JPH10338798A - 放射線硬化性樹脂層を備えたインク・ジェット・プリントヘッド - Google Patents

放射線硬化性樹脂層を備えたインク・ジェット・プリントヘッド

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JPH10338798A
JPH10338798A JP10123834A JP12383498A JPH10338798A JP H10338798 A JPH10338798 A JP H10338798A JP 10123834 A JP10123834 A JP 10123834A JP 12383498 A JP12383498 A JP 12383498A JP H10338798 A JPH10338798 A JP H10338798A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 インク・ジェット・プリント・ヘッドに使用
する、改善された放射線硬化性樹脂を提供する。 【解決手段】 本発明は、基材に取付けられた放射線で
硬化された樹脂層に形成されたインク通路を有するイン
ク・ジェット・プリント・ヘッドに関する。通路は、オ
リフィス・プレートによって与えられるインク放出出口
に流体連通して接続される。樹脂層に通路を形成するた
めに、樹脂組成物を所定のパターンで放射線源により露
光して、樹脂層の所定領域を硬化し、通路を与える他の
領域は未硬化のまま残す。未硬化領域は、所望の通路を
残して樹脂層から除去する。放射線硬化層を形成するた
めに用いられる樹脂組成物は、第1の多機能エポキシ化
合物;第2の多機能エポキシ化合物;光開始剤;ならび
に、非光反応性溶媒;を含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、放射線硬化性樹脂
層を備えたインク・ジェット・プリント・ヘッドに関す
る。
【0002】
【従来の技術】インク・ジェット・プリンタのインク・
ジェット・プリント・ヘッドは、通常、基材に記録する
ためのインクを放出するオリフィス又は噴射部材を備え
たオリフィス・プレート;オリフィスをインク供給部に
接続するインク通路;ならびに、オリフィスを介してプ
リント・ヘッドからインクを噴出させるためのエネルギ
ーを与えるデバイス;からなる。記録する間にインクを
放出するためのエネルギー源は、ほとんどの場合におい
て、抵抗要素又は圧電素子によって働く。
【0003】インク・ジェット・プリント・ヘッドのた
めのインク通路を製造する方法は、例えば、カッティン
グ又はエッチングによって、ガラス、金属又はプラスチ
ックの薄層に微細な溝を形成し、次いで、このような溝
が上部に形成された層の上に他の材料薄層を接合するこ
とを含む。他の方法では、エネルギーを与えるデバイス
を備える基材にコーティングされた光感応性樹脂中に、
フォトリソグラフィック技術によって溝を形成すること
が含まれる。ひと度、光感応性樹脂中に溝が形成されれ
ば、他の薄層材料が溝の形成された樹脂に取付けられ、
例えばノズル・プレートを形成する。
【0004】インク・ジェット・プリント・ヘッドを調
製するこれらの方法の中で、インク通路層の少なくとも
一部分を形成するために光感応性樹脂を使用すること
は、液体通路を高精度かつ高歩留りで製造することがで
きると共に、液体ジェット記録ヘッドを高品質かつ低コ
ストで得ることができるので、他の方法に比べて有利で
ある。この光感応性樹脂は、(1)硬化フィルムの基材
への優れた接着性;(2)硬化の際における、優れた機
械的強度と耐久性;ならびに、(3)放射線源によるパ
ターニングの際における、優れた感光性と分解能;を有
することが要求される。
【0005】公知の光硬化性樹脂のうち、米国特許第
4,623,676号には、写真部品のための保護コー
ティングとして用いられる放射線硬化性組成物が記載さ
れており、この組成物は、重合性のアクリル化合物;重
合性のエポキシ−官能性シラン;前記アクリル化合物の
重合を開始させることができるフリーラジカル芳香族錯
塩の光開始剤;ならびに、前記エポキシ−官能性シラン
の重合を開始させることができるカチオン性の芳香族錯
塩の光開始剤;を含有する。
【0006】米国特許第4,688,053号には、線
状ポリマー;モノマー;エポキシ樹脂;ならびに、重合
開始剤;を含有する放射線硬化性樹脂組成物の層を有す
る液状ジェット記録ヘッドが記載されており、このポリ
マーは、少なくとも50/Cのガラス転移温度と少なく
とも3.9×104の重量平均分子量とを有し、このモ
ノマーはエチレン不飽和結合を有し、このエポキシ樹脂
は1以上のエポキシ基を有し、この重合開始剤はエネル
ギー源の照射によってルイス酸を生成可能である。
【0007】米国特許第4,090,936号には、有
機化合物;有機ポリマー;及び光開始剤;を含有する光
硬化性組成物が記載されており、この有機化合物は約1
〜1.3の範囲の平均エポキシド官能基を有し、この有
機ポリマーは、アクリレートモノマー又はメタクリレー
トモノマーから誘導されるポリマー、スチレンとアリル
アルコールのコポリマー、ポリビニルブチラールポリマ
ーから選択され、この光開始剤は芳香族錯塩である。
【0008】しかしながら、公知の光感応性樹脂には、
インク・ジェット・プリント・ヘッドの応用に用いるた
めの全ての要求特性を満たすものはない。例えば、印刷
プレートや印刷ワイヤーなどにパターンを形成するため
に用いられる光感応性樹脂は、感光性と分解能において
良好であるが、金属、セラミック及びプラスチックへの
接着に劣っており、また、硬化の際の機械的強度と耐久
性が不十分である。これらの理由から、光感応性樹脂を
プリント・ヘッドに使用する際に、インク通路内のイン
クの流れを妨げたり、又は、インク滴を著しく不安定に
放出することによりインク・ジェット・プリント・ヘッ
ドの信頼性を低減するように使用する場合には、基材か
らの歪みやはがれ、又は光感応性樹脂層の劣化が生じ易
い。
【0009】一方、ガラス、金属、セラミック及びプラ
スチックに接着され、かつ、硬化後の機械的強度と耐久
性を満たす光硬化性樹脂は、感光性と分解能において劣
っている。光硬化性樹脂の本来の特性によれば、この樹
脂をインク・ジェット・プリント・ヘッド内で使用する
ための精密なパターン状に硬化できないので、この樹脂
はインク通路を設ける使用に適していない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、イン
ク・ジェット・プリント・ヘッドにおいて使用するため
の、改善された放射線硬化性樹脂を提供することであ
る。
【0011】本発明の他の目的は、上述のような全ての
必要な特性を満たす樹脂から作られたインク通路層を備
えるインク・ジェット・プリント・ヘッドで、高価でな
