JPH10338880A - 液晶配向剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶表示素子において電圧保持率が高く、印
加電圧を解除した後に残留する直流電圧が低い液晶配向
膜を形成し得る液晶配向剤を提供すること。 【解決手段】 （Ａ）（ａ）ポリアミック酸および
（ｂ）当該ポリアミック酸を脱水閉環して得られるイミ
ド構造を有する重合体よりなる群から選ばれる少なくと
も１種の重合体、（Ｂ）エポキシ基含有化合物ならびに
（Ｃ）当該エポキシ基含有化合物の硬化剤とを含有する
ことを特徴とする液晶配向剤を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶配向剤に関す
る。さらに詳しくは、液晶表示素子において電圧保持率
が高く、残留ＤＣ電圧が低い液晶配向膜を形成し得る液
晶配向剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、液晶表示素子としては、透明導電
膜が設けられている基板の当該表面にポリアミック酸、
ポリイミドなどからなる液晶配向膜を形成して液晶表示
素子用基板とし、その２枚を対向配置してその間隙内に
正の誘電異方性を有するネマチック型液晶の層を形成し
てサンドイッチ構造のセルとし、当該液晶分子の長軸が
一方の基板から他方の基板に向かって連続的に９０度捻
れるようにした、いわゆるＴＮ型（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎ
ｅｍａｔｉｃ）液晶セルを有するＴＮ型液晶表示素子が
知られている。また、最近においては、ＴＮ型液晶表示
素子に比してコントラストが高くて、その視角依存性の
少ないＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａ
ｔｉｃ）型液晶表示素子が開発されている。このＳＴＮ
型液晶表示素子は、ネマチック型液晶に光学活性物質で
あるカイラル剤をブレンドしたものを液晶として用い、
当該液晶分子の長軸が基板間で１８０度以上にわたって
連続的に捻れる状態となることにより生じる複屈折効果
を利用するものである。これらＴＮ型液晶表示素子およ
びＳＴＮ型液晶表示素子における液晶の配向は、通常、
ラビング処理が施された液晶配向膜により発現されるも
のである。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】このような液晶表示素
子を一定のフレーム周期で駆動させる場合において、コ
ントラストの良好な表示を得るには、当該液晶表示素子
における電圧保持率（フレーム周期間での電圧保持率）
が高いことが望ましい。また、残像に起因するコントラ
ストの低下および画像の焼き付き現象を防止する観点か
らは、印加電圧を解除した後に残留する直流電圧（以
下、「残留ＤＣ電圧」という）が可及的に低いことが望
ましい。しかしながら、従来の液晶配向膜はその液晶表
示素子においては、高い電圧保持率と、低い残留ＤＣ電
圧とを十分に満足する液晶表示素子は提供されていない
のが現状である。本発明は、上記のような事情に基づい
てなされたものであって、本発明の目的は、電圧保持率
が高く、しかも、残留ＤＣ電圧が低い液晶表示素子を作
製することができる液晶配向剤を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記課題は、（Ａ）
（ａ）ポリアミック酸および（ｂ）当該ポリアミック酸
を脱水閉環して得られるイミド構造を有する重合体（以
下、「イミド化重合体」ともいう）よりなる群から選ば
れる少なくとも１種の重合体、（Ｂ）エポキシ基含有化
合物（以下、「エポキシ化合物」ともいう）ならびに
（Ｃ）当該エポキシ基含有化合物の硬化剤（以下、「エ
ポキシ硬化剤」ともいう）とを含有することを特徴とす
る液晶配向剤によって解決される。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。 ［重合体（Ａ）］本発明で使用するポリアミック酸
（ａ）は、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物
とを、開環重付加させて得られる。また、本発明で使用
するイミド化重合体（ｂ）は、上記ポリアミック酸
（ａ）を脱水閉環することにより得られる。

【０００６】＜テトラカルボン酸二無水物＞上記ポリア
ミック酸（ａ）の合成に用いられるテトラカルボン酸二
無水物としては、例えば、ブタンテトラカルボン酸二無
水物、１,２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸二
無水物、１,２−ジメチル−１,２,３,４−シクロブタン
テトラカルボン酸二無水物、１,３−ジメチル−１,２,
３,４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１,３
−ジクロロ−１,２,３,４−シクロブタンテトラカルボ
ン酸二無水物、１,２,３,４−テトラメチル−１,２,３,
４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１,２,
３,４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１,
２,４,５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、
３,３’,４,４’−ジシクロヘキシルテトラカルボン酸
二無水物、２,３,５−トリカルボキシシクロペンチル酢
酸二無水物、３,５,６−トリカルボキシノルボルナン−
２−酢酸二無水物、２,３,４,５−テトラヒドロフラン
テトラカルボン酸二無水物、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−
ヘキサヒドロ−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−
３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３
−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５
−メチル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−
フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジ
オン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５−エ
チル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラ
ニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオ
ン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−７−メチ
ル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニ
ル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、
１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−７−エチル−
５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）
−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、１,
３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５
（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）−
ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、１,３,
３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−８−エチル−５（テ
トラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフ
ト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、１,３,３
ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５,８−ジメチル−５
（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）−
ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、５−
（２,５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル
−３−シクロヘキセン−１,２−ジカルボン酸二無水
物、ビシクロ［２,２,２］−オクト−７−エン−２,３,
５,６−テトラカルボン酸二無水物、下記式（Ｉ）およ
び（II）で表される化合物などの脂肪族および脂環式テ
トラカルボン酸二無水物；

