JPH0925110A - 親水性ダイヤモンド微細粒子及びその製造方法 - Google Patents

親水性ダイヤモンド微細粒子及びその製造方法

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JPH0925110A
JPH0925110A JP7206399A JP20639995A JPH0925110A JP H0925110 A JPH0925110 A JP H0925110A JP 7206399 A JP7206399 A JP 7206399A JP 20639995 A JP20639995 A JP 20639995A JP H0925110 A JPH0925110 A JP H0925110A
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章光 八田
Hiroshi Makita
寛 牧田
Kazuhito Nishimura
一仁 西村
Hiroshi Ishizuka
博 石塚
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明の主な目的は、微細粒子状のダイヤモ
ンドと混在している不純物を除去すると共に、表面状態
を改質し、これによって水、アルコール等の、通常使用
されている溶媒(分散媒)中において安定な形で懸濁、
分散できるダイヤモンド微細粒子、およびその効果的な
製法を提供することにある。 【構成】(1)以下の各平均粒径を有する粒子につい
て、90%以上のフラクションがpH7.0の精製水中
に懸濁状態を維持する時間が、それぞれの平均粒径範囲
ごとに下記に示される値である、ダイヤモンド微細粒
子。 平均粒径 懸濁時間 (nm) (時間) 200未満 24 以上 200以上 500未満 8 以上 500以上 1000未満 2 以上 1000以上 2000以下 0.5 以上 (2) 平均粒径2μm以下のダイヤモンド粒子を、硫
酸を含む処理液中で200℃以上の処理温度に加熱し、
これによって共存する不純物を除去すると同時に、表面
に親水性の原子および/または官能基を付与することを
特徴とする、親水性ダイヤモンド微細粒子の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】 本発明はダイヤモンド微細粒
子、特に潤滑剤、表面改質剤、研磨材としての用途にお
いて単粒子層として利用可能な、親水性のダイヤモンド
微細粒子、及びこのような微細粒子の製造に特に効果的
な方法に関する。
【0002】
【従来の技術】 現在、研磨材やその他の用途のために
微細なダイヤモンド粒子が市販されており、平均粒径0
−1/8μmの微細粉や粒径5nmの超微粉が潤滑剤、
表面改質剤、研磨材等の用途に用いられている。これら
の微細粒子は通常、マトリックス中や支持材上に、単粒
子単位で分散させて均一な分布を得るために、適当な溶
媒を用いて湿式で混合や塗布の操作を行うことが多い。
【0003】ダイヤモンド粒子の表面は、相互に結合し
た炭素原子で構成されている場合もあるが、異種の原子
や官能基との結合によって、表面エネルギーが相対的に
低い状態に保たれている場合も多い。このことから粒度
の減少につれて、特にサブミクロンの粒子の物性には、
バルクの性質だけでなく、表面の状態が大きく影響する
ことになる。
【0004】したがって微細ダイヤモンドの表面物性、
例えば乾燥粒子としての凝集性、溶媒に対する親水性、
親油性等の性状は、ダイヤモンド粒子表面の炭素原子と
結合した、あるいは吸着されている原子や官能基に大き
く依存する。ダイヤモンドの表面に付着すると考えられ
る原子や官能基の種類、および付着処理方法について
は、H.B.ノビコフ編の「ダイヤモンドの物理的性
質」(1987年)ナウコバ・ドゥムカ社刊、147頁
に概説されている。
【0005】上記のダイヤモンド微細粉は概して、天然
の、あるいはプレス等の加圧を用いる、いわゆる静的高
圧下で得られた比較的粗い粒子を粉砕して調製され、あ
るいは、衝撃圧力下で合成された微粉の凝集体として得