く、精密で、信頼性が高く、かつ、耐久性に優れたイン
ク・ジェット・プリント・ヘッドを提供することであ
る。
【0012】本発明の更に他の目的は、精密に作られた
インク通路を有するインク・ジェット・プリント・ヘッ
ドを提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、プリント・ヘ
ッドからインクを噴出するためのエネルギーを与えるデ
バイスを備える基材に取付けられた放射線硬化性樹脂中
に、インク通路を備えるインク・ジェット・プリント・
ヘッドを提供する。放射線硬化性樹脂組成物の層に放射
線を当てて所定パターンを形成しこれによって樹脂の硬
化領域を形成することにより、前記通路を樹脂中に形成
する。次いで、樹脂の未硬化領域は除去される。上記及
び他の目的に関しては、本発明により、約5〜約50重
量%、好ましくは約10〜約20重量%の第1の多機能
エポキシ化合物;約0.05〜約20重量%、好ましく
は約0.1〜約5.0重量%の第2の多機能エポキシ化
合物;約1.0〜約10重量%、好ましくは約1.5〜
約5重量%の、芳香族錯塩の光開始剤のようなカチオン
を生成可能な光開始剤;約20〜約90重量%、好まし
くは約45〜約75重量%の第2の非光反応性溶媒;を
含む放射線硬化性樹脂組成物が提供される。なお、ここ
で示す重量%は樹脂組成物の全重量に対するものであ
り、これに包含される全範囲を含む。
【0014】この樹脂組成物は、非光反応性溶媒システ
ムを用い(水性又は非水性にできる)、このシステムは
環境的に受入れられるものである。本発明の放射線で硬
化された樹脂層は、高分解能、高アスペクト比、ならび
に、金又は金/タンタルのような金属表面への高接着性
を示し、これによって、現在のそして予測される製品需
要にこの樹脂の応用が広げられる。さらに、硬化樹脂
は、永久的に形成され、かつ高pHのインク抵抗バリア
ー層を提供し、このバリアー層は、インク自身による腐
食又は化学的作用に抗しつつ、インク・ジェット・プリ
ント・ヘッド内のインク滴の大きさを制御することに寄
与できる。
【0015】ノズル・プレートが、フェノールブチラー
ルでコーティングされたポリイミドノズル・プレートの
ような、アルコールでコーティングされたポリマーであ
るときに、放射線で硬化された樹脂はまた、予期せぬこ
とにノズル・プレートと基材との間の良好な接着を与え
る。
【0016】本発明の上記及び他の特徴が、添付図面と
の結び付きを考慮した以下の詳細な明細書において更に
説明されよう。
【0017】
【発明の実施の形態】本発明は、基材に取付けられた放
射線硬化性樹脂層中に形成されたインク通路を備えたイ
ンク・ジェット・プリント・ヘッドに関する。この通路
はオリフィス・プレートによって与えられるインク放出
口に流体連通して接続される。樹脂層中にこの通路を形
成するために、所定のパターンで樹脂組成物を放射線源
によって露光し樹脂層の所定領域を硬化し、一方、通路
となる他の領域は未硬化のまま残す。この未硬化領域
は、所望の通路を残して樹脂層から除去する。放射線硬
化性樹脂層を形成するために用いられる樹脂組成物は、
第1の多機能エポキシ化合物;第2の多機能エポキシ化
合物;カチオンを生成することができる光開始剤;及び
非光反応性溶媒;を含む。好ましい実施態様では、この
樹脂組成物は、第1の多機能エポキシ化合物;第2の多
機能エポキシ化合物;及び、光開始剤からなる群から選
択される少なくとも一つと反応可能な官能基を有するシ
ランと同様に、アクリレートポリマー又はメタクリレー
トポリマーのようなフィルム強化剤を含む。このような
シランは、好ましくは、ガンマ−グリシドキシプロピル
トリメトキシ−シランなどのグリシドキシアルキルトリ
アルコキシ−シランのようなエポキシ官能基をもつシラ
ンである。このシランは樹脂組成物の全重量を基礎にし
て、約0.05〜約10重量%、好ましくは約0.1〜
約2重量%の量で存在し、これに包含される全範囲を含
む。ここで用いられるフィルム強化剤は、この樹脂組成
物に可溶な有機材料を意味するものとして限定され、こ
の有機材料によってこの樹脂組成物のフィルム形成特性
が補助される。
【0018】硬化性樹脂組成物中にシランを全く用いな
い場合には、用いられる第2の多機能エポキシ化合物の
量は、約4.5%、好ましくは約4.0%未満であるこ
とがさらに注目される。
【0019】樹脂組成物の第1の成分は、開環によって
重合可能な少なくとも二つのオキシラン環を好ましくは
有するあらゆる有機化合物を含む、第1の多機能エポキ
シ化合物である。したがって、多機能とは平均して、
1.0より大きな、好ましくは2以上のエポキシド官能
基を有することを意味する。第1の多機能エポキシ化合
物、及び/又は、第2の多機能エポキシ化合物は、重合
及び/又は架橋してもよいことがさらに注目される。。
第2の多機能エポキシ化合物は、好ましくは主架橋剤で
ある。第1の多機能エポキシ化合物は、好ましくは、モ
ノマー性の二官能基性エポキシ化合物とポリマー性の二
官能基性エポキシ化合物とを含む、二官能基性のエポキ
シ化合物であり、これら二官能基性のエポキシ化合物の
骨格と置換基の種類は異なっていてもよい。さらに、第
1の多機能エポキシ化合物は、好ましくは置換基として
水酸基を有する。この好ましい置換基である水酸基の他
に許容される置換基には、例えば、ハロゲン、エステル
基、エーテル、スルホネート基、シロキサン基、ニトロ
基、及びリン酸基が含まれる。この第1の多機能エポキ
シ化合物の分子量(MN)は、約75〜約100,00
0に変化する。
【0020】二官能基性のエポキシ化合物又は二官能基
性のエポキシ化合物の混合物は、好ましくは液体であ
る。しかしながら、最終的な混合物が液相であれば、一
つ以上の固体状二官能基性のエポキシ化合物が混合物中
に含まれていてもよい。
【0021】用いられる二官能基性のエポキシ化合物
は、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル(例えば
これらは、シェルケミカルカンパニー(Shell Chemical
Co.,)から商標 "Epon 828","Epon 1004","Epon 1001
F","Epon SU-8"及び "Epon 1010"として入手可能であ
り、ダウケミカルカンパニー(Dow Chemical Co.,)から
商標"DER-331","DER-332"及び"DER-334 として入手可能
である);3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3,4−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート(例
えば、ユニオンカーバイドコーポレーション(Union Car
bide Corp.)からの "ERL-4221");3,4−エポキシ−