【０００７】

【化１】

【０００８】（式中、Ｒ¹ およびＲ³ は、芳香環を有す
る２価の有機基を示し、Ｒ² およびＲ⁴ は、水素原子ま
たはアルキル基を示し、複数存在するＲ² およびＲ
⁴ は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。）

【０００９】ピロメリット酸二無水物、３,３’,４,
４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３,
３’,４,４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二
無水物、１,４,５,８−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、２,３,６,７−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、３,３’,４,４’−ビフェニルエーテルテトラ
カルボン酸二無水物、３,３’,４,４’−ジメチルジフ
ェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,
４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水
物、１,２,３,４−フランテトラカルボン酸二無水物、
４,４’−ビス（３,４−ジカルボキシフェノキシ）ジフ
ェニルスルフィド二無水物、４,４’−ビス（３,４−ジ
カルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、
４,４’−ビス（３,４−ジカルボキシフェノキシ）ジフ
ェニルプロパン二無水物、３,３’,４,４’−パーフル
オロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、３,３’,
４,４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス
（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、
ｐ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水
物、ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二
無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４,４’−ジ
フェニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル
酸）−４,４’−ジフェニルメタン二無水物、エチレン
グリコール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、プロ
ピレングリコール−ビス（アンヒドロトリメリテー
ト）、１,４−ブタンジオール−ビス（アンヒドロトリ
メリテート）、１,６−ヘキサンジオール−ビス（アン
ヒドロトリメリテート）、１,８−オクタンジオール−
ビス（アンヒドロトリメリテート）、２,２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン−ビス（アンヒドロト
リメリテート）、下記式（１）〜（４）で表される化合
物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙げること
ができる。これらは１種単独でまたは２種以上組み合わ
せて用いられる。

【００１０】

【化２】

【００１１】これらのうち、ブタンテトラカルボン酸二
無水物、１,２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸
二無水物、１,３−ジメチル−１,２,３,４−シクロブタ
ンテトラカルボン酸二無水物、１,２,３,４−シクロペ
ンタンテトラカルボン酸二無水物、２,３,５−トリカル
ボキシシクロペンチル酢酸二無水物、５−（２,５−ジ
オキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−シクロ
ヘキセン−１,２−ジカルボン酸二無水物、１,３,３ａ,
４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２,
５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］
フラン−１,３−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキ
サヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２,５−
ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］フラ
ン−１,３−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒ
ドロ−５,８−ジメチル−５−（テトラヒドロ−２,５−
ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］フラ
ン−１,３−ジオン、ビシクロ［２,２,２］−オクト−
７−エン−２,３,５,６−テトラカルボン酸二無水物、
ピロメリット酸二無水物、３,３’,４,４’−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,４’−
ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１,４,
５,８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、上記式
（Ｉ）で表される化合物のうち下記式（５）〜（７）で
表される化合物および上記式（II）で表される化合物の
うち下記式（８）で表される化合物が、良好な液晶配向
性を発現させることができる観点から好ましく、特に好
ましいものとして、１,２,３,４−シクロブタンテトラ
カルボン酸二無水物、１,３−ジメチル−１,２,３,４−
シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、２,３,５−ト
リカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１,３,３
ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−
２,５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−
ｃ］フラン−１,３−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−
ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２,
５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］
フラン−１,３−ジオン、ピロメリット酸二無水物およ
び下記式（５）で表される化合物を挙げることができ
る。

【００１２】

【化３】

【００１３】＜ジアミン化合物＞上記ポリアミック酸
（ａ）の合成に用いられるジアミン化合物としては、例
えばｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミ
ン、４,４’−ジアミノジフェニルメタン、４,４’−ジ
アミノジフェニルエタン、４,４’−ジアミノジフェニ
ルスルフィド、４,４’−ジアミノジフェニルスルホ
ン、３,３’−ジメチル−４,４’−ジアミノビフェニ
ル、４,４’−ジアミノベンズアニリド、４,４’−ジア
ミノジフェニルエーテル、１,５−ジアミノナフタレ
ン、３,３−ジメチル−４,４’−ジアミノビフェニル、
５−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１,３,３
−トリメチルインダン、６−アミノ−１−（４’−アミ
ノフェニル）−１,３,３−トリメチルインダン、３,
４’−ジアミノジフェニルエーテル、３,３’−ジアミ
ノベンゾフェノン、３,４’−ジアミノベンゾフェノ
ン、４,４’−ジアミノベンゾフェノン、２,２−ビス
［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、
２,２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニ
ル］ヘキサフルオロプロパン、２,２−ビス（４−アミ
ノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２,２−ビス
［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、
１,４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１,３
−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１,３−ビ
ス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、９,９−ビス
（４−アミノフェニル）−１０−ヒドロアントラセン、
２,７−ジアミノフルオレン、９,９−ビス（４−アミノ
フェニル）フルオレン、４,４’−メチレン−ビス（２
−クロロアニリン）、２,２’,５,５’−テトラクロロ
−４,４’−ジアミノビフェニル、２,２’−ジクロロ−
４,４’−ジアミノ−５,５’−ジメトキシビフェニル、
３,３’−ジメトキシ−４,４’−ジアミノビフェニル、
４,４’−（ｐ−フェニレンイソプロピリデン）ビスア
ニリン、４,４’−（ｍ−フェニレンイソプロピリデ
ン）ビスアニリン、２,２’−ビス［４−（４−アミノ
−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキ
サフルオロプロパン、４,４’−ジアミノ−２,２’−ビ
ス（トリフルオロメチル）ビフェニル、４,４’−ビス
［（４−アミノ−２−トリフルオロメチル）フェノキ
シ］−オクタフルオロビフェニルなどの芳香族ジアミ
ン；

