JPH10283972A - 走査型プローブ顕微鏡を用いた加工、記録、再生装置 - Google Patents

走査型プローブ顕微鏡を用いた加工、記録、再生装置

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JPH10283972A
JPH10283972A JP9092635A JP9263597A JPH10283972A JP H10283972 A JPH10283972 A JP H10283972A JP 9092635 A JP9092635 A JP 9092635A JP 9263597 A JP9263597 A JP 9263597A JP H10283972 A JPH10283972 A JP H10283972A
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scanning probe
recording
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Eisuke Tomita
英介 冨田
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Seiko Instruments Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 再現性よく表面形状測定が可能であり、加工
精度、記録精度がよく、容易に情報の再生が可能な走査
型プロ−ブ顕微鏡を用いた加工、記録、再生装置を提供
する。 【解決手段】 先端に探針を有するプロ−ブ1と、圧電
振動体2と交流電圧発生手段3からなる加振部と、水晶
振動子4と電流電圧増幅回路5からなる振動検出部と、
プロ−ブを試料表面に接近させる粗動手段6と、Z軸微
動素子11とZサ−ボ回路12とからなる試料とプロ−
ブ間の距離制御手段と、XY微動素子13とXY走査回
路14とからなる2次元走査手段と、測定信号の3次元
画像化を行うデ−タ処理手段15とからなり、さらに弾
性体16のバネ圧でプロ−ブ1を水晶振動子4に固定す
ることとした走査型プロ−ブ顕微鏡を用いた加工、記
録、再生装置の構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、水晶振動子をプロ
ーブの位置制御に利用する走査型プローブ顕微鏡を用い
た加工、記録、再生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、走査型プローブ顕微鏡の位置制御
方式としては、トンネル電流検知方式及びエバネセント
光検知方式、原子間力検知方式などが知られていた。ト
ンネル電流をプローブの位置制御に利用した走査型プロ
ーブ顕微鏡としては、走査型トンネル顕微鏡(STM)
があり、またエバネセント光をプローブの位置制御に利
用した走査型プローブ顕微鏡としてはフォトンSTMが
あるが、測定試料が限定されることから、原子間力をプ
ローブの位置制御に利用した原子間力顕微鏡(AF
M)、近接場走査光学顕微鏡(NSOM)などが主に利
用されている。原子間力検知方式には、プローブの変位
をレーザー光により検出する方式と水晶振動子の発生電
流の変化を利用する方式がある。
【0003】プローブの変位検出にレーザー光を用いる
走査型プローブ顕微鏡としては、例えば、「特開平6−
50750、力検知手段を含む走査型顕微鏡、ロバート
・エリック・ベツトズイツグ」に開示されている。プロ
ーブの変位検出に水晶振動子を用いる走査型プローブ顕
微鏡としては、例えば、カレド・カライ等により、Ap
pl.Phys.Lett.66(14)、1995、
1842〜1844ページに開示されている。以下、こ
れらの装置の概略を述べる。
【0004】図2は従来の「レーザー光を用いる走査型
プローブ顕微鏡」の概略図である。光ファイバー310
の先端をテーパー状70に加工する。XYZステージ5
0上に試料台20が設置されている。試料台の上には試
料30がセットされている。光ファイバープローブ70
を微動素子40を用いて、試料面と平行に振動させる。
プローブ先端には試料表面からの水平方向の力すなわち
シアーフォースが働き、プローブの振動状態が変化す
る。プローブ70の振動状態の測定には、位置制御用の
レーザー光(図では省略)を先端に照射し、プローブ7
0の影をレンズ90と光検出器30で検出することで行
う。シアーフォースを一定に保持するように、すなわ
ち、振幅変化または位相変化を一定に保持するように微
動素子40を用いて、試料表面とプローブ先端の距離を
制御する。試料からの距離に応じてシアーフォースが急
速に減衰することを利用して、試料表面とプローブ先端
との距離をナノメーターのオーダーで一定に制御でき
る。XYZ微動素子40を用いて、試料表面をラスター
走査する。このようにして、試料の表面形状がナノメー
