JP4010027B2 - 新規ポリアリーレンアミン - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は新規ポリアリーレンアミンに関するものである。さらに詳しくは耐熱性、加工性、生産性に優れることから各種樹脂用途の材料として有用なポリアリーレンアミンに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、各種樹脂用途の原材料として、ポリエチレン，ポリ塩化ビニル，ポリスチレン等の汎用樹脂、エポキシ樹脂，フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂、ポリプロピレン，ポリアミド，変性ポリフェニレンエーテル等のエンジニアリングプラスチック等が用いられてきた。
【０００３】
また、近年、優れた耐熱性を有する樹脂としてポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンスルフィドケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、液晶ポリマー等のスーパーエンジニアリングプラスチックが注目されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記した汎用樹脂やエンジニアリングプラスチックは、取り扱いは比較的容易ではあるが耐熱性が低く、電気・電子分野、自動車分野等の耐熱性を要求される用途には適さないものとなってきた。
【０００５】
このため、熱硬化性樹脂やスーパーエンジニアリングプラスチック等の耐熱性に優れる樹脂がこれら用途に使用されている。
【０００６】
しかしながら、熱硬化性樹脂は、耐熱性は優れたものではあるが製品の加工成形に時間がかかり、製品加工性に劣る上にいったん製品化すると再度成形加工を行うことが困難であるという問題を有していた。
【０００７】
そこで、熱可塑性であっても優れた耐熱性を有するスーパーエンジニアリングプラスチックが注目を集めるようになったが、これらスーパーエンジニアリングプラスチックは、共通してその製造時に極めて特殊な反応溶媒を必要としたり、高温の反応温度を必要とするために樹脂自体の生産性が極めて低いという問題があった。
【０００８】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、耐熱性、生産性に優れることから樹脂材料として有用な新規ポリアリーレンアミンを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題に関し鋭意検討した結果、特定のポリアリーレンアミンが耐熱性、生産性に優れることを見い出し、本発明と完成させるに至った。
【００１０】
即ち、本発明は、下記一般式（１）
【００１１】
【化３】
【００１２】
（式中、Ｒ１〜Ｒ５は、各々独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基，炭素数１〜２０のチオアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、フッ素、カルボキシル基、スルホキシル基、ニトロ基又はシアノ基を表す。）で示される繰り返し単位からなるポリアリーレンアミンである。
【００１３】
本発明のポリアリーレンアミンは、上記一般式（１）で示される繰り返し単位からなり、ジフェニルスルフィド残基及びアニリン誘導体の残基が交互に結合したものである。アニリン誘導体の残基としては、例えば、３−トルイジン、アニリン、３−フルオロアニリン、４−フルオロアニリン、２−トルイジン、４−トルイジン、２−アニシジン、３−アニシジン、４−アニシジン、３−エチルアニリン、４−エチルアニリン、２，４−ジメトキシアニリン、２，５−ジメトキシアニリン、２，３−ジメチルアニリン、２，４−ジメチルアニリン、２，４，６−トリメチルアニリン、４−シアノアニリン、４−アミノメチルベンゾエート、４−ニトロアニリン、３，４−ジフルオロアニリン、３，４，５−トリフルオロアニリン、２，３，４，５−テトラフルオロアニリン、２，３，４，５，６−ペンタフルオロアニリン等がが挙げられる。これらのうち、特に耐熱性に優れるポリアリーレンアミンとなることから３−トルイジン残基が好ましい。
【００１４】
本発明のポリアリーレンアミンは高融点を有するが、その中でも特に２７５℃以上の融点を有するものが、各種耐熱性材料として有用である。
【００１５】
また、本発明のポリアリーレンアミンの重量平均分子量は、ポリマーと称される範囲のものであれば特に限定するものではないが、機械特性等にも優れたものとなることからポリスチレン換算値で１，０００〜１，０００，０００であることが好ましく、さらに加工特性にも優れたもとなることから５，０００〜５０，０００であることが特に好ましい。
【００１６】
本発明のポリアリーレンアミンは、いかなる方法により製造されても良く、特に限定するものではないが、例えば、以下に示すような方法により容易に製造することができる。
【００１７】
すなわち、４，４’−ジハロゲノジフェニルスルフィド及びアニリン類をパラジウム化合物及びホスフィンからなる触媒と塩基の存在下反応させることにより、容易に本発明のポリアリーレンアミンを製造することができる。