【００１４】１,１−メタキシリレンジアミン、１,３−
プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメ
チレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチ
レンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレン
ジアミン、４,４−ジアミノヘプタメチレンジアミン、
１,４−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミ
ン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、
ヘキサヒドロ−４,７−メタノインダニレンジメチレン
ジアミン、トリシクロ［６.２.１.０2,7］−ウンデシレ
ンジメチルジアミン、４,４’−メチレンビス（シクロ
ヘキシルアミン）などの脂肪族および脂環式ジアミン；

【００１５】２,３−ジアミノピリジン、２,６−ジアミ
ノピリジン、３,４−ジアミノピリジン、２,４−ジアミ
ノピリミジン、５,６−ジアミノ−２,３−ジシアノピラ
ジン、５,６−ジアミノ−２,４−ジヒドロキシピリミジ
ン、２,４−ジアミノ−６−ジメチルアミノ−１,３,５
−トリアジン、１,４−ビス（３−アミノプロピル）ピ
ペラジン、２,４−ジアミノ−６−イソプロポキシ−１,
３,５−トリアジン、２,４−ジアミノ−６−メトキシ−
１,３,５−トリアジン、２,４−ジアミノ−６−フェニ
ル−１,３,５−トリアジン、２,４−ジアミノ−６−メ
チル−ｓ−トリアジン、２,４−ジアミノ−１,３,５−
トリアジン、４,６−ジアミノ−２−ビニル−ｓ−トリ
アジン、２,４−ジアミノ−５−フェニルチアゾール、
２,６−ジアミノプリン、５,６−ジアミノ−１,３−ジ
メチルウラシル、３,５−ジアミノ−１,２,４−トリア
ゾール、６,９−ジアミノ−２−エトキシアクリジンラ
クテート、３,８−ジアミノ−６−フェニルフェナント
リジン、１,４−ジアミノピペラジン、３,６−ジアミノ
アクリジン、ビス（４−アミノフェニル）フェニルアミ
ンおよび下記式（III）〜（IV）で表される化合物など
の、分子内に２つの１級アミノ基および該１級アミノ基
以外の窒素原子を有するジアミン；

【００１６】

【化４】

【００１７】（式中、Ｒ⁵ は、ピリジン、ピリミジン、
トリアジン、ピペリジンおよびピペラジンから選ばれる
窒素原子を含む環構造を有する１価の有機基を示し、Ｘ
は２価の有機基を示す。）

【００１８】

【化５】

【００１９】（式中、Ｒ⁶ は、ピリジン、ピリミジン、
トリアジン、ピペリジンおよびピペラジンから選ばれる
窒素原子を含む環構造を有する２価の有機基を示し、Ｘ
は２価の有機基を示し、複数存在するＸは、同一でも異
なっていてもよい。）

【００２０】下記式（Ｖ）で表されるモノ置換フェニレ
ンジアミン類；下記式（VI）で表されるジアミノオルガ
ノシロキサン；

【００２１】

【化６】

【００２２】（式中、Ｒ⁷ は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−
ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−および−ＣＯ−
から選ばれる２価の有機基を示し、Ｒ⁸ は、ステロイド
骨格、トリフルオロメチル基およびフルオロ基から選ば
れる基を有する１価の有機基または炭素数６〜３０のア
ルキル基を示す。）

【００２３】

【化７】

【００２４】（式中、Ｒ⁹ は炭素数１〜１２の炭化水素
基を示し、複数存在するＲ⁹ は、それぞれ同一でも異な
っていてもよく、ｐは１〜３の整数であり、ｑは１〜２
０の整数である。）

【００２５】下記式（９）〜（１３）で表される化合物
などを挙げることができる。これらのジアミン化合物
は、単独でまたは２種以上組み合わせて用いることがで
きる。

【００２６】

【化８】

【００２７】（式中、ｙは２〜１２の整数であり、ｚは
１〜５の整数である。）

【００２８】これらのうち、ｐ−フェニレンジアミン、
４,４’−ジアミノジフェニルメタン、４,４’−ジアミ
ノジフェニルスルフィド、１,５−ジアミノナフタレ
ン、２,７−ジアミノフルオレン、４,４’−ジアミノジ
フェニルエーテル、２,２−ビス［４−（４−アミノフ
ェノキシ）フェニル］プロパン、９,９−ビス（４−ア
ミノフェニル）フルオレン 、２,２−ビス［４−（４
−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパ
ン、２,２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパン、４,４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピ
リデン）ビスアニリン、４,４’−（ｍ−フェニレンジ
イソプロピリデン）ビスアニリン、１,４−シクロヘキ
サンジアミン、４,４’−メチレンビス（シクロヘキシ
ルアミン）、１,４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベ
ンゼン、４,４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフ
ェニル、上記式（９）〜（１３）で表される化合物、
２,６−ジアミノピリジン、３,４−ジアミノピリジン、
２,４−ジアミノピリミジン、３,６−ジアミノアクリジ
ン、上記式（III）で表される化合物のうち下記式（１
４）で表される化合物、上記式（IV）で表される化合物
のうち下記式（１５）で表される化合物および上記式
（Ｖ）で表される化合物のうち下記式（１６）〜（２
１）で表される化合物が好ましい。

