JPH10142608A - 液晶セルの製造方法 - Google Patents

液晶セルの製造方法

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JPH10142608A JP9295590A JP29559097A JPH10142608A JP H10142608 A JPH10142608 A JP H10142608A JP 9295590 A JP9295590 A JP 9295590A JP 29559097 A JP29559097 A JP 29559097A JP H10142608 A JPH10142608 A JP H10142608A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、単一光照射で一定のプレチルトが
決定される液晶セルの製造方法を提供する。 【解決手段】 光の偏光方向に対して垂直な配向性を有
する感光性配向膜を基板に塗布する過程と、上記配向膜
が塗布された基板に非偏光光又は部分偏光光を斜めに照
射してプレチルトを決定する過程と、を含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は液晶セルの製造方法
に関する。特に、液晶分子を配向させる配向膜の形成に
光配向法や、単一光照射等を用いる液晶セルの製造方法
に関するものである。
【０００２】
【従来技術】一般的に、液晶セルは一定の間隔を置いて
対向するように配置された二枚の基板と上記二枚の基板
の間に注入される液晶からなる。この際、液晶は短軸と
長軸に対する屈折率異方性を有しているので液晶表示装
置の均一の明るさと高いコントラスト比(contrast rati
o)を得るためには液晶分子の配列を一定に制御すること
が必修的なものである。このため、液晶セルをなす基板
面に配向膜を塗布し配向処理を実施して図１の直角座標
系て示した液晶分子のディレクタｎ（正しくは、後記数
式１のように表現される）を決定するのである。図面
で、θは配向膜の表面での液晶ディレクタの極角(polar
angle)を示すもので、本明細書ではプレチルト角と称
する。φは配向膜表面での液晶分子のディレクタｎの方
位角を示すもので、本明細書ではプレチルト角方向と称
する。即ち、液晶分子のディレクタｎは、次式のように
表現されるので、基板に配向処理をしてプレチルトθと
プレチルト角方向φを決定するもので液晶分子の配列を
制御することが望ましい。
【０００３】
【数１】
【０００４】本明細書では上記液晶分子のディレクタn
をプレチルトと称し、上記プレチルトは上記プレチルト
角とプレチルト角方向て決定される。
【０００５】上記配向膜の配向処理方法中で現在最も得
やすい方法が図２に示されたラビング法である。上記ラ
ビングは基板１１にポリイミド(polyimide)のような配
向膜１２を塗布した後、ラビング布で機械的な摩擦を実
施して(図２(a))、上記配向膜表面に一定のプレチルト
角(θp)を有する、均一の徴細溝(microgrooves)を形成
するのである(図２(b))。従って、微細溝が形成された
ポリイミドの配向膜表面と液晶分子間の相互作用で配向
膜の全表面にかけて所望の方向に液晶分子を一定に配向
させるようになる。
【０００６】しかし、上記ラビング法はラビング布の摩
擦強度によって配向膜に形成される微細溝の形態が変わ
るようになってこの微細溝によって配列される液晶分子
の配列が一定でないので、不規則な位相歪曲(random ph
ase distortion)と光散乱(light scattering)が発生す
るようになって、液晶ディスプレイの機能を低下させる
虞がある。また、ラビング処理時に塵及び静電気が発生
して基板に影響を与え、歩留りを低下させる問題点が発
生した。
【０００７】上記問題を解決するため、最近提案されて
いる方法中の一つが光配向法である。従来の光配向法は
一つのプレチルトを決定するために光配向物質からなる
配向膜が塗布された基板に線型偏光された紫外線を二重
照射しなければならない。
【０００８】図３(a)は、線型偏光された紫外線を配向
膜の表面に対して垂直に照射すれば、紫外線の偏光方向
と同じ方向に配列されたサイドチェーン(side chain)を
有する光配向膜物質の分子間でクロスリンキング(cross
linking)が発生する１次光照射を示す。従って、全体
配向膜の異方性は、上記クロスリンキングが発生しない
分子の配列方向で決定されるが、これは照射された光の
偏光方向に垂直な二つの方向に決定され、これをプレチ
ルト角方向(θ1，θ2)と称する。しかし、この際に形成
されたプレチルト角は０．１１度で小さく、一つのプレ
チルト角方向を選択しなければならないので、図３(b)
に示される２次光照射が行われる。
【０００９】２次光照射は１次光照射の偏光方向に垂直
である偏光方向を有する線型偏光された紫外線を配向膜
１２の法線に対して一定の角度θだけ傾斜した方向から
照射して、一つのプレチルト角方向θ1を選択し、その
プレチルト角は照射された角の傾斜角度θによって大き
くなる。例えば、傾斜角度が４５度である場合、そのプ
レチルト角は０．２６度になる。
【００１０】この光配向法はラビングによる配向法より
も多様な利点を有している。即ち、ラビング法とは異な
って配向膜表面で電荷や塵が発生しないので静電気によ
る歩留りの減少がなく、配向膜の全表面に所望の配向軸
とプレチルト角の大きさを制御して均一に液晶分子を配
列することによってラビング法によって発生する位相歪
曲や光散乱のような欠点が防止できる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光配向法は一つのプレチルトを決定するために二重の光
照射を行うので工程が複雑である。また、２次光照射の
傾斜角度によって制御されるプレチルト角の範囲も傾斜
角度θが３０度である場合に０．１５度、４５度である
場合に０．２６度、６０度である場合に０．３０度であ
り、プレチルト角の制御範囲も非常に制限されるという
問題がある。
【００１２】本発明は上記問題点を解決するためのもの
であって、工程が単純で０度〜９０度の間の全範囲のプ
レチルト角が制御されて多様なモードの液晶セルに適用
できる光配向方法を提供することを目的とする。
【００１３】本発明の他の目的は単純な工程で、広視野
角を有する液晶セルの製造方法を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の液晶表示装置の製造方法は、入射光の偏光方
向に対して垂直な方向に分子を配向する性質を有する配
向膜を基板に形成する配向膜形成過程と、上記配向膜の
表面に少なくとも一つの偏光成分を有する光を傾め方向
から照射して一定のプレチルトを決定する光照射過程
と、を含む。
【００１５】また、本発明の他の液晶表示装置の製造方
法は、基板に光反応膜を形成する過程と、上記光反応膜