ターのオーダーで測定できる。この状態で、プローブ先
端より電界、磁界、電流、光、熱、圧力等を試料表面に
印加することにより、試料表面を加工することができ
る。また、試料移動手段を用いて試料表面上に加工分布
を形成することで情報の記録が可能であり、また形成さ
れた加工情報を試料移動手段を用いて順次測定すること
により情報の再生が可能である。
【0005】図3は従来の「水晶振動子を用いる走査型
プローブ顕微鏡」の主要部の概略図である。400は光
ファイバープローブ、410は水晶振動子である。光フ
ァイバープローブを水晶振動子に接着する。水晶振動子
を振動用ピエゾ素子(図では省略)で共振させる。水晶
振動子の振動により、光ファイバープローブは振動す
る。プローブの先端が試料に接近すると、プローブ先端
には試料表面からの水平方向の力すなわちシアーフォー
スが働き、水晶振動子の振動状態が変化する。水晶の圧
電効果による発生電荷を測定することで、水晶振動子の
振動状態を測定する。シアーフォースを一定に保持する
ように、すなわち、水晶振動子の出力の振幅変化または
位相変化を一定に保持するようにピエゾ圧電スキャナー
(図では省略)を用いて、試料表面とプローブ先端の距
離を制御する。試料からの距離に応じてシアーフォース
が急速に減衰することを利用して、試料表面とプローブ
先端との距離をナノメーターのオーダーで一定に制御で
きる。XYZ微動素子(図では省略)を用いて、試料表
面をラスター走査する。このようにして、試料の表面形
状がナノメーターのオーダーで測定できる。この状態
で、プローブ先端より電界、磁界、電流、光、熱、圧力
等を試料表面に印加することにより、試料表面を加工す
ることができる。また、試料移動手段を用いて試料表面
上に加工分布を形成することで情報の記録が可能であ
り、また形成された加工情報を試料移動手段を用いて順
次測定することにより情報の再生が可能である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の走査型プローブ顕微鏡では、以下に述べるような欠
点があった。レーザー光を用いる走査型プローブ顕微鏡
では、シアーフォース検出のためにレーザー光を光プロ
ーブ先端近傍の試料表面に照射し、その反射光中のプロ
ーブ先端像(影)を検出している。このため、反射光量
が試料表面の形状、反射率に影響されやすく、振動振幅
の測定が困難であり、正確な表面形状測定が困難となっ
ていた。また、レーザー光の位置合わせが容易でなく、
データの再現性に問題があった。したがって、加工精
度、記録精度に問題があり、情報の再生が困難であっ
た。
【0007】水晶振動子を用いる走査型プローブ顕微鏡
では、水晶振動子とプローブの接着部が極めて微小領域
(例えば、一辺が約100μmの正方形部分)となりや
すく、接着作業が困難であった。また、接着量および硬
化度、接着部位などにより、水晶振動子の素子特性が変
化しやすく、再現性よい振動子センサーを得ることが困
難となっていた。このため、工業用の目的では利用が困
難となっていた。また、プローブの交換時には、水晶振
動子と共に交換しなければならず、コストアップととも
に再現性のある表面形状測定が不可能となっていた。し
たがって、加工精度、記録精度に問題があり、情報の再
生が困難であった。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の走査型プローブ
顕微鏡を用いた加工、記録、再生装置は、先端に探針を
有するプローブと、圧電振動体と交流電圧発生手段から
なる加振部と、水晶振動子と電流電圧増幅回路からなる
振動検出部と、プローブを試料表面に接近させる粗動手
段と、Z軸微動素子とZサーボ回路とからなる試料とプ
ローブ間の距離制御手段と、XY微動素子とXY走査回
路とからなる2次元走査手段と、測定信号の3次元画像
化を行うデータ処理手段とから構成され、弾性体のバネ
圧でプローブを水晶振動子に固定することを特徴とする
走査型プローブ顕微鏡を用いた加工、記録、再生装置と
した。そしてこのような構成をとることにより、再現性
よく表面形状測定が可能であり、加工精度、記録精度が
よく、容易に情報の再生が可能な走査型プローブ顕微鏡
を用いた加工、記録、再生装置を提供する。
【0009】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の走査型プローブ
顕微鏡を用いた加工、記録、再生装置の概略図である。
本発明の走査型プローブ顕微鏡を用いた加工、記録、再
生装置は、先端に探針を有するプローブ1と、圧電振動
体2と交流電圧発生手段3からなる加振部と、水晶振動
子4と電流電圧増幅回路5からなる振動検出部と、プロ
ーブを試料表面に接近させる粗動手段6と、Z軸微動素
子11とZサーボ回路12とからなる試料とプローブ間
の距離制御手段と、XY微動素子13とXY走査回路1