られている。これらの微細粉はどちらの場合も最終製品
に至るまでに種々の物理的、化学的な処理を経るので、
用いられる処理方法に応じて、それぞれ特有の物性を示
すことになる。
【0006】例えば静的高圧法で合成されたダイヤモン
ドでは、合成時に融剤金属や反応室の構成物質がダイヤ
モンド中に取り込まれ、介在物や、置換原子として存在
している。このようなダイヤモンド粒子を原料として用
いると、微粉を作製する際の破砕工程において、介在物
などが存在する結晶の不完全な箇所が優先的に破砕さ
れ、破面に露出した不純物は、引き続いて実施される酸
処理工程において溶解除去されるので、全体としての不
純物レベルは低下する傾向にある。しかし酸に溶解しに
くい破砕装置からの汚染物質──たとえばクロム──
や、破砕面から脱落した未反応グラファイトなどは濃縮
される傾向にあり、これらの汚染物質やグラファイト
は、濾別または遠心分離による最微粉のダイヤモンドの
捕集の際に、これに随伴することになる。この結果、し
ばしば認められるように、一般にゼロクラスと呼ばれ
る、アンダーサイズを除いていない品種の微粉ダイヤモ
ンドは、灰色あるいはさらに濃い色調を呈する。
【0007】一方衝撃圧力を用いて合成された微粉ダイ
ヤモンドの場合は、合成方法の詳細にまだ不明な点があ
ることから、不純物の由来は必ずしも明らかではない
が、未反応グラファイトの他に、少なくとも反応装置、
乃至は反応時のマトリックス物質と思われる元素が検出
されている。
【0008】上記のようにダイヤモンド粒子の形成過程
において、合成反応後、生成されたダイヤモンドは反応
生成物から単離されるまでに、湿式で各種の薬品処理を
経るので、粒子表面の炭素原子が酸素原子や水酸基と結
合している場合があり、このため合成ダイヤモンドは一
般に、天然ダイヤモンドに比べると親水性であると言わ
れている。
【0009】上記の表面性状は、ミクロンサイズのダイ
ヤモンドの湿式分級工程において、粒子径と粒子沈降速
度との関係を表すストークス則からのずれを生じさせ、
分級性能の再現性を低下させる原因となっている。しか
し通常の薬品処理で得られるダイヤモンド粒子の表面
は、一般に水、アルコールのような極性溶媒中に、安定
な形で懸濁、分散できるような状態までには至っていな
い。
【0010】酸素原子や水酸基以外で、微粉ダイヤモン
ドと共存する不純物としては、ICPや無機定性分析に
よる検出元素として、Si、Al、Fe、Cr、Mn、
Cu、Ca、S、Cなど多岐にわたることが知られてい
る。上記のいずれの製法で合成されたダイヤモンドにつ
いても、これらの不純物の一部は、ダイヤモンド粒子の
表面と何らかの形で相互作用を有すると考えられ、この
ような相互作用を起点として、水中においてこれらのダ
イヤモンド粒子の凝集が生じると考えられる。即ち従来
入手可能な微粉ダイヤモンドの多くは、これらの不純物
の作用によって凝集体となっており、極性、非極性のい
ずれの溶媒中においても、また超音波振動を加えても完
全に解砕することは困難であり、さらに一旦解砕できた
ように見えても、すぐに再凝集し沈降することが観察さ
れている。
【0011】ダイヤモンド微細粒子は、潤滑剤、表面改
質剤、研磨材等として有望な材料である。しかしこれら
の用途において、これらの微細粒子を個々に、すなわち
単粒子としてマトリックス中に分散したり、単粒子層と
して支持材上に塗布しなければならない。このような分
散性は、ダイヤモンド粒子表面における不純物との相互
作用の排除、および粒子表面の分散媒とのなじみの改善
によって達成できる。しかし従来、ダイヤモンド微細粒
子にこのような物性を効果的に付与する技術は知られて
いなかった。
【0012】一方、ダイヤモンド微細粉を金属またはセ
ラミックスの表面に被覆した複合材も耐摩耗材料として
有望であるが、例えばこれをメッキにより作製する場合
には、メッキ処理の工程を通じて、ダイヤモンド粒子が
メッキ液中に安定な形で懸濁していること、即ち処理時
間内に液中の分散粒子の濃度や、粒度分布が変化しない