【００２９】

【化９】

【００３０】＜ポリアミック酸（ａ）の合成＞ポリアミ
ック酸（ａ）の合成反応に供されるテトラカルボン酸二
無水物とジアミン化合物の使用割合は、ジアミン化合物
に含まれるアミノ基１当量に対して、テトラカルボン酸
二無水物の酸無水物基が０．２〜２当量となる割合が好
ましく、さらに好ましくは０．３〜１．２当量となる割
合である。ポリアミック酸（ａ）の合成反応は、有機溶
媒中において、通常−２０〜１５０℃、好ましくは０〜
１００℃の温度条件下で行われる。ここで、有機溶媒と
しては、合成されるポリアミック酸（ａ）を溶解できる
ものであれば特に制限はなく、例えばＮ−メチル−２−
ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブ
チロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホ
ルトリアミドなどの非プロトン系極性溶媒；ｍ−クレゾ
ール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノー
ルなどのフェノール系溶媒を例示することができる。ま
た、有機溶媒の使用量（α）は、通常、テトラカルボン
酸二無水物およびジアミン化合物の総量（β）が、反応
溶液の全量（α＋β）に対して０．１〜３０重量％にな
るような量であることが好ましい。

【００３１】なお、上記有機溶媒には、ポリアミック酸
（ａ）の貧溶媒であるアルコール類、ケトン類、エステ
ル類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類
などを、生成するポリアミック酸が析出しない範囲で併
用することができる。斯かる貧溶媒の具体例としては、
例えばメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオー
ル、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、乳酸エチル、乳酸ブチル、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メ
チルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオ
ネ−ト、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル、ジエチ
ルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、エチ
レングリコールエチルエーテル、エチレングリコール−
ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコール−ｉ−プロ
ピルエーテル、エチレングリコール−ｎ−ブチルエーテ
ル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレング
リコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、テトラヒド
ロフラン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、
１，４−ジクロロブタン、トリクロロエタン、クロルベ
ンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、
オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを挙げる
ことができる。

【００３２】以上のようにして、ポリアミック酸（ａ）
を溶解してなる反応溶液が得られる。そして、この反応
溶液を大量の貧溶媒中に注いで析出物を得、この析出物
を減圧下乾燥することによりポリアミック酸（ａ）を得
ることができる。また、このポリアミック酸を再び有機
溶媒に溶解させ、次いで貧溶媒で析出させる工程を１回
または数回行うことにより、ポリアミック酸（ａ）を精
製することができる。

【００３３】＜イミド化重合体（ｂ）の合成＞本発明の
液晶配向剤を構成するイミド化重合体（ｂ）は、上記ポ
リアミック酸（ａ）を脱水閉環することにより合成する
ことができる。ポリアミック酸（ａ）の脱水閉環は、
（ｉ）ポリアミック酸（ａ）を加熱する方法により、ま
たは（ii）ポリアミック酸（ａ）を有機溶媒に溶解し、
この溶液中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加し必要に
応じて加熱する方法により行われる。また、本発明で使
用されるイミド化重合体（ｂ）には、部分的に脱水閉環
された、イミド化率（重合体中の全繰り返し単位におけ
る、イミド環を形成してなる繰り返し単位の割合を％で
表したもの）が１００％未満のイミド化重合体が含まれ
ていても良い。上記（ｉ）のポリアミック酸（ａ）を加
熱する方法における反応温度は、通常５０〜２００℃と
され、好ましくは６０〜１７０℃とされる。反応温度が
５０℃未満では脱水閉環反応が十分に進行せず、反応温
度が２００℃を超えると得られるイミド化重合体（ｂ）
の分子量が低下することがある。一方、上記（ii）のポ
リアミック酸（ａ）の溶液中に脱水剤および脱水閉環触
媒を添加する方法において、脱水剤としては、例えば無
水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸など
の酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、
ポリアミック酸（ａ）の繰り返し単位１モルに対して
０.０１〜２０モルとするのが好ましい。また、脱水閉
環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジ
ン、トリエチルアミンなどの３級アミンを用いることが
できる。しかし、これらに限定されるものではない。脱
水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤１モルに対して
０.０１〜１０モルとするのが好ましい。なお、脱水閉
環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸
（ａ）の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒
を挙げることができる。そして、脱水閉環反応の反応温
度は、通常０〜１８０℃、好ましくは１０〜１５０℃と
される。また、このようにして得られる反応溶液に対
し、ポリアミック酸（ａ）の精製方法と同様の操作を行
うことにより、イミド化重合体（ｂ）を精製することが
できる。

【００３４】＜末端修飾型の重合体＞上記重合体（Ａ）
（ポリアミック酸（ａ）およびイミド化重合体（ｂ））
は、分子量が調節された末端修飾型のものであってもよ
い。この末端修飾型の重合体を用いることにより、本発
明の効果が損われることなく液晶配向剤の塗布特性など
を改善することができる。このような末端修飾型のもの
は、ポリアミック酸（ａ）を合成する際に、酸一無水
物、モノアミン化合物、モノイソシアネート化合物など
を反応系に添加することにより合成することができる。
ここで、酸一無水物としては、例えば無水マレイン酸、
無水フタル酸、無水イタコン酸、ｎ−デシルサクシニッ
ク酸無水物、ｎ−ドデシルサクシニック酸無水物、ｎ−
テトラデシルサクシニック酸無水物、ｎ−ヘキサデシル
サクシニック酸無水物などを挙げることができる。ま
た、モノアミン化合物としては、例えばアニリン、シク
ロヘキシルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルア
ミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−
オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミ
ン、ｎ−ウンデシルアミン、ｎ−ドデシルアミン、ｎ−
トリデシルアミン、ｎ−テトラデシルアミン、ｎ−ペン
タデシルアミン、ｎ−ヘキサデシルアミン、ｎ−ヘプタ
デシルアミン、ｎ−オクタデシルアミン、ｎ−エイコシ
ルアミンなどを挙げることができる。また、モノイソシ
アネート化合物としては、例えばフェニルイソシアネー
ト、ナフチルイソシアネートなどを挙げることができ
る。

