JPH10338798A - 放射線硬化性樹脂層を備えたインク・ジェット・プリントヘッド - Google Patents
放射線硬化性樹脂層を備えたインク・ジェット・プリントヘッドInfo
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 title abstract description 40
- 239000011347 resin Substances 0.000 title abstract description 40
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims abstract description 50
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims abstract description 48
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 45
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 35
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 31
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 27
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 20
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 17
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 17
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 16
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 11
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical group COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 7
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 claims description 3
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 2
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract description 2
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 52
- -1 acrylic compound Chemical class 0.000 description 50
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 150000002118 epoxides Chemical group 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 239000012955 diaryliodonium Substances 0.000 description 2
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCEFMUBVSUDRLG-KXUCPTDWSA-N (4R)-limonene 1,2-epoxide Natural products C1[C@H](C(=C)C)CC[C@@]2(C)O[C@H]21 CCEFMUBVSUDRLG-KXUCPTDWSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- WEEGYLXZBRQIMU-UHFFFAOYSA-N 1,8-cineole Natural products C1CC2CCC1(C)OC2(C)C WEEGYLXZBRQIMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBCFRNFJLRUKKR-UHFFFAOYSA-N 10-methyl-1-methylsulfanylphenothiazine Chemical compound S1C2=CC=CC=C2N(C)C2=C1C=CC=C2SC FBCFRNFJLRUKKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTHHKUBZIBBOIT-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-[(4-methyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-3-yl)methyl]-7-oxabicyclo[4.1.0]hept-2-ene-3-carboxylic acid Chemical compound CC1CC2OC2C(CC2CC3OC3CC2C)=C1C(O)=O UTHHKUBZIBBOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMZXBCYMCZOIG-UHFFFAOYSA-N 6-[(4-methyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-3-yl)methoxy]-6-oxohexanoic acid Chemical compound C1C(COC(=O)CCCCC(O)=O)C(C)CC2OC21 UPMZXBCYMCZOIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOYQDLJWKKUFEG-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]hept-4-ene-4-carboxylate Chemical compound C=1C2OC2CCC=1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 AOYQDLJWKKUFEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADAHGVUHKDNLEB-UHFFFAOYSA-N Bis(2,3-epoxycyclopentyl)ether Chemical compound C1CC2OC2C1OC1CCC2OC21 ADAHGVUHKDNLEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- CCEFMUBVSUDRLG-XNWIYYODSA-N Limonene-1,2-epoxide Chemical compound C1[C@H](C(=C)C)CCC2(C)OC21 CCEFMUBVSUDRLG-XNWIYYODSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 230000003466 anti-cipated effect Effects 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 125000005417 glycidoxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
- B41J2/1645—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by spincoating
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
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Abstract
する、改善された放射線硬化性樹脂を提供する。 【解決手段】 本発明は、基材に取付けられた放射線で
硬化された樹脂層に形成されたインク通路を有するイン
ク・ジェット・プリント・ヘッドに関する。通路は、オ
リフィス・プレートによって与えられるインク放出出口
に流体連通して接続される。樹脂層に通路を形成するた
めに、樹脂組成物を所定のパターンで放射線源により露
光して、樹脂層の所定領域を硬化し、通路を与える他の
領域は未硬化のまま残す。未硬化領域は、所望の通路を
残して樹脂層から除去する。放射線硬化層を形成するた
めに用いられる樹脂組成物は、第1の多機能エポキシ化
合物;第2の多機能エポキシ化合物;光開始剤;ならび
に、非光反応性溶媒;を含む。
Description
層を備えたインク・ジェット・プリント・ヘッドに関す
る。
ジェット・プリント・ヘッドは、通常、基材に記録する
ためのインクを放出するオリフィス又は噴射部材を備え
たオリフィス・プレート;オリフィスをインク供給部に
接続するインク通路;ならびに、オリフィスを介してプ
リント・ヘッドからインクを噴出させるためのエネルギ
ーを与えるデバイス;からなる。記録する間にインクを
放出するためのエネルギー源は、ほとんどの場合におい
て、抵抗要素又は圧電素子によって働く。
めのインク通路を製造する方法は、例えば、カッティン
グ又はエッチングによって、ガラス、金属又はプラスチ
ックの薄層に微細な溝を形成し、次いで、このような溝
が上部に形成された層の上に他の材料薄層を接合するこ
とを含む。他の方法では、エネルギーを与えるデバイス
を備える基材にコーティングされた光感応性樹脂中に、
フォトリソグラフィック技術によって溝を形成すること
が含まれる。ひと度、光感応性樹脂中に溝が形成されれ
ば、他の薄層材料が溝の形成された樹脂に取付けられ、
例えばノズル・プレートを形成する。
製するこれらの方法の中で、インク通路層の少なくとも
一部分を形成するために光感応性樹脂を使用すること
は、液体通路を高精度かつ高歩留りで製造することがで
きると共に、液体ジェット記録ヘッドを高品質かつ低コ
ストで得ることができるので、他の方法に比べて有利で
ある。この光感応性樹脂は、(1)硬化フィルムの基材
への優れた接着性;(2)硬化の際における、優れた機
械的強度と耐久性;ならびに、(3)放射線源によるパ
ターニングの際における、優れた感光性と分解能;を有
することが要求される。
4,623,676号には、写真部品のための保護コー
ティングとして用いられる放射線硬化性組成物が記載さ
れており、この組成物は、重合性のアクリル化合物;重
合性のエポキシ−官能性シラン;前記アクリル化合物の
重合を開始させることができるフリーラジカル芳香族錯
塩の光開始剤;ならびに、前記エポキシ−官能性シラン
の重合を開始させることができるカチオン性の芳香族錯
塩の光開始剤;を含有する。
状ポリマー;モノマー;エポキシ樹脂;ならびに、重合
開始剤;を含有する放射線硬化性樹脂組成物の層を有す
る液状ジェット記録ヘッドが記載されており、このポリ
マーは、少なくとも50/Cのガラス転移温度と少なく
とも3.9×104の重量平均分子量とを有し、このモ
ノマーはエチレン不飽和結合を有し、このエポキシ樹脂
は1以上のエポキシ基を有し、この重合開始剤はエネル
ギー源の照射によってルイス酸を生成可能である。
機化合物;有機ポリマー;及び光開始剤;を含有する光
硬化性組成物が記載されており、この有機化合物は約1
〜1.3の範囲の平均エポキシド官能基を有し、この有
機ポリマーは、アクリレートモノマー又はメタクリレー
トモノマーから誘導されるポリマー、スチレンとアリル
アルコールのコポリマー、ポリビニルブチラールポリマ
ーから選択され、この光開始剤は芳香族錯塩である。
インク・ジェット・プリント・ヘッドの応用に用いるた
めの全ての要求特性を満たすものはない。例えば、印刷
プレートや印刷ワイヤーなどにパターンを形成するため
に用いられる光感応性樹脂は、感光性と分解能において
良好であるが、金属、セラミック及びプラスチックへの
接着に劣っており、また、硬化の際の機械的強度と耐久
性が不十分である。これらの理由から、光感応性樹脂を
プリント・ヘッドに使用する際に、インク通路内のイン
クの流れを妨げたり、又は、インク滴を著しく不安定に
放出することによりインク・ジェット・プリント・ヘッ
ドの信頼性を低減するように使用する場合には、基材か
らの歪みやはがれ、又は光感応性樹脂層の劣化が生じ易
い。
スチックに接着され、かつ、硬化後の機械的強度と耐久
性を満たす光硬化性樹脂は、感光性と分解能において劣
っている。光硬化性樹脂の本来の特性によれば、この樹
脂をインク・ジェット・プリント・ヘッド内で使用する
