【発明の詳細な説明】
ニトリルを水素化してアミンにするための触媒
の調製方法及びこの触媒の水素化における用途
本発明は、ニトリルを接触水素化してアミンにする分野に関し、一層特にはア
ジポニトリル(ADN)のようなジニトリルを接触水素化してヘキサメチレンジ
アミン(HMD)のようなジアミンに或はアミノカプロニトリルのようなアミノ
ニトリルにする分野に関する。
一層詳細に言うと、本発明は、周期分類のIVb、Vb及びVIb欄から選ぶ
少なくとも一種の更なる金属元素でドープされたラニーニッケルタイプの、ニト
リルを水素化してアミンにするための触媒の調製方法に関する。
本発明は、またこの方法を実施することによって得られる触媒にも関し、最終
の主題は、これらの触媒をニトリルを接触水素化してアミンにするのに、一層詳
細にはアジポニトリルを接触水素化してヘキサメチレンジアミンにするのに適用
することであるが、これに制限するものではない。
接触水素化は、相当の間ラニーニッケルを使用して行われてきており、これら
のラニーニッケルはアルミニウムリッチなAl/Niプリカーサーアロイをアル
カリ浸出することによって得られ、その浸出はアルミニウムの
ほとんどを取り除くことを引き起こす作用を有するのが普通である。完成された
触媒は、比表面積が大きいこと及び残留アルミニウム含量が可変であることを特
徴とする微細なニッケルクリスタライトの凝集物の形態で存在する。
従来、触媒の挙動を評価するのを可能にするパラメーターは、経時的な活性、
選択性及び安定性である。
これらの性質をラニーNi水素化触媒において最適にしようと試みて、それら
に周期分類における遷移金属から選ぶ更なる金属元素(特に鉄、コバルト、クロ
ム、モリブデン、ジルコニウム、タンタル或はチタン)であるプロモーター或は
ドーピング剤を加えることが提案された。
第一のいわゆる「冶金学的」ルートに従えば、プロモーターをラニーニッケル
タイプの触媒にドープ或は加入することは、アルカリ浸食する前の、Ni/Al
プリカーサーアロイの段階で行われる。ドーピング剤をアロイ中に導入すること
は、溶融状態で行われる。
B.N.Tyutyunnikovによる論文「The Soviet Ch
emical Industries、6号、1971年6月、380〜382
頁」、並びにFreidling等による書面にされた研究「Russian
Chemical Reviews、33巻、6号、1964年6月、319〜
329頁」は、冶金学的ルートによって少なく
とも一種の遷移金属でドープされたラニーNi触媒に関する従来の書誌参考文献
である。これらの知られている触媒は、経時的な活性、選択性及び安定性に関し
ては全体的にそう満足すべきものと言えない。すなわち、Tyutyunnik
ov等に開示されている触媒は、炭素原子7〜20を含有する脂肪酸から誘導さ
れるモノニトリルについて相対的に特異的であるようである。しかしながら、こ
のことは、例えばジニトリルに関しての効率の証拠にはならない。
Freidling等により記載されるドープされたラニーNi触媒は、ジニ
トリルに関して活性であるが、基剤に関するそれらの選択性は低いままである。
最後に、これらの触媒(Ni/Al/Ti)について要求される水素化反応条件
は、産業規模:温度140°〜180℃、水素圧140バール、n−ブタノール
+アンモニアからなる反応媒体、で理想的なものではない。
その上に、ラニーニッケルタイプの水素化触媒をドープする第二のルートは知
られており、特にタカギ及びヤマナカにより「Scientific Pape
rs I.P.C.R.−東京、55(1961)、105〜108」に記載さ
れている。
これらの執筆者等は、ラニーニッケルタイプの触媒の活性及び選択性を、プリ
カーサーアロイに対するアルカリ浸食の段階の間に種々の金属塩(銅、コバルト
又はクロム硝酸塩、モリブデン酸アンモニウム、タングステン
酸ナトリウム或は塩化第二鉄)を加えることによって向上させることを提案する
。これらの実験において試験される水素化されるニトリルはアセトニトリルであ
る。この文献に従えは、使用されるドープされた触媒は、それらのドープされな
い同族体に比べて増大された活性を有する。これらのレポートは、それらが単に
水素消費の変化のカーブを目視観察することをベースにして作成されるにすぎな
いことから、疑問である。
加えて、これらの金属塩をアルカリ浸出媒体に加入することは、触媒を調製す
るプロセスを妨げることができることを知るべきである。
