JP4051467B2 - 放射線硬化性樹脂層を備えたインク・ジェット・プリントヘッド - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、放射線硬化性樹脂層を備えたインク・ジェット・プリント・ヘッドに関する。
【0002】
【従来の技術】
インク・ジェット・プリンタのインク・ジェット・プリント・ヘッドは、通常、基材に記録するためのインクを放出するオリフィス又は噴射部材を備えたオリフィス・プレート;オリフィスをインク供給部に接続するインク通路;ならびに、オリフィスを介してプリント・ヘッドからインクを噴出させるためのエネルギーを与えるデバイス;からなる。記録する間にインクを放出するためのエネルギー源は、ほとんどの場合において、抵抗要素又は圧電素子によって働く。
【0003】
インク・ジェット・プリント・ヘッドのためのインク通路を製造する方法は、例えば、カッティング又はエッチングによって、ガラス、金属又はプラスチックの薄層に微細な溝を形成し、次いで、このような溝が上部に形成された層の上に他の材料薄層を接合することを含む。他の方法では、エネルギーを与えるデバイスを備える基材にコーティングされた光感応性樹脂中に、フォトリソグラフィック技術によって溝を形成することが含まれる。ひと度、光感応性樹脂中に溝が形成されれば、他の薄層材料が溝の形成された樹脂に取付けられ、例えばノズル・プレートを形成する。
【0004】
インク・ジェット・プリント・ヘッドを調製するこれらの方法の中で、インク通路層の少なくとも一部分を形成するために光感応性樹脂を使用することは、液体通路を高精度かつ高歩留りで製造することができると共に、液体ジェット記録ヘッドを高品質かつ低コストで得ることができるので、他の方法に比べて有利である。この光感応性樹脂は、(1)硬化フィルムの基材への優れた接着性;(2)硬化の際における、優れた機械的強度と耐久性;ならびに、(3)放射線源によるパターニングの際における、優れた感光性と分解能;を有することが要求される。
【0005】
公知の光硬化性樹脂のうち、米国特許第4,623,676号には、写真部品のための保護コーティングとして用いられる放射線硬化性組成物が記載されており、この組成物は、重合性のアクリル化合物;重合性のエポキシ−官能性シラン;前記アクリル化合物の重合を開始させることができるフリーラジカル芳香族錯塩の光開始剤;ならびに、前記エポキシ−官能性シランの重合を開始させることができるカチオン性の芳香族錯塩の光開始剤;を含有する。
【0006】
米国特許第4,688,053号には、線状ポリマー;モノマー;エポキシ樹脂;ならびに、重合開始剤;を含有する放射線硬化性樹脂組成物の層を有する液状ジェット記録ヘッドが記載されており、このポリマーは、少なくとも50/Cのガラス転移温度と少なくとも3.9×104の重量平均分子量とを有し、このモノマーはエチレン不飽和結合を有し、このエポキシ樹脂は1以上のエポキシ基を有し、この重合開始剤はエネルギー源の照射によってルイス酸を生成可能である。
【0007】
米国特許第4,090,936号には、有機化合物;有機ポリマー;及び光開始剤;を含有する光硬化性組成物が記載されており、この有機化合物は約1〜1.3の範囲の平均エポキシド官能基を有し、この有機ポリマーは、アクリレートモノマー又はメタクリレートモノマーから誘導されるポリマー、スチレンとアリルアルコールのコポリマー、ポリビニルブチラールポリマーから選択され、この光開始剤は芳香族錯塩である。
【0008】
しかしながら、公知の光感応性樹脂には、インク・ジェット・プリント・ヘッドの応用に用いるための全ての要求特性を満たすものはない。例えば、印刷プレートや印刷ワイヤーなどにパターンを形成するために用いられる光感応性樹脂は、感光性と分解能において良好であるが、金属、セラミック及びプラスチックへの接着に劣っており、また、硬化の際の機械的強度と耐久性が不十分である。これらの理由から、光感応性樹脂をプリント・ヘッドに使用する際に、インク通路内のインクの流れを妨げたり、又は、インク滴を著しく不安定に放出することによりインク・ジェット・プリント・ヘッドの信頼性を低減するように使用する場合には、基材からの歪みやはがれ、又は光感応性樹脂層の劣化が生じ易い。
【0009】
一方、ガラス、金属、セラミック及びプラスチックに接着され、かつ、硬化後の機械的強度と耐久性を満たす光硬化性樹脂は、感光性と分解能において劣っている。光硬化性樹脂の本来の特性によれば、この樹脂をインク・ジェット・プリント・ヘッド内で使用するための精密なパターン状に硬化できないので、この樹脂はインク通路を設ける使用に適していない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、インク・ジェット・プリント・ヘッドにおいて使用するための、改善された放射線硬化性樹脂を提供することである。
【0011】
本発明の他の目的は、上述のような全ての必要な特性を満たす樹脂から作られたインク通路層を備えるインク・ジェット・プリント・ヘッドで、高価でなく、精密で、信頼性が高く、かつ、耐久性に優れたインク・ジェット・プリント・ヘッドを提供することである。
【0012】
本発明の更に他の目的は、精密に作られたインク通路を有するインク・ジェット・プリント・ヘッドを提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明は、プリント・ヘッドからインクを噴出するためのエネルギーを与えるデバイスを備える基材に取付けられた放射線硬化性樹脂中に、インク通路を備えるインク・ジェット・プリント・ヘッドを提供する。放射線硬化性樹脂組成物の層に放射線を当てて所定パターンを形成しこれによって樹脂の硬化領域を形成することにより、前記通路を樹脂中に形成する。次いで、樹脂の未硬化領域は除去される。上記及び他の目的に関しては、本発明により、約5〜約50重量%、好ましくは約10〜約20重量%の第1の多機能エポキシ化合物;約0.05〜約20重量%、好ましくは約0.1〜約5.0重量%の第2の多機能エポキシ化合物;約1.0〜約10重量%、好ましくは約1.5〜約5重量%の、芳香族錯塩の光開始剤のようなカチオンを生成可能な光開始剤;約20〜約90重量%、好ましくは約45〜約75重量%の第2の非光反応性溶媒;を含む放射線硬化性樹脂組成物が提供される。なお、ここで示す重量%は樹脂組成物の全重量に対するものであり、これに包含される全範囲を含む。
【0014】
この樹脂組成物は、非光反応性溶媒システムを用い(水性又は非水性にできる)、このシステムは環境的に受入れられるものである。本発明の放射線で硬化された樹脂層は、高分解能、高アスペクト比、ならびに、金又は金/タンタルのような金属表面への高接着性を示し、これによって、現在のそして予測される製品需要にこの樹脂の応用が広げられる。さらに、硬化樹脂は、永久的に形成され、かつ高pHのインク抵抗バリアー層を提供し、このバリアー層は、インク自身による腐食又は化学的作用に抗しつつ、インク・ジェット・プリント・ヘッド内のインク滴の大きさを制御することに寄与できる。
【0015】
