JPH1121349A - ポリアリーレンアミン及びその製造方法 - Google Patents
ポリアリーレンアミン及びその製造方法Info
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- JPH1121349A JPH1121349A JP12608898A JP12608898A JPH1121349A JP H1121349 A JPH1121349 A JP H1121349A JP 12608898 A JP12608898 A JP 12608898A JP 12608898 A JP12608898 A JP 12608898A JP H1121349 A JPH1121349 A JP H1121349A
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Abstract
リーレンアミン及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 下記一般式(1) 【化1】 (式中、Ar1、Ar2は、各々独立して炭素数6〜2
4の芳香族基を示す。)で表される構造単位を有するポ
リアリーレンアミン。
Description
ンアミン及びその製造方法に関する。本発明のポリアリ
ーレンアミンは、3級アリールアミノ基が連続的に結合
した構造を有することから耐熱性、耐溶剤性等に優れ構
造材料として有用なものである。
材料としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬
化性樹脂、又はポリフェニレンテレフタルアミド、ポリ
イミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレン
サルファイド、液晶ポリマー等の種々のエンジニアリン
グプラスチックが知られ、様々な分野で構造材料として
用いられている。
Lett.,pp.1135〜1136,1996にア
リールジハライドとピペラジン又はピペリジン誘導体を
塩基の存在下に塩化パラジウムとトリス(o−トリルホ
スフィン)配位子からなる触媒の存在下にアミノ化反応
しポリアリーレンアミンを製造することが提案されてい
る。
熱硬化性樹脂は耐熱性には優れるが、生産性には劣るも
のである。またエンジニアリングプラスチックは溶融加
工が困難であり溶融紡糸等の特殊な加工法により加工さ
れている。そして溶融加工が可能なものではその耐熱性
能が十分なものではない。さらにこのようなエンジニア
リングプラスチックの製造には、その単量体の合成が困
難、特殊な溶媒中で重合を行わなくてはならない、重合
反応時に高温を要する、成型物としての生産性が悪い等
の様々な課題を有するものが多い。
5〜1136,1996に開示されたアリールジハライ
ドとピペラジン又はピペリジン誘導体等の脂環式アミン
からなるポリマーは、耐熱性に劣るものである。
であり、その目的は、耐熱性、耐溶媒性等に優れた、新
規なポリアリーレンアミン及びその製造方法を提供する
ことである。
関して鋭意検討した結果、新規なポリアリーレンアミン
を見出し、本発明を完成させるにいたった。
炭素数6〜24の芳香族基を示す。)で表される構造単
位を有することを特徴とするポリアリーレンアミン、及
びその製造方法である。
造単位において、上記一般式(1)で示される単位を有
することを特徴とする。
は、各々独立して炭素数6〜24の芳香族基を示すが、
炭素数6〜24の芳香族基としては、無置換若しくは置
換基を有するフェニル基、ビフェニル基、アントラセニ
ル基、ナフチル基又はフルオレニル基が好ましい。
−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル基、4−
メトキシフェニル基、2−メチルフェニル基、3−メチ
ルフェニル基、4−メチルフェニル基、2−ヒドロキシ
フェニル基、3−ヒドロキシフェニル基、4−ヒドロキ
シフェニル基、2−トリフルオロメチルフェニル基、3
−トリフルオロメチルフェニル基、4−トリフルオロメ
チルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、3,6
−ジメチルフェニル基、2,3−ジメチルフェニル基、
3,4−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニ
ル基、3,5−ジメチルフェニル基、3−(トリフルオ
ロメトキシ)フェニル基、4−(トリフルオロメトキ
シ)フェニル基、3,4−(メチレンジオキシ)フェニ
ル基等の無置換又は置換基を有するフェニル基;2−ビ
フェニル基、3−ビフェニル基、4−ビフェニル基等の
ビフェニル基;1−ナフチル基、2−ナフチル基、2−
メチルナフチル基、4−メチルナフチル基等のナフチル
基;9−アントラセニル基、2−フルオレニル基等が挙
げられる。
な構造を挙げることができる。
アルキル基又はトリフルオロメトキシ基を示し、mは1
又は2の整数を示す。)
示す。) そして本発明のポリアリーレンアミンのうち、下記一般
式(2)
〜5の整数を示す。)で表される構造単位を有するポリ
アリーレンアミンが、優れた耐熱性を有することから特
に好ましい。
耐熱性向上を目的とする場合には、上記Ar2がパラ位
の結合からなることが好ましい。また、溶剤に対する溶
解性、成形性の向上を目的とする場合には、メタ位及び
/又はオルト位の結合を含んでいても良い。
般式(1)で示される構造単位を有していれば、単独重
合体又は共重合体であってもよいが、上記一般式(1)
で示される単位が10以上繰り返した単位よりなるポリ
アリーレンアミンは、耐熱性、耐溶剤性に優れるため、
特に好ましい。
る方法により製造されても差し支えないが、例えば、下
記一般式(3)
基を示す。)で示されるアリールアミン及び/又は下記
一般式(4)
炭素数6〜24の芳香族基を示す。)で示されるアリー
レンジアミン誘導体と下記一般式(5)
基を示し、XはCl、Br、F又はIを示す。)で示さ
れるアリールジハライドとを、トリアルキルホスフィン
及び/又はアリールホスフィンとパラジウム化合物とか
らなる触媒を用い、塩基の存在下でアミノ化反応させる
ことにより、効率的に製造することができる。
(3)で示されるアリールアミンとしては、具体的に
は、アニリン、2−フルオロアニリン、3−フルオロア
ニリン、4−フルオロアニリン、2−アニシジン、3−
アニシジン、4−アニシジン、2−ナフチルアミン、2
−アミノビフェニル、4−アミノビフェニル等を例示す
ることができる。
(4)で示されるアリーレンジアミン誘導体としては、
具体的には、N,N’−ジフェニルフェニレンジアミ
ン、N,N’−ジ(2−メトキシフェニル)フェニレン
ジアミン、N,N’−ジ(3−メトキシフェニル)フェ
ニレンジアミン、N,N’−ジ(4−メトキシフェニ
ル)フェニレンジアミン、N,N’−ジ(2−メチルフ
ェニル)フェニレンジアミン、N,N’−ジ(3−メチ
ルフェニル)フェニレンジアミン、N,N’−ジ(4−
メチルフェニル)フェニレンジアミン、N,N’−ジ
(2−ヒドロキシフェニル)フェニレンジアミン、N,
N’−ジ(3−ヒドロキシフェニル)フェニレンジアミ
ン、N,N’−ジ(4−ヒドロキシフェニル)フェニレ
ンジアミン、N,N’−ジ(2−トリフルオロメチルフ
ェニル)フェニレンジアミン、N,N’−ジ(3−トリ
フルオロメチルフェニル)フェニレンジアミン、N,
N’−ジ(4−トリフルオロメチルフェニル)フェニレ
ンジアミン、N,N’−ジ(2,6−ジメチルフェニ
ル)フェニレンジアミン、N,N’−ジ(3,6−ジメ
チルフェニル)フェニレンジアミン、N,N’−ジ
(2,3−ジメチルフェニル)フェニレンジアミン、
N,N’−ジ(3,4−ジメチルフェニル)フェニレン
ジアミン、N,N’−ジ(2,4−ジメチルフェニル)
フェニレンジアミン、N,N’−ジ(3,5−ジメチル
フェニル)フェニレンジアミン、N,N’−ジ(3−ト
リフルオロメトキシフェニル)フェニレンジアミン、
N,N’−ジ(4−トリフルオロメトキシフェニル)フ
ェニレンジアミン、N,N’−ジ(3−ビフェニル)フ
ェニレンジアミン、N,N’−ジ(4−ビフェニル)フ