の表面に非偏光光を斜め方向から照射して一定のプレチ
ルトを決定する光照射過程と、を含む。
【００１６】また、本発明の他の液晶表示装置の製造方
法は、基板に少なくとも一つの領域を有する光反応膜を
形成する過程と、上記光反応膜の表面に部分偏光された
光を傾め方向から照射して一定のプレチルトを決定する
光照射過程と、を含む。
【００１７】本発明の液晶表示装置は、配向性を有する
感光性物質からなる配向膜が形成された基板と、上記配
向膜の配向性によって決定されるプレチルトを有する分
子からなる液晶と、を含む。
【００１８】かかる構成によって、液晶分子のプレチル
トを決定することが可能となり、従来方法に比して、広
範囲のプレチルト角の設定、製造工程数の減少が可能と
なる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明について実施例及び
図面を参照して詳細に説明する。
【００２０】本発明の光配向法は、従来の光配向法とは
別に、１次照射時に決定される異方性が光照射によって
反応しない感光性分子によって決定されるのみならず、
反応に参与した感光性分子のメインチェーン(main chai
n)の配列、即ち光の偏光方向と垂直な方向への配列で決
定されるという理論から出発する。
【００２１】図４は、Ｐ方向とＳ方向での各電磁気波の
強度による光の特性を示す図面である。上記図面で、Ｐ
方向と上記Ｐ方向に対して垂直なＳ方向は各光の相対的
強度を示すために用いられる。
【００２２】本発明に係る、偏光されない光(非偏光光)
はあらゆる方向で振動する電磁気波を有する集合体であ
る。従って、光の進行方向を除いたあらゆる方向に対し
て電磁気波を有する。
【００２３】図４(a)は、入射したあらゆる電磁気波を
通過させる透明板７を通過した非偏光光を示す。従っ
て、上記非偏光波は一定の方向Ｐとこれに垂直な方向Ｓ
に対して同一の強度を有する。即ち、非偏光された光は
あらゆる方向に振動する光である。
【００２４】一方、偏光された光は一つの方向に振動す
る電磁気波の集合体と定義される。図４(b)は、透過軸
に平行した電磁気波のみを通過させる偏光板１７を通過
した偏光された光を示す。それで、上記一つの方向に振
動する光を偏光された光(偏光光)という。
【００２５】図４(c)は、一方向の強度が他方向の強度
より大きい楕円形の強度分布を有する光を示すもので、
本明細書ではこれを部分偏光された光(部分偏光光)と称
する。即ち、上記部分偏光された光で強い強度を有する
方向に振動する波を主電磁気波(principle electromagn
etic wave：Ｐ)といい、最も弱い強度を有する、上記主
電磁気波と垂直な方向に振動する副電磁気波(subordina
te electromagnetic wave：Ｓ)という。参照符号２７
は、主透過軸(principle axis：Ｐ)と平行する電磁気波
は全面通過するようにし、上記主透過軸以外の方向の電
磁気波は部分通過させるようにする部分偏光板を示すも
のである。そこで、上記部分偏光板２７を通過した部分
偏光された光は主軸方向で最も強い強度を有し、上記主
軸の垂直方向で最も弱い強度を有する。
【００２６】本発明では、上記非偏光光と部分偏光され
た光が液晶分子を配向するために用いられる。上記液晶
分子を配向するために、光反応性物質の配向膜が液晶セ
ルの基板に塗布されなければならない。本発明による配
向膜は入射光の偏光方向に対して垂直な方向に分子を配
向する性質を有する感光性物質を含む。即ち、プレチル
ト角方向は入射した光の偏光方向に対して垂直な方向に
決定される。又は、上記物質は０度〜９０度の範囲でプ
レチルト角が制御されることができるプレチルト角の形
成特性を有する。本発明で配向膜として用いられる光反
応物質は次の構造式を有するシロキサン(siloxane)系の
重合体(polymer)又は小重合体(oligomer)で例を挙げれ
ば、次のような化学構造式を有するシロキサンシンナマ
ート(siloxane cinnamate)である。
【００２７】シロキサンシンナマートＩ：
【００２８】
【化１】
【００２９】シロキサンシンナマートII：
【００３０】
【化２】
【００３１】ここで、Ｚ＝ＯＨ，ＣＨ3又はＯＨ及びＣ
Ｈ3の混合物、m＝１０〜１００，l＝l〜１１，Ｌ＝０又
は１，Ｋ＝０又はl，Ｘ，Ｘ1，Ｘ2，Ｙ＝Ｈ，Ｆ，Ｃ
ｌ，ＣＮ，ＣＦ3，ＣnＨ2n+1，ＯＣn，Ｈ2n+1(n＝１〜
１０)又はその混合物である。
【００３２】上記光反応性物質のプレチルト角の形成に
おける特徴は図５に示されている。同図は、シロキサン
重合体のプレチルト角の形成特性を示したものである。
光エネルギを付与しなかったとき、形成されるプレチル
ト角は９０度であり、第２範囲IIの光エネルギを付与す
ることによって、プレチルト角は６０度まで徐々に小さ
くなる。第２範囲IIと第１範囲Ｉ間の光エネルギを付与
しようとすると、１０度以下にプレチルト角が徐々に減
少することになる。
【００３３】図６は、シロキサン小重合体のプレチルト
角の形成特性を示したもので、この物質は光エネルギを
付与する前には９０度のプレチルト角を有する。第２範
囲IIのエネルギを付与すれば、プレチルト角は６０度ま
で徐々に減少し、以後に光エネルギを継続増加させる
と、５０度に収斂しながら減少する。上記シロキサン系
物質を配向膜として適用することによって、プレチルト
角を広範囲で制御することができる。
【００３４】そこで、図７のような多様な配向モードが
形成できる。図７(a)は、６０度以上のプレチルト角を
有する垂直配向モードを示したもので、同図(b)は、１
０度以下のプレチルト角を有する水平配向モードを示し
たものであり、同図(c)は、１０度〜６０度間のプレチ
ルト角を有するチルト(tilt)配向モードを示したもので
ある。本発明の配向方法は上記した通り多様なプレチル
ト角を制御することによって、あらゆる配向モードに適
用できる。
【００３５】本発明の配向方法が図８に示されている。
この実施例で、あらゆる方向の電磁気波を有する非偏光
光が適用されて単一照射でプレチルトができるようにな
った。本実施例で、非偏光光は光の進行方向を除いてあ
らゆる方向に対して振動する電磁気波を有しているの
で、配向膜でのクロスリンキングは光の入射された方向
では発生しない。
【００３６】図８(a)は、配向膜の法線に対して一定の
角度θで傾斜されるように非偏光光をシロキサン物質か
らなる配向膜に照射してプレチルトを決定するものであ
る。この際、プレチルト角方向は光の入射方向で選択さ
れプレチルト角は光の照射エネルギによって制御され
る。図８(b)で示されるように、一つのプレチルトθpが
配向膜に提供される。
【００３７】光照射時間を短くするために、望ましい配
向モードは垂直配向モードである。この配向モードを得
るために、図５のシロキサン重合体を配向膜に適用した
場合には、第２範囲IIの光エネルギを付与すればよい。
この実施例で、光を偏光させる偏光板は照射装置で除去