6−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−
6−メチルシクロヘキセンカルボキシレート(例えば、
ユニオンカーバイドコーポレーション(Union Carbide C
orp.)からの "ERL-4201");ビス(3,4−エポキシ−
6−メチルシクロヘキシルメチルアジペート(例えば、
ユニオンカーバイドコーポレーション(Union Carbide C
orp.)からの "ERL-4289");ビス(2,3−エポキシシ
クロペンチルエーテル(例えば、ユニオンカーバイドコ
ーポレーション(Union Carbide Corp.)からの "ERL-040
0");を含む。二官能基性のエポキシ化合物は、組成物
中に約5〜約50重量%、好ましくは約10〜約20重
量%の量で存在する。
【0022】樹脂組成物の第2の成分は、第2の多機能
エポキシ化合物である。この第2の多機能エポキシ化合
物では架橋密度を増加させるのが好ましく、これによっ
て分解能が増加し、かつ溶媒膨張に対する耐性が改善さ
れる。第2の多機能エポキシ化合物の種類は、所望の樹
脂とすることができる化合物であれば通常限定されるも
のではない。このような第2の多機能エポキシ化合物の
例示リストには、例えば、フェノール;アルデヒド;な
らびに、DEN-431,DEN-438,DEN439(ダウプラスチックス
(Dow Plastics)から入手可能な)のようなエポキシド;
との反応生成物が含まれる。
【0023】この第2の多機能エポキシ化合物は、樹脂
組成物の全重量に対して、組成物中に約0.5〜約20
重量%、好ましくは約1〜約10重量%、最も好ましく
は約1〜約5重量%の量で存在する。本発明の第1と第
2の多機能エポキシ化合物を説明する際において、化合
物にはモノマーとポリマーが含まれることを意味する。
【0024】樹脂組成物の第3の成分は、VA族のオニ
ウム塩;VIA族のオニウム塩;及び芳香族ハロニウム
塩;から選択される芳香族錯塩の光開始剤のようなカチ
オンを生成可能な光開始剤である。これらの錯塩は、紫
外線照射又は電子ビーム照射にさらされることにより、
エポキシとの反応を開始する成分を生成できる。芳香族
錯塩の光開始剤は、樹脂組成物の全重量に対して、組成
物中に約1.0〜約10重量%、好ましくは約1.5〜
約5重量%の量で存在する。
【0025】好ましい芳香族錯塩の光開始剤は、芳香族
アイオドニウム(iodonium)錯塩と芳香族スルホニウム錯
塩を含む。芳香族アイオドニウム錯塩の光開始剤の例に
は、以下のものが含まれる。ジフェニルアイオドニウム
テトラフルオロボレート;ジ(4−メチルフェニル)ア
イオドニウムテトラフルオロボレート;フェニル−4−
メチルフェニルアイオドニウムテトラフルオロボレー
ト;ジ(4−ヘプチルフェニル)アイオドニウムテトラ
フルオロボレート;ジ(3−ニトロフェニル)アイオド
ニウムヘキサフルオロホスフェート;ジ(4−クロロフ
ェニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;
ジ(ナフチル)アイオドニウムテトラフルオロボレー
ト;ジ(4−トリフルオロメチルフェニル)アイオドニ
ウムテトラフルオロボレート;ジフェニルアイオドニウ
ムヘキサフルオロホスフェート;ジ(4−メチルフェニ
ル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;ジフ
ェニルアイオドニウムヘキサフルオロアルセナート;ジ
(4−フェノキシフェニル)アイオドニウムテトラフル
オロボレート;フェニル−2−チエニルオニウムヘキサ
フルオロホスフェート;3,5−ジメチルピラゾリル−
4−フェニルアイオドニウムヘキサフルオロホスフェー
ト;ジフェニルアイオドニウムヘキサフルオロアンチモ
ナート;2,2’−ジフェニルアイオドニウムテトラフ
ルオロボレート;ジ(2,4−ジクロロフェニル)アイ
オドニウムヘキサフルオロホスフェート;ジ(4−ブロ
モフェニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェー
ト;ジ(4−メトキシフェニル)アイオドニウムヘキサ
フルオロホスフェート;ジ(3−カルボキシフェニル)
アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;ジ(3−
メトキシカルボキシフェニル)アイオドニウムヘキサフ
ルオロホスフェート;ジ(3−メトキシスルホニルフェ
ニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;ジ
(4−アセタミドフェニル)アイオドニウムヘキサフル
オロホスフェート;ジ(2−ベンゾエチエニル)アイオ
ドニウムヘキサフルオロホスフェート;
【0026】本発明の組成物に用いるのに好適な芳香族
アイオドニウム錯塩の中の好適な塩は、ジアリールアイ
オドニウムヘキサフルオロホスフェートとジアリールア
イオドニウムヘキサフルオロアンチモナートである。こ
れらの塩が好適なのは、通常、これらが熱的により安定
であり、反応を速く進め、そして、他の芳香族アイオド
ニウム錯イオン塩より不活性有機溶媒により溶解性だか
らである。
【0027】芳香族のスルホニウム錯塩の光開始剤の例
には、以下のものが含まれる。トリフェニルスルホニウ
ムテトラフルオロボレート;メチルジフェニルスルホニ
ウムテトラフルオロボレート;ジメチルフェニルスルホ
ニウムヘキサフルオロホスフェート;トリフェニルスル
ホニウムヘキサフルオロホスフェート;トリフェニルス
ルホニウムヘキサフルオロアンチモナート;ジフェニル
ナフチルスルホニウムヘキサフルオロアルセナート;ト
リトリスルホニウムヘキサフルオロホスフェート;アニ
シルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモナ
ート;4−ブトキシフェニルジフェニルスルホニウムテ
トラフルオロボレート;4−クロロフェニルジフェニル
スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート;トリス
(4−フェノキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオ
ロホスフェート;ジ(4−エトキシフェニル)メチルス
ルホニウムヘキサフルオロアルセナート;4−アセトキ
シ−フェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボ
レート;トリス(4−チオメトキシフェニル)スルホニ
ウムヘキサフルオロホスフェート;ジ(メトキシスルホ
ニルフェニル)メチルスルホニウムヘキサフルオロアン
チモナート;ジ(メトキシナフトチル)メチルスルホニ
ウムテトラフルオロボレート;ジ(カルボメトキシフェ