ェニレンジアミン、N,N’−ジ(1−ナフチル)フェ
ニレンジアミン、N,N’−ジ(2−ナフチル)フェニ
レンジアミン、N,N’−ジ(3,4−メチレンジオキ
シフェニル)フェニレンジアミン、N,N’−ジ(2−
メチルナフチル)フェニレンジアミン、N,N’−ジ
(4−メチルナフチル)フェニレンジアミン、N,N’
−ジ(9−アントラセニル)フェニレンジアミン、N,
N’−ジ(2−フルオレニル)フェニレンジアミン等を
例示することができる。
表されるアリールジハライドとしては、具体的には、
1,4−ジブロモベンゼン、1,2−ジブロモベンゼ
ン、1,3−ジブロモベンゼン、2,5−ジブロモトル
エン、3,5−ジブロモトルエン、1,4−ジブロモ−
2,5−ジメチルベンゼン、1,3−ジブロモ−5−
(トリフルオロメトキシ)ベンゼン、1,4−ジブロモ
ビフェニル、9,10−ジブロモアントラセン、N−メ
チル−3,6−ジブロモカルバゾール、N−エチル−
3,6−ジブロモカルバゾール、N−プロピル−3,6
−ジブロモカルバゾール、N−ブチル−3,6−ジブロ
モカルバゾール、2,7−ジブロモフルオレン等のジブ
ロモベンゼン類;1,4−ジクロロベンゼン、1,2−
ジクロロベンゼン、1,3−ジクロロベンゼン、2,5
−ジクロロトルエン、3,5−ジクロロトルエン、1,
4−ジクロロ−2,5−ジメチルベンゼン、1,3−ジ
クロロ−5−(トリフルオロメトキシ)ベンゼン、1,
4−ジクロロビフェニル、9,10−ジクロロアントラ
セン、N−メチル−3,6−ジクロロカルバゾール、N
−エチル−3,6−ジクロロカルバゾール、N−プロピ
ル−3,6−ジクロロカルバゾール、N−ブチル−3,
6−ジクロロカルバゾール、2,7−ジクロロフルオレ
ン等のジクロロベンゼン類;1,4−ジヨードベンゼ
ン、1,2−ジヨードベンゼン、1,3−ジヨードベン
ゼン、2,5−ジヨードトルエン、3,5−ジヨードト
ルエン、1,4−ジヨード−2,5−ジメチルベンゼ
ン、1,3−ジヨード−5−(トリフルオロメトキシ)
ベンゼン、1,4−ジヨードビフェニル、9,10−ジ
ヨードアントラセン、N−メチル−3,6−ジヨードカ
ルバゾール、N−エチル−3,6−ジヨードカルバゾー
ル、N−プロピル−3,6−ジヨードカルバゾール、N
−ブチル−3,6−ジヨードカルバゾール、2,7−ジ
ヨードフルオレン等のジヨードベンゼン類;1,4−ジ
フルオロベンゼン、1,2−ジフルオロベンゼン、1,
3−ジフルオロベンゼン、2,5−ジフルオロトルエ
ン、3,5−ジフルオロトルエン、1,4−ジフルオロ
−2,5−ジメチルベンゼン、1,3−ジフルオロ−5
−(トリフルオロメトキシ)ベンゼン、1,4−ジフル
オロビフェニル、9,10−ジフルオロアントラセン、
N−メチル−3,6−ジフルオロカルバゾール、N−エ
チル−3,6−ジフルオロカルバゾール、N−プロピル
−3,6−ジフルオロカルバゾール、N−ブチル−3,
6−ジフルオロカルバゾール、2,7−ジフルオロフル
オレン等のジフルオロベンゼン類等を例示することがで
きる。
ン誘導体及び/又はアリールアミンの添加量は、特に限
定するものではないが、高分子量のポリアリーレンアミ
ンが得られることから、アリーレンジアミン誘導体の場
合には、アリールジハライド1モルに対して0.9〜
1.1の割合で添加し、アリールアミンの場合には、ア
リールジハライド1モルに対して0.4〜0.6の割合
で添加することが好ましい。更に本発明においては本発
明の目的を逸脱しないかぎりにおいてこれらの混合物を
用いても、又はさらに第三成分を加えても良い。
スフィン及び/又はアリールホスフィンとパラジウム化
合物からなる触媒を用いてアミノ化反応を進行させる。
トリアルキルホスフィン及び/又はアリールホスフィン
は、それぞれ単独又は混合物として用いても良い。
としては、特に限定するものではないが、例えば、ヘキ
サクロロパラジウム(IV)酸ナトリウム四水和物、ヘ
キサクロロパラジウム(IV)酸カリウム等の4価のパ
ラジウム化合物類;塩化パラジウム(II)、臭化パラ
ジウム(II)、酢酸パラジウム(II)、パラジウム
