JPH09321225A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

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JPH09321225A
JPH09321225A JP8136694A JP13669496A JPH09321225A JP H09321225 A JPH09321225 A JP H09321225A JP 8136694 A JP8136694 A JP 8136694A JP 13669496 A JP13669496 A JP 13669496A JP H09321225 A JPH09321225 A JP H09321225A
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JP
Japan
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functional unit
noise
power supply
semiconductor integrated
pad
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Hirohisa Imamura
浩久 今村
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    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
    • H01L27/0251Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
    • H01L27/0266Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using field effect transistors as protective elements
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    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection

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Abstract

(57)【要約】 【課題】複数の機能ユニットにノイズに弱い機能ユニッ
トが混在していても、ノイズの影響を受けにくくすると
同時に、静電破壊に強くする半導体集積回路装置を提供
すること。 【解決手段】ノイズを発生する第1の機能ユニット2
と、ノイズに弱い第2の機能ユニット3と、これら機能
ユニット2,3のそれぞれに対応する電源パッドVDD
および接地パッドGNDと、これらの機能ユニット2,
3のそれぞれの電源パッドVDD,接地パッドGND間
に接続する通常オフのNMOSN1〜N3もしくはPM
OSと、これらのMOSのゲートおよびソースもしくは
ドレイン間に接続する保護抵抗素子R1〜R3とを有
し、高電圧の印加時にのみNMOSN1〜N3あるいは
PMOSをオンさせてバイパス経路を作る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は静電破壊対策を施し
た半導体集積回路装置に関し、特に同一半導体基板上に
複数の機能ユニットを備え、特定の機能ユニットに対し
ては電源(VDD)およびグランド(GND)の電位を
別個に供給するための複数の電源ピンおよびGNDピン
を有する半導体集積回路装置の静電破壊保護回路に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、かかる複数の電源ピンおよびGN
Dピンを備えた半導体集積回路装置は、内部回路を静電
破壊から守るために、この内部回路に接続されるこれら
のピンをそれぞれ金属配線層で接続するか、あるいはノ
イズの影響による回路や素子の特性の悪化を防ぐため
に、出力バッファ回路などのノイズを発生する回路の電
源ピン,GNDピンを他の回路の電源ピン,GNDピン
から電気的に分離する構成をとっている。また、特開平
4−65867号公報にも記載されたように、複数の電
源ピン,GNDピンをそれぞれ抵抗素子で接続する方法
もとられている。
【0003】図5はかかる従来の一例を示す半導体集積
回路装置の構成図である。図5に示すように、この半導
体集積回路装置(チップ)1aは、第1の機能ユニット
7および第2の機能ユニット8と、これらのユニット
7,8の周辺に形成されるそれぞれの信号用パッド4お
よび5と、これらのユニット7,8にそれぞれ電源電圧