4とからなる2次元走査手段と、測定信号の3次元画像
化を行うデータ処理手段15とから構成され、弾性体1
6のバネ圧でプローブ1を水晶振動子4に固定する。
【0010】プローブを水平に振動させながら試料表面
近傍に接近させると、プローブ先端にシアーフォースが
働き、プローブの振動振幅が減少する。プローブと水晶
振動子とはバネ圧で固定され一体として作動するため、
プローブの振動振幅の減少は水晶振動子の振動振幅の減
少となる。水晶振動子の振動振幅の減少は、出力電流の
減少となり電流電圧増幅回路で検出される。水晶振動子
の出力電流を一定にするように、Z軸微動素子とZサー
ボ回路により試料とプローブとの距離を制御すること
で、プローブ先端が試料面から一定の距離に保たれる。
プローブを試料面内で相対的に2次元走査し、3次元画
像化を行うようにした。この状態で、プローブ先端より
電界、磁界、電流、光、熱、圧力等を試料表面に印加す
ることにより、試料表面を加工することができる。ま
た、試料移動手段を用いて試料表面上に加工分布を形成
することで情報の記録が可能であり、また形成された加
工情報を試料移動手段を用いて順次測定することにより
情報の再生が可能である。
【0011】上記のように、プローブと試料との距離制
御を水晶振動子を用いて行うことで、レーザー光を用い
る走査型プローブ顕微鏡のような位置制御用レーザーが
不要となり、レーザー光の位置および反射光量の変動に
よるデータの不正確さの問題を回避できる。また、弾性
体のバネ圧でプローブを水晶振動子に固定することで、
従来の水晶振動子を用いる走査型プローブ顕微鏡で問題
となっていた接着の変動によるデータの変動がなく、ま
た、プローブ交換時にはプローブのみ交換すればよいた
め、同一の水晶振動子が使用でき、測定条件の再現性、
さらにデータの再現性を高めることが可能である。ま
た、プローブ交換のみであるため、低コストであり、か
つ困難な接着が不要となり、取り扱いが極めて簡単にな
る。さらに、再現性よく表面形状測定が可能であり、加
工精度、記録精度がよく、容易に情報の再生が可能な走
査型プローブ顕微鏡を用いた加工、記録、再生装置が実
現できる。
【0012】
【実施例】以下に、この発明の実施例を説明する。 [実施例1]図4は、本発明の走査型プローブ顕微鏡を
用いた加工、記録、再生装置の実施例1の概略図であ
る。試料の雰囲気を制御できる走査型プローブ顕微鏡を
用いた加工装置としての実施例を示した。 水晶振動子
4と圧電振動体2は、水晶振動子ホルダー25に接着固
定されている。圧電振動体としては板状のPZT素子
を、水晶振動子としては時計用の水晶振動子を用いた。
PZT素子に交流電圧を印加するとPZT素子が振動
し、水晶振動子を強制振動させる。振動周波数を水晶振
動子の共振周波数(例えば32.7kHz)にすると、
水晶振動子が共振する。水晶振動子が振動すると、圧電
効果により水晶振動子の電極に電荷が誘起され、電流と
して電流電圧増幅回路により検出される。水晶振動子の
振動振幅に比例した電流が発生するため、検出された電
流により水晶振動子の振動状態が測定できる。圧電振動
体としてはPZT板の他、円筒形のPZTスキャナーや
積層PZT板などが考えられ、いずれも本発明に含まれ
る。また、水晶振動子としては時計用以外の水晶振動子
も本発明に含まれる。
【0013】プローブ1は、弾性体16のバネ圧で水晶
振動子に固定される。プローブとしては、タングステン
の先端を化学エッチングし、テーパー状に加工したもの
を用いた。プローブとしては、このように金属プローブ
の他、シリコンや窒化シリコンのカンチレバーや光ファ
イバーやガラスピペットをテーパー状に加工したものも
考えられ、本発明に含まれる。また、テーパー加工方法
については、化学エッチングの他、機械的研磨や加熱延
伸加工も考えられ、本発明に含まれる。探針先端につい
ては、磁性体膜を形成し磁気力検知プローブとしたもの
や金や白金膜を形成し導電性プローブとしたものも考え
られ、いずれも本発明に含まれる。弾性体としては、ス
テンレス鋼の板バネを用いた。水晶振動子は力検出感度
が高いため、弾性体のバネ定数は小さいものが望まし
い。本発明では、厚さ100μm、幅1mm、長さ10
mmの片持ちバネを用いた。弾性体としては、この他、
りん青銅の板バネやコイル状のバネ、シリコンゴムなど
のゴム類などが考えられ、いずれも本発明に含まれる。
また、プローブ自身のバネ性を生かして固定することも
可能であり、本発明に含まれる。バネ固定の場合、バネ
圧のめあすとしては、水晶振動子の振動特性すなわちQ
値を利用する。光導波プローブを固定しない場合、水晶
振動子のQ値は、例えば、3000程度である。光導波
プローブをバネ固定すると、Q値は500以下になる。
走査型プローブ顕微鏡として望ましいQ値は100〜4
00程度である。Q値がこの範囲になるようにバネ圧を
調整する。