【００１８】
上記製造方法において用いられるアニリン類としては、例えば、３−トルイジン、アニリン、３−フルオロアニリン、４−フルオロアニリン、２−トルイジン、４−トルイジン、２−アニシジン、３−アニシジン、４−アニシジン、３−エチルアニリン、４−エチルアニリン、２，４−ジメトキシアニリン、２，５−ジメトキシアニリン、２，３−ジメチルアニリン、２，４−ジメチルアニリン、２，４，６−トリメチルアニリン、４−シアノアニリン、４−アミノメチルベンゾエート、４−ニトロアニリン、３，４−ジフルオロアニリン、３，４，５−トリフルオロアニリン、２，３，４，５−テトラフルオロアニリン、２，３，４，５，６−ペンタフルオロアニリン等が挙げられる。
【００１９】
上記製造方法において用いられる４，４’−ジハロゲノジフェニルスルフィドとしては、例えば、４，４’−ジクロロジフェニルスルフィド、４，４’−ジブロモジフェニルスルフィド、４，４’−ジヨードジフェニルスルフィド、４−クロロ−４’−ブロモジフェニルスルフィド、４−クロロ−４’−ヨードジフェニルスルフィド、４−ブロモ−４’−ヨードジフェニルスルフィド等が挙げられる。
【００２０】
上記製造方法においてアニリン類及び４，４’−ジハロゲノジフェニルスルフィドの使用量は、アニリン類／４，４’−ジハロゲノジフェニルスルフィド（モル割合）＝０．５〜１．５の範囲であり、高分子量のポリアリーレンアミンが得られることから０．９〜１．１の範囲が特に好ましい。
【００２１】
上記製造方法において触媒成分として使用されるパラジウム化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、ヘキサクロロパラジウム（ＩＶ）酸ナトリウム四水和物、ヘキサクロロパラジウム（ＩＶ）酸カリウム等の４価のパラジウム化合物；塩化パラジウム（ＩＩ）、臭化パラジウム（ＩＩ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、パラジウムアセチルアセトナート（ＩＩ）、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウム（ＩＩ）、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム（ＩＩ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）、ジクロロテトラアンミンパラジウム（ＩＩ）、ジクロロ（シクロオクタ−１，５−ジエン）パラジウム（ＩＩ）、パラジウムトリフルオロアセテート（ＩＩ）等の２価パラジウム化合物；トリス（ジベンジリデンアセトン）二パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）二パラジウムクロロホルム錯体（０）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）等の０価パラジウム化合物を挙げることができる。
【００２２】
上記製造方法においてパラジウム化合物の使用量は、特に限定するものではないが、原料の４，４’−ジハロゲノジフェニルスルフィドのハロゲン原子１モル当たり、パラジウム換算で０．００００１〜２０．０モル％の範囲である。パラジウムの使用量が上記範囲内であれば反応は進行するが、高価なパラジウム化合物を使用することから、より好ましくは、原料の４，４’−ジハロゲノジフェニルスルフィドのハロゲン原子１モルあたり、パラジウム換算で０．００１〜５．０モル％の範囲である。
【００２３】
上記製造方法において触媒成分として使用されるホスフィンとしては、特に限定するものではないが、例えば、トリエチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリイソプロピルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリイソブチルホスフィン、トリ−ｓｅｃ−ブチルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン等のトリアルキルホスフィン類；トリフェニルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン、トリ（ｍ−トリル）ホスフィン、トリ（ｐ−トリル）ホスフィン、ＢＩＮＡＰ、トリメシチルホスフィン、ジフェニルホスフィノエタン、ジフェニルホスフィノプロパン、ジフェニルホスフィノフェロセン等のアリールホスフィン類を挙げることができ、これらのうち、特に高い反応活性を有することからトリターシャリーブチルホスフィンが好ましい。
【００２４】
上記製造方法においてホスフィンの使用量は、パラジウム化合物に対して０．０１〜１００００倍モルの範囲で使用すればよく、高価なホスフィンを使用することから、より好ましくはパラジウム化合物に対して０．１〜１０倍モルの範囲である。
【００２５】
上記製造方法においては、触媒成分として、パラジウム化合物とホスフィンが必須であり、両者を組み合わせ触媒として反応系に加える。その添加方法は、反応系にそれぞれ単独に加えても、予め錯体の形に調製して添加してもよい。
【００２６】