ことが要求される。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】 したがって本発明の
主な目的は、上記のように、微細粒子状のダイヤモンド
と混在している不純物を除去すると共に、ダイヤモンド
粒子の表面状態を改質し、これによって水、アルコール
等の、通常使用されている溶媒(分散媒)中において安
定な形で懸濁、分散できるダイヤモンド微細粒子、およ
びその効果的な製法を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】 本発明においては、ダ
イヤモンド微細粒子を、硫酸を含有する処理液、特に濃
硫酸や発煙硫酸中にて200℃以上、より好ましくは2
50℃以上の処理温度に加熱し、煮沸する。この操作に
よって、ダイヤモンド粒子中に、あるいは粒子と混在し
ている不純物が除去されると同時に、ダイヤモンド微細
粒子の表面に、親水性の原子および/または官能基が形
成され、親水性のダイヤモンド微細粒子が得られる。
【0015】上記処理液には、硝酸、過塩素酸、クロム
酸、または過マンガン酸等の酸、あるいは硝酸カリ等の
硝酸塩のような、酸化剤を含有させることができる。こ
の場合、より低い温度で、同様の効果が達成される。
【0016】本発明を適用するダイヤモンド粒子として
は、微細なものほど効果が顕著である。すなわち懸濁状
態維持時間の増加が著しい。しかしダイヤモンド粒子の
サイズが大きくなるのに伴って重力の影響が無視できな
くなり、分散媒中において長時間懸濁状態を維持するこ
とが困難になる。したがって本発明におけるダイヤモン
ド微細粒子としては、平均粒径2μm以下のものを使用
する。本発明の処理法を適用することにより、精製水中
において、粒子径2μmのものについて少なくとも0.
5時間、1μm以下のものについては2時間以上、実質
的に沈降粒子を生じない状態が維持される。粒子径がさ
らに細かくなるにつれて懸濁維持時間はさらに延び、粒
子径200nm以下になると一昼夜以上の懸濁状態の維
持が可能になる。そのうえ、このような微細粒子につい
ては、pH4.0の無機酸による酸性水溶液中において
も、6時間以上、懸濁状態が維持される。さらに本発明
においては、このような懸濁状態を維持する表面状態
が、高再現性にて達成されるものである。
【0017】ダイヤモンド粒子の分散媒としては、水ま
たはアルコールといった極性溶媒が広く用いられること
から、表面を親水性とし、同時に表面に付着している不
純物元素や、混入している異種物質を除去した微粉ダイ
ヤモンドが、汎用性のある材料といえる。ダイヤモンド
粒子は酸性の液中では凝集する傾向があることから、水
中における分散状態を維持するために、弱アルカリ性の
水を用いる方法がしばしば採用される。しかしダイヤモ
ンドを懸濁状態で用いる用途の面からは、弱アルカリ性
の水を用いる方法が、必ずしも汎用性を有するとは言え
ない。
【0018】ダイヤモンドの水中における分散状態は、
水中に存在する各種のイオンによっても影響される。し
たがって本発明におけるダイヤモンド微細粒子の親水性
の評価基準には、本質的にpH=7.0のイオン交換
水、蒸留水等の、精製水中における安定性、すなわち懸
濁状態維持時間を用いる。
【0019】本発明の親水性ダイヤモンド微細粒子は本
質的に、平均粒径2μm以下のダイヤモンド粒子を、硫
酸を含む処理液中で200℃以上、より好ましくは25
0℃以上の処理温度に加熱(煮沸)し、これによって共
存する不純物を除去すると同時に、表面に親水性の原子
および/または官能基(例えばC=O、−OH)を付与
することによって得られる。
【0020】この際、被処理品が平均粒径数nmの、い
わゆるナノサイズの超微粉ダイヤモンドの場合は、空気
中において350℃以上で酸化による減量が認められる
ことから、処理温度は350℃を超えてはならない。
【0021】一方ミクロンサイズのダイヤモンドについ
ては、空気中における酸化の開始温度が約500℃であ
ることから、処理温度の上限値をより高く設定すること
が可能であるが、反応装置の選択範囲や、反応速度の制