ための精密なパターン状に硬化できないので、この樹脂
はインク通路を設ける使用に適していない。
ク・ジェット・プリント・ヘッドにおいて使用するため
の、改善された放射線硬化性樹脂を提供することであ
る。
必要な特性を満たす樹脂から作られたインク通路層を備
えるインク・ジェット・プリント・ヘッドで、高価でな
く、精密で、信頼性が高く、かつ、耐久性に優れたイン
ク・ジェット・プリント・ヘッドを提供することであ
る。
インク通路を有するインク・ジェット・プリント・ヘッ
ドを提供することである。
ッドからインクを噴出するためのエネルギーを与えるデ
バイスを備える基材に取付けられた放射線硬化性樹脂中
に、インク通路を備えるインク・ジェット・プリント・
ヘッドを提供する。放射線硬化性樹脂組成物の層に放射
線を当てて所定パターンを形成しこれによって樹脂の硬
化領域を形成することにより、前記通路を樹脂中に形成
する。次いで、樹脂の未硬化領域は除去される。上記及
び他の目的に関しては、本発明により、約5〜約50重
量%、好ましくは約10〜約20重量%の第1の多機能
エポキシ化合物;約0.05〜約20重量%、好ましく
は約0.1〜約5.0重量%の第2の多機能エポキシ化
合物;約1.0〜約10重量%、好ましくは約1.5〜
約5重量%の、芳香族錯塩の光開始剤のようなカチオン
を生成可能な光開始剤;約20〜約90重量%、好まし
くは約45〜約75重量%の第2の非光反応性溶媒;を
含む放射線硬化性樹脂組成物が提供される。なお、ここ
で示す重量%は樹脂組成物の全重量に対するものであ
り、これに包含される全範囲を含む。
ムを用い(水性又は非水性にできる)、このシステムは
環境的に受入れられるものである。本発明の放射線で硬
化された樹脂層は、高分解能、高アスペクト比、ならび
に、金又は金/タンタルのような金属表面への高接着性
を示し、これによって、現在のそして予測される製品需
要にこの樹脂の応用が広げられる。さらに、硬化樹脂
は、永久的に形成され、かつ高pHのインク抵抗バリア
ー層を提供し、このバリアー層は、インク自身による腐
食又は化学的作用に抗しつつ、インク・ジェット・プリ
ント・ヘッド内のインク滴の大きさを制御することに寄
与できる。
ルでコーティングされたポリイミドノズル・プレートの
ような、アルコールでコーティングされたポリマーであ
るときに、放射線で硬化された樹脂はまた、予期せぬこ
とにノズル・プレートと基材との間の良好な接着を与え
る。
の結び付きを考慮した以下の詳細な明細書において更に
説明されよう。
射線硬化性樹脂層中に形成されたインク通路を備えたイ
ンク・ジェット・プリント・ヘッドに関する。この通路
はオリフィス・プレートによって与えられるインク放出
口に流体連通して接続される。樹脂層中にこの通路を形
成するために、所定のパターンで樹脂組成物を放射線源
によって露光し樹脂層の所定領域を硬化し、一方、通路
となる他の領域は未硬化のまま残す。この未硬化領域
は、所望の通路を残して樹脂層から除去する。放射線硬
化性樹脂層を形成するために用いられる樹脂組成物は、
第1の多機能エポキシ化合物;第2の多機能エポキシ化
合物;カチオンを生成することができる光開始剤;及び
非光反応性溶媒;を含む。好ましい実施態様では、この
樹脂組成物は、第1の多機能エポキシ化合物;第2の多
機能エポキシ化合物;及び、光開始剤からなる群から選
択される少なくとも一つと反応可能な官能基を有するシ
ランと同様に、アクリレートポリマー又はメタクリレー
トポリマーのようなフィルム強化剤を含む。このような
シランは、好ましくは、ガンマ−グリシドキシプロピル
トリメトキシ−シランなどのグリシドキシアルキルトリ
アルコキシ−シランのようなエポキシ官能基をもつシラ
ンである。このシランは樹脂組成物の全重量を基礎にし
て、約0.05〜約10重量%、好ましくは約0.1〜
約2重量%の量で存在し、これに包含される全範囲を含
む。ここで用いられるフィルム強化剤は、この樹脂組成
物に可溶な有機材料を意味するものとして限定され、こ
の有機材料によってこの樹脂組成物のフィルム形成特性
が補助される。
い場合には、用いられる第2の多機能エポキシ化合物の
量は、約4.5%、好ましくは約4.0%未満であるこ
とがさらに注目される。
重合可能な少なくとも二つのオキシラン環を好ましくは
有するあらゆる有機化合物を含む、第1の多機能エポキ
シ化合物である。したがって、多機能とは平均して、
1.0より大きな、好ましくは2以上のエポキシド官能
基を有することを意味する。第1の多機能エポキシ化合
物、及び/又は、第2の多機能エポキシ化合物は、重合
及び/又は架橋してもよいことがさらに注目される。。
第2の多機能エポキシ化合物は、好ましくは主架橋剤で
ある。第1の多機能エポキシ化合物は、好ましくは、モ
ノマー性の二官能基性エポキシ化合物とポリマー性の二
官能基性エポキシ化合物とを含む、二官能基性のエポキ
シ化合物であり、これら二官能基性のエポキシ化合物の
骨格と置換基の種類は異なっていてもよい。さらに、第
1の多機能エポキシ化合物は、好ましくは置換基として
水酸基を有する。この好ましい置換基である水酸基の他
に許容される置換基には、例えば、ハロゲン、エステル
基、エーテル、スルホネート基、シロキサン基、ニトロ
基、及びリン酸基が含まれる。この第1の多機能エポキ
シ化合物の分子量(MN)は、約75〜約100,00
0に変化する。
性のエポキシ化合物の混合物は、好ましくは液体であ
る。しかしながら、最終的な混合物が液相であれば、一
つ以上の固体状二官能基性のエポキシ化合物が混合物中
に含まれていてもよい。
は、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル(例えば
これらは、シェルケミカルカンパニー(Shell Chemical
Co.,)から商標 "Epon 828","Epon 1004","Epon 1001
F","Epon SU-8"及び "Epon 1010"として入手可能であ
り、ダウケミカルカンパニー(Dow Chemical Co.,)から
商標"DER-331","DER-332"及び"DER-334 として入手可能
である);3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3,4−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート(例