【００３５】＜重合体（Ａ）の対数粘度＞以上のように
して得られる重合体（Ａ）は、その対数粘度（η_ln）の
値が通常０．０５〜１０ｄｌ／ｇ、好ましくは０．０５
〜５ｄｌ／ｇである。本発明における対数粘度（η_ln）
の値は、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを溶媒として用
い、濃度が０．５ｇ／１００ミリリットルである溶液に
ついて３０℃で粘度の測定を行い、下記式（ｉ）によっ
て求められるものである。

【００３６】

【数１】

【００３７】［エポキシ化合物（Ｂ）］本発明に用いら
れるエポキシ化合物（Ｂ）としては、２個以上のグリシ
ジル基を有する化合物が好ましい。例えば、エチレング
リコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコー
ルジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリ
シジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエ
ーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、
グリセリンジグリシジルエーテル、２，２−ジブロモネ
オペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，３，
５，６−テトラグリシジル−２，４−ヘキサンジオー
ル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テトラグリシジル−ｍ−キ
シレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル
アミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，
−テトラグリシジル−４、４’−ジアミノジフェニルメ
タン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｐ−フ
ェニレンジアミンなどを好ましいものとして挙げること
ができる。これらのうち、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テト
ラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス
（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサ
ン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テトラグリシジル−４、
４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’
−テトラグリシジル−ｐ−フェニレンジアミンなどの窒
素原子を含有するグリシジル基含有化合物が特に好まし
い。本発明の液晶配向剤におけるエポキシ化合物（Ｂ）
の含有量としては、重合体（Ａ）の合計１００重量部に
対して、通常、１０〜９０重量部とされ、好ましくは１
５〜５０重量部とされる。エポキシ化合物（Ｂ）の含有
量が過小である場合には、作製される液晶表示素子にお
いて、「残留ＤＣ電圧の低減効果」および「電圧保持率
の向上効果」を十分に達成することができない場合があ
る。一方、エポキシ化合物（Ｂ）を過剰に添加すると、
形成される液晶配向膜の液晶配向性が低下する場合があ
る。

【００３８】［エポキシ硬化剤（Ｃ）］本発明に用いら
れるエポキシ硬化剤（Ｃ）としては、ジアミン化合物、
酸一無水物、ホウ素錯体類、イミダゾール類、ヒドラジ
ド類、ジシアンジアミドなどが挙げられる。ジアミン化
合物としては、上述したポリアミック酸（ａ）の合成に
用いられるジアミン化合物を用いることができ、好まし
いものとしては、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノ
ジフェニルエーテル、ジアミノジフェニルスルフィドな
どの芳香族ジアミンを挙げることができる。酸一無水物
としては、末端修飾型重合体の合成時に用いられる上記
酸一無水物やコハク酸無水物、マレイン酸無水物、フタ
ル酸無水物等の酸一無水物を用いることができる。ホウ
素錯体類としては、例えば、三フッ化ホウ素酢酸錯体、
三フッ化ホウ素ジエチルエーテラート、三フッ化ホウ素
ブチルメチルエーテラート、三フッ化ホウ素ジブチルエ
ーテラート、三フッ化ホウ素エチルアミン錯体、三フッ
化ホウ素メタノール錯体、三フッ化ホウ素メチルスルフ
ィド錯体、三フッ化ホウ素フェノール錯体、三フッ化ホ
ウ素リン酸錯体、三フッ化ホウ素プロパノール錯体、三
フッ化ホウ素テトラヒドロフラン錯体、三フッ化ホウ素
アニリン錯体、三フッ化ホウ素ジアミノジフェニルメタ
ン錯体、三フッ化ホウ素フェニレンジアミン錯体、三フ
ッ化ホウ素ジメチルアニリン錯体などが挙げられる。イ
ミダゾール類としては、イミダゾール、イミダゾール金
属誘導体、４―イミダゾール酢酸、ウロカニック酸、２
―イミダゾールカルボキサルデヒド、４―イミダゾール
カルボキシル酸、イミダゾールカルボニトリル、５―イ
ミダゾールチオカルボキシル酸、４―イミダゾールメタ
ノール、２―イミダゾールチオール、４―（イミダゾー
ル−１―イル）アセトフェノン、４―（イミダゾール−
１―イル）フェノール、１―フェニルイミダゾール、２
―フェニルイミダゾール、４―フェニルイミダゾール、
１―ベンジルー２―エチル−イミダゾール、１―メチル
−２―エチル−イミダゾール、１―ベンジル−２―フェ
ニル−イミダゾールなどが挙げられる。ヒドラジド類と
しては、アセトヒドラジド、メタンスルホニルヒドラジ
ド、トリフルオロメタンスルホニルヒドラジド、Ｐ-ト
ルエンスルホニルヒドラジド等が挙げられる。本発明の
液晶配向剤におけるエポキシ硬化剤（Ｃ）の含有量とし
ては、エポキシ化合物（Ｂ）中のエポキシ基１モルに対
して、通常、０．０１〜１モル、好ましくは０．１〜
０．５モルである。エポキシ硬化剤（Ｃ）の含有量が過
小である場合には、作製される液晶表示素子において、
「残留ＤＣ電圧の低減効果」および「電圧保持率の向上
効果」を十分に達成することができない場合がある。一
方、エポキシ硬化剤（Ｃ）を過剰に添加すると、形成さ
れる液晶配向膜の、液晶配向性を悪化させてしまう場合
がある。