ニル)メチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェー
ト;4−アセタミドフェニルジフェニルスルホニウムテ
トラフルオロボレート;ジメチルナフチルスルホニウム
ヘキサフルオロホスフェート;トリフルオロメチルジフ
ェニルスルホニウムテトラフルオロボレート;メチル
(n−メチルフェノチアジニル)スルホニウムヘキサフ
ルオロアンチモナート;フェニルメチルベンジルスルホ
ニウムヘキサフルオロホスフェート;
【0028】本発明の組成物に用いるのに好適な芳香族
スルホニウム錯塩中の好適な塩は、トリフェニルスルホ
ニウムヘキサフルオロホスフェートのようなトリアリー
ル−置換された塩である。これらのトリアリール−置換
された塩が好適なのは、これらがモノ及びジアリール置
換された塩より熱的に安定であり、これにより、貯蔵寿
命の長いワン−パートシステムが得られる。トリアリー
ル−置換された錯塩はまた、染料増感に対してより敏感
である。したがって、このような錯塩を用いることによ
り、近紫外線及び可視光線を露光に用いる応用において
非常に有用な組成物が得られる。もし所望ならば、組成
物を貯蔵可能な形態(すなわち、高濃度錯塩として)で
調製してもよく、これは、商業的に実用的なコーティン
グ組成物として後の希釈に適している。
【0029】カチオンを生成可能な最も好ましい光開始
剤は、ユニオンカーバイド(UnionCarbide (UV1-697
5))から商業的に入手可能なトリアリールスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモナートの混合物である。
【0030】この樹脂組成物の第4の成分は、非光反応
性溶媒である。この溶媒は、所望の成分が硬化前にこれ
に溶解可能である点においてのみ制限される。好ましい
非光反応性溶媒には、ガンマ−ブチロラクトン、C1−
6アセテート、テトラヒドロフラン低分子量ケトン、こ
れらの混合物などが含まれる。
【0031】この非光反応性溶媒は、樹脂組成物の全重
量に対して、組成物中に約20〜約90重量%、好まし
くは約45〜約75重量%の量で存在する。
【0032】本発明の樹脂組成物は、約35重量%、好
ましくは約10〜約20重量%までのアクリレートポリ
マー又はメタクリレートポリマーを含んでいてもよく、
これらは、少なくとも一つのアクリレートモノマー又は
メタクリレートモノマーから誘導される。これらのポリ
マーは、ホモポリマー、コポリマー又はブレンドでもよ
い。ここで用いる”ポリマー”という用語は、高分子量
ポリマー(約1,000,000までの範囲の数平均分
子量を有する)と同様にオリゴマー(例えば、約100
0程度と低い数平均分子量を有する物質)も含む意味で
ある。アクリレートポリマー又はメタクリレートポリマ
ーの数平均分子量は、好ましくは約10,000〜約6
0,000の範囲であり、最も好ましくは約20,00
0〜約30,000の範囲である。
【0033】好ましいアクリレートポリマー又はメタク
リレートポリマーは、そのモノマーの少なくとも一つが
アクリレートモノマー又はメタクリレートモノマーであ
れば、様々なモノマーから誘導してもよい。例えば、代
表的な有用なアクリレートモノマーとメタクリレートモ
ノマーには、メチルメタクリレート、n−ブチルアクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエ
チルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、ヒド
ロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタ
クリレート及びエチルアクリレートが含まれる。好まし
くは、アクリレートモノマーとメタクリレートモノマー
は、アクリル酸又はメタクリル酸と1〜4の炭素原子の
脂肪族アルコール又は2〜4の炭素原子の脂肪族ジオー
ルとのエステルである。
【0034】前記モノマーから誘導される、代表的な有
用なアクリレートポリマー又はメタクリレートポリマー
には、メチルメタクリレート/スチレン/n−ブチルア
クリレート/ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメ
タクリレート/n−ブチルメタクリレート/ヒドロキシ
エチルメタクリレート、ならびに、メチルメタクリレー
ト/n−ブチルメタクリレートが含まれる。一般に、ア
クリレートポリマー又はメタクリレートポリマーの骨格
は、多量(重量が)のアクリレート成分又はメタクリレ
ート成分を含み、アクリレートでない成分は、存在した
としても骨格の少量である。
【0035】商業的に入手可能な有用な、アクリレート
ポリマー又はメタクリレートポリマーには、メチルメタ
クリレート(73)/n−ブチルメタクリレート(2
7)コポリマーである"Elvacite 2008","Elvacite 201
3"(アイシーアイアクリリクス(ICI Acrylics)から入手
可能);アクリルコポリマーである"B-48N"(ロームア
ンドハス(Rohm and Hass)から入手可能);メチルメタ
クリレート(44)/n−ブチルメタクリレート(4
5)/ヒドロキシエチルアクリレート(11)コポリマ
ーである"Ionac X-208"(イオナックケミカルカンパニ
ー(Ionac Chemical Company)から入手可能);n−ブチ
ルアクリレート(80)/ヒドロキシエチルアクリレー
ト(15)/ビニルアセテート(5)コポリマーであ
る"QR-572"(ロームアンドハス(Rohm and Hass)から入
手可能);ならびに、メチルメタクリレート(30)/
ヒドロキシエチルアクリレート(20)コポリマーであ
る"G-Cure868"(ジェネラルミルズ(General Mills)から
入手可能);が含まれる。アクリレートモノマー又はメ
タクリレートモノマーの組合わせを用いてもよい。
【0036】本発明の樹脂組成物はまた、従来のフィラ
ー(例えば、硫酸バリウム、タルク、ガラスバブル);
粘度修正剤(例えば、ピロジェニックシリカ);ならび
に、顔料;のような様々な添加剤を含んでいてもよい。
【0037】本発明の実施態様の一つでは、組成物は、
約45〜約75重量%のガンマ−ブチロラクトン;約1
0〜約20重量%の第1の多機能エポキシ化合物;約
0.1〜約5.0重量%の第2の多機能エポキシ化合
物;約1.5〜約5重量%の芳香族錯塩の光開始剤;な
らびに、約0.1〜約2重量%のガンマグリシドキシプ
ロピルトリメトキシ−シラン;を含有する。他の実施態
様では、組成物は、約45〜約75重量%のガンマ−ブ
チロラクトン;約10〜約20重量%のポリメチルメタ
クリレート−コ−メタクリル酸;約10〜約20重量%
の第1の多機能エポキシ化合物;約0.1〜約5.0重
量%の第2の多機能エポキシ化合物;約1.5〜約3.
