための圧力調整用バルブ及び排気系がこの順番で設けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のALD真空成膜装置。
- 第1の原料ガスと第2の原料ガスとを交互にパルス的に反応室に供給して、第1の原料ガスの供給と吸着と排出及び第2の原料ガスの供給と吸着した第1の原料ガスとの反応と反応しなかった第2の原料ガスの排出とを繰り返し実施し、該反応室内に設けられた昇降自在の支持ステージ上に載置される処理対象物上に成膜する方法であって、該反応室内から排出される第1の原料ガス及び第2の原料ガスを、内部に防着板が挿入され、また、内壁面に中空のシール部材からなるシール機構が設けられている排気ボックスを介して排出させながら成膜する際に、該シール部材の内部に不活性ガスを連続的に導入し、該シール部材を該排気ボックスの内部に向かって膨張せしめて、該挿入された防着板の表面に当接させて該排気ボックスの内壁と該防着板の表面との隙間をシールし、該シール部材に設けられた少なくとも1つの孔から導入された不活性ガスを吐出させながら、かつ、該第1の原料ガス及び第2の原料ガスを排出させながら成膜を行うことを特徴とする成膜方法。
- 前記第1及び第2の原料ガスのそれぞれの供給を、各供給手段の途中に設けられたバッファタンク内に充填された各原料ガスをガスノズルから反応室内に供給するようにして実施することを特徴とする請求項5記載の成膜方法。
- 前記排気ボックスを介して排出される第1及び第2の原料ガスを、この排気ボックスの下流に設けられたトラップ内に導入すると共に、第2の原料ガスの供給源からこのガスの一部をこのトラップ内に導入して、成膜に寄与せず排出された第1の原料ガスとトラップ内に導入された第2の原料ガスとを反応させて、この成膜に寄与せず排出された第1の原料ガスを処理することを特徴とする請求項5又は6記載の成膜方法。
- 前記第1の原料ガスがトリメチルアルミニウムガスであり、第2の原料ガスがH2Oガスであることを特徴とする請求項5〜7のいずれか1項に記載の成膜方法。
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