【００３９】［液晶配向剤］本発明の液晶配向剤は、ポ
リアミック酸（ａ）および／またはイミド化重合体
（ｂ）、エポキシ化合物（Ｂ）およびエポキシ硬化剤
（Ｃ）が、通常、有機溶媒中に溶解含有されて構成され
る。液晶配向剤中に含有されるエポキシ化合物（Ｂ）
は、通常、基板上に液晶配向剤を塗布して薄膜を形成す
る際、加熱などの処理により、エポキシ硬化剤（Ｃ）の
存在下で架橋し、高分子化合物となる。本発明の液晶配
向剤を構成する有機溶媒としては、ポリアミック酸
（ａ）の合成反応に用いられるものとして例示した溶媒
を挙げることができる。また、ポリアミック酸（ａ）の
合成反応の際に併用することができるものとして例示し
た貧溶媒も適宜選択して併用することができる。本発明
の液晶配向剤における固形分濃度は、粘性、揮発性など
を考慮して選択されるが、好ましくは１〜１０重量％の
範囲とされる。すなわち、本発明の液晶配向剤は、基板
表面に塗布され、液晶配向膜となる塗膜が形成される
が、固形分濃度が１重量％未満である場合には、この塗
膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜を得ることが
できないことがあり、固形分濃度が１０重量％を超える
場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜
を得難く、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布特性
が劣るものとなることがある。

【００４０】本発明の液晶配向剤には、基板表面に対す
る接着性を向上させる観点から、官能性シラン含有化合
物が含有されていてもよい。斯かる官能性シラン含有化
合物としては、例えば３−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−
アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３
−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミ
ノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウ
レイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカル
ボニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−
エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、Ｎ−トリエトキシシリルプロピルトリエチレン
トリアミン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチ
レントリアミン、１０−トリメトキシシリル−１，４，
７−トリアザデカン、１０−トリエトキシシリル−１，
４，７−トリアザデカン、９−トリメトキシシリル−
３，６−ジアザノニルアセテート、９−トリエトキシシ
リル−３，６−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル
−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジ
ル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェ
ニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フ
ェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−
ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリメト
キシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノ
プロピルトリエトキシシランなどを挙げることができ
る。これら官能性シラン含有化合物の配合割合は、重合
体１００重量部に対して、通常、４０重量部以下、好ま
しくは０．１〜３０重量部である。

【００４１】［液晶表示素子］本発明の液晶配向剤を用
いて得られる液晶表示素子は、例えば次の方法によって
製造することができる。

【００４２】（１）パターニングされた透明導電膜が設
けられている基板の一面に、本発明の液晶配向剤を例え
ばロールコーター法、スピンナー法、印刷法などの方法
によって塗布し、次いで、塗布面を加熱することにより
塗膜を形成する。ここに、基板としては、例えばフロー
トガラス、ソーダガラスなどのガラス；ポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエー
テルスルホン、ポリカーボネートなどのプラスチックか
らなる透明基板を用いることができる。基板の一面に設
けられる透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ2 ）か
らなるＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、酸化イン
ジウム−酸化スズ（Ｉｎ2 Ｏ3 −ＳｎＯ2）からなるＩ
ＴＯ膜などを用いることができ、これらの透明導電膜の
パターニングには、フォト・エッチング法や予めマスク
を用いる方法が用いられる。液晶配向剤の塗布に際して
は、基板表面および透明導電膜と塗膜との接着性をさら
に良好にするために、基板の該表面に、官能性シラン含
有化合物、官能性チタン含有化合物などを予め塗布する
こともできる。液晶配向剤塗布後の加熱温度は８０〜３
００℃とされ、好ましくは１２０〜２５０℃とされる。
なお、ポリアミック酸を含有する本発明の液晶配向剤
は、塗布後に有機溶媒を除去することによって配向膜と
なる塗膜を形成するが、さらに加熱することによって脱
水閉環を進行させ、イミド化された塗膜とすることもで
きる。形成される塗膜の膜厚は、通常０．００１〜１μ
ｍであり、好ましくは０．００５〜０．５μｍである。

【００４３】（２）形成された塗膜面を、例えばナイロ
ン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き付
けたロールで一定方向に擦るラビング処理を行う。これ
により、液晶分子の配向能が塗膜に付与されて液晶配向
膜となる。また、本発明の液晶配向剤により形成された
液晶配向膜に、例えば特開平６−２２２３６６号公報や
特開平６−２８１９３７号公報に示されているような、
紫外線を部分的に照射することによってプレチルト角を
変化させるような処理、あるいは特開平５−１０７５４
４号公報に示されているような、ラビング処理を施した
液晶配向膜表面にレジスト膜を部分的に形成し、先のラ
ビング処理と異なる方向にラビング処理を行った後にレ
ジスト膜を除去して、液晶配向膜の液晶配向能を変化さ
せるような処理を行うことによって、液晶表示素子の視
界特性を改善することが可能である。

【００４４】（３）上記のようにして液晶配向膜が形成
された基板を２枚作製し、それぞれの液晶配向膜におけ
るラビング方向が直交または逆平行となるように、２枚
の基板を、間隙（セルギャップ）を介して対向配置し、
２枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基
板表面およびシール剤により区画されたセルギャップ内
に液晶を注入充填し、注入孔を封止して液晶セルを構成
する。そして、液晶セルの外表面、すなわち、液晶セル
を構成するそれぞれの基板の他面側に、偏光板を、その
偏光方向が当該基板の一面に形成された液晶配向膜のラ
ビング方向と一致または直交するように貼り合わせるこ
とにより、液晶表示素子が得られる。