御の観点から、400℃が妥当な上限と考えられる。
【0022】本発明方法の熱濃硫酸処理においては、三
酸化イオウによる強い酸化作用によって、不純物元素と
の硫酸塩の形成、混在するグラファイトのガス化が生じ
る。加えて加熱処理終了後に、水を加えて硫酸を希釈す
る際に強酸性の水溶液が形成される。この結果、ダイヤ
モンド粒子が凝集する際の起点となっている不純物が、
効果的に除かれる。同時にダイヤモンド表面への酸素原
子の結合も生じ、C=O結合、あるいは後の水和過程で
形成されるOH基によって、親水性のダイヤモンドにな
ると考えられる。これらの効果はダイヤモンドの粒径が
小さい程顕著であり、このため平均粒径が200nm以
下の粒子ではpH4.0の無機酸による酸性溶液中にお
いても6時間以上、安定な懸濁状態が維持される。
【0023】硫酸に添加する酸化剤としては、硝酸、過
塩素酸、クロム酸、過マンガン酸、あるいは硝酸カリな
どの硝酸塩、またはこれらの混合物など広い範囲から選
択することができ、これらの酸化剤を添加、併用するこ
とによって、硫酸のみを用いる場合に比して、煮沸処理
温度を低くすることができる。これらの酸化剤を併用し
た処理を行った場合も、得られたダイヤモンドの表面分
析によって、C=O基やOH基が検出されることから、
熱濃硫酸中における場合と類似の反応が、より低い温度
で進行していると考えられる。
【0024】また必要に応じて上記の処理の前後に、主
としてグラファイトの除去を目的とした過塩素酸処理
や、シリカ除去のためのフッ化水素酸処理、シリカ、ア
ルミナの同時除去のためのアルカリ溶融などの処理を加
えることができる。
【0025】本発明方法によって得られたダイヤモンド
微細粒子は、水中における分散性が著しく良好であり、
水中に投じるだけで溶解に似た形で分散し、乳白色の液
を形成する。水中に分散したダイヤモンド粒子は、粒度
測定の結果から、ほぼ単粒子単位、多くても数粒子単位
での分散となっていると考えられ、ダイヤモンド粒子の
表面が、親水性の原子または原子団で覆われていると推
定される。この際に粒子の解砕のための超音波処理は、
通常不要である。
【0026】このように、液中においてダイヤモンド粒
子はほぼ単粒子の形で懸濁しているので、ダイヤモンド
の単層膜の形成や、他の材料との均一混合が可能とな
る。このような操作を実施する場合には、必要に応じて
水との相互溶解度を有する溶媒を用いることにより、ダ
イヤモンド粒子の分散濃度の制御や、プラスチック原料
のモノマーとの均一混合が可能である。
【0027】例えば市販のクラスターダイヤモンドを出
発原料に用い、本発明による処理を施した後、水−アル
コール系を分散媒とする懸濁液を調製し、この中にシリ
コン基板を浸漬し、CVD法によるダイヤモンド合成に
供することにより、高密度の核形成点を形成することが
可能である。
【0028】また同様の手法を用いて、サブミクロンサ
イズのダイヤモンド粒子の懸濁液中にシートの素材を浸
漬するか、あるいはシート素材上に懸濁液を塗布するこ
とによって、粒度ならびに付着むらのない研磨シートを
作製することも可能である。
【0029】一方粒径が数μmのダイヤモンド粒子を砥
粒として用いた研磨工具の製作に際して、本発明により
処理したダイヤモンド粒子を溶媒中に分散させておき、
この溶媒と液状または粉末状のマトリックス材料とを混
合することにより、マトリックス中に砥粒が均一に分布
した工具を製作することが可能である。
【0030】以下の実施例において、水中に分散させた
ダイヤモンド微粉の沈降実験では、pH7.0の精製水
100mlに200mgのダイヤモンドを加えた分散液
から、25mlを試験管に分取し、試験管を静置して観
察し、透明な上澄み液層が認められる時点を、沈降開始
とみなした。なお以下の実施例中を含め、本願明細書中
で用いる粒径表示は、300nm以下については、遠心
沈降法による測定値を、300nmを超える粒子につい
ては、レーザー回折散乱法による測定値によった。
【0031】
【実施例1】 原料として市販のクラスターダイヤモン