【0014】水晶振動子ホルダー25はXYZ微動素子
11、13に固定される。微動素子としては、XYZの
3軸スキャナーが一体となった円筒形ピエゾ圧電素子を
用いた。微動素子としては、この他、Z軸とXY軸が分
離したピエゾスキャナーや電歪素子を用いたものが考え
られ、本発明に含まれる。この他、ピエゾステージや平
行バネを用いたステージ、1軸ピエゾ素子をXYZの3
軸に配置し一体化したトライポッド形圧電素子、積層形
のピエゾスキャナーなどが考えられ、いずれも本発明に
含まれる。
【0015】プローブの試料17への接近には粗動手段
6を用いる。粗動手段としては、ステッピングモーター
と減速ギヤ、粗動ネジ、リニアガイドからなる粗動機構
を用いた。粗動機構については、この他に、Zステージ
にステッピングモーターを付加したものや、圧電素子を
用いたステージ、例えばインチワーム機構などやZステ
ージと圧電素子を組み合わせたステージなどが考えら
れ、いずれも本発明に含まれる。
【0016】真空チャンバー18を用いて、試料を真空
中に保持した。このようにして試料を真空中に保持でき
る。また、真空チャンバーにガス導入口をつけ、試料を
不活性ガスや反応性ガス中にさらすことも可能であり、
本発明に含まれる。この状態で、プローブ先端より電
界、磁界、電流、光、熱、圧力等を試料表面に印加する
ことにより、試料表面を加工することができた。
【0017】このような構成により、ナノメーターのオ
ーダーで再現性よく表面形状が測定でき、また精度よく
加工が可能な走査型プローブ顕微鏡を用いた加工装置が
実現できた。 [実施例2]図5は、本発明の走査型プローブ顕微鏡を
用いた加工、記録、再生装置の実施例2の概略図であ
る。走査型近接場光学顕微鏡としての記録、再生装置の
実施例を示した。
【0018】レーザー光源19から出た光は光変調器2
7によって周期的に振幅変調を受ける。光変調器として
は、音波による光変調器(AOモジュレータ)を用い
た。光変調器としては、この他、電界による光変調器
(EOモジュレータ)やモーターで光チョッパーを回転
させる機械式モジュレータなどが考えられ、いずれも本
発明に含まれる。変調されたレーザー光は、カップリン
グ21によって光導波プローブ1に導入する。光導波プ
ローブはプローブ自身のバネ圧により水晶振動子4に固
定される。光導波プローブの先端開口より試料17に照
射する。試料からの反射光をレンズ7、ミラー23、2
2と光学窓24を介して、レンズ8で集光する。集光さ
れた光は、ハーフミラー31で2方向に分岐し、光検出
器9とCCDカメラ29で測定される。ハーフミラー
は、場合によっては、ダイクロイックミラーで置き換え
ることも可能であり、また、光量確保のため、ミラーを
使用しないことも考えられる。光検出器9によって検出
された光は、ロックインアンプを用いて、S/N比よく
測定され、データ処理手段15で3次元の画像化を行
う。試料表面の測定領域の移動は、試料のXYステージ
26を用いて行う。XYステージとしては、ピエゾ駆動
方式のXYステージを用いた。XYステージとしては、
この他、ステッピングモーターとXYステージを組み合
わせたステージなどが考えられるが、本発明に含まれ
る。試料の加熱には、ヒーター32を用いた。ヒーター
としてはマンガニン線を用い銅の試料台の外側に巻き付
ける構成とした。ヒーターに流す電流を制御して加熱を
行う。ヒーターとしては、タングステン線や炭素薄膜、
マンガニン薄膜を利用することも考えられ本発明に含ま
れる。以上のような構成により、試料の温度を常温から
高温まで変化した状態で、試料表面に、光導波プローブ
の波長以下の開口よりレーザー光を照射し、反射光をレ
ンズで集光し、光検出器で検出できた。光導波プローブ
を試料面内で走査することにより、ナノメーターのオー
ダーで再現性よく表面形状が測定でき、同時に試料面内
の反射光分布を波長以下の高分解能で測定できた。さら
に、プローブ先端より電界、磁界、電流、光、熱、圧力
等を試料表面に印加することにより、試料表面上に情報
の記録が行え、また、記録された情報を測定することで
再生が可能であった。
【0019】このような構成により、ナノメーターのオ
ーダーで再現性よく表面形状が測定でき、また精度よく
記録、再生が可能な走査型プローブ顕微鏡を用いた記
録、再生装置が実現できた。
【0020】
【発明の効果】以上説明したように、この発明では、先
端に探針を有するプローブ1と、圧電振動体2と交流電
圧発生手段3からなる加振部と、水晶振動子4と電流電
圧増幅回路5からなる振動検出部と、プローブを試料表
面に接近させる粗動手段6と、Z軸微動素子11とZサ
ーボ回路12とからなる試料とプローブ間の距離制御手
段と、XY微動素子13とXY走査回路14とからなる
2次元走査手段と、測定信号の3次元画像化を行うデー
タ処理手段15とから構成され、弾性体16のバネ圧で
プローブ1を水晶振動子4に固定することとした。