えば、ユニオンカーバイドコーポレーション(Union Car
bide Corp.)からの "ERL-4221");3,4−エポキシ−
6−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−
6−メチルシクロヘキセンカルボキシレート(例えば、
ユニオンカーバイドコーポレーション(Union Carbide C
orp.)からの "ERL-4201");ビス(3,4−エポキシ−
6−メチルシクロヘキシルメチルアジペート(例えば、
ユニオンカーバイドコーポレーション(Union Carbide C
orp.)からの "ERL-4289");ビス(2,3−エポキシシ
クロペンチルエーテル(例えば、ユニオンカーバイドコ
ーポレーション(Union Carbide Corp.)からの "ERL-040
0");を含む。二官能基性のエポキシ化合物は、組成物
中に約5〜約50重量%、好ましくは約10〜約20重
量%の量で存在する。
エポキシ化合物である。この第2の多機能エポキシ化合
物では架橋密度を増加させるのが好ましく、これによっ
て分解能が増加し、かつ溶媒膨張に対する耐性が改善さ
れる。第2の多機能エポキシ化合物の種類は、所望の樹
脂とすることができる化合物であれば通常限定されるも
のではない。このような第2の多機能エポキシ化合物の
例示リストには、例えば、フェノール;アルデヒド;な
らびに、DEN-431,DEN-438,DEN439(ダウプラスチックス
(Dow Plastics)から入手可能な)のようなエポキシド;
との反応生成物が含まれる。
組成物の全重量に対して、組成物中に約0.5〜約20
重量%、好ましくは約1〜約10重量%、最も好ましく
は約1〜約5重量%の量で存在する。本発明の第1と第
2の多機能エポキシ化合物を説明する際において、化合
物にはモノマーとポリマーが含まれることを意味する。
ウム塩;VIA族のオニウム塩;及び芳香族ハロニウム
塩;から選択される芳香族錯塩の光開始剤のようなカチ
オンを生成可能な光開始剤である。これらの錯塩は、紫
外線照射又は電子ビーム照射にさらされることにより、
エポキシとの反応を開始する成分を生成できる。芳香族
錯塩の光開始剤は、樹脂組成物の全重量に対して、組成
物中に約1.0〜約10重量%、好ましくは約1.5〜
約5重量%の量で存在する。
アイオドニウム(iodonium)錯塩と芳香族スルホニウム錯
塩を含む。芳香族アイオドニウム錯塩の光開始剤の例に
は、以下のものが含まれる。ジフェニルアイオドニウム
テトラフルオロボレート;ジ(4−メチルフェニル)ア
イオドニウムテトラフルオロボレート;フェニル−4−
メチルフェニルアイオドニウムテトラフルオロボレー
ト;ジ(4−ヘプチルフェニル)アイオドニウムテトラ
フルオロボレート;ジ(3−ニトロフェニル)アイオド
ニウムヘキサフルオロホスフェート;ジ(4−クロロフ
ェニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;
ジ(ナフチル)アイオドニウムテトラフルオロボレー
ト;ジ(4−トリフルオロメチルフェニル)アイオドニ
ウムテトラフルオロボレート;ジフェニルアイオドニウ
ムヘキサフルオロホスフェート;ジ(4−メチルフェニ
ル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;ジフ
ェニルアイオドニウムヘキサフルオロアルセナート;ジ
(4−フェノキシフェニル)アイオドニウムテトラフル
オロボレート;フェニル−2−チエニルオニウムヘキサ
フルオロホスフェート;3,5−ジメチルピラゾリル−
4−フェニルアイオドニウムヘキサフルオロホスフェー
ト;ジフェニルアイオドニウムヘキサフルオロアンチモ
ナート;2,2’−ジフェニルアイオドニウムテトラフ
ルオロボレート;ジ(2,4−ジクロロフェニル)アイ
オドニウムヘキサフルオロホスフェート;ジ(4−ブロ
モフェニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェー
ト;ジ(4−メトキシフェニル)アイオドニウムヘキサ
フルオロホスフェート;ジ(3−カルボキシフェニル)
アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;ジ(3−
メトキシカルボキシフェニル)アイオドニウムヘキサフ
ルオロホスフェート;ジ(3−メトキシスルホニルフェ
ニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;ジ
(4−アセタミドフェニル)アイオドニウムヘキサフル
オロホスフェート;ジ(2−ベンゾエチエニル)アイオ
ドニウムヘキサフルオロホスフェート;
アイオドニウム錯塩の中の好適な塩は、ジアリールアイ
オドニウムヘキサフルオロホスフェートとジアリールア
イオドニウムヘキサフルオロアンチモナートである。こ
れらの塩が好適なのは、通常、これらが熱的により安定
であり、反応を速く進め、そして、他の芳香族アイオド
ニウム錯イオン塩より不活性有機溶媒により溶解性だか
らである。
には、以下のものが含まれる。トリフェニルスルホニウ
ムテトラフルオロボレート;メチルジフェニルスルホニ
ウムテトラフルオロボレート;ジメチルフェニルスルホ
ニウムヘキサフルオロホスフェート;トリフェニルスル
ホニウムヘキサフルオロホスフェート;トリフェニルス
ルホニウムヘキサフルオロアンチモナート;ジフェニル
ナフチルスルホニウムヘキサフルオロアルセナート;ト
リトリスルホニウムヘキサフルオロホスフェート;アニ
シルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモナ
ート;4−ブトキシフェニルジフェニルスルホニウムテ
トラフルオロボレート;4−クロロフェニルジフェニル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート;トリス
(4−フェノキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオ
ロホスフェート;ジ(4−エトキシフェニル)メチルス
ルホニウムヘキサフルオロアルセナート;4−アセトキ
シ−フェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボ
レート;トリス(4−チオメトキシフェニル)スルホニ
ウムヘキサフルオロホスフェート;ジ(メトキシスルホ