上記製造方法において反応で使用される塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩、アルカリ金属アルコキシド等の無機塩基又は３級アミン等の有機塩基から選択すればよく、特に限定するものではないが、より好ましくは、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、リチウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシドであって、これらは反応場にそのまま加えてもよいし、またアルカリ金属、水素化アルカリ金属又は水酸化アルカリ金属とアルコールとからその場で調製して反応場に供してもよい。
【００２７】
上記製造方法において塩基の使用量は、特にする限定するものではないが、反応原料である原料の４，４’−ジハロゲノジフェニルスルフィドのハロゲン原子１モルあたり、０．５倍モル以上使用することが好ましい。塩基の量は大過剰に加えても収率に変化はないが、反応終了後の後処理操作が煩雑になることから、より好ましくは、１．０〜５倍モル以下である。
【００２８】
上記製造方法において反応は、不活性溶媒下に実施することが好ましい。このような不活性溶媒としては、本反応を著しく阻害しない溶媒であれば特に限定するものではないが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル溶媒；アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホトリアミド等が挙げられ、これらのうち、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒が特に好ましい。
【００２９】
上記製造方法は、常圧下、窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で実施することが好ましいが、たとえ加圧条件であっても実施することができる。
【００３０】
上記製造方法における反応条件としては、反応温度２０℃〜２５０℃の範囲、より好ましくは５０℃〜１５０℃の範囲から選択すればよく、反応時間は数分〜２０時間の範囲から選択すればよい。
【００３１】
本発明のポリアリーレンアミンは、単独でも樹脂材料として使用することが可能であるが、ガラス繊維、炭素繊維、タルク、炭酸カルシウム、マイカ等の充填剤；各種顔料；酸化防止剤、光安定剤等の各種安定剤と混合して用いることもできる
また、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等の汎用樹脂；ポリプロピレン、変性ポリフェニレンエーテル等のエンジニアリングプラスチック；ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンスルフィドケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、液晶ポリマー等のスーパーエンジニアリングプラスチック等とアロイ・ブレンドして使用することもできる。
【００３２】
【発明の効果】
本発明のポリアリーレンアミンは、耐熱性、生産性に優れることから樹脂材料として非常に有用である。
【００３３】
【実施例】
以下に、本発明の実施例を示すが本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００３４】
実施例１
冷却管、温度計を装着した２００ｍｌ四つ口フラスコに室温下、３−トルイジン２．１４ｇ（０．０２ｍｏｌ）、４，４’−ジブロモジフェニルスルフィド６．８８ｇ（０．０２ｍｏｌ）、ナトリウムターシャリーブトキシド４．６１ｇ（臭素原子に対して１．２当量）及びｏ−キシレン８０ｍｌを仕込んだ。この混合液に窒素雰囲気下にトリス（ジベンジリデンアセトン）二パラジウム１０３．５ｍｇ（０．５ｍｏｌ％）及びトリターシャリーブチルホスフィン０．２ｍｌ（パラジウム化合物に対して４当量）から事前に錯体形成した触媒のｏ−キシレン溶液をシリンジにより添加した。その後窒素雰囲気下に温度を１２０℃まで昇温し、１２０℃で加熱撹拌しながら３時間反応を行った。反応終了後、水６０ｍｌを添加し水洗した後、固形分を濾別回収した。この固形分を水、ＴＨＦ及びメタノール各々３０ｍｌを用いて洗浄した。洗浄後、この固形分を減圧乾燥して５．２２ｇの白色粉体を得た。このポリマーの融点は２７５．５℃であった（セイコー電子製、ＴＧ／ＤＴＡ２２０にて測定）。
【００３５】
生成したポリアリーレンアミンの元素分析（ｙａｎａｃｏ製、ＣＨＮ ＣＯＲＤＥＲ ＭＴ−５にて測定）の結果を表１、ＩＲ（島津製作所製、ＤＲ−８０００）にて分析した結果を図１にそれぞれ示す。
【００３６】
【表１】
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で得られたポリアリーレンアミンのＩＲチャートである。
【発明の属する技術分野】