および接地電位を供給するための電源パッドVDDおよ
び接地パッドGNDと、電源ピンVDD間および接地パ
ッドGND間をそれぞれ接続する抵抗素子Rとを有して
いる。なお、両ユニット7,8間は信号線6により接続
される。このチップ1aにおいて、第1の機能ユニット
7はノイズを発生しやすい回路であり、第2の機能ユニ
ット8はノイズに弱い回路とする。
【0004】このように、第1の機能ユニット7および
第2の機能ユニット8にそれぞれの電源パッドVDD,
接地パッドGNDが設けられ、VDD間およびGND間
を抵抗素子Rでそれぞれ接続されるとともに、それぞれ
電源電位および接地電位に保たれている。したがって、
静電気によりどのピンに高電圧が印加かれても、各回路
に設けた入力保護回路(図示省略)によって放電するこ
とができ、内部回路を静電破壊から守ることができる。
【0005】しかしながら、チップ1aの内部に大電流
が流れ、電源あるいはGNDにノイズを発生する第1の
機能ユニット7と、アナログ回路などのようなノイズに
弱い第2の機能ユニット8とが混在すると、第1の機能
ユニット7で発生したノイズが抵抗素子Rを介してノイ
ズに弱い第2の機能ユニット8へ伝搬し、誤動作させた
り、回路特性を悪化させたりする原因になる。
【0006】図6は従来の他の例を示す半導体集積回路
装置の構成図である。図6に示すように、この半導体集
積回路装置(チップ)1aも、ノイズを発生する第1の
機能ユニット7と、ノイズに弱い第2の機能ユニット8
と、信号用パッド4,5と、それぞれのユニットに対応
した電源パッドVDDおよび接地パッドGNDとを有
し、ユニット7,8間を信号線6で接続するとともに、
これら電源パッドVDD間および接地パッドGND間を
金属配線層10で接続したものである。要するに、複数
の電源パッドVDD間および接地パッドGND間を前述
した抵抗素子Rで接続する代わりに金属配線によって接
続した回路である。
【0007】この従来例も、前述した図5の回路と同
様、チップ1aの内部に大電流が流れて電源あるいはG
NDにノイズを発生する第1の機能ユニット7と、アナ
ログ回路などのノイズに弱い第2の機能ユニット8とが
混在する場合、第1の機能ユニット7で発生したノイズ
が金属配線10を介して第2の機能ユニット8に伝搬
し、その内部回路を誤動作させたり、あるいは特性を悪
化させたりする。
【0008】図7は従来のまた別の例を示す半導体集積
回路装置の構成図である。図7に示すように、この半導
体集積回路装置(チップ)1aは、ノイズを発生する第
1の機能ユニット7と、ノイズに弱い第2の機能ユニッ
ト8と、信号用パッド4,5と、信号線6とを設けた点
では、前述した2つの例と同様であるが、第1の機能ユ
ニット7,第2の機能ユニット8それぞれの電源パッド
VDD,接地パッドGNDを完全に分離しノイズの伝搬
を防ぐことにより、ノイズによる誤動作もしくは特性の
悪化を防止するものである。
【0009】しかしながら、第1の機能ユニット7,第
2の機能ユニット8の電源パッドVDD,接地パッドG
NDが共通でないため、例えば第2の機能ユニット8の
電源パッドVDDあるいは接地パッドGNDと第1の機
能ユニット7の信号パッド4との間に高電圧がかかった
場合には、第1の機能ユニット7,第2の機能ユニット
8にそれぞれ備えられている保護回路(図示省略)では
放電することができない。このため、第1の機能ユニッ
ト7,第2の機能ユニット8を接続する信号線6を介し
て第1の機能ユニット7,第2の機能ユニット8内部の
トランジスタに直接高電圧が印加され、これらを破壊し
てしまう恐れがある。また、第1の機能ユニット7の電
源パッドVDDあるいは接地パッドGNDと第2の機能
ユニット8の信号パッド5との間に高電圧がかかった場
合も、上述と同様の現象が生じ、第1の機能ユニット
7,第2の機能ユニット8内部のトランジスタが破壊さ
れてしまう。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
集積回路装置は、複数の電源ピンと複数のGNDピンを
備え抵抗素子のみにより接続するか、金属配線により電
源ピン間とGNDピン間とを共通接続するか、さもなけ
れば、それぞれの間を完全にオープンの状態にするかし
ている。このため、静電破壊に強いか、あるいはノイズ
に強いかの2者択一の構成をとらざるを得ず、両者に強
い半導体集積回路装置を実現できないという欠点があ
る。
【0011】本発明の目的は、かかる静電破壊に強くす
るとともに、ノイズにも強くする半導体集積回路装置、
すなわちノイズに弱い機能ユニットとノイズを発生する
機能ユニットが混在していても、ノイズに弱い機能ユニ
ットがノイズを発生し易いユニットからの影響を受けに