ドを用いた。これは公称平均粒径5nmの暗褐色の粒子
であって、凝集により二次粒子を形成していることが、
400倍の光学顕微鏡観察によって認められた。この二
次粒子を水中またはアセトン中に投じて超音波を加えた
が、解砕するのは困難であった。一旦解砕できたように
見えたこともあったが、すぐに再凝集して沈降し始め
た。さらにこの粒子を濃硫酸中に投じ、約100℃・で
2時間加熱した後、充分に水洗を行った粒子も、精製水
中に分散させると、分散後数分で沈降が始まるのが認め
られた。
【0032】この試料20gを、5%・濃HNO−濃
SO200mlと共にフラスコ中へ入れ、超音波
を加えて解砕したのち加熱し、300〜320℃で2時
間煮沸した。放冷後多量の水を加えて酸を希釈し、遠心
機を用いて分離と水洗とを行い、乾燥することによって
灰褐色の微細粉末を回収した。この粉末は精製水中に投
入するだけで、溶解するような形で分散して灰色の液と
なり、24時間放置しても沈降物は認められず、72時
間後においても実質的な変化は認められなかった。なお
水中に分散させる際に、超音波を加える必要はなかっ
た。
【0033】得られた微粉末を分散させた水溶液中に、
硫酸を加えてpH4.0の弱酸性とした場合についても
観察を行ったが、12時間経過後にも沈降物は生じず、
処理品は弱酸性の水溶液中においても、安定な分散状態
を維持することが認められた。
【0034】次にこのダイヤモンド粒子を、CVD法に
おける核形成剤として用いた。まず1リツトルの精製水
中に上記の処理を行ったクラスターダイヤモンド0.1
gを分散させ、さらにこの1容に対して、メチルアルコ
ール2容を加えた処理液を調製した。この中にシリコン
基板を浸漬した後、直ちに引き上げてドライヤーで乾燥
し、マイクロ波プラズマCVD法によるダイヤモンド合
成に供した。この基板を用いた反応では、反応開始後1
0分間で、膜厚約50nmの均一な厚さの膜が形成され
た。この工程における核形成密度を知るために、反応開
始後5分間で反応を中断し、形成核の個数を計測し、ほ
ぼ5×1011の核形成密度であることを確かめた。即
ち5×1011個以上の微粒子を核形成の種として、基
板上に均一に付着できたことになる。
【0035】
【比較例】 比較のために、ミクロンサイズダイヤモン
ドを、従来一般的に用いられている超音波振動法によっ
て分散させて懸濁液を調製した。これにシリコン基板を
浸漬して傷つけ加工を行い、上記実施例と同一の反応条
件においてマイクロ波プラズマCVD法によるダイヤモ
ンド合成に供した。この場合の核形成密度は、最大で1
×1010のオーダーであった。また均一な厚さの膜の
形成には2〜4時間を要した。
【0036】
【実施例2】 粒度0−1/4のミクロンサイズダイ
ヤモンド粉末を処理原料に使用した。この粉末は、1/
4ミクロン以上のサイズのフラクションを除いた残りの
微粉を、遠心分離機を用いて捕集したものであって、平
均粒径は180nmであり、暗灰色を呈していた。IC
P分析による半定量分析によって、不純物としてAl、
Si、Cr、Feが、それぞれ0.1〜0.2%含まれ
ていることが認められた。
【0037】この粉末100gに500mlの疏酸を加
え、280〜320℃で6時間煮沸処理を行い、続いて
フッ化水素酸処理も実施した。水洗、乾燥後の処理品は
明るい白色を呈しており、上記の不純物はいずれも元の
1/10以下となっていることが、ICP分析によって
確かめられた。また赤外吸収分析によって、ダイヤモン
ドの表面に−OH、C=Oの官能基が形成されているこ
とも確かめられた。得られた処理品のダイヤモンド微粉
を精製水中に分散した液は白色であり、分散後2昼夜を
経過しても、沈降粒子は認められなかった。またこの処
理品は、pH4.0の塩酸酸性水溶液中において6時間
以上の懸濁状態を維持することも認められた。
【0038】本発明による処理の効果の評価の一つとし
て、処理前及び処理後のダイヤモンド粒子に対し、ラマ
ン分光分析を実施した。未処理粒子の場合にはレーザー
ビームを照射すると、光の吸収により爆発的に燃焼飛散
し、測定不能であった。これに対し処理品においては、