0重量%の芳香族錯塩の光開始剤;ならびに、約0.1
〜約2重量%のガンマグリシドキシプロピルトリメトキ
シ−シラン;を含有する。
【0038】基材にこの組成物を塗布する方法は、レジ
ストスピナー又は従来のウエハーレジスト堆積タンクの
いずれかの、適当な寸法のチャックの中心に基材を置く
ことを含む。組成物は、手又は機械的に基材の中心に供
給される。次いで、基材を保持するチャックを1分当た
り所定の回転数で回転させ、組成物を基材の中心から基
材の端部に平に広げる。得られるフィルム厚さを変化さ
せるために、基材の回転速度を調整してもよく、また材
料の粘度を変えてもよい。得られるコーティングされた
基材は次いで、チャックから手又は機械的に取外され、
この材料が半焼成されるまで、温度制御されたホットプ
レート内又は温度制御されたオーブン内に置かれる。こ
の段階で液体から溶媒部分が除去され、部分的に乾燥し
たフィルムが基材上に形成される。基材は熱源から取外
されて室温まで冷却される。
【0039】得られたフィルムにパターンを形成するた
めに、この材料をマスクし、視準された紫外線の光源で
露光し、露光後に焼成し、不要な材料を除去することに
よって最終的なパターンが現像される。この手順は、標
準的な半導体リソグラフィックプロセスに極めて類似す
る。マスクは透明で平らな基材で、通常はコーティング
されたフィルムから除去されるパターンを形成する不透
明領域(すなわち、ネガティブ機能を発揮するフォトレ
ジスト)をもったガラス又は石英である。この不透明領
域のために、その下のマスクされたフィルムが紫外線に
よって架橋されるのが防がれる。架橋されなかった材料
は、次いで現像液に溶解され、基材上に隠れた所定パタ
ーンを残して除去される。
【0040】タンクのような装置中に浸漬し攪拌するこ
とによって、又はスプレーのいずれかによって、現像液
はコーティングされた基材に接触するようになる。スプ
レー又は基材の浸漬のいずれかにより、フォトマスキン
グと露光によって形成された過剰の材料が適切に除去さ
れる。現像液の例には、例えば、キシレンとブチルセロ
ソルブアセテートの混合物、ならびに、ブチルアセテー
トのようなC1−6アセテートが含まれる。
【0041】本発明の樹脂組成物の硬化は、紫外と可視
スペクトル領域内の波長で化学線を放射する好適な放射
源によって組成物を露光するときに起きる。約1秒未満
から10分露光されるが、この時間は、用いられる特定
のエポキシ材料と芳香族錯塩の量に依存すると共に、放
射源、放射源からの距離及び硬化させるレジストパター
ンの厚さに依存する。この樹脂組成物はまた、電子ビー
ム照射による露光により硬化させてもよい。
【0042】エネルギーを与えるデバイスを含むインク
・ジェット・プリント・ヘッドの基材は、ガラス、金
属、セラミック又はシリコーンから作られた誘電層であ
る。
【0043】この硬化はトリガー反応であり、すなわ
ち、放射源による露光によって芳香族錯塩の分解が一度
開始されると、硬化反応が進行し、放射源が除去された
後にもこの反応は続くであろう。放射源による露光中、
又はその後に、熱エネルギーを用いることにより、通
常、硬化反応を促進させるであろし、温度の穏やかな増
加でさえ、硬化速度を大きく促進させ得る。
【0044】
【発明の効果】本発明の樹脂組成物は、例えば、第1と
第2の多機能エポキシ化合物、シラン、アクリレート、
ならびに、非光反応性溶媒を、硬化を促進しない条件下
で単に混合することによって調製される。この樹脂混合
物がひと度調製されると、スピンコーティング、スプレ
ー、ロールコーティング等のようなこの分野において知
られるコーティング技術によって、例えば、インク・ジ
ェット・プリント・ヘッド基材上にコーティングされ
る。
【0045】図面に言及すると、図1は本発明のインク
・ジェット・プリント・ヘッドの概略図である。このイ
ンク・ジェット・プリント・ヘッドは、基材2、基材上
の放射線硬化性樹脂層4、インク・ジェット・チャンバ
10、オリフィス12、ならびに、通路6を含む。通路
6はオリフィス12と流体連通する。プリント・ヘッド
は、オリフィス12を介してインクを放出するためのエ
ネルギーを与えるデバイス18を含む。インクを放出す
るためのエネルギーは、エネルギーを与える所望のデバ
イス18に電気信号を送ることによって発生する。これ
らのエネルギーを与えるデバイスは、基材2上に所望の
パターンに配列された熱抵抗素子又は圧電素子を含む。
【0046】以下の材料を実施例において用いた。
【0047】ELVACITE2008は、非光反応性である低分子
量のポリメチルメタクリレート(2〜3%のカルボン酸
官能基を含む)であり、これは、熱圧縮接着に必要な良
好な熱タックと熱接着を与えるだけでなく、優れたフィ
ルム形成能を示す衝撃吸収バインダである。ELVACITE20
08は、アイシーアイアクリクス(ICI Acrylics)から入手
可能である。
【0048】EPON1001Fは、フィルム上のスパンの引っ
張り強さとゴム状弾性を付与する二官能性エポキシ化合
物である。EPON1001Fは、シェルケミカルカンパニー(Sh
ellChemical Company)から入手可能である。
【0049】DEN431は架橋密度を増加させる多機能エポ
キシ樹脂であり、架橋密度の増加により分解能を増加さ
せ、かつ、溶媒膨張に対する抵抗を向上させる。DEN431
は、ダウケミカルカンパニー(Dow Chemical Company)か
ら入手可能である。
【0050】Cyracure UVI6974は、UV光が光学マスク
を通ってその下のフィルムに当てられるときに、フィル
ム中のパターンを形成する、芳香族錯塩の光開始剤であ
る。得られる像は、エポキシの厚いフィルム中の隠れた
高解像度の像を残して架橋されていないフィルムを現像
することによって形成される。
【0051】
【実施例】以下の実施例は本発明を限定するものではな
く、本発明のさらなる特徴を示す。
【0052】実施例1 ガンマ−ブチロラクトン中のELVACITE2008の50g/5
0g溶液を調製した。この混合物をローラミルで16時
間回転させた。EPON1001F、40gを粉末に粉砕し、前
記溶液に添加した。この溶液をローラミルで16時間回
転させた。DEN431、10グラムと酸化リモネン(低粘度
液の一官能性エポキシ)5gを前記溶液に添加して、溶
液が均質になるまで混合した。UVI6974、10グラムを
添加して完全に混合した。
【0053】シリコーンウエハによってインクジェット
・プリンタのプリントヘッドを作るために用いられる基
材上において、溶液をスピナーで2.5K rpmで3
0秒回転させ、その後現像して30ミクロンのフィルム
を形成した。この後、インクジェット・ノズル・プレー
トをインクジェット・プリントヘッド作るための従来の
接着技術によって基材に取付けた。インクジェット・プ
リントヘッドを従来のインク・ジェット・インク(60
℃)内に配置した後に、ノズル・プレートが約1ケ月後
に外れ始めた。
【0054】実施例2 ガンマ−ブチロラクトン中のELVACITE2008の50g/5
0g溶液を調製した。この混合物をローラミルで16時
間回転させた。EPON1001F、40gを粉末に粉砕し、前
記溶液に添加した。この溶液をローラミルで16時間回
転させた。DEN431、10グラムを前記溶液に添加して溶
液が均質になるまで混合した。UVI6974、5グラムを添
加して完全に混合した。グリシソキシプロピルトリメト
キシ−シランの1gを、得られた溶液に添加した。
【0055】シリコーンウエハによってインク・ジェッ
ト・プリンタのプリントヘッドを作るために用いられる
基材上において、溶液をスピナーで2.5K rpmで
30秒回転させ、現像された30ミクロンのフィルムを
形成した。この後、フェノールブチラールでコーティン
グされたポリイミドインク・ジェット・ノズル・プレー
トを、インクジェット・プリントヘッド作るための従来
技術によって基材に取付けた。インクジェット・プリン
トヘッドを従来のインク・ジェット・インク(60℃)
内に配置した後に、ノズル・プレートは約1ケ月後に少
しも外れていなかった。