くくし、ノイズによって特性を悪化されたりしない半導
体集積回路装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
装置は、ノイズを発生する第1の機能ユニットと、ノイ
ズに弱い第2の機能ユニットと、前記第1および第2の
機能ユニットのそれぞれに対応する電源パッドおよび接
地パッドと、前記第1および第2の機能ユニットのそれ
ぞれの前記電源パッドおよび前記接地パッド間に接続す
る通常オフのNMOSもしくはPMOSと、前記NMO
SもしくはPMOSのゲートおよびソースもしくはドレ
イン間に接続する保護抵抗素子とを有し、高電圧の印加
時にのみ前記NMOSあるいはPMOSをオンさせてバ
イパス経路を作るように構成される。
【0013】また、本発明の半導体集積回路装置におけ
る第1の機能ユニットはデジタル回路を用い、前記第2
の機能ユニットはアナログ回路を用いて形成される。
【0014】また、本発明の半導体集積回路装置におけ
る第1の機能ユニットおよび第2の機能ユニットの電源
パッドおよび接地パッド間に接続するNMOSもしくは
PMOSは、一対のNMOSもしくは一対のPMOSあ
るいはNMOS,PMOSのペアにより形成される。
【0015】さらに、本発明の半導体集積回路装置にお
ける第1の機能ユニットおよび第2の機能ユニットの電
源パッドおよび接地パッド間に接続するNMOSもしく
はPMOSは、供給する電源電圧の違いにより通常オフ
の1個のMOSにより形成することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
【0017】図1は本発明の一実施の形態を示す半導体
集積回路装置の構成図である。図1に示すように、本実
施の形態の半導体集積回路装置1は、ノイズの発生源と
なるデジタル回路2と、ノイズに弱いアナログ回路3と
が混在するチップであり、これらのデジタル回路2,ア
ナログ回路3とチップ外部との信号の受け渡しは、それ
ぞれの信号パッド4,5により行い、またデジタル回路
2,アナログ回路3のユニット間の信号は、ユニット間
配線としての信号線6により行われる。さらに、デジタ
ル回路2は電源パッドVDD(例えば、5V)および接
地パッドGNDより、同様にアナログ回路3も電源パッ
ドVDD(例えば、3V)および接地パッドGNDよ
り、それぞれ電源電圧および接地電位を供給される。な
お、デジタル回路2,アナログ回路3は、信号用パッド
4,5と接続される外周部に沿って静電破壊保護を目的
とした入力保護回路(図示省略)を形成しているが、こ
れらの入力保護回路は前述した従来例と同様であり且つ
本実施の形態における静電破壊保護とは異なるため、そ
の説明を省略する。
【0018】本実施の形態では、デジタル回路2のデジ
タル回路用GNDとアナログ回路3のアナログ回路用G
ND間に、NMOSN1,N2を逆向きに接続してい
る。また、これらのNMOSN1,N2は、それぞれの
ゲートおよびソースもしくはドレイン間に、静電気のよ
うな高電圧から保護するための抵抗素子R1,R2を接
続する。一方、デジタル回路2のデジタル回路用GND
とアナログ回路3のアナログ回路用電源VDD間に、N
MOSN3を接続し、同様にゲート・ソース間に高電圧
保護用抵抗R3を接続する。ここで、一対のNMOSを
接続するか、あるいは1つのNMOSを接続するかは、
前述したデジタル回路2の電源VDD(5V)と、アナ
ログ回路3の電源VDD(3V)とが異なるようなとき
に、選択される。
【0019】これらのNMOSN1〜N3は、通常オフ
であるので、各MOSのしきい値電圧(約0.7V)以
下のノイズがデジタル回路2側で発生しても、アナログ
回路3側には伝達されない。また、デジタル回路2の信
号パッド4とアナログ回路3の電源パッドVDDあるい
は接地パッドGNDの間に高電圧がかかった場合、信号
パッド4と接続される静電破壊保護を目的とした入力保
護回路(図示省略)を介してデジタル回路2の接地パッ
ドGNDに高電圧が伝播する。そのため、デジタル回路
2の接地パッドGNDとアナログ回路3の電源パッドV
DDあるいは接地パッドGND間に高電圧がかかり、N
MOSN1,N2,N3がオンとなるので、デジタル回
路2およびアナログ回路3内部のトランジスタに高電圧
がかかる手前で外部に逃がすことができる。すなわち、
静電気による高電圧がかかっても内部素子を保護するこ
とができる。
【0020】同様に、アナログ回路3の信号パッド5と
デジタル回路2の電源パッドVDDあるいは接地パッド
GNDの間に高電圧がかかった場合も、信号パッド5と
接続される静電破壊保護を目的とした入力保護回路(図
示省略)を介してアナログ回路3の電源パッドVDDあ