ノズル・プレートが、フェノールブチラールでコーティングされたポリイミドノズル・プレートのような、アルコールでコーティングされたポリマーであるときに、放射線で硬化された樹脂はまた、予期せぬことにノズル・プレートと基材との間の良好な接着を与える。
【0016】
本発明の上記及び他の特徴が、添付図面との結び付きを考慮した以下の詳細な明細書において更に説明されよう。
【0017】
【発明の実施の形態】
本発明は、基材に取付けられた放射線硬化性樹脂層中に形成されたインク通路を備えたインク・ジェット・プリント・ヘッドに関する。この通路はオリフィス・プレートによって与えられるインク放出口に流体連通して接続される。樹脂層中にこの通路を形成するために、所定のパターンで樹脂組成物を放射線源によって露光し樹脂層の所定領域を硬化し、一方、通路となる他の領域は未硬化のまま残す。この未硬化領域は、所望の通路を残して樹脂層から除去する。放射線硬化性樹脂層を形成するために用いられる樹脂組成物は、第1の多機能エポキシ化合物;第2の多機能エポキシ化合物;カチオンを生成することができる光開始剤;及び非光反応性溶媒;を含む。好ましい実施態様では、この樹脂組成物は、第1の多機能エポキシ化合物;第2の多機能エポキシ化合物;及び、光開始剤からなる群から選択される少なくとも一つと反応可能な官能基を有するシランと同様に、アクリレートポリマー又はメタクリレートポリマーのようなフィルム強化剤を含む。このようなシランは、好ましくは、ガンマ−グリシドキシプロピルトリメトキシ−シランなどのグリシドキシアルキルトリアルコキシ−シランのようなエポキシ官能基をもつシランである。このシランは樹脂組成物の全重量を基礎にして、約0.05〜約10重量%、好ましくは約0.1〜約2重量%の量で存在し、これに包含される全範囲を含む。ここで用いられるフィルム強化剤は、この樹脂組成物に可溶な有機材料を意味するものとして限定され、この有機材料によってこの樹脂組成物のフィルム形成特性が補助される。
【0018】
硬化性樹脂組成物中にシランを全く用いない場合には、用いられる第2の多機能エポキシ化合物の量は、約4.5%、好ましくは約4.0%未満であることがさらに注目される。
【0019】
樹脂組成物の第1の成分は、開環によって重合可能な少なくとも二つのオキシラン環を好ましくは有するあらゆる有機化合物を含む、第1の多機能エポキシ化合物である。したがって、多機能とは平均して、1.0より大きな、好ましくは2以上のエポキシド官能基を有することを意味する。第1の多機能エポキシ化合物、及び/又は、第2の多機能エポキシ化合物は、重合及び/又は架橋してもよいことがさらに注目される。。第2の多機能エポキシ化合物は、好ましくは主架橋剤である。第1の多機能エポキシ化合物は、好ましくは、モノマー性の二官能基性エポキシ化合物とポリマー性の二官能基性エポキシ化合物とを含む、二官能基性のエポキシ化合物であり、これら二官能基性のエポキシ化合物の骨格と置換基の種類は異なっていてもよい。さらに、第1の多機能エポキシ化合物は、好ましくは置換基として水酸基を有する。この好ましい置換基である水酸基の他に許容される置換基には、例えば、ハロゲン、エステル基、エーテル、スルホネート基、シロキサン基、ニトロ基、及びリン酸基が含まれる。この第1の多機能エポキシ化合物の分子量(MN)は、約75〜約100,000に変化する。
【0020】
二官能基性のエポキシ化合物又は二官能基性のエポキシ化合物の混合物は、好ましくは液体である。しかしながら、最終的な混合物が液相であれば、一つ以上の固体状二官能基性のエポキシ化合物が混合物中に含まれていてもよい。
【0021】
用いられる二官能基性のエポキシ化合物は、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル(例えばこれらは、シェルケミカルカンパニー(Shell Chemical Co.,)から商標 "Epon 828","Epon 1004","Epon 1001F","Epon SU-8"及び "Epon 1010"として入手可能であり、ダウケミカルカンパニー(Dow Chemical Co.,)から商標 "DER-331","DER-332"及び"DER-334 として入手可能である);3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート(例えば、ユニオンカーバイドコーポレーション(Union Carbide Corp.)からの "ERL-4221");3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキセンカルボキシレート(例えば、ユニオンカーバイドコーポレーション(Union Carbide Corp.)からの "ERL-4201");ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチルアジペート(例えば、ユニオンカーバイドコーポレーション(Union Carbide Corp.)からの "ERL-4289");ビス(2,3−エポキシシクロペンチルエーテル(例えば、ユニオンカーバイドコーポレーション(Union Carbide Corp.)からの "ERL-0400");を含む。二官能基性のエポキシ化合物は、組成物中に約5〜約50重量%、好ましくは約10〜約20重量%の量で存在する。
【0022】
樹脂組成物の第2の成分は、第2の多機能エポキシ化合物である。この第2の多機能エポキシ化合物では架橋密度を増加させるのが好ましく、これによって分解能が増加し、かつ溶媒膨張に対する耐性が改善される。第2の多機能エポキシ化合物の種類は、所望の樹脂とすることができる化合物であれば通常限定されるものではない。このような第2の多機能エポキシ化合物の例示リストには、例えば、フェノール;アルデヒド;ならびに、DEN-431,DEN-438,DEN439(ダウプラスチックス(Dow Plastics)から入手可能な)のようなエポキシド;との反応生成物が含まれる。
【0023】
この第2の多機能エポキシ化合物は、樹脂組成物の全重量に対して、組成物中に約0.5〜約20重量%、好ましくは約1〜約10重量%、最も好ましくは約1〜約5重量%の量で存在する。本発明の第1と第2の多機能エポキシ化合物を説明する際において、化合物にはモノマーとポリマーが含まれることを意味する。
【0024】
樹脂組成物の第3の成分は、VA族のオニウム塩;VIA族のオニウム塩;及び芳香族ハロニウム塩;から選択される芳香族錯塩の光開始剤のようなカチオンを生成可能な光開始剤である。これらの錯塩は、紫外線照射又は電子ビーム照射にさらされることにより、エポキシとの反応を開始する成分を生成できる。芳香族錯塩の光開始剤は、樹脂組成物の全重量に対して、組成物中に約1.0〜約10重量%、好ましくは約1.5〜約5重量%の量で存在する。
【0025】
好ましい芳香族錯塩の光開始剤は、芳香族アイオドニウム(iodonium)錯塩と芳香族スルホニウム錯塩を含む。芳香族アイオドニウム錯塩の光開始剤の例には、以下のものが含まれる。
ジフェニルアイオドニウムテトラフルオロボレート;
ジ(4−メチルフェニル)アイオドニウムテトラフルオロボレート;
フェニル−4−メチルフェニルアイオドニウムテトラフルオロボレート;