ニルフェニル)メチルスルホニウムヘキサフルオロアン
チモナート;ジ(メトキシナフトチル)メチルスルホニ
ウムテトラフルオロボレート;ジ(カルボメトキシフェ
ニル)メチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェー
ト;4−アセタミドフェニルジフェニルスルホニウムテ
トラフルオロボレート;ジメチルナフチルスルホニウム
ヘキサフルオロホスフェート;トリフルオロメチルジフ
ェニルスルホニウムテトラフルオロボレート;メチル
(n−メチルフェノチアジニル)スルホニウムヘキサフ
ルオロアンチモナート;フェニルメチルベンジルスルホ
ニウムヘキサフルオロホスフェート;
スルホニウム錯塩中の好適な塩は、トリフェニルスルホ
ニウムヘキサフルオロホスフェートのようなトリアリー
ル−置換された塩である。これらのトリアリール−置換
された塩が好適なのは、これらがモノ及びジアリール置
換された塩より熱的に安定であり、これにより、貯蔵寿
命の長いワン−パートシステムが得られる。トリアリー
ル−置換された錯塩はまた、染料増感に対してより敏感
である。したがって、このような錯塩を用いることによ
り、近紫外線及び可視光線を露光に用いる応用において
非常に有用な組成物が得られる。もし所望ならば、組成
物を貯蔵可能な形態(すなわち、高濃度錯塩として)で
調製してもよく、これは、商業的に実用的なコーティン
グ組成物として後の希釈に適している。
剤は、ユニオンカーバイド(UnionCarbide (UV1-697
5))から商業的に入手可能なトリアリールスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモナートの混合物である。
性溶媒である。この溶媒は、所望の成分が硬化前にこれ
に溶解可能である点においてのみ制限される。好ましい
非光反応性溶媒には、ガンマ−ブチロラクトン、C1−
6アセテート、テトラヒドロフラン低分子量ケトン、こ
れらの混合物などが含まれる。
量に対して、組成物中に約20〜約90重量%、好まし
くは約45〜約75重量%の量で存在する。
ましくは約10〜約20重量%までのアクリレートポリ
マー又はメタクリレートポリマーを含んでいてもよく、
これらは、少なくとも一つのアクリレートモノマー又は
メタクリレートモノマーから誘導される。これらのポリ
マーは、ホモポリマー、コポリマー又はブレンドでもよ
い。ここで用いる”ポリマー”という用語は、高分子量
ポリマー(約1,000,000までの範囲の数平均分
子量を有する)と同様にオリゴマー(例えば、約100
0程度と低い数平均分子量を有する物質)も含む意味で
ある。アクリレートポリマー又はメタクリレートポリマ
ーの数平均分子量は、好ましくは約10,000〜約6
0,000の範囲であり、最も好ましくは約20,00
0〜約30,000の範囲である。
リレートポリマーは、そのモノマーの少なくとも一つが
アクリレートモノマー又はメタクリレートモノマーであ
れば、様々なモノマーから誘導してもよい。例えば、代
表的な有用なアクリレートモノマーとメタクリレートモ
ノマーには、メチルメタクリレート、n−ブチルアクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエ
チルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、ヒド
ロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタ
クリレート及びエチルアクリレートが含まれる。好まし
くは、アクリレートモノマーとメタクリレートモノマー
は、アクリル酸又はメタクリル酸と1〜4の炭素原子の
脂肪族アルコール又は2〜4の炭素原子の脂肪族ジオー
ルとのエステルである。
用なアクリレートポリマー又はメタクリレートポリマー
には、メチルメタクリレート/スチレン/n−ブチルア
クリレート/ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメ
タクリレート/n−ブチルメタクリレート/ヒドロキシ
エチルメタクリレート、ならびに、メチルメタクリレー
ト/n−ブチルメタクリレートが含まれる。一般に、ア
クリレートポリマー又はメタクリレートポリマーの骨格
は、多量(重量が)のアクリレート成分又はメタクリレ
ート成分を含み、アクリレートでない成分は、存在した
としても骨格の少量である。
ポリマー又はメタクリレートポリマーには、メチルメタ
クリレート(73)/n−ブチルメタクリレート(2
7)コポリマーである"Elvacite 2008","Elvacite 201
3"(アイシーアイアクリリクス(ICI Acrylics)から入手
可能);アクリルコポリマーである"B-48N"(ロームア
ンドハス(Rohm and Hass)から入手可能);メチルメタ
クリレート(44)/n−ブチルメタクリレート(4
5)/ヒドロキシエチルアクリレート(11)コポリマ
ーである"Ionac X-208"(イオナックケミカルカンパニ
ー(Ionac Chemical Company)から入手可能);n−ブチ
ルアクリレート(80)/ヒドロキシエチルアクリレー
ト(15)/ビニルアセテート(5)コポリマーであ
る"QR-572"(ロームアンドハス(Rohm and Hass)から入
手可能);ならびに、メチルメタクリレート(30)/
ヒドロキシエチルアクリレート(20)コポリマーであ
る"G-Cure868"(ジェネラルミルズ(General Mills)から
入手可能);が含まれる。アクリレートモノマー又はメ
タクリレートモノマーの組合わせを用いてもよい。
ー(例えば、硫酸バリウム、タルク、ガラスバブル);
粘度修正剤(例えば、ピロジェニックシリカ);ならび
に、顔料;のような様々な添加剤を含んでいてもよい。
約45〜約75重量%のガンマ−ブチロラクトン;約1
0〜約20重量%の第1の多機能エポキシ化合物;約
0.1〜約5.0重量%の第2の多機能エポキシ化合
物;約1.5〜約5重量%の芳香族錯塩の光開始剤;な
らびに、約0.1〜約2重量%のガンマグリシドキシプ
ロピルトリメトキシ−シラン;を含有する。他の実施態
様では、組成物は、約45〜約75重量%のガンマ−ブ
チロラクトン;約10〜約20重量%のポリメチルメタ
クリレート−コ−メタクリル酸;約10〜約20重量%
の第1の多機能エポキシ化合物;約0.1〜約5.0重
量%の第2の多機能エポキシ化合物;約1.5〜約3.