T.Koscielski等は、彼等に関する限り、「Applied Ca
talysis,49(1989),91−99、ESP BV」において、微
細なCr(OH)3を触媒上に付着させるように、アルカリ媒体(NaOH)中
のCrCl3の溶液を使用してラニーNiをドープすることを開示した。後者は
シクロヘキセン、アセトフェノン及びグルコースを水素化するのに活性である。
従って、この教示は、ニトリルを水素化してアミンにするのには当てはまらない
。この従来文献に記載されているCrドープされた触媒は、実際に、このタイプ
の水素化において著しく有効であるとは言えない。
この技術の状態において、本発明の必須の目的の内の一つは、ニトリルをアミ
ンに、好ましくはジニトリルを
ジアミンに又はアミノニトリルに接触水素化するためのラニーNiタイプのドー
プされた触媒の調製方法を提供するにある。
発明の別の目的は、実施するのが簡便でありかつ経済的なそのような触媒の調
製方法を提供するにある。
発明の別の目的は、ニトリルをアミンに、好ましくはジニトリルをジアミンに
又はアミノニトリルに水素化する関係において活性、選択性及び安定性であるド
ープされたラニーNi触媒の調製方法を提供するにある。
発明の別の目的は、これらの触媒を利用しかつ特にアジポニトリルからのヘキ
サメチレンジアミンについての選択性を95%よりも高く達成することを可能に
する水素化方法を提供するにある。
これらの目的を達成するために、出願人の会社は、全く驚くべきことにかつ予
期されないことに、ラニーNiを遷移金属元素でドープすることを、該金属元素
の溶液を使用して完成触媒に関して有利に行わなければならないことを立証した
と認められる。
本発明は、これより、周期分類のIVb、Vb及びVIb欄から選ぶ少なくと
も一種の更なる金属元素でドープしたラニーニッケルタイプの、ニトリルを水素
化してアミンにするための触媒の調製方法において、ラニーニッケルを更なる金
属元素の溶液、好ましくは酸性溶液中に懸濁させることに在ることを特徴とする
方法に関する。
そのようなプロセスアレンジメントは、中に入れた金属元素を触媒上に加入す
ることを助成する。理論によって縛られることを望むものではないが、実際に、
ニッケルが酸性溶液のH+イオンによってわずかに浸食されるのが有利であるよ
うに思われる。
発明の目的の範囲内で、酸なる用語は、溶液であって、そのpHが7に等しい
か又はそれよりも小さく、好ましくは0.5に等しいか又はそれよりも大きい溶
液に当る。
pH1〜4が特に適しているように思われる。
換言すると、望ましい酸性度は、規定度0.3〜0.5Nに相当するものであ
る。
この酸性度は、ドーピング元素それ自体により、このドーピング元素のビヒク
ルにより、さもなくば代わりに酸発生補助剤及び/又は更なる酸によって導入す
ることができる。
発明に従えば、使用するドーピング元素又は更なる金属元素は、酸化物又は塩
、好ましくは無機酸塩又は有機酸塩の形態で供するのが好ましい。
無機酸塩は、強酸(例えば、HCl、H2SO4又はHNO3のような)或は酸
性ホスフェートのような弱無機酸の共役イオンのすべてを意味する。
有機酸塩の例として、下記を挙げることができる:アセテート、フタレート、
アジペート、シトレート、タルトトレート又はマロネート。
酸化物は、また、ドーピング剤をラニーニッケル触媒に加入する目的で、ドー
ピング剤用の支持体手段を構成する。それはモノオキシド、ジオキシド、トリオ
キシド又はその他に関係することができる。
特にTiCl3を含む塩化物及び酸化物が特に好適である。
媒体に酸性度を付与するために、ドーピング剤のビヒクル又はドーピング剤自
体を補足する或はそれらに代えて、発明に従って、例えばHCl、H2SO4、H3
PO4、CH3COOH、等のような酸及び/又は酸発生添加剤を使用すること
が可能である。この場合に、それは、当業者の能力の完全に範囲内にある簡単な
酸性度調整工程に関係する。
ドープされたラニーNi触媒を調製するための媒体の酸性の性質は、発明に従
う方法の好適な実施態様に一致するが、それに制限するものでなないことは考慮
されるべきである。
上記の実施態様に従うNi/Al触媒上へのドーピング元素の吸着は、ニトリ
ルに関し、特にアジポニトリルのようなジニトリルに関して選択性の特に活性な
Ni/Al/ドーピング剤触媒ユニットを生じることを可能にする。
この触媒ユニットは、また経時的に極めて安定でありかつ発生する水素化不純
物の量が極めて少量だけである。このことは、所定の場合に、これらの不純物が