ジ(4−ヘプチルフェニル)アイオドニウムテトラフルオロボレート;
ジ(3−ニトロフェニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;
ジ(4−クロロフェニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;
ジ(ナフチル)アイオドニウムテトラフルオロボレート;
ジ(4−トリフルオロメチルフェニル)アイオドニウムテトラフルオロボレート;
ジフェニルアイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;
ジ(4−メチルフェニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;
ジフェニルアイオドニウムヘキサフルオロアルセナート;
ジ(4−フェノキシフェニル)アイオドニウムテトラフルオロボレート;
フェニル−2−チエニルオニウムヘキサフルオロホスフェート;
3,5−ジメチルピラゾリル−4−フェニルアイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;
ジフェニルアイオドニウムヘキサフルオロアンチモナート;
2,2’−ジフェニルアイオドニウムテトラフルオロボレート;
ジ(2,4−ジクロロフェニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;
ジ(4−ブロモフェニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;
ジ(4−メトキシフェニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;
ジ(3−カルボキシフェニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;
ジ(3−メトキシカルボキシフェニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;
ジ(3−メトキシスルホニルフェニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;
ジ(4−アセタミドフェニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;
ジ(2−ベンゾエチエニル)アイオドニウムヘキサフルオロホスフェート;
【0026】
本発明の組成物に用いるのに好適な芳香族アイオドニウム錯塩の中の好適な塩は、ジアリールアイオドニウムヘキサフルオロホスフェートとジアリールアイオドニウムヘキサフルオロアンチモナートである。これらの塩が好適なのは、通常、これらが熱的により安定であり、反応を速く進め、そして、他の芳香族アイオドニウム錯イオン塩より不活性有機溶媒により溶解性だからである。
【0027】
芳香族のスルホニウム錯塩の光開始剤の例には、以下のものが含まれる。
トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート;
メチルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート;
ジメチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート;
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート;
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート;
ジフェニルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアルセナート;
トリトリスルホニウムヘキサフルオロホスフェート;
アニシルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート;
4−ブトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート;
4−クロロフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート;
トリス(4−フェノキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート;
ジ(4−エトキシフェニル)メチルスルホニウムヘキサフルオロアルセナート;
4−アセトキシ−フェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート;
トリス(4−チオメトキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート;
ジ(メトキシスルホニルフェニル)メチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート;
ジ(メトキシナフトチル)メチルスルホニウムテトラフルオロボレート;
ジ(カルボメトキシフェニル)メチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート;
4−アセタミドフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート;
ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート;
トリフルオロメチルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート;
メチル(n−メチルフェノチアジニル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート;
フェニルメチルベンジルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート;
【0028】
本発明の組成物に用いるのに好適な芳香族スルホニウム錯塩中の好適な塩は、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートのようなトリアリール−置換された塩である。これらのトリアリール−置換された塩が好適なのは、これらがモノ及びジアリール置換された塩より熱的に安定であり、これにより、貯蔵寿命の長いワン−パートシステムが得られる。トリアリール−置換された錯塩はまた、染料増感に対してより敏感である。したがって、このような錯塩を用いることにより、近紫外線及び可視光線を露光に用いる応用において非常に有用な組成物が得られる。もし所望ならば、組成物を貯蔵可能な形態(すなわち、高濃度錯塩として)で調製してもよく、これは、商業的に実用的なコーティング組成物として後の希釈に適している。
【0029】
カチオンを生成可能な最も好ましい光開始剤は、ユニオンカーバイド(Union Carbide (UV1-6975))から商業的に入手可能なトリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモナートの混合物である。
【0030】