0重量%の芳香族錯塩の光開始剤;ならびに、約0.1
〜約2重量%のガンマグリシドキシプロピルトリメトキ
シ−シラン;を含有する。
ストスピナー又は従来のウエハーレジスト堆積タンクの
いずれかの、適当な寸法のチャックの中心に基材を置く
ことを含む。組成物は、手又は機械的に基材の中心に供
給される。次いで、基材を保持するチャックを1分当た
り所定の回転数で回転させ、組成物を基材の中心から基
材の端部に平に広げる。得られるフィルム厚さを変化さ
せるために、基材の回転速度を調整してもよく、また材
料の粘度を変えてもよい。得られるコーティングされた
基材は次いで、チャックから手又は機械的に取外され、
この材料が半焼成されるまで、温度制御されたホットプ
レート内又は温度制御されたオーブン内に置かれる。こ
の段階で液体から溶媒部分が除去され、部分的に乾燥し
たフィルムが基材上に形成される。基材は熱源から取外
されて室温まで冷却される。
めに、この材料をマスクし、視準された紫外線の光源で
露光し、露光後に焼成し、不要な材料を除去することに
よって最終的なパターンが現像される。この手順は、標
準的な半導体リソグラフィックプロセスに極めて類似す
る。マスクは透明で平らな基材で、通常はコーティング
されたフィルムから除去されるパターンを形成する不透
明領域(すなわち、ネガティブ機能を発揮するフォトレ
ジスト)をもったガラス又は石英である。この不透明領
域のために、その下のマスクされたフィルムが紫外線に
よって架橋されるのが防がれる。架橋されなかった材料
は、次いで現像液に溶解され、基材上に隠れた所定パタ
ーンを残して除去される。
とによって、又はスプレーのいずれかによって、現像液
はコーティングされた基材に接触するようになる。スプ
レー又は基材の浸漬のいずれかにより、フォトマスキン
グと露光によって形成された過剰の材料が適切に除去さ
れる。現像液の例には、例えば、キシレンとブチルセロ
ソルブアセテートの混合物、ならびに、ブチルアセテー
トのようなC1−6アセテートが含まれる。
スペクトル領域内の波長で化学線を放射する好適な放射
源によって組成物を露光するときに起きる。約1秒未満
から10分露光されるが、この時間は、用いられる特定
のエポキシ材料と芳香族錯塩の量に依存すると共に、放
射源、放射源からの距離及び硬化させるレジストパター
ンの厚さに依存する。この樹脂組成物はまた、電子ビー
ム照射による露光により硬化させてもよい。
・ジェット・プリント・ヘッドの基材は、ガラス、金
属、セラミック又はシリコーンから作られた誘電層であ
る。
ち、放射源による露光によって芳香族錯塩の分解が一度
開始されると、硬化反応が進行し、放射源が除去された
後にもこの反応は続くであろう。放射源による露光中、
又はその後に、熱エネルギーを用いることにより、通
常、硬化反応を促進させるであろし、温度の穏やかな増
加でさえ、硬化速度を大きく促進させ得る。
第2の多機能エポキシ化合物、シラン、アクリレート、
ならびに、非光反応性溶媒を、硬化を促進しない条件下
で単に混合することによって調製される。この樹脂混合
物がひと度調製されると、スピンコーティング、スプレ
ー、ロールコーティング等のようなこの分野において知
られるコーティング技術によって、例えば、インク・ジ
ェット・プリント・ヘッド基材上にコーティングされ
る。
・ジェット・プリント・ヘッドの概略図である。このイ
ンク・ジェット・プリント・ヘッドは、基材2、基材上
の放射線硬化性樹脂層4、インク・ジェット・チャンバ
10、オリフィス12、ならびに、通路6を含む。通路
6はオリフィス12と流体連通する。プリント・ヘッド
は、オリフィス12を介してインクを放出するためのエ
ネルギーを与えるデバイス18を含む。インクを放出す
るためのエネルギーは、エネルギーを与える所望のデバ
イス18に電気信号を送ることによって発生する。これ
らのエネルギーを与えるデバイスは、基材2上に所望の
パターンに配列された熱抵抗素子又は圧電素子を含む。
量のポリメチルメタクリレート(2〜3%のカルボン酸
官能基を含む)であり、これは、熱圧縮接着に必要な良
好な熱タックと熱接着を与えるだけでなく、優れたフィ
ルム形成能を示す衝撃吸収バインダである。ELVACITE20
08は、アイシーアイアクリクス(ICI Acrylics)から入手
可能である。
張り強さとゴム状弾性を付与する二官能性エポキシ化合
物である。EPON1001Fは、シェルケミカルカンパニー(Sh
ellChemical Company)から入手可能である。
キシ樹脂であり、架橋密度の増加により分解能を増加さ
せ、かつ、溶媒膨張に対する抵抗を向上させる。DEN431
は、ダウケミカルカンパニー(Dow Chemical Company)か
ら入手可能である。
を通ってその下のフィルムに当てられるときに、フィル
ム中のパターンを形成する、芳香族錯塩の光開始剤であ
る。得られる像は、エポキシの厚いフィルム中の隠れた
高解像度の像を残して架橋されていないフィルムを現像