目標
とするアミンから分離するのが非常に困難であることから、特に有利である。そ
のような不純物の例として、アジポニトリルの水素化から生じるヘキサメチレン
ジアミンと実質的に同じ沸騰温度を有する化合物であるジアミノシクロヘキサン
を挙げることができる。
発明に従う方法の別の有利なアレンジメントに従えば、懸濁に置くことの作業
に続いて、更なる金属元素で少なくとも一部ドープされたラニーニッケルを、好
ましくは水で洗浄し、これらの2つの作業の内の少なくとも一つを随意にn回(
nは1〜5が有利である)繰り返す。
ドーピング剤の、好ましくは酸性の溶液に懸濁したラニーNi触媒のドーピン
グを遂行するために、従って、それを水で良く洗浄することが重要であり、洗浄
を、洗液が透明かつ中性になるまで繰り返す。
また、ラニーNiをドーピング剤の溶液中に懸濁させることの多数の逐次作業
も発明に従う方法の関係の範囲内とみなすことができる。
得られたドープされたラニー触媒を、洗浄した後に捕集し、次いで、好ましく
は、例えばNaOH、KOH又はその他のアルカリ金属水酸化物のような強塩基
中に貯蔵する。
発明の変法に従えば、少なくとも一種の更なる金属元素の溶液中に懸濁させた
ドープされた或はドープされないラニーニッケルに、室温に等しい又はそれより
も高
い、好ましくは50°〜200℃、一層好ましくは80°〜120℃の温度で行
うアルカリ浸出処理を施し、この浸出を、随意に、水素圧0.1〜20MPa、
好ましくは1〜5MPa、一層好ましくは1.5〜3MPaで行う。
実施において、この補足的な処理は、ドープされた或はドープされない触媒を
アルカリ金属水酸化物溶液(水酸化ナトリウム溶液等のような)中に入れ、撹拌
しながらかつ水素圧およそ2.5MPa下で加熱しておよそ100℃にすること
に在る。
この高温アルカリ浸食の後に、触媒を減少するアセイのアルカリ金属水酸化物
溶液で、次いで水で洗液が透明かつ中性になるまですすぐ。
上記と同じようにして、Ni/Al/ドーピング剤触媒の貯蔵を、水酸化ナト
リウム溶液等のような強塩基(1N)中で行う。
更なる金属元素として、チタンを採用するのが好ましい。対応する適したビヒ
クルの内の一種はTiCl3である。
ラニーNi触媒を、ドーピング剤/Ni比0.5〜5重量%、好ましくは1〜
4重量%、一層好ましくは1.2〜3重量%が得られるまでドープするのが特に
有利であるようであった。
発明に従う触媒の調製方法の別の実施態様に従えば、性質の異なる2種のドー
ピング元素、例えばチタン及び
クロムを加入することをもくろむことができる。
本発明の別の主題は、上記した発明の方法によって得られるドープされたラニ
ーNi触媒を使用する、ニトリルをアミンに接触水素化する方法である。
発明に従う方法から生じる触媒のおかげで、ニトリルのアミンへの水素化は、
特に良く行われかつ完全に満足すべき活性及び選択性挙動を達成することを可能
にする。その上、不純物の生成が限られたままであることが留意される。
ドープされたラニーNi触媒の調製及びそれをニトリルをアミンに接触水素化
するのに適用することは、一層特には下記の(I)式のジニトリルに関係する:
NC−R−CN (I)
式中、Rは炭素原子1〜12を有する線状もしくは枝分れアルキレン又はアルケ
ニレン基或は置換されたもしくは未置換のアリーレン又はアラルキレン又はアラ
ルケニレン基を表わす。
発明の方法において、(I)式(式中、Rは炭素原子2〜6を有する線状もし
くは枝分れアルキレンラジカルを表わす)のジニトリルを使用するのが好ましい
。
そのようなジニトリルの例として、特に下記を挙げることができる:アジポニ
トリル、メチルグルタルニトリル、エチルスクシノニトリル、マロンニトリル、
スクシノニトリル、グルタルニトリル及びそれらの混合物、特にアジポニトリル
を合成する同じプロセスから生じるア
ジポニトリル及び/又はメチルグルタルニトリル及び/又はエチルスクシノニト
リルの混合物。
実施において、R=(CH2)4の場合は、圧倒的な機会を表わす、というのは
、これがADNの下記のいずれかへの転化に相当するからである:
−ポリアミド−6,6の製造における基本的なモノマーの内の一種を構成する
ジアミンであるHMD
−或はポリアミド−6のプリカーサーである、カプロラクタムを得ることを可
能にするアミノカプロニトリル。
ニトリル基剤、例えばアジポニトリルを反応媒体中に導入することを、濃度を
反応媒体の全重量に対して0.001〜30重量(w/w)%、好ましくは0.