【0021】上記のように、プローブと試料との距離制
御を水晶振動子を用いて行うことで、レーザー光を用い
る走査型プローブ顕微鏡のような位置制御用レーザーが
不要となり、レーザー光の位置および反射光量の変動に
よるデータの不正確さの問題を回避できる。また、弾性
体のバネ圧で光導波プローブを水晶振動子に固定するこ
とで、従来の水晶振動子を用いる走査型プローブ顕微鏡
で問題となっていた接着の変動によるデータの変動がな
く、また、プローブ交換時にはプローブのみ交換すれば
よいため、同一の水晶振動子が使用でき、測定条件の再
現性、さらにデータの再現性を高めることが可能であ
る。また、プローブ交換のみであるため、低コストであ
り、かつ困難な接着が不要となり、取り扱いが極めて簡
単になる。このようにして再現性の高い走査型プローブ
顕微鏡が実現でき、加工精度、記録精度がよく、容易に
情報の再生が可能な走査型プローブ顕微鏡を用いた加
工、記録、再生装置が実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の走査型プローブ顕微鏡を用いた加工、
記録、再生装置の概略図である。
【図2】従来のレーザー光を用いる走査型プローブ顕微
鏡の概略図である。
【図3】従来の水晶振動子を用いる走査型プローブ顕微
鏡の概略図である。
【図4】本発明の走査型プローブ顕微鏡を用いた加工、
記録、再生装置の実施例1の概略図である。
【図5】本発明の走査型プローブ顕微鏡を用いた加工、
記録、再生装置の実施例2の概略図である。
【符号の説明】
1 プローブ 2 圧電振動体 3 交流電圧発生手段 4 水晶振動子 5 電流電圧増幅回路 6 粗動機構 7 レンズ 8 レンズ 9 光検出器 11 Z軸微動素子 12 Zサーボ回路 13 XY微動素子 14 XY走査回路 15 データ処理手段 16 弾性体 17 試料 18 クライオスタット 19 レーザー光源 21 レンズ 22 ミラー 23 ミラー 24 光学窓 25 水晶振動子ホルダー 26 XYステージ 27 光変調器 28 ロックインアンプ 29 CCDカメラ 31 ハーフミラー 32 ヒーター 33 液セル 34 液体

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 先端に探針を有するプローブと、圧電振
    動体と交流電圧発生手段からなる加振部と、水晶振動子
    と電流電圧増幅回路からなる振動検出部と、プローブを
    試料表面に接近させる粗動手段と、Z軸微動素子とZサ
    ーボ回路とからなる試料とプローブ間の距離制御手段
    と、XY微動素子とXY走査回路とからなる2次元走査
    手段と、測定信号の3次元画像化を行うデータ処理手段
    とからなる走査型プローブ顕微鏡を用いた加工装置にお
    いて、 a)弾性体のバネ圧でプローブを水晶振動子に固定する
    ことを特徴とする走査型プローブ顕微鏡を用いた加工装
    置。
  2. 【請求項2】 プローブが走査型トンネル顕微鏡の探針
    であることを特徴とする請求項1記載の走査型プローブ
    顕微鏡を用いた加工装置。
  3. 【請求項3】 プローブが原子間力顕微鏡のカンチレバ
    ーであることを特徴とする請求項1記載の走査型プロー
    ブ顕微鏡を用いた加工装置。
  4. 【請求項4】 カンチレバーが磁性体からなる磁気力顕
    微鏡のカンチレバーであることを特徴とする請求項3記
    載の走査型プローブ顕微鏡を用いた加工装置。
  5. 【請求項5】 カンチレバーが導電性のカンチレバーで
    あり、試料表面に電位を印加する手段がさらに含まれる
    ことを特徴とする請求項3記載の走査型プローブ顕微鏡
    を用いた加工装置。
  6. 【請求項6】 試料を真空中に保持する手段がさらに含
    まれることを特徴とする請求項1記載の走査型プローブ
    顕微鏡を用いた加工装置。
  7. 【請求項7】 試料を不活性ガスまたは反応性ガス中に
    保持する手段がさらに含まれることを特徴とする請求項
    1記載の走査型プローブ顕微鏡を用いた加工装置。
  8. 【請求項8】 試料表面の測定位置を移動できる試料ス
    テージがさらに含まれることを特徴とする請求項1記載
    の走査型プローブ顕微鏡を用いた加工装置。
  9. 【請求項9】 試料表面に光照射を行う手段がさらに含
    まれることを特徴とする請求項1記載の走査型プローブ
    顕微鏡を用いた加工装置。
  10. 【請求項10】 試料を透過した光または試料表面の反
    射光を集光する手段および検出する手段がさらに含まれ
    ることを特徴とする請求項9記載の走査型プローブ顕微
    鏡を用いた加工装置。
  11. 【請求項11】 光の周期的変調手段とロックイン検出