この樹脂組成物の第4の成分は、非光反応性溶媒である。この溶媒は、所望の成分が硬化前にこれに溶解可能である点においてのみ制限される。好ましい非光反応性溶媒には、ガンマ−ブチロラクトン、C1−6アセテート、テトラヒドロフラン低分子量ケトン、これらの混合物などが含まれる。
【0031】
この非光反応性溶媒は、樹脂組成物の全重量に対して、組成物中に約20〜約90重量%、好ましくは約45〜約75重量%の量で存在する。
【0032】
本発明の樹脂組成物は、約35重量%、好ましくは約10〜約20重量%までのアクリレートポリマー又はメタクリレートポリマーを含んでいてもよく、これらは、少なくとも一つのアクリレートモノマー又はメタクリレートモノマーから誘導される。これらのポリマーは、ホモポリマー、コポリマー又はブレンドでもよい。ここで用いる”ポリマー”という用語は、高分子量ポリマー(約1,000,000までの範囲の数平均分子量を有する)と同様にオリゴマー(例えば、約1000程度と低い数平均分子量を有する物質)も含む意味である。アクリレートポリマー又はメタクリレートポリマーの数平均分子量は、好ましくは約10,000〜約60,000の範囲であり、最も好ましくは約20,000〜約30,000の範囲である。
【0033】
好ましいアクリレートポリマー又はメタクリレートポリマーは、そのモノマーの少なくとも一つがアクリレートモノマー又はメタクリレートモノマーであれば、様々なモノマーから誘導してもよい。例えば、代表的な有用なアクリレートモノマーとメタクリレートモノマーには、メチルメタクリレート、n−ブチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート及びエチルアクリレートが含まれる。好ましくは、アクリレートモノマーとメタクリレートモノマーは、アクリル酸又はメタクリル酸と1〜4の炭素原子の脂肪族アルコール又は2〜4の炭素原子の脂肪族ジオールとのエステルである。
【0034】
前記モノマーから誘導される、代表的な有用なアクリレートポリマー又はメタクリレートポリマーには、メチルメタクリレート/スチレン/n−ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート/n−ブチルメタクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート、ならびに、メチルメタクリレート/n−ブチルメタクリレートが含まれる。一般に、アクリレートポリマー又はメタクリレートポリマーの骨格は、多量(重量が)のアクリレート成分又はメタクリレート成分を含み、アクリレートでない成分は、存在したとしても骨格の少量である。
【0035】
商業的に入手可能な有用な、アクリレートポリマー又はメタクリレートポリマーには、メチルメタクリレート(73)/n−ブチルメタクリレート(27)コポリマーである"Elvacite 2008","Elvacite 2013"(アイシーアイアクリリクス(ICI Acrylics)から入手可能);アクリルコポリマーである"B-48N"(ロームアンドハス(Rohm and Hass)から入手可能);メチルメタクリレート(44)/n−ブチルメタクリレート(45)/ヒドロキシエチルアクリレート(11)コポリマーである"Ionac X-208"(イオナックケミカルカンパニー(Ionac Chemical Company)から入手可能);n−ブチルアクリレート(80)/ヒドロキシエチルアクリレート(15)/ビニルアセテート(5)コポリマーである"QR-572"(ロームアンドハス(Rohm and Hass)から入手可能);ならびに、メチルメタクリレート(30)/ヒドロキシエチルアクリレート(20)コポリマーである"G-Cure 868"(ジェネラルミルズ(General Mills)から入手可能);が含まれる。アクリレートモノマー又はメタクリレートモノマーの組合わせを用いてもよい。
【0036】
本発明の樹脂組成物はまた、従来のフィラー(例えば、硫酸バリウム、タルク、ガラスバブル);粘度修正剤(例えば、ピロジェニックシリカ);ならびに、顔料;のような様々な添加剤を含んでいてもよい。
【0037】
本発明の実施態様の一つでは、組成物は、約45〜約75重量%のガンマ−ブチロラクトン;約10〜約20重量%の第1の多機能エポキシ化合物;約0.1〜約5.0重量%の第2の多機能エポキシ化合物;約1.5〜約5重量%の芳香族錯塩の光開始剤;ならびに、約0.1〜約2重量%のガンマグリシドキシプロピルトリメトキシ−シラン;を含有する。他の実施態様では、組成物は、約45〜約75重量%のガンマ−ブチロラクトン;約10〜約20重量%のポリメチルメタクリレート−コ−メタクリル酸;約10〜約20重量%の第1の多機能エポキシ化合物;約0.1〜約5.0重量%の第2の多機能エポキシ化合物;約1.5〜約3.0重量%の芳香族錯塩の光開始剤;ならびに、約0.1〜約2重量%のガンマグリシドキシプロピルトリメトキシ−シラン;を含有する。
【0038】
基材にこの組成物を塗布する方法は、レジストスピナー又は従来のウエハーレジスト堆積タンクのいずれかの、適当な寸法のチャックの中心に基材を置くことを含む。組成物は、手又は機械的に基材の中心に供給される。次いで、基材を保持するチャックを1分当たり所定の回転数で回転させ、組成物を基材の中心から基材の端部に平に広げる。得られるフィルム厚さを変化させるために、基材の回転速度を調整してもよく、また材料の粘度を変えてもよい。得られるコーティングされた基材は次いで、チャックから手又は機械的に取外され、この材料が半焼成されるまで、温度制御されたホットプレート内又は温度制御されたオーブン内に置かれる。この段階で液体から溶媒部分が除去され、部分的に乾燥したフィルムが基材上に形成される。基材は熱源から取外されて室温まで冷却される。
【0039】
得られたフィルムにパターンを形成するために、この材料をマスクし、視準された紫外線の光源で露光し、露光後に焼成し、不要な材料を除去することによって最終的なパターンが現像される。この手順は、標準的な半導体リソグラフィックプロセスに極めて類似する。マスクは透明で平らな基材で、通常はコーティングされたフィルムから除去されるパターンを形成する不透明領域(すなわち、ネガティブ機能を発揮するフォトレジスト)をもったガラス又は石英である。この不透明領域のために、その下のマスクされたフィルムが紫外線によって架橋されるのが防がれる。架橋されなかった材料は、次いで現像液に溶解され、基材上に隠れた所定パターンを残して除去される。
【0040】
タンクのような装置中に浸漬し攪拌することによって、又はスプレーのいずれかによって、現像液はコーティングされた基材に接触するようになる。スプレー又は基材の浸漬のいずれかにより、フォトマスキングと露光によって形成された過剰の材料が適切に除去される。現像液の例には、例えば、キシレンとブチルセロソルブアセテートの混合物、ならびに、ブチルアセテートのようなC1−6アセテートが含まれる。
【0041】