アセチルアセトナート(II)、ジクロロビス(ベンゾ
ニトリル)パラジウム(II)、ジクロロビス(アセト
ニトリル)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロテト
ラアンミンパラジウム(II)、ジクロロ(シクロオク
タ−1,5−ジエン)パラジウム(II)、パラジウム
トリフルオロアセテート(II)等の2価パラジウム化
合物類;トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウ
ム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジ
ウムクロロホルム錯体(0)、テトラキス(トリフェニ
ルホスフィン)パラジウム(0)等の0価パラジウム化
合物類を挙げることができる。
使用量は、特に限定するものではないが、原料のアリー
ルジハライドのハロゲン原子1モルに対し、パラジウム
換算で通常0.00001〜20.0モル%の範囲であ
り、さらに高価なパラジウム化合物を使用することか
ら、より好ましくは原料のアリールジハライドのハロゲ
ン原子1モルに対し、パラジウム換算で0.001〜
5.0モル%の範囲である。
トリアルキルホスフィンとしては、特に限定するもので
はないが、例えば、トリエチルホスフィン、トリシクロ
ヘキシルホスフィン、トリイソプロピルホスフィン、ト
リ−n−ブチルホスフィン、トリイソブチルホスフィ
ン、トリ−sec−ブチルホスフィン、トリ−tert
−ブチルホスフィン等が挙げられる。これらのうちトリ
ターシャリーブチルホスフィンが触媒として特に高い反
応活性を有することから好ましい。
ホスフィンとしては、特に限定するものではないが、例
えば、トリフェニルホスフィン、トリ(o−トリル)ホ
スフィン、トリ(m−トリル)ホスフィン、トリ(p−
トリル)ホスフィン、BINAP、トリメシチルホスフ
ィン、ジフェニルホスフィノエタン、ジフェニルホスフ
ィノプロパン、ジフェニルホスフィノフェロセン等が挙
げられる。
フィン及び/又はアリールホスフィンの使用量は、特に
限定するものではなく、パラジウム化合物に対して通常
0.01〜10000倍モルの範囲で使用すればよい。
そして、高価なトリアルキルホスフィン及び/又はアリ
ールホスフィンを使用することから、パラジウム化合物
に対して0.1〜10倍モルの範囲であることが好まし
い。
ラジウム化合物とトリアルキルホスフィン及び/又はア
リールホスフィンからなる触媒が用いられる。その際、
これら触媒成分は、反応系にそれぞれ触媒成分として単
独に加えても良いし、予めこれら触媒成分よりなる錯体
の形に調製して添加してもよい。
特に限定するものではないが、例えば、ナトリウム,カ
リウムの炭酸塩、アルカリ金属アルコキシド等の無機塩
基又は3級アミン等の有機塩基が挙げられる。これらの
うち、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、
カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、リチウム−
tert−ブトキシド、ナトリウム−tert−ブトキ
シド、カリウム−tert−ブトキシド等のアルカリ金
属アルコキシドが好ましく、それらは反応系にそのまま
加えても、また、アルカリ金属、水素化アルカリ金属又
は水酸化アルカリ金属とアルコールとからその場で調製
して反応系に供してもよい。
に限定するものではないが、反応系に添加するアリール
ハライドのハロゲン原子に対して、0.5倍モル以上使
用することが好ましく、反応終了後の後処理操作が容易
となることから、1.0〜5倍モルの範囲であることが
特に好ましい。
施することが好ましい。そのような不活性溶媒として
は、本反応を著しく阻害しない溶媒であればよく、特に
限定するものではないが、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル溶
媒;アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルホスホトリアミド等が挙げ