できる。また、配向工程が単一工程で完了するために、
照射装置を再配列する必要がなくなる。それにより、単
一照射で工程が単純で、エネルギの効率が高くなる。
【００３８】本発明の配向工程の他の実施例が図９に示
されている。この実施例では、主電磁気波成分以外に副
電磁気波成分を共に有する部分偏光された光を単一照射
してプレチルトが付与される。この配向方法で、照射さ
れた光の副電磁気波成分は配向膜のプレチルト角方向を
選択するようになり、主電磁気波成分は配向膜のプレチ
ルト角方向の軸を提供するようになる。
【００３９】図９(a)は、配向膜の法線に対して一定の
角度θで斜めに入射するように、部分偏光された光をシ
ロキサン物質からなる配向膜２２に照射してプレチルト
を決定するものである。この際、主電磁気波の振動方向
と垂直な方向に光反応性物質であるメインチェーン(mai
n chain)が配列されて二つのプレチルト角方向が決定さ
れ、同時に副電磁気波によって光反応性物質のサイドチ
エーン(side chain)が結合して光が入射された方向にプ
レチルト角方向が決定され、プレチルト角は照射された
エネルギによって制御されて、一つのプレチルトθpが
配向膜に提供される(図９(b))。
【００４０】また、本実施例では、メインチェーン(mai
n chain)によって安定したプレチルト角の方向軸を有す
る一つのプレチルト角の方向が選択され、プレチルト角
は光の照射エネルギによって制御されるので垂直配向モ
ードのみならず水平配向モードに適用することもでき
る。
【００４１】また、配向膜に形成されるプレチルト角の
光エネルギに対する敏感度は図１０で示されるように部
分偏光された光の偏光度に依存する。
【００４２】上述したような配向方法を適用して、第１
配向膜に形成された第１プレチルトと、上記第１配向膜
に対向した第２配向膜に形成された第２プレチルト間の
組み合わせによって、図１１及び図１２に示すような、
多様なモードの液晶セルを製造できる。
【００４３】図１１(a)は、配向膜のプレチルト角方向
が対向した配向膜のプレチルト角方向と垂直に配向され
たツイストネマチック(twisted nematic：ＴＮ)液晶セ
ルを示す。図１１(b)と同図(c)は、それぞれスプレー(s
play)構造とベンド(bend)構造を示す。これらモードの
液晶セルでは、一つの配向膜のプレチルト角方向が対向
した配向膜のプレチルト角方向と逆方向に平行に配向さ
れた液晶セルである。図１１(d)は、配向膜のプレチル
ト角方向が配向膜のプレチルト方向と順方向に平行に配
向されたＥＣＢ(electrically controlled birefringen
ce)液晶セルを示す。図１２は、一つの配向膜が垂直配
向モードに配向されて対向した配向膜は水平配向モード
に配向されたハイブリッド(hybrid)液晶セルである。
【００４４】しかし、上記配向工程で一定のプレチルト
だけを有する単一ドメイン(mono-domain)液晶セルは視
野角依存性を有するようになる。上記問題点を解消する
ため、本発明は図１３乃至図２０に示されたマルチドメ
イン(multi domain)液晶セルの製造方法を提供する。
【００４５】図１３は、第１基板と第２基板の二枚の基
板間で液晶分子が６０度以上のプレチルト角を有し、単
一方向で互いに平行に配列されたマルチドメインのＥＣ
Ｂモードの液晶セルを提供する実施例である。図面で実
線の矢印は第１基板のプレチルト角方向を示したもの
で、点線の矢印は第２基板のプレチルト角方向を示した
ものである。
【００４６】図１３(a)及び同図の断面図である図１３
(b)は、第１基板に塗布された配向膜２２の第１ドメイ
ンＩに第１プレチルトを提供する方法を示す。図１３
(a)及び同図(b)は、基板２１に塗布された配向膜２２の
第２ドメインIIをマスク２３でブロッキング(blocking)
して非偏光光をシロキサン系重合体の配向膜２２に一定
の角度θ1で傾斜照射すれば、第１ドメインＩに第１プ
レチルトが決定される。上記第１プレチルトは基板に対
して６０度以上であるプレチルト角と入射された方向の
プレチルト角方向を有する。
【００４７】図１３(c)及び同図(d)は、第１基板２１の
配向膜２２の第２ドメインIIに第２プレチルトを提供す
る方法を示す。マスク２３を第１ドメインＩに移してブ
ロッキングし非偏光光をシロキサン系重合体の配向膜２
２に一定の角度θ2に傾斜されるように照射すれば、第
２ドメインIIに第２プレチルトが決定される。従って、
基板２１に塗布された配向膜２２には互いに異なるプレ
チルトが決定された二つのドメインが形成される。
【００４８】上記第１基板と貼り付けるための第２基板
を得るために、図１３(e)に示されるように、シロキサ
ン系物質で形成された配向膜２２上に上記光照射工程を
繰り返して、第１ドメインと第２ドメインにそれぞれ第
１プレチルトと第２プレチルトを付与する。図１３(e)
の断面図である同図(f)に示されるように、プレチルト
は配向膜２２上で対向して傾斜されるようになる。
【００４９】ＥＣＢ液晶セルを得るための液晶パネルは
上記二つの基板２１を貼り付けることによって得られ
る。液晶２４は上記二つのドメインを有する液晶パネル
に注入されて二枚の基板間で垂直配向される。同時に、
一つのドメインの液晶分子は図１３(g)及び同図(h)で示
されるように、液晶セルの断面方向では互いに平行する
が、隣接したドメインとは異なる方向へ配向される。
【００５０】この方法で、ドメインによって液晶分子を
異なるように配向することによって広視野角の液晶セル
が得られる。
【００５１】本実施例で、配向膜に付与される光エネル
ギは、第１プレチルト角及び第２プレチルト角が６０度
以上、望ましくは７５度〜８９度で決定されるように設
定する。例えば、シロキサン系物質が配向膜に利用され
た場合に、図５、図６の第２範囲の光エネルギを適用し
て６０度以上の大きなプレチルト角が得られる。従っ
て、本発明の配向方法でＥＣＢモードの液晶セルが容易
に得られる。
【００５２】図１４は、二枚の基板間で液晶分子が１０
度以下のプレチルト角を有し、上下基板間でツイスト配
列されたマルチドメインのＴＮモードの液晶セルを提供
する実施例である。図面で実線の矢印は第１基板のプレ
チルト角方向を示したもので、点線の矢印は第２基板の
プレチルト角方向を示したものである。
【００５３】図１４(a)及び同図(b)は、第１基板２１に
塗布された配向膜２２の第１ドメインＩに第１プレチル
トを提供する方法を示す。
【００５４】図１４(a)の断面図である図１４(b)は、基
板２１に塗布された配向膜２２の第２ドメインIIをマス
ク２３でブロッキングし、第１の部分偏光された光をシ
ロキサン系重合体の配向膜２２に一定の角度θ1で斜め
に照射すれば、第１ドメインＩに第１プレチルトが決定
される。上記第１プレチルトは基板に対して１０度以下
であるプレチルト角と入射された方向のプレチルト角方
向を有する。
【００５５】図１４(c)及び同図(d)は、第１基板２１に