本発明の樹脂組成物の硬化は、紫外と可視スペクトル領域内の波長で化学線を放射する好適な放射源によって組成物を露光するときに起きる。約1秒未満から10分露光されるが、この時間は、用いられる特定のエポキシ材料と芳香族錯塩の量に依存すると共に、放射源、放射源からの距離及び硬化させるレジストパターンの厚さに依存する。この樹脂組成物はまた、電子ビーム照射による露光により硬化させてもよい。
【0042】
エネルギーを与えるデバイスを含むインク・ジェット・プリント・ヘッドの基材は、ガラス、金属、セラミック又はシリコーンから作られた誘電層である。
【0043】
この硬化はトリガー反応であり、すなわち、放射源による露光によって芳香族錯塩の分解が一度開始されると、硬化反応が進行し、放射源が除去された後にもこの反応は続くであろう。放射源による露光中、又はその後に、熱エネルギーを用いることにより、通常、硬化反応を促進させるであろし、温度の穏やかな増加でさえ、硬化速度を大きく促進させ得る。
【0044】
【発明の効果】
本発明の樹脂組成物は、例えば、第1と第2の多機能エポキシ化合物、シラン、アクリレート、ならびに、非光反応性溶媒を、硬化を促進しない条件下で単に混合することによって調製される。この樹脂混合物がひと度調製されると、スピンコーティング、スプレー、ロールコーティング等のようなこの分野において知られるコーティング技術によって、例えば、インク・ジェット・プリント・ヘッド基材上にコーティングされる。
【0045】
図面に言及すると、図1は本発明のインク・ジェット・プリント・ヘッドの概略図である。このインク・ジェット・プリント・ヘッドは、基材2、基材上の放射線硬化性樹脂層4、インク・ジェット・チャンバ10、オリフィス12、ならびに、通路6を含む。通路6はオリフィス12と流体連通する。プリント・ヘッドは、オリフィス12を介してインクを放出するためのエネルギーを与えるデバイス18を含む。インクを放出するためのエネルギーは、エネルギーを与える所望のデバイス18に電気信号を送ることによって発生する。これらのエネルギーを与えるデバイスは、基材2上に所望のパターンに配列された熱抵抗素子又は圧電素子を含む。
【0046】
以下の材料を実施例において用いた。
【0047】
ELVACITE2008は、非光反応性である低分子量のポリメチルメタクリレート(2〜3%のカルボン酸官能基を含む)であり、これは、熱圧縮接着に必要な良好な熱タックと熱接着を与えるだけでなく、優れたフィルム形成能を示す衝撃吸収バインダである。ELVACITE2008は、アイシーアイアクリクス(ICI Acrylics)から入手可能である。
【0048】
EPON1001Fは、フィルム上のスパンの引っ張り強さとゴム状弾性を付与する二官能性エポキシ化合物である。EPON1001Fは、シェルケミカルカンパニー(Shell Chemical Company)から入手可能である。
【0049】
DEN431は架橋密度を増加させる多機能エポキシ樹脂であり、架橋密度の増加により分解能を増加させ、かつ、溶媒膨張に対する抵抗を向上させる。DEN431は、ダウケミカルカンパニー(Dow Chemical Company)から入手可能である。
【0050】
Cyracure UVI6974は、UV光が光学マスクを通ってその下のフィルムに当てられるときに、フィルム中のパターンを形成する、芳香族錯塩の光開始剤である。得られる像は、エポキシの厚いフィルム中の隠れた高解像度の像を残して架橋されていないフィルムを現像することによって形成される。
【0051】
【実施例】
以下の実施例は本発明を限定するものではなく、本発明のさらなる特徴を示す。
【0052】
実施例1
ガンマ−ブチロラクトン中のELVACITE2008の50g/50g溶液を調製した。この混合物をローラミルで16時間回転させた。EPON1001F、40gを粉末に粉砕し、前記溶液に添加した。この溶液をローラミルで16時間回転させた。DEN431、10グラムと酸化リモネン(低粘度液の一官能性エポキシ)5gを前記溶液に添加して、溶液が均質になるまで混合した。UVI6974、10グラムを添加して完全に混合した。
【0053】
シリコーンウエハによってインクジェット・プリンタのプリントヘッドを作るために用いられる基材上において、溶液をスピナーで2.5K rpmで30秒回転させ、その後現像して30ミクロンのフィルムを形成した。この後、インクジェット・ノズル・プレートをインクジェット・プリントヘッド作るための従来の接着技術によって基材に取付けた。インクジェット・プリントヘッドを従来のインク・ジェット・インク(60℃)内に配置した後に、ノズル・プレートが約1ケ月後に外れ始めた。
【0054】
実施例2
ガンマ−ブチロラクトン中のELVACITE2008の50g/50g溶液を調製した。この混合物をローラミルで16時間回転させた。EPON1001F、40gを粉末に粉砕し、前記溶液に添加した。この溶液をローラミルで16時間回転させた。DEN431、10グラムを前記溶液に添加して溶液が均質になるまで混合した。UVI6974、5グラムを添加して完全に混合した。グリシソキシプロピルトリメトキシ−シランの1gを、得られた溶液に添加した。
【0055】
シリコーンウエハによってインク・ジェット・プリンタのプリントヘッドを作るために用いられる基材上において、溶液をスピナーで2.5K rpmで30秒回転させ、現像された30ミクロンのフィルムを形成した。この後、フェノールブチラールでコーティングされたポリイミドインク・ジェット・ノズル・プレートを、インクジェット・プリントヘッド作るための従来技術によって基材に取付けた。インクジェット・プリントヘッドを従来のインク・ジェット・インク(60℃)内に配置した後に、ノズル・プレートは約1ケ月後に少しも外れていなかった。
【0056】
実施例3
ELVACITE2008:ガンマ−ブチロラクトンの比率を50g/100gとし、スピナーを3.0rpmで60秒にセットし、さらにフィルムを2.5ミクロンとしたこと以外は、実施例2に示したのと同様の方法で、硬化性樹脂とインク・ジェット・プリントヘッドを調製した。得られたプリントヘッドを従来のインク・ジェット・インク内に60℃で配置した。約1ケ月後、ノズル・プレートは基材から少しも外れていなかった。
【0057】
本発明をある実施態様に特に言及して説明したが、この分野の技術内の変更及び修正が添付の請求項の精神及び範囲内において行なわれることが理解されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による放射線硬化された樹脂組成物を備えるインク・ジェット・プリント・ヘッドの断面図。
【符号の説明】
2・・基材、4・・放射線硬化性樹脂層、6・・通路。
Claims (9)
- (A)樹脂組成物の全重量に対して5〜50重量%の第1の多機能エポキシ化合物であって、開環によって重合可能な少なくとも二つのオキシラン環を有する有機化合物を含む第1の多機能エポキシ化合物と;
(B)樹脂組成物の全重量に対して0.5〜20重量%の第2の多機能エポキシ化合物であって、主架橋剤である第2の多機能エポキシ化合物と;
(C)樹脂組成物の全重量に対して1.0〜10重量%の、カチオンを生成可能な光開始剤と;
(D)上記(A)、(B)及び(C)から選択される少なくとも一つと反応可能な官能基を有するシランと;