光の反射が良好なため、このようなトラブルは生じず、
ダイヤモンドによるピークのみを有する図形が得られ
た。
【0039】本処理品を用いて懸濁メッキ作業を行っ
た。基板として100×100mmの析出面を研磨仕上
げした、厚さ10mmのSUS板を用いた。メッキ液1
リットル中に、硫酸ニッケル300g、塩化ニッケル5
0gと共に、本処理品のダイヤモンド粒子5gを溶解し
た。液のpH4.5、液温50℃、電流密度2A/dm
の条件を用い、厚さ約5μmの膜を形成した。メッキ
操作の際には強制撹拌は行わなかった。SEM観察によ
って、約25vol%のダイヤモンド粒子がニッケルで
固定された構造となっていることが認められた。得られ
た板は、セラミックス粉末成型プレスに取り付けるシュ
ートとして使用した。
【0040】
【実施例3】 粒度0−2のミクロンサイズダイヤモン
ド粉末を処理原料に使用した。この粉末は、実施例2と
同じ手法を用いて、2μm以上のサイズのフラクション
を除いた残りの微粉を捕集したものであって、平均粒径
は1.06μmであり、灰色を呈していた。この粉末1
00gに500mlの硫酸と、50gのKNOを加
え、210〜230℃で3時間煮沸処理を行った。得ら
れた処理品は白色を呈しており、精製水中に分散した液
は乳白色を呈していた。この液においては、分散後12
時間を経過しても、沈降粒子は認められなかった。これ
に対し、上記の処理を行わなかった場合には、分散後1
時間で沈降の開始が認められた。
【0041】上記処理品を用いて、実施例2と同じ手法
の懸濁メッキによって、センターレスグラインダー用の
ワーク支持台に、10μm厚さのダイヤモンド混入ニッ
ケルメッキを施した。ワーク支持台の摺動面のサイズ
は、幅30mm、長さ600mmであり、素材はSUS
304であった。メッキは実施例2と同様の条件で行っ
た。懸濁メッキ処理を行ったワーク支持台は、焼結アル
ミナの研削における受台として、3ヶ月以上の使用に耐
えた。なおメッキ処理を行わない場合には、摺動による
磨耗のため、2週間の使用で交換が必要であった。
【0042】
【実施例4】 粒度2−3のミクロンサイズダイヤモン
ド粉末を処理原料に使用した。この粉末の平均粒径は
1.98μmであり、灰白色を呈していた。この粉末2
00gを、800mlの硫酸中に投入して210〜24
0℃に加熱し、間欠的にクロム酸水溶液を滴下し、クロ
ム酸の赤色を維持する状態で2時間煮沸処理を行った。
冷却後充分に水洗した処理品は白色を呈し、精製水中に
分散した液は乳白色を呈した。この液においては、分散
後2時間を経過しても、沈降粒子は認められなかった。
なお、上記の処理を行わなかった場合には、分散直後に
沈降の開始が認められている。
【0043】得られた処理品10gに、メチルアルコー
ル100mlを加えて濃厚な分散液を調製し、次いでフ
ェノール樹脂50gを添加して十分に撹拌した。得られ
た混合液を弱く加熱してアルコールを蒸発させ、粘凋な
液となった時点で砥石の金型中へ注入し、190℃の加
熱、面圧200kg/cmの加圧によって、超硬合金
の検鏡試料製作用の、外径150mm、内径100mm
の6A2タイプの、カップ型研磨砥石を製作した。この
砥石においては、ダイヤモンド粒子が実質的に単粒子で
マトリックス中に分散していることが、顕微鏡観察によ
って確かめられた。
【0044】
【実施例5】 ゼロクラスと呼ばれているミクロンサイ
ズダイヤモンド用の原料を、一旦水中に分散させ、一昼
夜静置した後の上澄み液を遠心分離して捕集した微粉
を、処理原料に用いた。この粉末は平均粒径が90nm
で、黒色を呈した。この粉末100gについて、硫酸5
00mlと、50mlのHNOを加え、270〜30
0℃で4時間煮沸処理を行った。得られた処理品は灰色
を呈し、精製水中に分散した液は灰白色を呈した。この
液においては、分散後72時間を経過しても、沈降粒子
は認められなかった。この分散液をダイヤモンド濃度1
00ppm.に希釈し、実施例1と同じ方法によって、
CVDダイヤモンドの核形成剤として用いたところ、核