塗布された配向膜２２の第２ドメインIIに第２プレチル
トを提供する方法を示す。マスク２３を第１ドメインＩ
に移してブロッキングし、第２の部分偏光された光をシ
ロキサン系重合体の配向膜２２に一定の角度θ2で斜め
に照射すれば、第２ドメインIIに第２プレチルトが決定
される。従って、上記第１基板２１の配向膜２２上に互
いに異なる二つのプレチルトが付与される。
【００５６】第２基板は図１４(e)に示したように、シ
ロキサン系物質で形成された配向膜上に上記光照射工程
を繰り返して第１ドメインと第２ドメインに上記第１プ
レチルトに垂直な第３プレチルト及び上記第２プレチル
トに垂直な第４プレチルトを付与する。図１４(e)の断
面図である同図(f)に示されるように、プレチルトは配
向膜２２上で互いに異なる方向へ傾斜されるようにな
る。
【００５７】ＴＮモードの液晶セルを得るための液晶パ
ネルは上記二つの基板２１を貼り付けることによって得
られる。液晶２４は上記二つのドメインを有する液晶パ
ネルに注入されて二枚の基板間で水平配向される。同時
に、一つのドメインの分子は図１４(g)及び同図(h)に示
されるように、液晶セルの断面方向では互いにツイスト
配向されるが、隣接したドメイン毎に異なる方向でチル
ト配向される。
【００５８】この方法で、ドメインによって液晶分子を
異なるように配向することによって広光視野角の液晶セ
ルが得られる。
【００５９】本実施例で、配向膜に付与される光エネル
ギは第１プレチルト角及び第２プレチルト角が１０度以
下で決定されるように設定する。例えば、シロキサン重
合体が配向膜として用いられた場合に、図５の第１範囲
Ｉの光エネルギを適用して１０度以下の小さなプレチル
ト角が得られる。
【００６０】本発明の配向方法で安定したプレチルト角
の方向軸が部分偏光された光の主電磁気波によって容易
に得られ、プレチルト角の敏感性も図１０に示された偏
光度で制御される。
【００６１】図１５は、２ドメインのＥＣＢモードの液
晶セルより視野角がより広い４ドメインのＥＣＢモード
の液晶セルの製造方法を示すものである。図面で実線の
矢印は第１基板のプレチルト角方向を示したもので、点
線の矢印は第２基板のプレチルト角方向を示したもので
ある。
【００６２】図１５(a)の断面図である同図(b)で、第１
基板２１に塗布されたシロキサン系物質の配向膜２２の
第２，第３，及び第４ドメイン(II，III，IV)をマスク
２３でブロッキングし、第１の非偏光光をシロキサン系
重合体の配向膜に一定の角度θ1で傾斜照射すれば、第
１ドメインＩに第１プレチルトが決定される。上記第１
プレチルトは、基板に対して６０度以下であるプレチル
ト角と入射された方向で傾斜されたプレチルト角方向を
有する。
【００６３】図１５(c)及び同図(d)は、配向膜２２の第
２ドメインIIに第２プレチルトを提供する方法を示す。
マスク２３を第１，第３，及び第４ドメイン(I，III，I
V)に移してブロッキングして第２の非偏光光をシロキサ
ン系重合体の配向膜２２に一定の角度θ2で傾斜照射す
れば、第２ドメインIIに第２プレチルトが決定される。
【００６４】第３及び第４プレチルトを提供するため
に、図１６(a)、図１６(b)、図１６(c)及び図１６(d)で
示されるように、非偏光光を傾斜方向で配向膜２２の第
３ドメインIIIと第４ドメインIVに照射して第３プレチ
ルトと第４プレチルトをそれぞれ提供する。図１７(a)
で上記マスク２３を除去すれば、４ドメインを有する第
１基板が得られる。
【００６５】上記光配向方法を別途の第２基板２１に反
復実施して第１領域に第１プレチルト、第２領域に第２
プレチルト、第３領域に第３プレチルト及び第４領域に
第４プレチルトをそれぞれ付与し、上記第１基板と貼り
付ければ、液晶パネルが得られる。４ドメインを有する
液晶パネルに液晶を注入すれば、液晶分子は上記配向膜
に付与されたプレチルト角によって垂直配向される。同
時に液晶分子は図１７(b)に示したように、液晶の断面
方向で互いに平行に配列され、付近のドメインでは互い
に異なる方向で配列される。
【００６６】従って、各ドメイン毎に異なるように配向
された液晶分子によって視野角が広い液晶セルが得られ
る。
【００６７】この実施例で、第１，第２，第３，及び第
４プレチルトを得るために配向膜に付与される光エネル
ギは図５と図６の第２範囲IIが選択されて得られたプレ
チルト角は６０度以上、望ましくは７５度〜８９度であ
る。
【００６８】本発明は光照射によって大きなプレチルト
角をＥＣＢモードの液晶セルを短時間に制作できる製造
方法を提供し、さらに、単に、光の照射方向を変化させ
ることでマルチドメインの液晶セルが提供できる。それ
故、広視野角、高コントラスト比、及び安定した階調表
示(grey scale)を有するＥＣＢの液晶セルが本発明の製
造方法によって容易に得られる。
【００６９】従って、本発明に要する工程時間は従来の
方法に比べて顕著に短縮できる。
【００７０】図１８は、２ドメインのＴＮモードの液晶
セルより視野角がより広い４ドメインのＴＮモードの液
晶セルの製造工程を示すものである。図面で実線の矢印
は第１基板のプレチルト角方向を示したもので、点線の
矢印は第２基板のプレチルト角方向を示したものであ
る。
【００７１】図１８(a)及び同図の断面図である図１８
(b)で、基板２１に塗布された配向膜２２の第２，第
３，及び第４ドメイン(II，III，IV)をマスク２３でブ
ロッキングし、部分偏光された光をシロキサン系重合体
の配向膜２２に一定の角度θ1で斜めに照射すれば、第
１ドメインＩに第１プレチルトが決定される。上記第１
プレチルトは基板に対して１０度以下であるプレチルト
角と入射された方向のプレチルト角方向を有する。
【００７２】図１８(c)及び図１８(d)は、配向膜２２の
第２ドメインIIに第２プレチルトを提供する方法を示
す。マスク２３を第１，第３，及び第４ドメイン(Ｉ，I
II，IV)に移してブロッキングし、第２の部分偏光され
た光をシロキサン系重合体の配向膜２２に一定の角度θ
2で傾斜照射すれば、第２ドメインIIに第２プレチルト
が決定される。第３及び第４プレチルトを提供するため
に、図１９(a)、図１９(b)、図１９(c)及び図１９(d)に
示されるように、非偏光光をθ3及びθ4の角度で傾斜方
向で配向膜２２の第３ドメインIIIと第４ドメインIVに
それぞれ照射して第３プレチルトと第４プレチルトを提
供する。図２０(a)で上記マスク２３を除去すれば、４
ドメインを有する第１基板が得られる。
【００７３】上記光配向方法を別途の第２基板２１に反
復実施して、第２基仮２１に塗布された配向膜２２の第
１領域に第１プレチルトに垂直な第５プレチルトを付与
し、第２領域に第２プレチルトに垂直な第６プレチルト
を付与し、第３領域に第３プレチルトに垂直な第７プレ
チルトを付与し、第４領域に第４プレチルトに垂直な第
８プレチルトを付与して４ドメインの第２基板２１を得
るようになる。上記二枚の基板を貼り付けてパネルが得