    手段がさらに含まれることを特徴とする請求項10記載
    の走査型プローブ顕微鏡を用いた加工装置。
  12. 【請求項12】 先端に探針を有するプローブと、圧電
    振動体と交流電圧発生手段からなる加振部と、水晶振動
    子と電流電圧増幅回路からなる振動検出部と、プローブ
    を試料表面に接近させる粗動手段と、Z軸微動素子とZ
    サーボ回路とからなる試料とプローブ間の距離制御手段
    と、XY微動素子とXY走査回路とからなる2次元走査
    手段と、測定信号の3次元画像化を行うデータ処理手段
    とからなる走査型プローブ顕微鏡を用いた記録、再生装
    置において、 a)弾性体のバネ圧でプローブを水晶振動子に固定する
    ことを特徴とする走査型プローブ顕微鏡を用いた記録、
    再生装置。
  13. 【請求項13】 プローブが走査型トンネル顕微鏡の探
    針であることを特徴とする請求項12記載の走査型プロ
    ーブ顕微鏡を用いた記録、再生装置。
  14. 【請求項14】 プローブが原子間力顕微鏡のカンチレ
    バーであることを特徴とする請求項12記載の走査型プ
    ローブ顕微鏡を用いた記録、再生装置。
  15. 【請求項15】 カンチレバーが磁性体からなる磁気力
    顕微鏡のカンチレバーであることを特徴とする請求項1
    4記載の走査型プローブ顕微鏡を用いた記録、再生装
    置。
  16. 【請求項16】 カンチレバーが導電性のカンチレバー
    であり、試料表面に電位を印加する手段がさらに含まれ
    ることを特徴とする請求項14記載の走査型プローブ顕
    微鏡を用いた記録、再生装置。
  17. 【請求項17】 試料を真空中に保持する手段がさらに
    含まれることを特徴とする請求項12記載の走査型プロ
    ーブ顕微鏡を用いた記録、再生装置。
  18. 【請求項18】 試料を不活性ガスまたは反応性ガス中
    に保持する手段がさらに含まれることを特徴とする請求
    項12記載の走査型プローブ顕微鏡を用いた記録、再生
    装置。
  19. 【請求項19】 試料表面の測定位置を移動できる試料
    ステージがさらに含まれることを特徴とする請求項12
    記載の走査型プローブ顕微鏡を用いた記録、再生装置。
  20. 【請求項20】 試料表面に光照射を行う手段がさらに
    含まれることを特徴とする請求項12記載の走査型プロ
    ーブ顕微鏡を用いた記録、再生装置。
  21. 【請求項21】 試料を透過した光または試料表面の反
    射光を集光する手段および検出する手段がさらに含まれ
    ることを特徴とする請求項20記載の走査型プローブ顕
    微鏡を用いた記録、再生装置。
  22. 【請求項22】 光の周期的変調手段とロックイン検出
    手段がさらに含まれることを特徴とする請求項21記載
    の走査型プローブ顕微鏡を用いた記録、再生装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000258330A (ja) * 1999-03-04 2000-09-22 Seiko Instruments Inc 走査型プローブ顕微鏡
JP2007003319A (ja) * 2005-06-23 2007-01-11 Seiko Instruments Inc 水晶振動子の特性測定装置および特性測定方法
JP2007121317A (ja) * 2007-02-01 2007-05-17 Sii Nanotechnology Inc 微小接触式プローバー
JP2008173728A (ja) * 2007-01-19 2008-07-31 Sii Nanotechnology Inc 原子間力顕微鏡微細加工装置及び原子間力顕微鏡を用いた微細加工方法
JP5252389B2 (ja) * 2005-12-20 2013-07-31 国立大学法人金沢大学 走査型プローブ顕微鏡

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3202646B2 (ja) * 1997-04-09 2001-08-27 セイコーインスツルメンツ株式会社 走査型プローブ顕微鏡
US6200022B1 (en) * 1997-04-21 2001-03-13 Ta Instruments, Inc. Method and apparatus for localized dynamic mechano-thermal analysis with scanning probe microscopy
US6223591B1 (en) * 1997-11-28 2001-05-01 Nikon Corporation Probe needle arrangement and movement method for use in an atomic force microscope