本発明は新規ポリアリーレンアミンに関するものである。さらに詳しくは耐熱性、加工性、生産性に優れることから各種樹脂用途の材料として有用なポリアリーレンアミンに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、各種樹脂用途の原材料として、ポリエチレン，ポリ塩化ビニル，ポリスチレン等の汎用樹脂、エポキシ樹脂，フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂、ポリプロピレン，ポリアミド，変性ポリフェニレンエーテル等のエンジニアリングプラスチック等が用いられてきた。
【０００３】
また、近年、優れた耐熱性を有する樹脂としてポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンスルフィドケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、液晶ポリマー等のスーパーエンジニアリングプラスチックが注目されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記した汎用樹脂やエンジニアリングプラスチックは、取り扱いは比較的容易ではあるが耐熱性が低く、電気・電子分野、自動車分野等の耐熱性を要求される用途には適さないものとなってきた。
【０００５】
このため、熱硬化性樹脂やスーパーエンジニアリングプラスチック等の耐熱性に優れる樹脂がこれら用途に使用されている。
【０００６】
しかしながら、熱硬化性樹脂は、耐熱性は優れたものではあるが製品の加工成形に時間がかかり、製品加工性に劣る上にいったん製品化すると再度成形加工を行うことが困難であるという問題を有していた。
【０００７】
そこで、熱可塑性であっても優れた耐熱性を有するスーパーエンジニアリングプラスチックが注目を集めるようになったが、これらスーパーエンジニアリングプラスチックは、共通してその製造時に極めて特殊な反応溶媒を必要としたり、高温の反応温度を必要とするために樹脂自体の生産性が極めて低いという問題があった。
【０００８】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、耐熱性、生産性に優れることから樹脂材料として有用な新規ポリアリーレンアミンを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題に関し鋭意検討した結果、特定のポリアリーレンアミンが耐熱性、生産性に優れることを見い出し、本発明と完成させるに至った。
【００１０】
即ち、本発明は、下記一般式（１）
【００１１】
【化３】
（式中、Ｒ１〜Ｒ５は、各々独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基，炭素数１〜２０のチオアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、フッ素、カルボキシル基、スルホキシル基、ニトロ基又はシアノ基を表す。）で示される繰り返し単位からなるポリアリーレンアミンである。
【００１３】
本発明のポリアリーレンアミンは、上記一般式（１）で示される繰り返し単位からなり、ジフェニルスルフィド残基及びアニリン誘導体の残基が交互に結合したものである。アニリン誘導体の残基としては、例えば、３−トルイジン、アニリン、３−フルオロアニリン、４−フルオロアニリン、２−トルイジン、４−トルイジン、２−アニシジン、３−アニシジン、４−アニシジン、３−エチルアニリン、４−エチルアニリン、２，４−ジメトキシアニリン、２，５−ジメトキシアニリン、２，３−ジメチルアニリン、２，４−ジメチルアニリン、２，４，６−トリメチルアニリン、４−シアノアニリン、４−アミノメチルベンゾエート、４−ニトロアニリン、３，４−ジフルオロアニリン、３，４，５−トリフルオロアニリン、２，３，４，５−テトラフルオロアニリン、２，３，４，５，６−ペンタフルオロアニリン等がが挙げられる。これらのうち、特に耐熱性に優れるポリアリーレンアミンとなることから３−トルイジン残基が好ましい。
【００１４】
本発明のポリアリーレンアミンは高融点を有するが、その中でも特に２７５℃以上の融点を有するものが、各種耐熱性材料として有用である。
【００１５】
また、本発明のポリアリーレンアミンの重量平均分子量は、ポリマーと称される範囲のものであれば特に限定するものではないが、機械特性等にも優れたものとなることからポリスチレン換算値で１，０００〜１，０００，０００であることが好ましく、さらに加工特性にも優れたもとなることから５，０００〜５０，０００であることが特に好ましい。
【００１６】
本発明のポリアリーレンアミンは、いかなる方法により製造されても良く、特に限定するものではないが、例えば、以下に示すような方法により容易に製造することができる。
【００１７】
すなわち、４，４’−ジハロゲノジフェニルスルフィド及びアニリン類をパラジウム化合物及びホスフィンからなる触媒と塩基の存在下反応させることにより、容易に本発明のポリアリーレンアミンを製造することができる。
【００１８】
上記製造方法において用いられるアニリン類としては、例えば、３−トルイジン、アニリン、３−フルオロアニリン、４−フルオロアニリン、２−トルイジン、４−トルイジン、２−アニシジン、３−アニシジン、４−アニシジン、３−エチルアニリン、４−エチルアニリン、２，４−ジメトキシアニリン、２，５−ジメトキシアニリン、２，３−ジメチルアニリン、２，４−ジメチルアニリン、２，４，６−トリメチルアニリン、４−シアノアニリン、４−アミノメチルベンゾエート、４−ニトロアニリン、３，４−ジフルオロアニリン、３，４，５−トリフルオロアニリン、２，３，４，５−テトラフルオロアニリン、２，３，４，５，６−ペンタフルオロアニリン等が挙げられる。