られる。４ドメインを有する液晶パネルに液晶を注入す
れば、液晶分子は上記配向膜に付与されたプレチルト角
によって水平配向される。同時に液晶分子は図２０(b)
に示されるように、液晶の断面方向で互いにツイストに
配列され、各ドメインで互いに異なる方向で配列され
る。
【００７４】従って、各ドメイン毎に異なって配向され
た液晶分子によって視野角が広い液晶セルが得られる。
【００７５】この実施例で、第１〜第８プレチルト角を
得るために付与される光エネルギは図５の第１範囲Ｉが
選択され、得られたプレチルト角は１０度以下である。
【００７６】本発明は部分偏光された光の主電磁気波に
よって安定したプレチルト角の方向軸が容易に提供さ
れ、光エネルギに対するプレチルト角の敏感性は図１０
に示したように制御される。上記方法による液晶セルの
プレチルト制御方法において、単一照射で液晶表示素子
をなす液晶分子の配列を決定する、プレチルト角方向及
びプレチルト角からなるプレチルトが決定することによ
って製造工程数を従来の工程数に比べて最高l／２に短
縮できるようになる。また、０度〜９０度の全範囲のプ
レチルト角を光に対する変化率を制御しながら選択でき
るようになって全体工程に対する規制力を高めることが
できるようになる。従って、全体の製造工程の時間が短
縮でき、あらゆるモードの液晶セルに適用できる配向方
法を提供することができる。
【００７７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、配向性を有する感光物質を基板に塗布して配向膜を
形成し、この配向膜の配向性を光照射によって決定する
ことによって液晶分子のプレチルト角及びプレチルト方
向を定めるので、液晶分子に広範囲のプレチルト角を与
えることが可能となる。また、比較的に簡単な製造工程
で済む。更には、広い視野角の液晶セルを製造すること
が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、液晶分子のディレクタの直角座標系を
示す図である。
【図２】図２は、従来のラビング処理工程を示す図であ
る。
【図３】図３は、従来の光配向工程を示す図である。
【図４】図４は、照射光源となる光の特性を示す図であ
る。
【図５】図５は、本発明のシロキサン系の物質（重合
体）の光照射エネルギ量とプレチルト角との関係を示す
図である。
【図６】図６は、本発明のシロキサン系の物質（小重合
体）の光照射エネルギ量とプレチルト角との関係を示す
図である。
【図７】図７は、本発明の光配向法を適用可能な配向モ
ードの例を示す図である。
【図８】図８は、本発明の配向工程の一実施例を示す図
である。
【図９】図９は、本発明の配向工程の他の実施例を示す
図である。
【図１０】図１０は、本発明の部分偏光された光の偏光
度による光エネルギ量とプレチルト角との関係を示すグ
ラフである。
【図１１】図１１は、本発明の製造方法を適用可能な多
様の液晶セルモードの例を示す図である。
【図１２】図１２も、本発明の製造方法を適用可能な多
様の液晶セルモードの例を示す図である。
【図１３】図１３は、本発明の光配向法で製造される液
晶セルの製造工程の第１の実施例を示す図である。
【図１４】図１４は、本発明の光配向法で製造される液
晶セルの製造工程の第２の実施例を示す図である。
【図１５】図１５は、本発明の光配向法で製造される液
晶セルの製造工程の第３の実施例を示す図である。
【図１６】図１６も、本発明の光配向法で製造される液
晶セルの製造工程の第３の実施例を示す図である。
【図１７】図１７も、本発明の光配向法で製造される液
晶セルの製造工程の第３の実施例を示す図である。
【図１８】図１８は、本発明の光配向法で製造される液
晶セルの製造工程の第４の実施例を示す図である。
【図１９】図１９も、本発明の光配向法で製造される液
晶セルの製造工程の第４の実施例を示す図である。
【図２０】図２０も、本発明の光配向法で製造される液
晶セルの製造工程の第４の実施例を示す図である。
【符号の説明】
２１…基板 ２２…配向膜 ２３…マスク
フロントページの続き (72)発明者 權 純凡 大韓民国 ソウル特別市 江南區 開浦洞 住公アパート 82−206 (72)発明者 尹 基赫 大韓民国 ソウル特別市 瑞草區 盤浦洞 三湖 ガードンアパート ８−805 (72)発明者 崔 榮錫 大韓民国 大田市 西區 萬年洞 草原ア パートメント 103−1102 (72)発明者 金 種賢 大韓民国 ソウル特別市 江南區 大峙洞 934番地 新韓ゴルドビラ 201 (72)発明者 鄭 眞希 大韓民国 ソウル特別市 冠岳區 南▲山 見▼洞 602−239

Claims (62)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】入射光の偏光方向に対して垂直な方向に分
    子を配向する性質を有する配向膜を基板に形成する配向
    膜形成過程と、 前記配向膜の表面に少なくとも一つの偏光成分を有する
    光を傾め方向から照射して一定のプレチルトを決定する
    光照射過程と、 を含む液晶表示装置の製造方法。
  2. 【請求項２】請求項１記載の液晶表示装置の製造方法に
    おいて、 前記配向膜近傍に液晶層を形成する過程を更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  3. 【請求項３】請求項１記載の液晶表示装置の製造方法に
    おいて、前記光照射過程が、 前記配向膜の第１領域に光を斜め方向から照射して第１
    プレチルトを決定する工程と、 前記配向膜の第２領域に光を斜め方向から照射して第２
    プレチルトを決定する工程と、 を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  4. 【請求項４】請求項１記載の液晶表示装置の製造方法に
    おいて、前記光照射過程が、 前記配向膜の第２領域を遮蔽し第１領域に光を照射して
    第１プレチルトを決定する工程と、 前記配向膜の第１領域を遮蔽し第２領域に光を照射して
    第２プレチルトを決定する工程と、 を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  5. 【請求項５】請求項１記載の液晶表示装置の製造方法に
    おいて、前記光照射過程が、 前記配向膜の第２，第３及び第４領域を遮蔽し第１領域
    に光を照射して第１プレチルトを決定する工程と、 前記配向膜の第１，第３及び第４領域を遮蔽し第２領域
    に光を照射して第２プレチルトを決定する工程と、 前記配向膜の第１，第２及び第４領域を遮蔽し第３領域
    に光を照射して第３プレチルトを決定する工程と、 前記配向膜の第１，第２及び第３領域を遮蔽し第４領域
    に光を照射して第４プレチルトを決定する工程と、 を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  6. 【請求項６】請求項１記載の液晶表示装置の製造方法に