1〜20%w/wで観測しながら行う。
使用する強塩基は、下記の化合物から選ぶのが好ましい:LiOH、NaOH
、KOH、RbOH、CsOH及びそれらの混合物。
実施において、性能と価格との間の良好な折衷のためには、NaOH及びKO
Hを用いるのが好ましいが、RbOH及びCsOHは更に良好な結果を与える。
水素化反応媒体は液体であるのが好ましい。それは、水素化すべきニトリル基
剤を溶解することができる少なくとも一種の溶媒を含有し、該基剤が溶解してい
る場合に、この転化は一層速く行われることが知られている。
発明に従う方法の有利な実施態様に従えば、少なくと
も一部水性の液体反応媒体を使用する。水を、全反応媒体に対して50重量%に
等しいか又はそれよりも少ない量で存在させるのが普通であり、全反応媒体に対
して20重量%に等しいか又はそれよりも少ない量で存在させるのが有利である
。反応媒体の水含量は、該媒体のすべての構成成分に対して0.1〜15重量%
にするのが一層好ましい。
水を補足し或は水に代えて用いるために、アルコール及び/又はアミドタイプ
の少なくとも一種の他の溶媒を供することが可能である。一層特に適したアルコ
ールは、例えば下記である:メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、ブタノール、エチレン及び/又はプロピレングリコールのようなグリ
コール、ポリオール及び/又は該化合物の混合物。
溶媒がアミドからなる場合に、それは、例えばジメチルホルムアミド又はジメ
チルアセトアミドにすることができる。
溶媒を水と共に用いる場合、溶媒はアルコール性であるのが好ましく、水1重
量部当り2〜4重量部を占め、水1部当り3部を占めるのが好ましい。
発明の別の好適な特徴に従えば、アミン(方法はそれの調製を目標とする)を
反応媒体に加入する。それは、ニトリル基剤がアジポニトリルである場合に、例
えばヘキサメチレンジアミンにする。
反応媒体中の目標とするアミンの濃度は、該反応媒体
中に含まれるすべての溶媒に対して50〜99重量%にするのが有利であり、6
0〜99重量%にするのが一層好ましい。
反応媒体中の塩基の量は、反応媒体の性質に従って変わる。
反応媒体が、水及び目標とするアミンだけを液体溶媒媒体として含有する場合
に、塩基の量は、0.1モル/触媒1kgに等しいか又はそれよりも多くするの
が有利であり、0.1〜2モル/触媒1kgにするのが好ましく、0.5〜1.