【0056】実施例3 ELVACITE2008:ガンマ−ブチロラクトンの比率を50g
/100gとし、スピナーを3.0rpmで60秒にセ
ットし、さらにフィルムを2.5ミクロンとしたこと以
外は、実施例2に示したのと同様の方法で、硬化性樹脂
とインク・ジェット・プリントヘッドを調製した。得ら
れたプリントヘッドを従来のインク・ジェット・インク
内に60℃で配置した。約1ケ月後、ノズル・プレート
は基材から少しも外れていなかった。
【0057】本発明をある実施態様に特に言及して説明
したが、この分野の技術内の変更及び修正が添付の請求
項の精神及び範囲内において行なわれることが理解され
るであろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による放射線硬化された樹脂組成物を備
えるインク・ジェット・プリント・ヘッドの断面図。
【符号の説明】
2・・基材、4・・放射線硬化性樹脂層、6・・通路。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C08L 33:04) (72)発明者 ポール・ティモシー・スパイヴィー アメリカ合衆国 40515 ケンタッキー、 レキシントン、アパートメント 174、コ ーブ・レイク・ドライブ 3351 (72)発明者 ガリー・レイモンド・ウイリアムズ アメリカ合衆国 40517 ケンタッキー、 レキシントン、ピムリコ・パークウェイ 3218

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)樹脂組成物の全重量に対して約5〜
    約50重量%の第1の多機能エポキシ化合物と; (B)樹脂組成物の全重量に対して約0.5〜約20重量
    %の第2の多機能エポキシ化合物と; (C)樹脂組成物の全重量に対して約1.0〜約10重量
    %の、カチオンを生成可能な光開始剤と; (D) 上記(A)、(B)及び(C)から選択される少なくとも一
    つと反応可能な官能基を有するシランと; (E)樹脂組成物の全重量に対して約20〜約90重量%
    の非光反応性溶媒と;を含む放射線硬化性樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 基材上に設けられたインク放出出口に接
    続されたインク通路を有するインク・ジェット・プリン
    ト・ヘッドであって、放射線硬化性樹脂組成物の層を放
    射線によって所定パターンに露光しこれによって前記樹
    脂組成物の硬化領域を形成し、かつ、未硬化の樹脂組成
    物領域を前記層から除去することにより前記通路を形成
    し、前記放射線硬化性樹脂組成物が、 (A)樹脂組成物の全重量に対して約5〜約50重量%の
    第1の多機能エポキシ化合物と; (B)樹脂組成物の全重量に対して約0.5〜約20重量
    %の第2の多機能エポキシ化合物と; (C)樹脂組成物の全重量に対して約1.0〜約10重量
    %の、カチオンを生成可能な光開始剤と; (D) 上記(A)、(B)及び(C)から選択される少なくとも一
    つと反応可能な官能基を有するシランと; (E)樹脂組成物の全重量に対して約20〜約90重量%
    の非光反応性溶媒と;を含む、インク・ジェット・プリ
    ント・ヘッド。
  3. 【請求項3】 基材上に設けられたインク放出出口に接
    続されたインク通路を有するインク・ジェット・プリン
    ト・ヘッドであって、放射線硬化性樹脂組成物の層を放
    射線によって所定パターンに露光しこれによって前記樹
    脂組成物の硬化領域を形成し、かつ、未硬化の樹脂組成
    物領域を前記層から除去することにより前記通路を形成
    し、前記放射線硬化性樹脂組成物が、 (A)樹脂組成物の全重量に対して約10〜約20重量%
    の第1の多機能エポキシ化合物と; (B)樹脂組成物の全重量に対して約4.5重量%未満の
    第2の多機能エポキシ化合物と; (C)樹脂組成物の全重量に対して約1〜約10重量%
    の、カチオンを生成可能な光開始剤と; (D) 樹脂組成物の全重量に対して約20〜約90重量%
    の非光反応性溶媒と;を含む、インク・ジェット・プリ
    ント・ヘッド。
  4. 【請求項4】 前記第1の多機能エポキシ化合物の分子
    量が、約100〜100,000である、請求項2に記
    載のインク・ジェット・プリント・ヘッド。
  5. 【請求項5】 前記第1の多機能エポキシ化合物が、ビ
    スフェノールAのジグリシジルエーテルである、請求項
    2に記載のインク・ジェット・プリント・ヘッド。
  6. 【請求項6】 前記光開始剤が、第VA族のオニウム
    塩、第VIA族のオニウム塩、芳香族ハロニウム塩、な
    らびに、これらの混合物からなる群から選択される芳香
    族錯塩の光開始剤である、請求項2に記載のインク・ジ
    ェット・プリント・ヘッド。
  7. 【請求項7】 前記樹脂組成物が35重量%までのアク
    リレートポリマー又はメタクリレートポリマーをさらに
    含む、請求項2に記載のインク・ジェット・プリント・
    ヘッド。
  8. 【請求項8】 前記アクリレートポリマー又はメタクリ
    レートポリマーが、メチルメタクリレート/n−ブチル
    メタクリレート;メチルメタクリレート/n−ブチルメ
    タクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート;メチ
    ルメタクリレート/−スチレン/n−ブチルアクリレー
    ト/ヒドロキシエチルアクリレート;スチレン/ヒドロ
    キシエチルアクリレート;ならびに、n−ブチルアクリ
    レート/ヒドロキシエチルアクリレート/ビニルアセテ
    ート;からなる群から選択される、請求項7に記載のイ
    ンク・ジェット・プリント・ヘッド。
  9. 【請求項9】 (A)樹脂組成物の全重量に対して約5〜
    約50重量%の第1の多機能エポキシ化合物と; (B)樹脂組成物の全重量に対して約4.5重量%未満の
    第2の多機能エポキシ化合物と; (C)樹脂組成物の全重量に対して約1.0〜約10重量
    %の、カチオンを生成可能な光開始剤と; (D) 樹脂組成物の全重量に対して約20〜約90重量%
    の非光反応性溶媒と;を含む放射線硬化性樹脂組成物。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006150901A (ja) * 2004-12-01 2006-06-15 Canon Inc インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法
KR100670004B1 (ko) 2005-02-25 2007-01-19 삼성전자주식회사 잉크젯 프린트헤드
JP2007076368A (ja) * 2005-09-13 2007-03-29 Samsung Electronics Co Ltd インクジェットプリントヘッドの製造方法、該方法によって製造されたインクジェットプリントヘッド、架橋ポリマーネガティブレジスト組成物及び中間体化合物
US7278709B2 (en) 2004-05-14 2007-10-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Photo-curable resin composition, method of patterning the same, and ink jet head and method of fabricating the same
US8029685B2 (en) 2006-09-04 2011-10-04 Canon Kabushiki Kaisha Liquid ejection head and its method of manufacture
JP2013507787A (ja) * 2009-10-12 2013-03-04 ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー. 圧電部材の欠陥の修復