することによって形成される。
く、本発明のさらなる特徴を示す。
0g溶液を調製した。この混合物をローラミルで16時
間回転させた。EPON1001F、40gを粉末に粉砕し、前
記溶液に添加した。この溶液をローラミルで16時間回
転させた。DEN431、10グラムと酸化リモネン(低粘度
液の一官能性エポキシ)5gを前記溶液に添加して、溶
液が均質になるまで混合した。UVI6974、10グラムを
添加して完全に混合した。
・プリンタのプリントヘッドを作るために用いられる基
材上において、溶液をスピナーで2.5K rpmで3
0秒回転させ、その後現像して30ミクロンのフィルム
を形成した。この後、インクジェット・ノズル・プレー
トをインクジェット・プリントヘッド作るための従来の
接着技術によって基材に取付けた。インクジェット・プ
リントヘッドを従来のインク・ジェット・インク(60
℃)内に配置した後に、ノズル・プレートが約1ケ月後
に外れ始めた。
0g溶液を調製した。この混合物をローラミルで16時
間回転させた。EPON1001F、40gを粉末に粉砕し、前
記溶液に添加した。この溶液をローラミルで16時間回
転させた。DEN431、10グラムを前記溶液に添加して溶
液が均質になるまで混合した。UVI6974、5グラムを添
加して完全に混合した。グリシソキシプロピルトリメト
キシ−シランの1gを、得られた溶液に添加した。
ト・プリンタのプリントヘッドを作るために用いられる
基材上において、溶液をスピナーで2.5K rpmで
30秒回転させ、現像された30ミクロンのフィルムを
形成した。この後、フェノールブチラールでコーティン
グされたポリイミドインク・ジェット・ノズル・プレー
トを、インクジェット・プリントヘッド作るための従来
技術によって基材に取付けた。インクジェット・プリン
トヘッドを従来のインク・ジェット・インク(60℃)
内に配置した後に、ノズル・プレートは約1ケ月後に少
しも外れていなかった。
/100gとし、スピナーを3.0rpmで60秒にセ
ットし、さらにフィルムを2.5ミクロンとしたこと以
外は、実施例2に示したのと同様の方法で、硬化性樹脂
とインク・ジェット・プリントヘッドを調製した。得ら
れたプリントヘッドを従来のインク・ジェット・インク
内に60℃で配置した。約1ケ月後、ノズル・プレート
は基材から少しも外れていなかった。
したが、この分野の技術内の変更及び修正が添付の請求
項の精神及び範囲内において行なわれることが理解され
るであろう。
えるインク・ジェット・プリント・ヘッドの断面図。
Claims (9)
- 【請求項1】 (A)樹脂組成物の全重量に対して約5〜
約50重量%の第1の多機能エポキシ化合物と; (B)樹脂組成物の全重量に対して約0.5〜約20重量
%の第2の多機能エポキシ化合物と; (C)樹脂組成物の全重量に対して約1.0〜約10重量
%の、カチオンを生成可能な光開始剤と; (D) 上記(A)、(B)及び(C)から選択される少なくとも一
つと反応可能な官能基を有するシランと; (E)樹脂組成物の全重量に対して約20〜約90重量%
の非光反応性溶媒と;を含む放射線硬化性樹脂組成物。 - 【請求項2】 基材上に設けられたインク放出出口に接
続されたインク通路を有するインク・ジェット・プリン
ト・ヘッドであって、放射線硬化性樹脂組成物の層を放
射線によって所定パターンに露光しこれによって前記樹
脂組成物の硬化領域を形成し、かつ、未硬化の樹脂組成
物領域を前記層から除去することにより前記通路を形成
し、前記放射線硬化性樹脂組成物が、 (A)樹脂組成物の全重量に対して約5〜約50重量%の
第1の多機能エポキシ化合物と; (B)樹脂組成物の全重量に対して約0.5〜約20重量
%の第2の多機能エポキシ化合物と; (C)樹脂組成物の全重量に対して約1.0〜約10重量
%の、カチオンを生成可能な光開始剤と; (D) 上記(A)、(B)及び(C)から選択される少なくとも一
つと反応可能な官能基を有するシランと; (E)樹脂組成物の全重量に対して約20〜約90重量%
の非光反応性溶媒と;を含む、インク・ジェット・プリ
ント・ヘッド。 - 【請求項3】 基材上に設けられたインク放出出口に接
続されたインク通路を有するインク・ジェット・プリン
ト・ヘッドであって、放射線硬化性樹脂組成物の層を放
射線によって所定パターンに露光しこれによって前記樹
脂組成物の硬化領域を形成し、かつ、未硬化の樹脂組成
物領域を前記層から除去することにより前記通路を形成
し、前記放射線硬化性樹脂組成物が、 (A)樹脂組成物の全重量に対して約10〜約20重量%
の第1の多機能エポキシ化合物と; (B)樹脂組成物の全重量に対して約4.5重量%未満の
第2の多機能エポキシ化合物と; (C)樹脂組成物の全重量に対して約1〜約10重量%
の、カチオンを生成可能な光開始剤と; (D) 樹脂組成物の全重量に対して約20〜約90重量%
の非光反応性溶媒と;を含む、インク・ジェット・プリ