(E)樹脂組成物の全重量に対して20〜90重量%の非光反応性溶媒と;を含む放射線硬化性樹脂組成物。 - 基材上に設けられたインク放出出口に接続されたインク通路を有するインク・ジェット・プリント・ヘッドであって、放射線硬化性樹脂組成物の層を放射線によって所定パターンに露光しこれによって前記樹脂組成物の硬化領域を形成し、かつ、未硬化の樹脂組成物領域を前記層から除去することにより前記通路を形成し、前記放射線硬化性樹脂組成物が、
(A)樹脂組成物の全重量に対して5〜50重量%の第1の多機能エポキシ化合物であって、開環によって重合可能な少なくとも二つのオキシラン環を有する有機化合物を含む第1の多機能エポキシ化合物と;
(B)樹脂組成物の全重量に対して0.5〜20重量%の第2の多機能エポキシ化合物であって、主架橋剤である第2の多機能エポキシ化合物と;
(C)樹脂組成物の全重量に対して1.0〜10重量%の、カチオンを生成可能な光開始剤と;
(D)上記(A)、(B)及び(C)から選択される少なくとも一つと反応可能な官能基を有するシランと;
(E)樹脂組成物の全重量に対して20〜90重量%の非光反応性溶媒と;を含む、インク・ジェット・プリント・ヘッド。 - 基材上に設けられたインク放出出口に接続されたインク通路を有するインク・ジェット・プリント・ヘッドであって、放射線硬化性樹脂組成物の層を放射線によって所定パターンに露光しこれによって前記樹脂組成物の硬化領域を形成し、かつ、未硬化の樹脂組成物領域を前記層から除去することにより前記通路を形成し、前記放射線硬化性樹脂組成物が、
(A)樹脂組成物の全重量に対して10〜20重量%の第1の多機能エポキシ化合物であって、開環によって重合可能な少なくとも二つのオキシラン環を有する有機化合物を含む第1の多機能エポキシ化合物と;
(B)樹脂組成物の全重量に対して4.5重量%未満の第2の多機能エポキシ化合物であって、主架橋剤である第2の多機能エポキシ化合物と;
(C)樹脂組成物の全重量に対して1〜10重量%の、カチオンを生成可能な光開始剤と;
(D)樹脂組成物の全重量に対して20〜90重量%の非光反応性溶媒と;を含む、インク・ジェット・プリント・ヘッド。 - 前記第1の多機能エポキシ化合物の分子量が、100〜100,000である、請求項2に記載のインク・ジェット・プリント・ヘッド。
- 前記第1の多機能エポキシ化合物が、ビスフェノールAのジグリシジルエーテルである、請求項2に記載のインク・ジェット・プリント・ヘッド。
- 前記光開始剤が、第VA族のオニウム塩、第VIA族のオニウム塩、芳香族ハロニウム塩、ならびに、これらの混合物からなる群から選択される芳香族錯塩の光開始剤である、請求項2に記載のインク・ジェット・プリント・ヘッド。
- 前記樹脂組成物が35重量%までのアクリレートポリマー又はメタクリレートポリマーをさらに含む、請求項2に記載のインク・ジェット・プリント・ヘッド。
- 前記アクリレートポリマー又はメタクリレートポリマーが、メチルメタクリレート/n−ブチルメタクリレート;メチルメタクリレート/n−ブチルメタクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート;メチルメタクリレート/−スチレン/n−ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルアクリレート;スチレン/ヒドロキシエチルアクリレート;ならびに、n−ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルアクリレート/ビニルアセテート;からなる群から選択される、請求項7に記載のインク・ジェット・プリント・ヘッド。
- (A)樹脂組成物の全重量に対して5〜50重量%の第1の多機能エポキシ化合物であって、開環によって重合可能な少なくとも二つのオキシラン環を有する有機化合物を含む第1の多機能エポキシ化合物と;
(B)樹脂組成物の全重量に対して4.5重量%未満の第2の多機能エポキシ化合物であって、主架橋剤である第2の多機能エポキシ化合物と;
(C)樹脂組成物の全重量に対して1.0〜10重量%の、カチオンを生成可能な光開始剤と;
(D)樹脂組成物の全重量に対して20〜90重量%の非光反応性溶媒と;を含む放射線硬化性樹脂組成物。
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Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6124372A (en) * | 1996-08-29 | 2000-09-26 | Xerox Corporation | High performance polymer compositions having photosensitivity-imparting substituents and thermal sensitivity-imparting substituents |
US6158843A (en) * | 1997-03-28 | 2000-12-12 | Lexmark International, Inc. | Ink jet printer nozzle plates with ink filtering projections |
US6193359B1 (en) * | 1998-04-21 | 2001-02-27 | Lexmark International, Inc. | Ink jet print head containing a radiation curable resin layer |
US6371600B1 (en) * | 1998-06-15 | 2002-04-16 | Lexmark International, Inc. | Polymeric nozzle plate |
CA2253409C (en) * | 1998-11-04 | 2003-06-17 | Microjet Technology Co., Ltd. | Method and device for manufacturing ink jet printhead |
US6294317B1 (en) * | 1999-07-14 | 2001-09-25 | Xerox Corporation | Patterned photoresist structures having features with high aspect ratios and method of forming such structures |
US6322848B1 (en) * | 1999-10-26 | 2001-11-27 | Lord Corporation | Flexible epoxy encapsulating material |
KR100469879B1 (ko) * | 1999-12-10 | 2005-02-02 | 후지 샤신 필름 가부시기가이샤 | 잉크젯 헤드, 잉크젯 헤드의 제조 방법 및 인쇄 장치 |
US6409316B1 (en) | 2000-03-28 | 2002-06-25 | Xerox Corporation | Thermal ink jet printhead with crosslinked polymer layer |