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6124372A (en) * 1996-08-29 2000-09-26 Xerox Corporation High performance polymer compositions having photosensitivity-imparting substituents and thermal sensitivity-imparting substituents
US6158843A (en) * 1997-03-28 2000-12-12 Lexmark International, Inc. Ink jet printer nozzle plates with ink filtering projections
US6193359B1 (en) * 1998-04-21 2001-02-27 Lexmark International, Inc. Ink jet print head containing a radiation curable resin layer
US6371600B1 (en) * 1998-06-15 2002-04-16 Lexmark International, Inc. Polymeric nozzle plate
CA2253409C (en) * 1998-11-04 2003-06-17 Microjet Technology Co., Ltd. Method and device for manufacturing ink jet printhead
US6294317B1 (en) * 1999-07-14 2001-09-25 Xerox Corporation Patterned photoresist structures having features with high aspect ratios and method of forming such structures
US6322848B1 (en) * 1999-10-26 2001-11-27 Lord Corporation Flexible epoxy encapsulating material
DE69931526T2 (de) 1999-12-10 2007-04-26 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara Tintenstrahldruckkopf, verfahren zur herstellung von druckköpfen und drucker
US6409316B1 (en) 2000-03-28 2002-06-25 Xerox Corporation Thermal ink jet printhead with crosslinked polymer layer
US6327458B1 (en) 2000-04-06 2001-12-04 Lexmark International, Inc. Method and apparatus for positioning paper in an imaging system having an intermediate transfer medium
US6283584B1 (en) 2000-04-18 2001-09-04 Lexmark International, Inc. Ink jet flow distribution system for ink jet printer
US6783918B2 (en) * 2000-08-30 2004-08-31 Lexmark International, Inc. Radiation curable resin layer
US6830646B2 (en) * 2000-08-30 2004-12-14 Lexmark International, Inc. Radiation curable resin layer
US6387719B1 (en) 2001-02-28 2002-05-14 Lexmark International, Inc. Method for improving adhesion
WO2004000956A1 (ja) * 2002-06-20 2003-12-31 Hitachi Maxell, Ltd. 顔料インク組成物
DE10328525B4 (de) * 2003-06-24 2008-02-28 W.C. Heraeus Gmbh Verwendung von Siebdrucklacken bei der Herstellung von Abziehbildern zur Dekoration von keramischen Substraten, Porzellan und Glas
US7244014B2 (en) * 2003-10-28 2007-07-17 Lexmark International, Inc. Micro-fluid ejection devices and method therefor
US7183353B2 (en) * 2004-04-29 2007-02-27 Hewlett-Packard Development Company, L.P. UV curable coating composition
US7196136B2 (en) * 2004-04-29 2007-03-27 Hewlett-Packard Development Company, L.P. UV curable coating composition
US7204574B2 (en) * 2004-06-30 2007-04-17 Lexmark International, Inc. Polyimide thickfilm flow feature photoresist and method of applying same
US20070085881A1 (en) * 2004-08-19 2007-04-19 Cornell Robert W Methods for improved micro-fluid ejection devices
US20060221115A1 (en) * 2005-04-01 2006-10-05 Lexmark International, Inc. Methods for bonding radiation curable compositions to a substrate
US7571979B2 (en) * 2005-09-30 2009-08-11 Lexmark International, Inc. Thick film layers and methods relating thereto
US7784917B2 (en) 2007-10-03 2010-08-31 Lexmark International, Inc. Process for making a micro-fluid ejection head structure
US20090186293A1 (en) * 2008-01-23 2009-07-23 Bryan Thomas Fannin Dry film protoresist for a micro-fluid ejection head and method therefor
CN102802958B (zh) * 2009-06-29 2015-11-25 录象射流技术公司 具有耐溶剂性的热喷墨印刷头

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4090936A (en) * 1976-10-28 1978-05-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photohardenable compositions
US4173476A (en) * 1978-02-08 1979-11-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Complex salt photoinitiator