るいは接地パッドGNDに高電圧が伝播し、アナログ回
路3の接地パッドGNDおよび電源パッドVDDとデジ
タル回路2の接地パッドGND間に高電圧がかかり、N
MOSN1,N2,N3がオンとなる。したがって、デ
ジタル回路2およびアナログ回路3内部のトランジスタ
に高電圧がかかる手前で外部に逃すことができる。
【0021】以下、本実施の形態における回路動作を具
体的に説明する。まず、デジタル回路2からノイズが発
生した場合、デジタル回路2とアナログ回路3のグラン
ドピンGNDに接続されるNMOSN1,N2は、それ
らのゲート電圧が接地電位であるため、共にOFF状態
である。このため、デジタル回路2から発生したノイズ
がNMOSN1,N2のしきい値電圧以下であれば、そ
のノイズはアナログ回路3には全く伝搬しない。ここ
で、デジタル回路2から発生するノイズがNMOSN
1,N2のしきい値電圧以上のときは、これらのNMO
SN1,N2がONし、そのノイズがアナログ回路3へ
伝搬してしまうが、かかるノイズをしきい値電圧以下に
抑えることは接地配線の抵抗を下げる等の対策を施こす
ことにより、簡単に実現できるので、何ら問題はない。
また、デジタル回路2とアナログ回路3の電源ピンの電
位VDDは、もともと分離されているため、ノイズは全
く伝播しない。
【0022】次に、静電気により、デジタル回路2の信
号パッド4とアナログ回路3の電源パッドVDDあるい
は接地パッドGNDとの間に高電圧がかかった場合、信
号パッド4の電荷は、前述したデジタル回路2内部の図
示していない入力保護回路およびNMOSN1〜N3を
介してアナログ回路3の電源パッドVDDまたは接地パ
ッドGNDへ放電される。このため、デジタル回路2内
部のトランジスタおよび信号線6を介したアナログ回路
3内部のトランジスタには、高電圧がかからないので、
これら内部のトランジスタを静電破壊から守ることがで
きる。
【0023】また、アナログ回路3の信号パッド5とデ
ジタル回路2の電源パッドVDDあるいは接地パッドG
NDとの間に静電気による高電圧がかかった場合にも、
信号パッド5の電荷は、前述したアナログ回路3の入力
保護回路およびNMOSN1〜N3を介して、デジタル
回路2の電源パッドVDDあるいは接地パッドGNDへ
放電され、同様にデジタル回路2,アナログ回路3内部
のトランジスタを静電破壊から守ることができる。
【0024】上述したように、本実施の形態によれば、
ノイズを発生し易いデジタル回路2とノイズに弱いアナ
ログ回路3とが混在した場合でも、両回路2,3のそれ
ぞれの電源パッドVDD,接地パッドGND間に接続す
る通常オフのNMOSN1〜N3と、これらのMOSの
ゲートおよびソースもしくはドレイン間に接続する保護
抵抗素子R1〜R3とにより、高電圧の印加時にのみN
MOSN1〜N3をオンさせてバイパス経路を作るの
で、ノイズによる誤動作や特性悪化を解消するととも
に、静電破壊に強い半導体集積回路装置を実現すること
ができる。
【0025】図2は本発明の他の実施の形態を示す半導
体集積回路装置の構成図である。図2に示すように、本
実施の形態も前述した実施の形態と同様、ノイズを発生
する第1の機能ユニット7と、ノイズに弱い第2の機能
ユニット8とを有し、これらは前述したデジタル回路
2,アナログ回路3に対応している。
【0026】本実施の形態では、第1の機能ユニット
7,第2の機能ユニット8用の電源ポパッドVDD,接
地パッドGNDすべての間に、2つのNMOSN1,N
2、もしくは2つのPMOSP3,P4、あるいはNM
OSN3,N4とPMOSP1,P2を組合わせたもの
を用い、それぞれにゲートとソースあるいはドレイン間
に高電圧用保護抵抗R1〜R8を接続して構成した例で
あり、その他の構成については、前述した例と同様であ
る。
【0027】すなわち、第1の機能ユニット7用GND
と第2の機能ユニット8用電源VDD間には、静電破壊
保護用抵抗素子R3を介し、第1の機能ユニット7用接
地電位をゲート入力とするNMOSN3と、静電破壊保
護用抵抗素子R4を介し、第2の機能ユニット8用電源
電位をゲート入力とするPMOSP1とが接続されてい
る。同様に、第1の機能ユニット7用電源VDDと第2
の機能ユニット8用接地GND間には、静電破壊保護用
抵抗素子R5を介し、第1の機能ユニット7用電源電位
をゲート入力とするPMOSP2と、静電破壊保護用抵
抗素子R6を介し、第2の機能ユニット8用接地電位を
ゲート入力とするNMOSN4とが接続されている。
【0028】上述したPMOSトランジスタは、ソース
電圧に対してゲート電圧がしきい値電圧分低いときにオ
ンし、またNMOSトランジスタはソース電圧に対しゲ
ート電圧がしきい値分高いとオンする。かかるPMO