JP3905254B2 (ja) * 1998-06-22 2007-04-18 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 走査型プローブ顕微鏡
US7370102B1 (en) 1998-12-15 2008-05-06 Cisco Technology, Inc. Managing recovery of service components and notification of service errors and failures
US6718376B1 (en) 1998-12-15 2004-04-06 Cisco Technology, Inc. Managing recovery of service components and notification of service errors and failures
TW424155B (en) * 1999-05-03 2001-03-01 Ind Tech Res Inst Beating mode near-field optical microscope
JP4044241B2 (ja) * 1999-05-24 2008-02-06 日本分光株式会社 プローブ顕微鏡
US6888135B2 (en) * 2000-10-18 2005-05-03 Nec Corporation Scanning probe microscope with probe formed by single conductive material
US6953930B2 (en) * 2001-08-27 2005-10-11 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Conductive transparent probe and probe control apparatus
IL145136A0 (en) * 2001-08-27 2002-06-30 Multiple plate tip or sample scanning reconfigurable scanning probe microscope with transparent interfacing of far-field optical microscopes
US7057997B2 (en) 2003-04-23 2006-06-06 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Class of electron beam based data storage devices and methods of use thereof
US7053351B2 (en) 2004-03-30 2006-05-30 Matsushita Electric Industrial, Co., Ltd Near-field scanning optical microscope for laser machining of micro- and nano- structures
US9171695B2 (en) * 2012-06-26 2015-10-27 Hitachi High-Technologies Corporation Stage apparatus and sample observation apparatus
CN105527265B (zh) * 2016-01-22 2023-07-04 复旦大学 激光泵浦时间分辨上转换发光活体成像系统
EP3324193A1 (en) * 2016-11-18 2018-05-23 Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO High-precision scanning device
CN106960531B (zh) * 2017-04-12 2019-05-14 常州富鸿达电子有限公司 一种医用报警器及其工作方法
KR102026832B1 (ko) * 2017-10-17 2019-09-30 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
CN111811939B (zh) * 2020-07-21 2022-08-02 上海交通大学 超低温环境下的高精度纳米力学检测系统
CN113176424A (zh) * 2021-03-31 2021-07-27 西安交通大学 一种加工二维纳米结构的装置及方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05180616A (ja) * 1992-01-08 1993-07-23 Canon Inc プローブ保持機構