US4401537A (en) * 1978-12-26 1983-08-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Liquid crystal display and photopolymerizable sealant therefor
US4297401A (en) * 1978-12-26 1981-10-27 Minnesota Mining & Manufacturing Company Liquid crystal display and photopolymerizable sealant therefor
NL183380C (nl) * 1979-12-27 1988-10-03 Asahi Chemical Ind Van een patroon voorziene en een dikke laag omvattende geleiderconstructie en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
JPS58220756A (ja) * 1982-06-18 1983-12-22 Canon Inc インクジエツト記録ヘツドの製造方法
US4609427A (en) * 1982-06-25 1986-09-02 Canon Kabushiki Kaisha Method for producing ink jet recording head
US4426431A (en) * 1982-09-22 1984-01-17 Eastman Kodak Company Radiation-curable compositions for restorative and/or protective treatment of photographic elements
JPH0645242B2 (ja) * 1984-12-28 1994-06-15 キヤノン株式会社 液体噴射記録ヘツドの製造方法
US4623676A (en) * 1985-01-18 1986-11-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Protective coating for phototools
US4688056A (en) * 1985-07-13 1987-08-18 Canon Kabushiki Kaisha Liquid jet recording head having a layer of a resin composition curable with an active energy ray
US4688053A (en) * 1985-07-13 1987-08-18 Canon Kabushiki Kaisha Liquid jet recording head having a layer of a resin composition curable with an active energy ray
JPH02113022A (ja) * 1988-10-20 1990-04-25 Yokohama Rubber Co Ltd:The 紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物
US5578417A (en) * 1989-01-10 1996-11-26 Canon Kabushiki Kaisha Liquid jet recording head and recording apparatus having same
KR910010027B1 (ko) * 1989-03-03 1991-12-10 동양나이론 주식회사 열가소성 수지 조성물
US4948645A (en) * 1989-08-01 1990-08-14 Rogers Corporation Tape automated bonding and method of making the same
JP2897272B2 (ja) * 1989-08-25 1999-05-31 東洋紡績株式会社 電子部品封止用硬化型樹脂組成物
JP2697937B2 (ja) * 1989-12-15 1998-01-19 キヤノン株式会社 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物
EP0481788B1 (en) * 1990-10-18 1997-01-02 Canon Kabushiki Kaisha Process for preparing ink jet recording head
US5290667A (en) * 1991-12-03 1994-03-01 Canon Kabushiki Kaisha Method for producing ink jet recording head
US5297331A (en) * 1992-04-03 1994-03-29 Hewlett-Packard Company Method for aligning a substrate with respect to orifices in an inkjet printhead
US5275695A (en) * 1992-12-18 1994-01-04 International Business Machines Corporation Process for generating beveled edges
JP3143307B2 (ja) * 1993-02-03 2001-03-07 キヤノン株式会社 インクジェット記録ヘッドの製造方法
JPH091804A (ja) * 1995-06-21 1997-01-07 Canon Inc インクジェット記録ヘッドの製造方法および同方法により製造されたインクジェット記録ヘッド
JPH0924614A (ja) * 1995-07-11 1997-01-28 Canon Inc 液体噴射記録ヘッド用保護膜材料および該保護膜材料を用いた液体噴射記録ヘッドおよび液体噴射記録ヘッドキット

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7278709B2 (en) 2004-05-14 2007-10-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Photo-curable resin composition, method of patterning the same, and ink jet head and method of fabricating the same
JP2006150901A (ja) * 2004-12-01 2006-06-15 Canon Inc インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法
JP4646610B2 (ja) * 2004-12-01 2011-03-09 キヤノン株式会社 インクジェット記録ヘッド
KR100670004B1 (ko) 2005-02-25 2007-01-19 삼성전자주식회사 잉크젯 프린트헤드
JP2007076368A (ja) * 2005-09-13 2007-03-29 Samsung Electronics Co Ltd インクジェットプリントヘッドの製造方法、該方法によって製造されたインクジェットプリントヘッド、架橋ポリマーネガティブレジスト組成物及び中間体化合物
US8029685B2 (en) 2006-09-04 2011-10-04 Canon Kabushiki Kaisha Liquid ejection head and its method of manufacture
JP2013507787A (ja) * 2009-10-12 2013-03-04 ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー. 圧電部材の欠陥の修復

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