形成密度として約1×1011の値が得られた。
【0045】
【実施例6】 被処理ダイヤモンド量を100g、加熱
処理時間を1時間に固定した一連の処理において、精製
水中における概略懸濁時間の比較を行った。結果を以下
に示す。
【0046】
【発明の効果】 以上詳述したように、本発明において
は、ダイヤモンド微細粒子を硫酸含有処理液中で強熱す
ることにより、混在している不純物が除去されると共
に、ダイヤモンド粒子表面の親水性への改質が、効果的
に達成される。これにより、水中で安定した懸濁状態を
維持するダイヤモンド微細粒子の製造が可能となった。
【0047】本発明方法を例えばクラスターダイヤモン
ドに適用して懸濁液を作成し、これにて析出基板として
のシリコン薄板を前処理することにより、CVD法によ
るダイヤモンド形成において、従来方法に比べ、飛躍的
に高い核形成密度の達成が可能である。この結果、均一
な厚さのダイヤモンド薄膜の形成が可能となった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C10N 20:06 (72)発明者 牧田 寛 兵庫県川西市向陽台二丁目1番59号 (72)発明者 西村 一仁 福岡県北九州市小倉南区山本694番地3 (72)発明者 石塚 博 東京都品川区荏原六丁目19番2号 (72)発明者 細見 暁 栃木県小山市稲葉郷138番地1

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 以下の各平均粒径を有する粒子につい
    て、90%以上のフラクションがpH7.0の精製水中
    に懸濁状態を維持する時間が、それぞれの平均粒径範囲
    ごとに下記に示される値である、ダイヤモンド微細粒
    子。 平均粒径 懸濁時間 (nm) (時間) 200未満 24 以上 200以上 500未満 8 以上 500以上 1000未満 2 以上 1000以上 2000以下 0.5 以上
  2. 【請求項2】 以下の各平均粒径を有する粒子につい
    て、90%以上のフラクションがpH7.0の精製水中
    に懸濁状態を維持する時間が、それぞれの平均粒径範囲
    ごとに下記に示される値である、請求項1に記載のダイ
    ヤモンド微細粒子。 平均粒径 懸濁時間 (nm) (時間) 200未満 48以上 200以上 500未満 16以上 500以上 1000未満 4以上 1000以上 2000以下 1以上
  3. 【請求項3】 90%以上のフラクションがpH4.0
    の無機酸酸性水溶液中で6時間以上懸濁状態を維持す
    る、平均粒径200nm以下のダイヤモンド微細粒子。
  4. 【請求項4】 平均粒径2μm以下のダイヤモンド粒子
    を、硫酸を含む処理液中で200℃以上の処理温度に加
    熱し、これによって共存する不純物を除去すると同時
    に、表面に親水性の原子および/または官能基を付与す
    ることを特徴とする、親水性ダイヤモンド微細粒子の製
    造方法。
  5. 【請求項5】 上記処理液が濃硫酸である、請求項4に
    記載の親水性ダイヤモンド微細粒子の製造方法。
  6. 【請求項6】 上記処理液が発煙硫酸である、請求項4
    に記載の親水性ダイヤモンド微細粒子の製造方法。
  7. 【請求項7】 上記処理液が酸化剤を含有する、請求項
    4に記載の親水性ダイヤモンド微細粒子の製造方法。
  8. 【請求項8】 上記酸化剤が硝酸、過塩素酸、クロム
    酸、過マンガン酸および硝酸塩から選ばれる少なくとも
    1種である、請求項4に記載の親水性ダイヤモンド微細
    粒子の製造方法。
  9. 【請求項9】 上記硝酸塩が硝酸カリを含有する、請求
    項8に記載の親水性ダイヤモンド微細粒子の製造方法。
  10. 【請求項10】 上記処理温度が250℃以上である、
    請求項4に記載の親水性ダイヤモンド微細粒子の製造方
    法。
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