    おいて、 前記光が紫外線を含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  7. 【請求項７】請求項２記載の液晶表示装置の製造方法に
    おいて、 前記液晶層が６０度以上のプレチルト角を有する、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  8. 【請求項８】請求項２記載の液晶表示装置の製造方法に
    おいて、 前記液晶層が１０度以下のプレチルト角を有する、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  9. 【請求項９】請求項３記載の液晶表示装置の製造方法に
    おいて、 前記配向膜の第１領域及び第２領域の近傍に液晶層を形
    成し、 前記第１領域に付与された第１プレチルトで第１領域の
    近傍の液晶を第１プレチルトで配向させ、前記第２領域
    に付与された第２プレチルトで第２領域の近傍の液晶を
    前記第１プレチルトと異なる第２プレチルトで配向させ
    る過程を更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  10. 【請求項１０】請求項３記載の液晶表示装置の製造方法
    において、 前記配向膜の第１領域及び第２領域の近傍に液晶層を形
    成し、 前記第１領域に付与された第１プレチルトで第１領域の
    近傍の液晶を第１プレチルトで配向させ、第２領域に付
    与された第２プレチルトで第２領域の近傍の液晶を前記
    第１プレチルトと垂直である第２プレチルトで配向させ
    る過程を更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  11. 【請求項１１】請求項３記載の液晶表示装置の製造方法
    において、前記光照射過程が、 前記配向膜の第３領域に光を斜め方向から照射して第３
    プレチルトを付与する工程と、 前記配向膜の第４領域に光を斜め方向から照射して第４
    プレチルトを付与する工程と、を更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  12. 【請求項１２】請求項１１記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 前記配向膜に決定された少なくとも一つのプレチルトが
    少なくとも一つの他のプレチルトと異なるように決定さ
    れた前記配向膜の第１，第２，第３及び第４領域の近傍
    に液晶層を形成する過程を、更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  13. 【請求項１３】請求項１１記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 前記配向膜に決定された少なくとも一つのプレチルトが
    少なくとも一つの他のプレチルトと垂直となるように決
    定された前記配向膜の第１，第２，第３及び第４領域の
    近傍に液晶層を形成する過程を、更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  14. 【請求項１４】基板に光反応膜を形成する過程と、 前記光反応膜の表面に非偏光の光を斜め方向から照射し
    て一定のプレチルトを決定する光照射過程と、 を含む液晶表示装置の製造方法。
  15. 【請求項１５】請求項１４記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 前記光反応膜の表面に偏光された光を更に照射する過程
    を、更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  16. 【請求項１６】請求項１４記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 前記光反応膜の近傍に液晶層を形成する過程を、更に含
    む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  17. 【請求項１７】請求項１４において、前記非偏光の光が
    紫外線であることを特徴とする液晶表示装置の製造方
    法。
  18. 【請求項１８】請求項１４記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記光照射過程が、 前記光反応膜の第１領域に非偏光の光を斜め方向から照
    射して第１プレチルトを決定する工程と、 前記光反応膜の第２領域に非偏光の光を傾め方向から照
    射して第２プレチルトを決定する工程と、 を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  19. 【請求項１９】請求項１４記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記光照射過程が、 前記光反応膜の第２領域を遮蔽し第１領域に非偏光の光
    を照射して第１プレチルトを決定する工程と、 前記光反応膜の第１領域を遮蔽し第２領域に非偏光の光
    を照射して第２プレチルトを決定する工程と、 を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  20. 【請求項２０】請求項１４記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記光照射過程が、 前記光反応膜の第２，第３及び第４領域を遮蔽し第１領
    域に非偏光の光を傾め方向から第１プレチルトを決定す
    る工程と、 前記光反応膜の第１，第３及び第４領域を遮蔽し第２領
    域に非偏光の光を傾め方向から照射して第２プレチルト
    を決定する工程と、 前記光反応膜の第１，第２及び第４領域を遮蔽し第３領
    域に非偏光の光を傾め方向から照射して第３プレチルト
    角を決定する工程と、 前記光反応膜の第１，第２及び第３領域を遮蔽し第４領
    域に非偏光の光を傾め方向から照射して第４プレチルト
    を決定する工程と、 を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  21. 【請求項２１】請求項１５記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 前記偏光された光を光反応膜の表面に対して垂直に照射