5モル/触媒1kgにするのが一層好ましい。
反応媒体が、水及びアルコール及び/又はアミンを含む場合に、塩基の量は、
0.05モル/触媒1kgに等しいか又はそれよりも多くし、0.1〜10.0
モル/触媒1kgにするのが好ましく、1.0〜8.0モル/触媒1kgにする
のが一層好ましい。
一旦反応媒体の組成及び触媒の選定を決めたならば、これらの2つの成分を混
合し、この混合物を、次いで150℃に等しいか又はそれよりも低い、好ましく
は120℃に等しいか又はそれよりも低い、一層好ましくは100℃に等しいか
又はそれよりも低い反応温度で加熱する。
具体的に言えば、この温度は室温(およそ20℃)〜100℃である。
加熱する前に、加熱するのと同時に或は加熱した後
に、反応チャンバーを適した水素圧、すなわち実施において0.10〜10MP
aにもたらす。
反応の期間は、反応条件及び触媒に従って変じ得る。
不連続な作業モードでは、反応の期間は数分から数時間に変わることができる
。
発明に従う方法についてもくろむことが完全に可能な連続の作業モードでは、
その期間は、設定することができるパラメーターでないのは自明である。
当業者ならば、作業条件に従って、発明に従う方法の段階の順配列を調整する
ことができることに留意すべきである。上に挙げた順序は、単に発明に従う方法
の好適な形態に相当するにすぎないものであり、これに制限するものではない。
発明に従う水素化(連続又は不連続モードで)を支配するその他の条件は、慣
用的でありかつ元来知られている技術的なアレンジメントを伴う。
ドープされたラニーNi触媒を調製し及びADNを水素化してHMDにする下
記の例は、発明を一層良く理解するのを可能にすると思う。発明の利点のすべて
及びその変法の内のいくつかもまた例から出て来るものと思う。例 例1:Ni/Al/Ti触媒の調製、 本明細書以降参考Aで表示する
1.2%HCl中にTiCl31.8%を含有する紫色溶液を、アルゴンを充
填した25ml容積フラスコ中で調製する。
商用の重量により50/50のNi/Alプリカーサーアロイを水酸化ナトリ
ウム溶液で浸出することによって簡便に得られるドープされないラニーNiおよ
そ5gを抜き出す。それらを、水20ml部分で洗液が中性になるまですすぐ。
この湿潤触媒3.44gを比重びん中に秤量して100ml丸底フラスコ中に入
れる。丸底フラスコをアルゴンでパージする。次いで、TiCl3溶液20ml
を触媒に導入する。反応媒体をアルゴン流下に置き、1時間撹拌する。溶液は極
めて速く緑色になる。
1時間した後に、触媒Aを水で洗液が透明かつ中性になるまで洗浄する。この
ようにしてチタンでドープされたこの触媒Aを1N水酸化ナトリウム溶液中に貯
蔵する。
触媒AはTi/Ni重量比1.6%を有する。例2:触媒Aによるアジポニトリル(ADN)のヘキサメチレンジアミン(HM D)への水素化
例1の触媒Aを抜き出し、水およそ20mlで4回(洗液が中性になるまで)
洗浄する。この触媒およそ0.4gを比重びん中に精確に秤量する。
アジポニトリル6gを、注射器を使用して、オートク
レーブに漏れ止めパイプを経て接続させた滴下漏斗に導入する。滴下漏斗を閉止
し、パージし、水素圧2.5MPaを確立する。
2N水酸化ナトリウム溶液525μl、水1475μl並びにオートクレーブ
にアルゴンを充填した後に、HMD、エタノール(EtOH)及び水(それぞれ
63/31.5/5.5重量%)からなる溶媒40gを、撹拌機システムを装着
したオートクレーブに入れる。媒体は、これより溶媒の全質量に対して0.1重
量%のNaOHを含有する。
次いで、触媒0.4gをオートクレーブに導入し、オートクレーブを次いで注
意深く閉止し、窒素で2回パージする。次いで、水素2.5MPaを導入し、加
熱を行って80℃にする。この温度に達した後に、撹拌を開始し、滴下漏斗中に
収容されるアジポニトリルをオートクレーブ中にランさせる。反応の終りは、水
素消費の安定化によって検出する。
反応は47分続く。水素化物(hydro−genate)のクロマトグラフ
ィー分析は、反応の収率を計算するのを可能にする。
HMDについてのパーセンテージとしての選択率は、下記の関係によって与え