【００１９】
上記製造方法において用いられる４，４’−ジハロゲノジフェニルスルフィドとしては、例えば、４，４’−ジクロロジフェニルスルフィド、４，４’−ジブロモジフェニルスルフィド、４，４’−ジヨードジフェニルスルフィド、４−クロロ−４’−ブロモジフェニルスルフィド、４−クロロ−４’−ヨードジフェニルスルフィド、４−ブロモ−４’−ヨードジフェニルスルフィド等が挙げられる。
【００２０】
上記製造方法においてアニリン類及び４，４’−ジハロゲノジフェニルスルフィドの使用量は、アニリン類／４，４’−ジハロゲノジフェニルスルフィド（モル割合）＝０．５〜１．５の範囲であり、高分子量のポリアリーレンアミンが得られることから０．９〜１．１の範囲が特に好ましい。
【００２１】
上記製造方法において触媒成分として使用されるパラジウム化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、ヘキサクロロパラジウム（ＩＶ）酸ナトリウム四水和物、ヘキサクロロパラジウム（ＩＶ）酸カリウム等の４価のパラジウム化合物；塩化パラジウム（ＩＩ）、臭化パラジウム（ＩＩ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、パラジウムアセチルアセトナート（ＩＩ）、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウム（ＩＩ）、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム（ＩＩ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）、ジクロロテトラアンミンパラジウム（ＩＩ）、ジクロロ（シクロオクタ−１，５−ジエン）パラジウム（ＩＩ）、パラジウムトリフルオロアセテート（ＩＩ）等の２価パラジウム化合物；トリス（ジベンジリデンアセトン）二パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）二パラジウムクロロホルム錯体（０）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）等の０価パラジウム化合物を挙げることができる。
【００２２】
上記製造方法においてパラジウム化合物の使用量は、特に限定するものではないが、原料の４，４’−ジハロゲノジフェニルスルフィドのハロゲン原子１モル当たり、パラジウム換算で０．００００１〜２０．０モル％の範囲である。パラジウムの使用量が上記範囲内であれば反応は進行するが、高価なパラジウム化合物を使用することから、より好ましくは、原料の４，４’−ジハロゲノジフェニルスルフィドのハロゲン原子１モルあたり、パラジウム換算で０．００１〜５．０モル％の範囲である。
【００２３】
上記製造方法において触媒成分として使用されるホスフィンとしては、特に限定するものではないが、例えば、トリエチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリイソプロピルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリイソブチルホスフィン、トリ−ｓｅｃ−ブチルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン等のトリアルキルホスフィン類；トリフェニルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン、トリ（ｍ−トリル）ホスフィン、トリ（ｐ−トリル）ホスフィン、ＢＩＮＡＰ、トリメシチルホスフィン、ジフェニルホスフィノエタン、ジフェニルホスフィノプロパン、ジフェニルホスフィノフェロセン等のアリールホスフィン類を挙げることができ、これらのうち、特に高い反応活性を有することからトリターシャリーブチルホスフィンが好ましい。
【００２４】
上記製造方法においてホスフィンの使用量は、パラジウム化合物に対して０．０１〜１００００倍モルの範囲で使用すればよく、高価なホスフィンを使用することから、より好ましくはパラジウム化合物に対して０．１〜１０倍モルの範囲である。
【００２５】
上記製造方法においては、触媒成分として、パラジウム化合物とホスフィンが必須であり、両者を組み合わせ触媒として反応系に加える。その添加方法は、反応系にそれぞれ単独に加えても、予め錯体の形に調製して添加してもよい。
【００２６】
上記製造方法において反応で使用される塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩、アルカリ金属アルコキシド等の無機塩基又は３級アミン等の有機塩基から選択すればよく、特に限定するものではないが、より好ましくは、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、リチウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシドであって、これらは反応場にそのまま加えてもよいし、またアルカリ金属、水素化アルカリ金属又は水酸化アルカリ金属とアルコールとからその場で調製して反応場に供してもよい。