    する、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  22. 【請求項２２】請求項１６記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 前記液晶層が６０度以上のプレチルト角を有する、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  23. 【請求項２３】請求項１６記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 前記液晶層が１０度以下のプレチルト角を有する、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  24. 【請求項２４】請求項１８記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 互いに異なるプレチルトが決定された前記光反応膜の第
    １領域及び第２領域の近傍に液晶層を形成する過程を、
    更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  25. 【請求項２５】請求項１８記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 互いに垂直となるようにプレチルトが決定された前記光
    反応膜の第１領域及び第２領域の近傍に液晶層を形成す
    る過程を、更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  26. 【請求項２６】請求項１８記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記光照射過程が、 前記光反応膜の第３領域に光を斜め方向から照射して第
    ３プレチルトを付与する工程と、 前記光反応膜の第４領域に光を斜め方向から照射して第
    ４プレチルトを付与する工程と、を更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  27. 【請求項２７】請求項２６記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 少なくとも一つのプレチルトが他のプレチルトと異なる
    ように決定された前記配向膜の第１，第２，第３及び第
    ４領域の近傍に液晶層を形成する過程を、更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  28. 【請求項２８】請求項２６記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 少なくとも一つのプレチルトが他のプレチルトと垂直と
    なるように決定された前記配向膜の第１，第２，第３及
    び４領域の近傍に液晶層を形成する過程を、更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  29. 【請求項２９】基板に少なくとも一つの領域を有する光
    反応膜を形成する過程と、 前記光反応膜の表面に部分偏光された光を傾め方向から
    照射して一定のプレチルトを決定する光照射過程と、 を含む液晶表示装置の製造方法。
  30. 【請求項３０】請求項１記載の液晶表示装置の製造方法
    における前記配向膜、請求項１４または請求項２９記載
    の液晶表示装置の製造方法における前記光反応膜が、そ
    れぞれシロキサン系重合体を含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  31. 【請求項３１】請求項１記載の液晶表示装置の製造方法
    における前記配向膜、請求項１４または請求項２９記載
    の液晶表示装置の製造方法における前記光反応膜が、そ
    れぞれシロキサン系小重合体を含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  32. 【請求項３２】請求項２９記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 前記光反応膜近傍に液晶層を形成する過程を、更に含
    む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  33. 【請求項３３】請求項２９記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 前記部分偏光された光が紫外線である、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  34. 【請求項３４】請求項２９記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記光照射過程が、 前記光反応膜の第１領域に部分偏光された光を傾め方向
    から照射して第１プレチルトを決定する工程と、 前記光反応膜の第２領域に部分偏光された光を斜め方向
    から照射して第２プレチルトを決定する工程と、 を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  35. 【請求項３５】請求項２９記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記光照射過程が、 前記光反応膜の第２領域を遮蔽し第１領域に部分偏光さ
    れた光を照射して第１プレチルトを決定する工程と、 前記光反応膜の第１領域を遮蔽し第２領域に部分偏光さ
    れた光を照射して第２プレチルトを決定する工程と、 を含むことを特犠とする液晶表示装置の製造方法。
  36. 【請求項３６】請求項２９記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記光照射過程が、 前記光反応膜の第２，第３及び第４領域を遮蔽し第１領
    域に部分偏光された光を斜め方向から照射して第１プレ
    チルトを決定する工程と、 前記光反応膜の第１，第３及び第４領域を遮蔽し第２領
    域に部分偏光された光を傾め方向から照射して第２プレ
    チルトを決定する工程と、 前記光反応膜の第１，第２及び第４領域を遮i蔽し第３
    領域に部分偏光された光を斜め方向から照射して第３プ
    レチルトを決定する工程と、 前記光反応膜の第１，第２及び第３領域を遮蔽し第４領
    域に部分偏光された光を傾め方向から照射して第４プレ
    チルトを決定する工程と、 を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  37. 【請求項３７】請求項３２記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 前記液晶層が６０度以上のプレチルト角を有する、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  38. 【請求項３８】請求項３２記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 前記液晶層が１０度以下のプレチルト角を有する、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  39. 【請求項３９】請求項２、請求項１６及び請求項３２の
    いずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法におい
    て、 前記液晶層の液晶が負の誘電率異方性を有する、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  40. 【請求項４０】請求項２、請求項１６及び請求項３２の
    いずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法におい
    て、 前記液晶層の液晶が正の誘電率異方性を有する、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  41. 【請求項４１】請求項３４記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 互いに異なるようにプレチルトが決定された前記光反応
    膜の第１領域及び第２領域の近傍に液晶層を形成する過
    程を、更に含む、 ことを特徴とする液品表示装置の製造方法。
  42. 【請求項４２】請求項３４記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 互いに垂直となるようにプレチルトが決定された前記光
    反応膜の第１領域及び第２領域の近傍に液晶層を形成す
    る過程を、更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  43. 【請求項４３】請求項３４記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記光照射過程が、 前記光反応膜の第３領域に光を斜め方向から照射して第
    ３プレチルトを形成する工程と、 前記光反応膜の第４領域に光を斜め方向から照射して第
    ４プレチルトを形成する工程と、を更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  44. 【請求項４４】請求項４３記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 少なくとも一つのプレチルトが少なくとも一つの他のプ
    レチルトと異なるように決定された前記配向膜の第１，
    第２，第３及び第４領域の近傍に液晶層を形成する過程
    を、更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  45. 【請求項４５】請求項４３記載の液晶表示装置の製造方
    法において、 少なくとも一つのプレチルトが少なくとも一つの他のプ
    レチルトと垂直となるように決定された前記配向膜の第
    １，第２，第３及び第４領域の近傍に液晶層を形成提供
    する過程を、更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  46. 【請求項４６】配向性を有する感光性物質からなる配向
    膜が形成された基板と、 前記配向膜の配向性によって決定されるプレチルトを有
    する分子からなる液晶と、 を含む液晶表示装置。
  47. 【請求項４７】請求項４６記載の液晶表示装置におい
    て、 前記配向膜がシロキサン重合体である、 ことを特徴とする液晶表示装置。
  48. 【請求項４８】請求項４６記載の液晶表示装置におい
    て、 前記配向膜がシロキサン小重合体である、 ことを特徴とする液晶表示装置。
  49. 【請求項４９】請求項４６記載の液晶表示装置におい
    て、 前記液晶分子が垂直配向される、 ことを特徴とする液晶表示装置。
  50. 【請求項５０】請求項４６記載の液晶表示装置におい
    て、 前記液晶分子が水平配向される、 ことを特徴とする液晶表示装置。
  51. 【請求項５１】請求項４６記載の液晶表示装置におい
    て、 前記液晶分子がチルト配向される、 ことを特徴とする液晶表示装置
  52. 【請求項５２】請求項４６記載の液晶表示装置におい
    て、 前記液晶分子がツイスト配向される、 ことを特徴とする液晶表示装置。
  53. 【請求項５３】請求項４６記載の液晶表示装置におい
    て、 前記液晶分子がハイブリッド配向される、 ことを特徴とする液晶表示装置。
  54. 【請求項５４】請求項４６記載の液晶表示装置におい
    て、 前記液晶を介して前記基板の反対側に形成された別途の
    基板と、 前記別途の基板に前記配向膜と対向するように形成され
    た別途の配向膜と、を更に含む、 ことを特徴とする液晶表示装置。
  55. 【請求項５５】請求項４６記載の液晶表示装置におい
    て、 前記液晶分子の配向方向と基板表面とがなす極角が前記
    配向膜に照射された光エネルギに依存する、 ことを特徴とする液晶表示装置。
  56. 【請求項５６】請求項４６記載の液晶表示装置におい
    て、 前記配向膜がポリシロキサンシンナマートである、 ことを特徴とする液晶表示装置。
  57. 【請求項５７】請求項４６記載の液晶表示装置におい
    て、 前記配向膜の配向性が第１領域、第２領域毎に異なって
    設定されて、前記配向膜の近傍に形成された液晶のプレ
    チルトが異なる、 ことを特徴とする液晶表示装置。
  58. 【請求項５８】請求項５４記載の液晶表示装置におい
    て、 前記別途の配向膜が感光性物質を含む、 ことを特徴とする液晶表示装置。
  59. 【請求項５９】請求項５４記載の液晶表示装置におい
    て、 前記別途の配向膜がポリシロキサンシンナマートてあ
    る、 ことを特徴とする液晶表示装置。
  60. 【請求項６０】請求項５５記載の液晶表示装置におい
    て、 前記光が非偏光の光である、 ことを特徴とする液晶表示装置。
  61. 【請求項６１】請求項５５記載の液晶表示装置におい
    て、 前記光が部分偏光された光である、 ことを特徴とする液晶表示装置。
  62. 【請求項６２】請求項４６記載の液晶表示装置におい
    て、 前記配向膜の配向性が、第１，第２，第３及び第４領域
    毎に設定されて、前記配向膜の近傍に形成された液晶の
    第１，第２，第３及び第４プレチルト中少なくとも一つ
    のプレチルトが他のプレチルトと異なることを特徴とす
    る液晶表示装置。
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