【００４５】ここに、シール剤としては、例えば硬化剤
およびスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有す
るエポキシ樹脂などを用いることができる。液晶として
は、ネマティック型液晶およびスメクティック型液晶を
挙げることができ、その中でもネマティック型液晶が好
ましく、例えばシッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、
ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エ
ステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロ
ヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液
晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶などを用
いることができる。また、これらの液晶に、例えばコレ
スチルクロライド、コレステリルノナエート、コレステ
リルカーボネートなどのコレステリック型液晶や商品名
「Ｃ−１５」「ＣＢ−１５」（メルク社製）として販売
されているようなカイラル剤などを添加して使用するこ
ともできる。さらに、ｐ−デシロキシベンジリデン−ｐ
−アミノ−２−メチルブチルシンナメートなどの強誘電
性液晶も使用することができる。また、液晶セルの外表
面に貼り合わされる偏光板としては、ポリビニルアルコ
ールを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させたＨ膜と
称される偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板
またはＨ膜そのものからなる偏光板を挙げることができ
る。

【００４６】

【実施例】以下、本発明を実施例により、さらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるも
のではない。なお、以下の実施例および比較例によって
調製された液晶配向剤、作製された液晶表示素子につい
ての測定方法および評価方法は、以下のとおりである。 〔液晶の配向性〕液晶表示素子に電圧をオン・オフした
ときの異常ドメインの有無を偏光顕微鏡で観察し、異常
ドメインのない場合を「良好」と判定した。 〔残留ＤＣ電圧〕液晶表示素子に直流１．０Ｖを重畳し
た３０Ｈｚ、２．０Ｖの矩形波を７０℃の環境温度で１
時間印加し、直流電圧を切った直後の液晶セル内に残留
した電圧をフリッカ−消去法により残留ＤＣ電圧を求め
た。 〔電圧保持率〕液晶表示素子に５Ｖの電圧、６０マイク
ロ秒の印加時間、１６７ミリ秒のスパンで印加した際、
５Ｖ印加解除から１６７ミリ秒後の保持電圧を、（株）
東陽テクニカ製ＶＨＲ−１を用いて測定し、電圧保持率
を求めた。

【００４７】〔合成例１〕テトラカルボン酸二無水物と
して２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二
無水物２２．４ｇ（１００ミリモル）、ジアミン化合物
として上記化学式（１７）で表されるジアミン５．２３
ｇ（１０ミリモル）および４，４’−ジアミノジフェニ
ルメタン１７．８ｇ（９０ミリモル）を、Ｎ−メチル−
２−ピロリドン４５０ｇに溶解させ、６０℃で６時間反
応させた。次いで、反応溶液を大過剰のメチルアルコー
ルに注いで反応生成物を沈澱させた。その後、メチルア
ルコールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させる
ことにより、対数粘度０．９５ｄｌ／ｇ、イミド化率０
％のポリアミック酸（これを「ポリアミック酸（ａ
１）」とする。）４０．８ｇを得た。 〔合成例２〕合成例１で得られたポリアミック酸（ａ
１）２５．０ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４５０
ｇに溶解させ、ピリジン７．０ｇおよび無水酢酸９．１
ｇを添加し、１００℃で３時間脱水閉環反応を行った。
次いで、反応溶液を合成例１と同様に沈殿、洗浄、乾燥
させることにより、対数粘度０．９３ｄｌ／ｇ、イミド
化率７０％のイミド化重合体（これを「イミド化重合体
（ｂ１）」とする。）１９．０ｇを得た。 〔合成例３〕合成例２において、ピリジン２３．４ｇお
よび無水酢酸１８．１ｇを用いた以外は合成例２と同様
にして、対数粘度０．８５ｄｌ／ｇ、イミド化率１００
％のイミド化重合体（これを「イミド化重合体（ｂ
２）」とする。）１７．５ｇを得た。

【００４８】〔合成例４〕合成例１において、上記化学
式（１７）で表されるジアミンの代わりに上記化学式
（１６）で表されるジアミン５．２４ｇ（１０ミリモ
ル）を用いた以外は合成例１と同様にして、対数粘度が
０．９５ｄｌ／ｇ、イミド化率０％のポリアミック酸
（これを「ポリアミック酸（ａ２）」とする。）４０．
８ｇを得た。 〔合成例５〕合成例４で得られたポリアミック酸（ａ
２）２５．０ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４５０
ｇに溶解させ、ピリジン７．２ｇおよび無水酢酸９．２
ｇを添加し、１００℃で３時間脱水閉環反応を行った。
次いで、反応溶液を合成例１と同様に沈殿、洗浄、乾燥
させることにより、対数粘度０．９３ｄｌ／ｇ、イミド
化率７０％のイミド化重合体（これを「イミド化重合体
（ｂ３）」とする。）１９．５ｇを得た。

【００４９】〔合成例６〕合成例１において、テトラカ
ルボン酸二無水物としてピロメリット酸二無水物２１．
８ｇ（１００ミリモル）を用いた以外は合成例１と同様
にして、対数粘度が１．５０ｄｌ／ｇであるポリアミッ
ク酸（これを「ポリアミック酸（ａ３）」とする。）３
７．８ｇを得た。