られる:100−副生物の選択率の合計。実際、HMDは反応溶媒において用い
られるので、それは直接には極めて精確には定量的に求めることができない。他
方、副生物は、全体として見れば、す
べて確認されることが確証された。
副生物の各々についての選択率は、転化されるADNに対する形成される副生
物のモルパーセンテージによって表わされる。実施するすべての例及び比較試験
において、ADNの転化度(並びに中間のアミノカプロニトリルの転化度)は1
00%である。
選択率は下記である:HMD=97.18%;HMI(ヘキサメチレンイミン
)=0.38%;DCH(ジアミノシクロヘキサン)=0.04%;AMCPA
(アミノメチルシクロペンチルアミン)=0.05%;NEtHMD(N−エチ
ルヘキサメチレンジアミン)=0.07%;BHT(ビスヘキサメチレントリア
ミン)=2.27%。例3:Ni/Al/Ti触媒の調製、 本明細書以降参考A1で表示する
例1の触媒Aの一部を抜き出し、6N水酸化ナトリウム溶液30mlと共に1
50ml反応装置に入れる。媒体を2.5MPa水素下で撹拌しながら100℃
で1時間加熱する。
得られた触媒A1を、次いで3N、2N及び1N水酸化ナトリウム溶液10m
lでかつ水10mlで3回洗液が中性になるまですすぐ。それを、次いで1N水
酸化ナトリウム溶液中に貯蔵する。例4:A1によるADNのHMDへの水素化
例3の触媒1を例2の通りにして使用する。反応は23分続く。水素化物のク
ロマトグラフィー分析は、下記の選択率を計算するのを可能にする:
HMD=96.81%;HMI=0.28%;DCH=0.33%;AMCPA
=0.05%;NEtHMD=0.05%;BHT=2.04%。例5:Ni/Al/Cr触媒の調製、 本明細書以降参考Bで表示する
CrCl32.22gを25ml容積フラスコ中に秤量し、その容積を水で2
5mlまでにする。
例1のドープされないラニーNi5gを水10ml及びCrCi3溶液10m
lと共に丸底フラスコに入れる。媒体を75分間撹拌する。触媒Bを次いで水で
洗浄し、次いで再び丸底フラスコ中の水10ml及びCrCl3溶液10mlに
75分間入れる。最後に、触媒Bを回収し、水50mlで6回洗浄して中性にし
、1N水酸化ナトリウム溶液中に貯蔵する。
触媒BはCr/Ni重量比3.5%を有する。
この触媒Bの一部を抜き出し、150ml反応装置中の6N水酸化ナトリウム
溶液30mlに入れ、次いで撹拌しながらかつ2.5MPa水素下で100℃で
1時間加熱する。このようにして処理した触媒B1を回収し、3N水酸化ナトリ
ウム溶液、次いで2N水酸化ナトリウム溶液、次いでN水酸化ナトリウム溶液1
0ml
で、最後に水10mlで3回洗液が中性になるまですすぐ。それを、次いでN水
酸化ナトリウム溶液中に貯蔵する。例6:B1によるADNのHMDへの水素化
例5の触媒B1を例2の通りにして使用する。反応は56分続く。水素化物の
クロマトグラフィー分析は、下記の選択率を計算するのを可能にする:
HMD=95.24%;HMI=0.66%;DCH=0.05%;AMCPA
=0.03%;NEtHMD=0.08%;BHT=2.24%。例7:Ni/Al/Cr触媒の調製、 本明細書以降参考Cで表示する
CrO30.85gを25ml容積フラスコ中に秤量し、その容積を水で25
mlまでにする。オレンジ色のCrO3溶液が濃度0.34モル.1-1で得られ
る。
例1のドープされないラニーNi5gを丸底フラスコ中の水10ml及びCr
O3溶液10mlに入れる。媒体を75分間撹拌する。触媒を次いで水で洗浄し
、次いで再び丸底フラスコ中の水10ml及びCrO3溶液10mlに75分間
入れる。このようにして三酸化クロム溶液で2回処理した触媒Cを、今6N水酸
化ナトリウム溶液30mlと共に反応装置に移し、撹拌しながらかつ2.5MP
a水素下で100℃で1時間加熱する。それを回収し、3N水酸化ナトリウム溶
液、次いで2N水
酸化ナトリウム溶液、次いでN水酸化ナトリウム溶液10mlで、最後に水10
mlで3回すすぐ。それを、次いでN水酸化ナトリウム溶液中で貯蔵する。
触媒CはCr/Ni重量比2.1%を有する。例8:CによるADNのHMDへの水素化
例7の触媒Cを例2の通りにして使用する。反応は1時間50分続く。水素化