S,NMOSの接続構成をとると、PMOSのゲートは
VDDに接続し、NMOSのゲートはGNDに接続され
ているため、通常動作時にこれらPMOSおよびNMO
Sトランジスタがオンすることはない。
【0029】次に、本実施の形態における回路動作を具
体的に説明する。まず、第1の機能ユニット7からノイ
ズが発生した場合、第1の機能ユニット7と第2の機能
ユニット8のグランドピンGND間に接続されるNMO
SN1,N2は、それらのゲート電圧が接地電位である
ため、共にOFF状態である。このため、第1の機能ユ
ニット7から発生したノイズがNMOSN1,N2のし
きい値電圧以下であれば、そのノイズは第2の機能ユニ
ット8には全く伝搬しない。ここで、第1の機能ユニッ
ト7から発生するノイズレベルがNMOSN1,N2の
しきい値電圧以上のときは、これらのNMOSN1,N
2がONし、そのノイズが第2の機能ユニット8へ伝搬
してしまうが、かかるノイズをしきい値電圧以下に抑え
ることは接地配線の抵抗を下げる等の対策を施こすこと
により、簡単に実現できるので、何ら問題はない。ま
た、第1の機能ユニット7と第2の機能ユニット8の電
源ピンの電位VDDは、PMOSP3,P4を介して接
続されているが、これらPMOSP3,P4のゲート電
圧は共に電源電位であるため、どちらもOFF状態であ
る。したがって、第1の機能ユニット7から発生したノ
イズがPMOSP3,P4のしきい値電圧以下であれ
ば、そのノイズは第2の機能ユニット8には全く伝搬し
ない。また、第1の機能ユニット7から発生するノイズ
レベルがPMOSP3,P4のしきい値電圧以上の場合
は、これらPMOSP3,P4がONし、ノイズが第2
の機能ユニット8へ伝播してしまうが、かかるノイズを
しきい値電圧以下に抑えることは、電源配線の抵抗を下
げる等の対策により、簡単に実現でき、何ら問題はな
い。
【0030】次に、静電気により、第1の機能ユニット
7の信号パッド4と第2の機能ユニット8の電源パッド
VDDあるいは接地パッドGNDとの間に高電圧がかか
った場合、信号パッド4の電荷は、前述した第1の機能
ユニット7内部の図示していない入力保護回路およびN
MOSN1〜N4,PMOSP1〜P4を介して第2の
機能ユニット8の電源パッドVDDまたは接地パッドG
NDへ放電される。このため、第1の機能ユニット7内
部のトランジスタおよび信号線6を介した第2の機能ユ
ニット8内部のトランジスタには、高電圧がかからない
ので、これら内部のトランジスタを静電破壊から守るこ
とができる。
【0031】また、第2の機能ユニット8の信号パッド
5と第1の機能ユニット7の電源パッドVDDあるいは
接地パッドGNDとの間に静電気による高電圧がかかっ
た場合にも、信号パッド5の電荷は、前述した第2の機
能ユニット8の入力保護回路およびNMOSN1〜N
4,PMOSP1〜P4を介して、第1の機能ユニット
7の電源パッドVDDあるいは接地パッドGNDへ放電
され、同様に第1の機能ユニット7,第2の機能ユニッ
ト8内部のトランジスタを静電破壊から守ることができ
る。
【0032】上述したように、本実施の形態によれば、
ノイズを発生し易い第1の機能ユニット7とノイズに弱
い第2の機能ユニット8とが混在した場合でも、ノイズ
による誤動作や特性悪化を解消するとともに、静電破壊
に強い半導体集積回路装置を実現することができる。
【0033】図3は本発明の他の実施の形態を示す半導
体集積回路装置の構成図である。図3に示すように、本
実施の形態の半導体集積回路装置1は、ノイズを発生す
る第1の機能ユニット7と、2つのノイズに弱い第2,
第3の機能ユニット8A,8Bとが混在する場合であ
る。第1の機能ユニット7および第2,第3の機能ユニ
ット8A,8Bとチップ外部との信号のやり取りは、信
号パッド4,5を介して行われ、機能ユニット7および
機能ユニット8A,8Bのユニット間の信号のやり取り
は、ユニット間配線6A,6Bを介して行われる。ま
た、これらの機能ユニット7および機能ユニット8A,
8Bは電源パッドVDD1およびVDD2,VDD3か
らそれぞれ電源電圧を供給され、同様に接地パッドGN
D1およびGND2,GND3からそれぞれ接地電位を
供給される。これら電源パッドVDD1,VDD2,V
DD3および接地パッドGND1,GND2,GND3
は、ノイズ対策および静電破壊保護対策を施した静電破
壊(ESD)保護回路9により結合される。
【0034】図4は図3におけるESD保護回路の具体
的構成図である。図4に示すように、このESD保護回
路9は、第1の機能ユニット7の電源VDD1,GND
1と、第2の機能ユニット8Aの電源VDD2,GND
2と、第3の機能ユニット8Bの電源VDD3,GND