【００２７】
上記製造方法において塩基の使用量は、特にする限定するものではないが、反応原料である原料の４，４’−ジハロゲノジフェニルスルフィドのハロゲン原子１モルあたり、０．５倍モル以上使用することが好ましい。塩基の量は大過剰に加えても収率に変化はないが、反応終了後の後処理操作が煩雑になることから、より好ましくは、１．０〜５倍モル以下である。
【００２８】
上記製造方法において反応は、不活性溶媒下に実施することが好ましい。このような不活性溶媒としては、本反応を著しく阻害しない溶媒であれば特に限定するものではないが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル溶媒；アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホトリアミド等が挙げられ、これらのうち、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒が特に好ましい。
【００２９】
上記製造方法は、常圧下、窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で実施することが好ましいが、たとえ加圧条件であっても実施することができる。
【００３０】
上記製造方法における反応条件としては、反応温度２０℃〜２５０℃の範囲、より好ましくは５０℃〜１５０℃の範囲から選択すればよく、反応時間は数分〜２０時間の範囲から選択すればよい。
【００３１】
本発明のポリアリーレンアミンは、単独でも樹脂材料として使用することが可能であるが、ガラス繊維、炭素繊維、タルク、炭酸カルシウム、マイカ等の充填剤；各種顔料；酸化防止剤、光安定剤等の各種安定剤と混合して用いることもできる
また、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等の汎用樹脂；ポリプロピレン、変性ポリフェニレンエーテル等のエンジニアリングプラスチック；ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンスルフィドケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、液晶ポリマー等のスーパーエンジニアリングプラスチック等とアロイ・ブレンドして使用することもできる。
【００３２】
【発明の効果】
本発明のポリアリーレンアミンは、耐熱性、生産性に優れることから樹脂材料として非常に有用である。
【００３３】
【実施例】
以下に、本発明の実施例を示すが本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００３４】
実施例１
冷却管、温度計を装着した２００ｍｌ四つ口フラスコに室温下、３−トルイジン２．１４ｇ（０．０２ｍｏｌ）、４，４’−ジブロモジフェニルスルフィド６．８８ｇ（０．０２ｍｏｌ）、ナトリウムターシャリーブトキシド４．６１ｇ（臭素原子に対して１．２当量）及びｏ−キシレン８０ｍｌを仕込んだ。この混合液に窒素雰囲気下にトリス（ジベンジリデンアセトン）二パラジウム１０３．５ｍｇ（０．５ｍｏｌ％）及びトリターシャリーブチルホスフィン０．２ｍｌ（パラジウム化合物に対して４当量）から事前に錯体形成した触媒のｏ−キシレン溶液をシリンジにより添加した。その後窒素雰囲気下に温度を１２０℃まで昇温し、１２０℃で加熱撹拌しながら３時間反応を行った。反応終了後、水６０ｍｌを添加し水洗した後、固形分を濾別回収した。この固形分を水、ＴＨＦ及びメタノール各々３０ｍｌを用いて洗浄した。洗浄後、この固形分を減圧乾燥して５．２２ｇの白色粉体を得た。このポリマーの融点は２７５．５℃であった（セイコー電子製、ＴＧ／ＤＴＡ２２０にて測定）。
【００３５】
生成したポリアリーレンアミンの元素分析（ｙａｎａｃｏ製、ＣＨＮ ＣＯＲＤＥＲ ＭＴ−５にて測定）の結果を表１、ＩＲ（島津製作所製、ＤＲ−８０００）にて分析した結果を図１にそれぞれ示す。
【００３６】
【表１】
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で得られたポリアリーレンアミンのＩＲチャートである。
Claims (4)
- 下記一般式（１）で示される繰り返し単位からなるポリアリーレンアミン。
- 下記一般式（２）で示される繰り返し単位からなることを特徴とする請求項１に記載のポリアリーレンアミン。
- 重量平均分子量が、ポリスチレン換算値で１，０００〜１，０００，０００の範囲にあることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のポリアリーレンアミン。
- 重量平均分子量が、ポリスチレン換算値で５，０００〜５０，０００の範囲にあることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のポリアリーレンアミン。
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