US6327458B1 (en) | 2000-04-06 | 2001-12-04 | Lexmark International, Inc. | Method and apparatus for positioning paper in an imaging system having an intermediate transfer medium |
US6283584B1 (en) | 2000-04-18 | 2001-09-04 | Lexmark International, Inc. | Ink jet flow distribution system for ink jet printer |
US6830646B2 (en) * | 2000-08-30 | 2004-12-14 | Lexmark International, Inc. | Radiation curable resin layer |
US6783918B2 (en) * | 2000-08-30 | 2004-08-31 | Lexmark International, Inc. | Radiation curable resin layer |
US6387719B1 (en) * | 2001-02-28 | 2002-05-14 | Lexmark International, Inc. | Method for improving adhesion |
AU2003242488A1 (en) * | 2002-06-20 | 2004-01-06 | Hitachi Maxell, Ltd. | Pigment ink composition |
DE10328525B4 (de) * | 2003-06-24 | 2008-02-28 | W.C. Heraeus Gmbh | Verwendung von Siebdrucklacken bei der Herstellung von Abziehbildern zur Dekoration von keramischen Substraten, Porzellan und Glas |
US7244014B2 (en) * | 2003-10-28 | 2007-07-17 | Lexmark International, Inc. | Micro-fluid ejection devices and method therefor |
US7196136B2 (en) * | 2004-04-29 | 2007-03-27 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | UV curable coating composition |
US7183353B2 (en) * | 2004-04-29 | 2007-02-27 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | UV curable coating composition |
KR100590881B1 (ko) * | 2004-05-14 | 2006-06-19 | 삼성전자주식회사 | 광경화성 수지 조성물 및 그의 패터닝 방법 |
US7204574B2 (en) * | 2004-06-30 | 2007-04-17 | Lexmark International, Inc. | Polyimide thickfilm flow feature photoresist and method of applying same |
US20070085881A1 (en) * | 2004-08-19 | 2007-04-19 | Cornell Robert W | Methods for improved micro-fluid ejection devices |
JP4646610B2 (ja) * | 2004-12-01 | 2011-03-09 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド |
KR100670004B1 (ko) | 2005-02-25 | 2007-01-19 | 삼성전자주식회사 | 잉크젯 프린트헤드 |
US20060221115A1 (en) * | 2005-04-01 | 2006-10-05 | Lexmark International, Inc. | Methods for bonding radiation curable compositions to a substrate |
KR100657334B1 (ko) * | 2005-09-13 | 2006-12-14 | 삼성전자주식회사 | 잉크젯 프린터 헤드의 제조 방법 및 상기 방법에 의하여제조된 잉크젯 프린터 헤드 |
US7571979B2 (en) * | 2005-09-30 | 2009-08-11 | Lexmark International, Inc. | Thick film layers and methods relating thereto |
JP4850637B2 (ja) * | 2006-09-04 | 2012-01-11 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法および液体吐出ヘッド |
US7784917B2 (en) | 2007-10-03 | 2010-08-31 | Lexmark International, Inc. | Process for making a micro-fluid ejection head structure |
US20090186293A1 (en) * | 2008-01-23 | 2009-07-23 | Bryan Thomas Fannin | Dry film protoresist for a micro-fluid ejection head and method therefor |
US8454149B2 (en) * | 2009-06-29 | 2013-06-04 | Videojet Technologies Inc | Thermal inkjet print head with solvent resistance |
JP5480388B2 (ja) * | 2009-10-12 | 2014-04-23 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー. | 圧電部材の欠陥の修復 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4090936A (en) * | 1976-10-28 | 1978-05-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photohardenable compositions |
US4173476A (en) * | 1978-02-08 | 1979-11-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Complex salt photoinitiator |