3との組合わせに対し、NMOSN11〜N22および
PMOSP11〜P22と、保護抵抗素子R11〜R3
4とによる保護回路が接続される。この第1の機能ユニ
ット7のVDD1,GND1と第2の機能ユニット8A
のVDD2,GND2間のESD保護回路9の構成は、
前述した図2の回路と同様であり、また第2の機能ユニ
ット8Aと第3の機能ユニット8B間および第1の機能
ユニット7と第3の機能ユニット8B間の回路について
も、同様の回路構成である。要するに、本実施の形態に
おいては、機能ユニットが3個、電源VDDおよび接地
GNDの対が3ペアの場合であり、回路動作についても
前述した図2の場合と同様である。
【0035】以上、2〜3の実施の形態について説明し
たが、かかる電源VDD,接地GNDのペアが4つ以上
に増えた場合でも、各々の電源,接地パッドに対し、E
SD保護回路を1つ追加するだけで容易に実現すること
ができる。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体集
積回路装置は、ノイズを発生する回路とノイズに弱い回
路とが混在するときでも、それぞれの回路の電源パッド
および接地パッド間に接続する通常オフのNMOSもし
くはPMOSと、各MOSのゲートおよびソースもしく
はドレイン間に接続する保護抵抗素子とを設け、高電圧
の印加時にのみかかるNMOSあるいはPMOSをオン
させてバイパス経路を作ることにより、静電破壊に対す
る保護を実現するとともに、ノイズに弱い回路でもノイ
ズによって特性を悪化させることを防止できるという効
果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態を示す半導体集積回路装
置の構成図である。
【図2】本発明の他の実施の形態を示す半導体集積回路
装置の構成図である。
【図3】本発明のまた別の実施の形態を示す半導体集積
回路装置の構成図である。
【図4】図3におけるESD保護回路の具体的構成図で
ある。
【図5】従来の一例を示す半導体集積回路装置の構成図
である。
【図6】従来の他の例を示す半導体集積回路装置の構成
図である。
【図7】従来のまた別の例を示す半導体集積回路装置の
構成図である。
【符号の説明】
1 半導体集積回路 2 デジタル回路 3 アナログ回路 4,5 信号パッド 6 信号線 7 第1の機能ユニット 8,8A 第2の機能ユニット 8B 第3の機能ユニット 9 ESD保護回路 R1〜R8,R11〜R34 保護抵抗素子 N1〜〜N4,N11〜N22 NMOSトランジス
タ P1〜〜P4,P11〜P22 PMOSトランジス
タ VDD,VDD1,VDD2,VDD3 電源パッド
(電源線) GND,GND1,GND2,GND3 接地パッド
(接地線)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H03K 19/003

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ノイズを発生する第1の機能ユニット
    と、ノイズに弱い第2の機能ユニットと、前記第1およ
    び第2の機能ユニットのそれぞれに対応する電源パッド
    および接地パッドと、前記第1および第2の機能ユニッ
    トのそれぞれの前記電源パッドおよび前記接地パッド間
    に接続する通常オフのNMOSもしくはPMOSと、前
    記NMOSもしくはPMOSのゲートおよびソースもし
    くはドレイン間に接続する保護抵抗素子とを有し、高電
    圧の印加時にのみ前記NMOSあるいはPMOSをオン
    させてバイパス経路を作ることを特徴とする半導体集積
    回路装置。
  2. 【請求項2】 前記第1の機能ユニットはデジタル回路
    を用い、前記第2の機能ユニットはアナログ回路を用い
    た請求項1記載の半導体集積回路装置。
  3. 【請求項3】 前記第1の機能ユニットおよび前記第2
    の機能ユニットの前記電源パッドおよび前記接地パッド
    間に接続する前記NMOSもしくはPMOSは、一対の
    NMOSもしくは一対のPMOSあるいはNMOS,P
    MOSのペアにより形成する請求項1記載の半導体集積
    回路装置。
  4. 【請求項4】 前記第1の機能ユニットおよび前記第2
    の機能ユニットの前記電源パッドおよび前記接地パッド
    間に接続する前記NMOSもしくはPMOSは、供給す
    る電源電圧の違いにより通常オフの1個のMOSにより
    形成した請求項1記載の半導体集積回路装置。
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