られ、これらのうち、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素溶媒が特に好ましい。
ン等の不活性ガス雰囲気下で実施することが好ましい
が、たとえ加圧条件であっても実施することが可能であ
る。
ポリアリ−ルアミンを製造することが可能な条件であれ
ばよく特に限定するものではないが、例えば、反応温度
として20℃〜300℃、より好ましくは50℃〜20
0℃の範囲、反応時間として数分〜72時間の範囲で製
造することが可能である。
般式(1)に示される繰り返し単位からなり、アリール
残基及びアニリン誘導体の残基が交互に結合したもので
あり、高融点を有し、耐熱性に優れていることから耐熱
性構造材料として優れたものである。また、本発明のポ
リアリーレンアミンは、正孔輸送性の高いトリアリール
アミン構造を連続的に有するため、有機EL素子の正孔
輸送材料としても有用である。
も樹脂材料として使用できるが、ガラス繊維、炭素繊
維、タルク、炭酸カルリウム、マイカ等の充填剤;各種
顔料;酸化防止剤、光安定剤等の各種安定剤と混合して
使用することができる。また、ポリエチレン、ポリ塩化
ビニル、ポリスチレン等の汎用樹脂;ポリプロピレン、
変性ポリフェニレンエーテル等のエンジニアリングプラ
スチック;ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレン
スルフィドケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、
液晶ポリマー等のスーパーエンジニアリングプラスチッ
ク等とアロイブレンドして使用することもできる。
的に結合した構造を有する耐熱性、耐溶剤性等に優れる
構造材料として有用な新規なポリアリーレンアミン、及
びその効率的な製造方法を提供するものであり、工業的
にも非常に有意義である。
れら実施例に限定されるものではない。
に、室温下N,N’−ジフェニルフェニレンジアミン
2.6g(0.01mol)、p−ジブロモベンゼン
2.36g(0.01mol)、ナトリウムターシャリ
ーブトキシド2.88g(臭素原子に対して1.4当
量)及びo−キシレン60mlを仕込んだ。この混合液
に窒素雰囲気下で酢酸パラジウム11.2mg(0.5
mol%)及びトリターシャリーブチルホスフィン0.
2ml(パラジウム化合物に対して4当量)を添加し
た。その後窒素雰囲気下、温度を120℃まで昇温し、
120℃で3時間反応を行った。
後、固形分を濾別回収した。回収した固形分を再度20
mlの水で洗浄した後、減圧乾燥して、4.03gの黄
色粉体を得た(収率92.8%)。
測定したところ325.6℃に融点を示した。元素分析
を測定結果を表1、IRの測定結果を図1に示す。
融点を有するポリアリーレンアミンであることが確認さ
れた。
に、室温下3−トルイジン2.14g(0.02mo
l)、p−ジブロモベンゼン9.44g(0.04mo
l)、ナトリウムターシャリーブトキシド4.72g
(臭素原子に対して1.4当量)及びo−キシレン60
mlを仕込んだ。この混合液に窒素雰囲気下にトリス
(ジベンジリデンアセトン)二パラジウムクロロホルム
錯体(アルドリッチ製)51.8mg(0.25mol
%)及びトリターシャリーブチルホスフィン0.4ml
(パラジウム化合物に対して4当量)を添加した。その
後窒素雰囲気下に温度を120℃まで昇温し、120℃
で3時間反応を行った。
後、固形分を濾別回収した。回収した固形分を再度20
mlの水で洗浄した後、減圧乾燥して、3.75gの黄
色粉体を得た。(収率89.4%) 得られた粉体を融点をTG/DTAを用い測定したとこ
ろ327.6℃に融点を示した。元素分析を測定結果を
表2、IRの測定結果を図2に示す。
点を有するポリアリーレンアミンであることが確認され
た。
mol)から4.72g(0..02mol)とした以
外は実施例2と同様の条件で反応及び後処理を行った。
減圧乾燥後3.41gの黄白色粉体を得た(収率94.