物のクロマトグラフィー分析は、下記の選択率を計算するのを可能にする:
HMD=96.13%;HMI=1.05%;DCH=0.09%;AMCPA
=0.03%;NEtHMD=0.05%;BHT=1.79%。例9:Ni/Al/Cr触媒の調製、 本明細書以降参考Dで表示する
例1のドープされないラニーNi2.15gを、水3ml、例7で調製したC
rO3溶液4.5ml及び6N水酸化ナトリウム溶液30mlと共にオートクレ
ーブに入れる。混合物全体を2.5MPa水素下でかつ撹拌しながら100℃で
1時間加熱する。そのようにしてドープされた触媒Dを、次いで3N水酸化ナト
リウム溶液、次いで2N水酸化ナトリウム溶液、次いでN水酸化ナトリウム溶液
10mlで、最後に水10mlで3回すすぐ。それをN水酸化ナトリウム溶液中
に貯蔵する。
触媒DはCr/Ni重量比1.5%を有する。
【手続補正書】
【提出日】1996年8月15日
【補正内容】
請求の範囲
1.クロム及びチタンから選ぶ少なくとも一種の更なる金属元素でドープした
ラニーニッケルタイプの、ニトリルを水素化してアミンにするための触媒の調製
方法において、ラニーニッケルを更なる金属元素の酸性溶液中に懸濁させること
に在ることを特徴とする方法。
2.使用する更なる金属元素を、酸化物又は無機酸塩又は有機酸塩の形態で供
することを特徴とする請求項1の方法。
3.懸濁に置くことの作業に続いて、更なる金属元素で少なくとも一部ドープ
されたラニーニッケルを水で洗浄し、これらの2つの作業の内の少なくとも一つをn
回(nは1〜5が有利である)繰り返すことを特徴とする請求項1又は2の
方法。
4.ドープされたラニーNi触媒を捕集し、強塩基中に貯蔵することを特徴と
する請求項1〜3のいずれか一の方法。
5.少なくとも一種の更なる金属元素の溶液中に懸濁させたラニーニッケルに
、室温に等しい又はそれよりも高い温度で行うアルカリ浸出処理を施し、この浸
出を、水素圧0.1〜20MPaで行うことを特徴とする請求項1〜4のいずれ
か一の方法。
6.更なる金属元素の使用量及び反応条件を、得られる触媒がドーピング剤/
Ni比0.5〜5重量%を有す
るように選ぶことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一の方法。
7.下記の(I)式のニトリル基材:
NC−R−CN (I)
(式中、Rは炭素原子1〜12を有する線状もしくは枝分れアルキレン又はアル
ケニレン基或は置換されたもしくは未置換のアリーレン又はアラルキレン又はア
ラルケニレン基を表わす) を
使用することを特徴とする請求項1の方法。
8.全反応媒体中のニトリル基材の濃度を0.001〜30重量対重量%の値
に設定することを特徴とする請求項7の方法。
9.液体反応媒体が水を全反応媒体に対して20重量%に等しいか又はそれよ
りも少ない量で含むことを特徴とする請求項8の方法。
10.液体反応媒体が目標とするアミンを、全液体反応媒体の重量に対して5 0〜99重量%の割合で
含有することを特徴とする請求項8又は9の方法。
11.アルコール及び/又はアミドを含む液体反応媒体を使用することを特徴
とする請求項8〜10のいずれか一の方法。
12.反応媒体が水及び目標とするアミンだけを液体溶媒媒体として含有する 場合に、
塩基を、0.1モル/触媒1kgに等しいか又はそれよりも多い量で使
用することを特徴とする請求項9又は10の方法。
13.反応媒体が水及びアルコール及び/又はアミンを含む場合に、塩基を、
0.05モル/触媒1kgに等しいか又はそれよりも多い量で使用することを特
徴とする請求項9又は11の方法。
14.水素化を、反応媒体の温度を150℃に等しいか又はそれよりも低くして行う
ことを特徴とする請求項1〜13のいずれか一の方法。
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(72)発明者 フーイユー,ピエール
フランス国 エフ69300 キャリュイール
エ キュイール,アブニュ デュ ジェ
ネラル ルクレール,22ビス
(72)発明者 マソン,ジャクリーヌ
フランス国 エフ38320 エバン,リュ
デ ペレ,34