ント・ヘッド。 - 【請求項4】 前記第1の多機能エポキシ化合物の分子
量が、約100〜100,000である、請求項2に記
載のインク・ジェット・プリント・ヘッド。 - 【請求項5】 前記第1の多機能エポキシ化合物が、ビ
スフェノールAのジグリシジルエーテルである、請求項
2に記載のインク・ジェット・プリント・ヘッド。 - 【請求項6】 前記光開始剤が、第VA族のオニウム
塩、第VIA族のオニウム塩、芳香族ハロニウム塩、な
らびに、これらの混合物からなる群から選択される芳香
族錯塩の光開始剤である、請求項2に記載のインク・ジ
ェット・プリント・ヘッド。 - 【請求項7】 前記樹脂組成物が35重量%までのアク
リレートポリマー又はメタクリレートポリマーをさらに
含む、請求項2に記載のインク・ジェット・プリント・
ヘッド。 - 【請求項8】 前記アクリレートポリマー又はメタクリ
レートポリマーが、メチルメタクリレート/n−ブチル
メタクリレート;メチルメタクリレート/n−ブチルメ
タクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート;メチ
ルメタクリレート/−スチレン/n−ブチルアクリレー
ト/ヒドロキシエチルアクリレート;スチレン/ヒドロ
キシエチルアクリレート;ならびに、n−ブチルアクリ
レート/ヒドロキシエチルアクリレート/ビニルアセテ
ート;からなる群から選択される、請求項7に記載のイ
ンク・ジェット・プリント・ヘッド。 - 【請求項9】 (A)樹脂組成物の全重量に対して約5〜
約50重量%の第1の多機能エポキシ化合物と; (B)樹脂組成物の全重量に対して約4.5重量%未満の
第2の多機能エポキシ化合物と; (C)樹脂組成物の全重量に対して約1.0〜約10重量
%の、カチオンを生成可能な光開始剤と; (D) 樹脂組成物の全重量に対して約20〜約90重量%
の非光反応性溶媒と;を含む放射線硬化性樹脂組成物。
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JP4051467B2 JP4051467B2 (ja) | 2008-02-27 |
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Country | Link |
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US (1) | US5907333A (ja) |
EP (1) | EP0867488B1 (ja) |
JP (1) | JP4051467B2 (ja) |
KR (1) | KR100527608B1 (ja) |
CN (1) | CN1119245C (ja) |
AT (1) | ATE242299T1 (ja) |
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- 1998-03-27 EP EP98302358A patent/EP0867488B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-27 AT AT98302358T patent/ATE242299T1/de not_active IP Right Cessation
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---|---|
DE69815189D1 (de) | 2003-07-10 |
CN1119245C (zh) | 2003-08-27 |
EP0867488A1 (en) | 1998-09-30 |
CN1197817A (zh) | 1998-11-04 |
TW412633B (en) | 2000-11-21 |
ATE242299T1 (de) | 2003-06-15 |
EP0867488B1 (en) | 2003-06-04 |
KR100527608B1 (ko) | 2006-02-28 |
DE69815189T2 (de) | 2004-06-03 |
US5907333A (en) | 1999-05-25 |
JP4051467B2 (ja) | 2008-02-27 |
KR19980080815A (ko) | 1998-11-25 |
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A621 | Written request for application examination |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070712 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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