2%)。
した結果、327.6℃に融点を示した。元素分析の結
果を表3、IRの結果を図3に示す。
に4−フルオロアニリン2.22g(0.02mol)
を用いた以外は実施例3と同様の条件で反応及び後処理
を行った。減圧乾燥後、3.60gの黄白色粉体を得た
(収率97.3%)。
した結果、331.3℃に融点を示した。元素分析の結
果を表4、IRの測定結果を図4に示す。
ジブロモビフェニル6.24gを用いた以外は実施例3
と同様の条件で反応及び後処理を行った。減圧乾燥後
5.10gの黄白色粉体を得た(収率99.0%)。
した結果、268.0℃に融点を示した。元素分析の結
果を表5、IRの結果を図5に示す。
を4.72g(0.02mol)用いた以外は実施例3
と同様の条件で反応及び後処理を行った。減圧乾燥後
3.35gの黄白色粉体を得た(収率92.5%)。
した結果、281.2℃に融点を示した。元素分析の結
果を表6、IRの結果を図6に示す。
l%(518mg)とし、ホスフィンをトリターシャリ
ーブチルホスフィンからトリオルトトリルホスフィンと
して触媒に対して4当量用いた以外は実施例3と同様の
条件で反応及び後処理を行った。減圧乾燥後2.72g
の黄白色粉体を得た(収率75.1%)。
l%(103.6mg)とし、ホスフィンをトリターシ
ャリーブチルホスフィンからトリシクロヘキシルホスフ
ィンとして触媒に対して4当量用いた以外は実施例3と
同様の条件で反応及び後処理を行った。減圧乾燥後2.
94gの黄白色粉体を得た(収率81.2%)。
Rチャートである。
Rチャートである。
Rチャートである。
Rチャートである。
Rチャートである。
Rチャートである。
Claims (5)
- 【請求項1】 下記一般式(1) 【化1】 (式中、Ar1、Ar2は、各々独立して炭素数6〜2
4の芳香族基を示す。)で表される構造単位を有するポ
リアリーレンアミン。 - 【請求項2】 一般式(1)において、Ar1、Ar2
が、各々独立して無置換若しくは置換基を有するフェニ
ル基、ビフェニル基、アントラセニル基、ナフチル基又
はフルオレニル基を示すことを特徴とする請求項1に記
載のポリアリーレンアミン。 - 【請求項3】 下記一般式(2) 【化2】 (式中、RはH又はCH3を示し、nは1〜5の整数を
示す。)で表される構造単位を有することを特徴とする
請求項1又は請求項2に記載のポリアリーレンアミン。 - 【請求項4】 下記一般式(3) 【化3】 (式中、Ar1は炭素数6〜24の芳香族基を示す。)
で示されるアリールアミン及び/又は下記一般式(4) 【化4】 (式中、Ar1、Ar2は、各々独立して炭素数6〜2
4の芳香族基を示す。)で示されるアリーレンジアミン
誘導体と下記一般式(5) 【化5】 (式中、Ar2は炭素数6〜24の芳香族基を示し、X
はCl、Br、F又はIを示す。)で示されるアリール
ジハライドとを、トリアルキルホスフィン及び/又はア
リールホスフィンとパラジウム化合物とからなる触媒を
用い、塩基の存在下でアミノ化反応させることを特徴と
する請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のポリアリ
ーレンアミンの製造方法。 - 【請求項5】 トリアルキルホスフィンが、トリターシ
ャリーブチルホスフィンであることを特徴とする請求項
4に記載のポリアリーレンアミンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12608898A JP4207243B2 (ja) | 1997-05-09 | 1998-05-08 | ポリアリーレンアミン及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11947897 | 1997-05-09 | ||
JP9-119478 | 1997-05-09 | ||
JP12608898A JP4207243B2 (ja) | 1997-05-09 | 1998-05-08 | ポリアリーレンアミン及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
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JP2007279245A Division JP5490988B2 (ja) | 1997-05-09 | 2007-10-26 | ポリアリーレンアミン及びその製造方法 |
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JP2004093799A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Canon Inc | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
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Cited By (22)
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---|---|---|---|---|
JP2002080595A (ja) * | 2000-09-08 | 2002-03-19 | Chemiprokasei Kaisha Ltd | 新規フルオレン含有アリールアミン共重合体、その製造方法およびそれを用いた有機el素子 |
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JP2003316044A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-06 | Canon Inc | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
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JP2004093810A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Canon Inc | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
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EP1405842A1 (en) * | 2002-10-03 | 2004-04-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing halogenated aromatic amine compound |
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JP2007126402A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Tosoh Corp | アリールアミン類の製造方法 |
JP2014065885A (ja) * | 2012-09-06 | 2014-04-17 | Tosoh Corp | アリールアミンポリマー、その製造方法及びその用途 |
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