US4297401A (en) * | 1978-12-26 | 1981-10-27 | Minnesota Mining & Manufacturing Company | Liquid crystal display and photopolymerizable sealant therefor |
US4401537A (en) * | 1978-12-26 | 1983-08-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Liquid crystal display and photopolymerizable sealant therefor |
NL183380C (nl) * | 1979-12-27 | 1988-10-03 | Asahi Chemical Ind | Van een patroon voorziene en een dikke laag omvattende geleiderconstructie en werkwijze voor het vervaardigen daarvan. |
JPS58220756A (ja) * | 1982-06-18 | 1983-12-22 | Canon Inc | インクジエツト記録ヘツドの製造方法 |
US4609427A (en) * | 1982-06-25 | 1986-09-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for producing ink jet recording head |
US4426431A (en) * | 1982-09-22 | 1984-01-17 | Eastman Kodak Company | Radiation-curable compositions for restorative and/or protective treatment of photographic elements |
JPH0645242B2 (ja) * | 1984-12-28 | 1994-06-15 | キヤノン株式会社 | 液体噴射記録ヘツドの製造方法 |
US4623676A (en) * | 1985-01-18 | 1986-11-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Protective coating for phototools |
US4688056A (en) * | 1985-07-13 | 1987-08-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording head having a layer of a resin composition curable with an active energy ray |
US4688053A (en) * | 1985-07-13 | 1987-08-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording head having a layer of a resin composition curable with an active energy ray |
JPH02113022A (ja) * | 1988-10-20 | 1990-04-25 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | 紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物 |
US5578417A (en) * | 1989-01-10 | 1996-11-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording head and recording apparatus having same |
KR910010027B1 (ko) * | 1989-03-03 | 1991-12-10 | 동양나이론 주식회사 | 열가소성 수지 조성물 |
US4948645A (en) * | 1989-08-01 | 1990-08-14 | Rogers Corporation | Tape automated bonding and method of making the same |
JP2897272B2 (ja) * | 1989-08-25 | 1999-05-31 | 東洋紡績株式会社 | 電子部品封止用硬化型樹脂組成物 |
JP2697937B2 (ja) * | 1989-12-15 | 1998-01-19 | キヤノン株式会社 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 |
DE69123932T2 (de) * | 1990-10-18 | 1997-05-22 | Canon Kk | Herstellungsverfahren eines Tintenstrahldruckkopfes |
US5290667A (en) * | 1991-12-03 | 1994-03-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for producing ink jet recording head |
US5297331A (en) * | 1992-04-03 | 1994-03-29 | Hewlett-Packard Company | Method for aligning a substrate with respect to orifices in an inkjet printhead |
US5275695A (en) * | 1992-12-18 | 1994-01-04 | International Business Machines Corporation | Process for generating beveled edges |
JP3143307B2 (ja) * | 1993-02-03 | 2001-03-07 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
JPH091804A (ja) * | 1995-06-21 | 1997-01-07 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドの製造方法および同方法により製造されたインクジェット記録ヘッド |
JPH0924614A (ja) * | 1995-07-11 | 1997-01-28 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘッド用保護膜材料および該保護膜材料を用いた液体噴射記録ヘッドおよび液体噴射記録ヘッドキット |
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