JPH0688724A (ja) * 1992-09-08 1994-03-29 Canon Inc 走査型プローブ顕微鏡、メモリー装置及びリソグラフィー装置
JPH0696714A (ja) * 1992-09-14 1994-04-08 Hitachi Ltd 表面加工装置および記録装置
JPH06300515A (ja) * 1993-04-16 1994-10-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 走査プローブ顕微鏡用プローブと微細加工装置
JPH07260803A (ja) * 1994-03-23 1995-10-13 Canon Inc 走査型プローブ顕微鏡
JPH08122341A (ja) * 1994-10-24 1996-05-17 Olympus Optical Co Ltd 走査型プローブ顕微鏡
JPH08248043A (ja) * 1995-03-07 1996-09-27 Nikon Corp 走査型近接場光学顕微鏡

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02297003A (ja) * 1989-05-12 1990-12-07 Canon Inc 検出部位置決機構、圧電素子微動機構およびこれらを用いた走査型トンネル顕微鏡
CA2035996C (en) * 1990-02-09 1998-01-06 Hiroyasu Nose Position displacement detecting apparatus
GB2289759B (en) * 1994-05-11 1996-05-22 Khaled Karrau Coupled oscillator scanning imager
GB2290656B (en) * 1994-06-23 1998-03-25 Grongar Wynn Lloyd A scanning probe and an approach mechanism therefor
DE19524907A1 (de) * 1995-07-08 1997-01-09 Frieder Mugele Rastersondenmikroskop

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05180616A (ja) * 1992-01-08 1993-07-23 Canon Inc プローブ保持機構
JPH0688724A (ja) * 1992-09-08 1994-03-29 Canon Inc 走査型プローブ顕微鏡、メモリー装置及びリソグラフィー装置
JPH0696714A (ja) * 1992-09-14 1994-04-08 Hitachi Ltd 表面加工装置および記録装置
JPH06300515A (ja) * 1993-04-16 1994-10-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 走査プローブ顕微鏡用プローブと微細加工装置
JPH07260803A (ja) * 1994-03-23 1995-10-13 Canon Inc 走査型プローブ顕微鏡
JPH08122341A (ja) * 1994-10-24 1996-05-17 Olympus Optical Co Ltd 走査型プローブ顕微鏡
JPH08248043A (ja) * 1995-03-07 1996-09-27 Nikon Corp 走査型近接場光学顕微鏡

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000258330A (ja) * 1999-03-04 2000-09-22 Seiko Instruments Inc 走査型プローブ顕微鏡
JP2007003319A (ja) * 2005-06-23 2007-01-11 Seiko Instruments Inc 水晶振動子の特性測定装置および特性測定方法
JP5252389B2 (ja) * 2005-12-20 2013-07-31 国立大学法人金沢大学 走査型プローブ顕微鏡
JP2008173728A (ja) * 2007-01-19 2008-07-31 Sii Nanotechnology Inc 原子間力顕微鏡微細加工装置及び原子間力顕微鏡を用いた微細加工方法
JP2007121317A (ja) * 2007-02-01 2007-05-17 Sii Nanotechnology Inc 微小接触式プローバー
JP4498368B2 (ja) * 2007-02-01 2010-07-07 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 微小接触式プローバー

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