【００５０】〔実施例１〕 （１）液晶配向剤の調製：合成例１で得られたポリアミ
ック酸（ａ１）４ｇ、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリ
シジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン（Ｂ１）
０．８ｇおよび４，４’−ジアミノジフェニルメタン
（Ｃ１）０．２ｇを、４−ヒドロキシ−４−メチル−２
−ペンタノン２０ｇとγ−ブチロラクトン７６ｇとの混
合溶剤に溶解させて、固形分濃度４重量％の溶液とし
た。この溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過して本発
明の液晶配向剤を調製した。 （２）液晶表示素子の作製： 厚さ１ｍｍのガラス基板の一面に設けられたＩＴＯ
膜からなる透明導電膜上に、上記のようにして調製され
た本発明の液晶配向剤をスピンナーを用いて塗布し、１
８０℃で１時間乾燥することにより乾燥膜厚８００Åの
塗膜を形成した。 形成された塗膜面を、ナイロン製の布を巻き付けた
ロールを有するラビングマシーンを用いてラビング処理
を行うことにより、液晶配向膜を作製した。ここに、ラ
ビング処理条件は、ロールの回転数５００ｒｐｍ、ステ
ージの移動速度１ｃｍ／秒、毛足押し込み長さ０．４ｍ
ｍとした。 上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を２
枚作製し、それぞれの基板の外縁部に、直径１７μｍの
酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂系接着剤を
スクリーン印刷法により塗布した後、それぞれの液晶配
向膜におけるラビング方向が逆平行となるように２枚の
基板を間隙を介して対向配置し、外縁部同士を当接させ
て圧着して接着剤を硬化させた。 基板の表面および外縁部の接着剤により区画された
セルギャップ内に、ネマティック型液晶「ＭＬＣ−２０
０１」（メルク社製）を注入充填し、次いで、注入孔を
エポキシ系接着剤で封止して液晶セルを構成した。その
後、液晶セルの外表面に、偏光方向が当該基板の一面に
形成された液晶配向膜のラビング方向と一致するように
偏光板を貼り合わせることにより、液晶表示素子を作製
した。 上記のようにして作製された液晶表示素子につい
て、電圧保持率および残留ＤＣ電圧を測定し、液晶の配
向性を評価した。結果を表１に示す。

【００５１】〔実施例２〜１３〕下記表１に示す処方に
従って、合成例１〜６で得られた重合体の各々１００重
量部と、エポキシ化合物（Ｂ）の各々２０重量部および
エポキシ硬化剤（Ｃ）の各々を用い、実施例１と同様に
して本発明の液晶配向剤を調製した。次いで、このよう
にして調製された液晶配向剤の各々を用い、実施例１と
同様にして液晶表示素子を作製した。作製された液晶表
示素子の各々について、実施例１と同様に評価を行っ
た。結果を表１に併せて示す。 〔比較例１〜５〕下記表１に示す処方に従って、合成例
１〜６で得られた重合体の各々１００重量部を用い、実
施例１と同様にして本発明の液晶配向剤を調製した。次
いで、このようにして調製された液晶配向剤の各々を用
い、実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。作
製された液晶表示素子の各々について、実施例１と同様
に評価を行った。結果を表１に併せて示す。

【００５２】

【表１】

【００５３】表１において、エポキシ化合物およびエポ
キシ硬化剤の種類は以下のとおりである。 （エポキシ化合物） Ｂ１：N,N,N',N'-テトラク゛リシシ゛ル-4,4'-シ゛アミノシ゛フェニルメタン Ｂ２：N,N,N',N',-テトラク゛リシシ゛ル-m-キシリレンシ゛アミン Ｂ３：1、3-ヒ゛ス(N,N-シ゛ク゛リシシ゛ルアミノメチル)シクロヘキサン Ｂ４：N,N,N',N',-テトラク゛リシシ゛ル-P-フェニレンシ゛アミン Ｂ５：エチレングリコールジグリシジルエーテル （エポキシ硬化剤） Ｃ１：４，４’−ジアミノジフェニルメタン Ｃ２：４、４’―（ｐ―フェニレンジイソプロピリデ
ン）ビスアニリン Ｃ３：フタル酸無水物 Ｃ４：三フッ化ホウ素エチルアミン錯体 Ｃ５：イミダゾール Ｃ６：ｐ-トルエンスルホニルヒドラジド Ｃ７：ジシアンジアミド

【発明の効果】本発明によれば、高電圧保持率、低残像
型の液晶配向膜を形成することができる液晶配向剤を提
供することができる。本発明の液晶配向剤により形成さ
れる液晶配向膜は、ＴＮ型液晶表示素子およびＳＴＮ型
液晶表示素子のみならずＳＨ（Ｓｕｐｅｒ Ｈｏｍｅｏ
ｔｒｏｐｉｃ）型液晶表示素子など種々の液晶表示素子
を構成するために好適に使用することができる。また、
当該液晶配向膜を備えた液晶表示素子は、液晶の配向性
および信頼性にも優れ、種々の装置に有効に使用するこ
とができ、例えば卓上計算機、腕時計、置時計、計数表
示板、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ、液
晶テレビなどの表示装置として好適に用いることができ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柳通 直樹 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内 (72)発明者 木村 雅之 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（Ａ）（ａ）ポリアミック酸および（ｂ）
   当該ポリアミック酸を脱水閉環して得られるイミド構造
   を有する重合体よりなる群から選ばれる少なくとも１種
   の重合体、（Ｂ）エポキシ基含有化合物ならびに（Ｃ）
   当該エポキシ基含有化合物の硬化剤とを含有することを
   特徴とする液晶配向剤。