RU2809530C1 - Суспензия для полирования кристаллов германия - Google Patents
Суспензия для полирования кристаллов германия Download PDFInfo
- Publication number
- RU2809530C1 RU2809530C1 RU2022117215A RU2022117215A RU2809530C1 RU 2809530 C1 RU2809530 C1 RU 2809530C1 RU 2022117215 A RU2022117215 A RU 2022117215A RU 2022117215 A RU2022117215 A RU 2022117215A RU 2809530 C1 RU2809530 C1 RU 2809530C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- polishing
- suspension
- oxide
- germanium
- water
- Prior art date
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 54
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 239000000725 suspension Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 19
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 19
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 10
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 5
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 claims description 2
- 239000000320 mechanical mixture Substances 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 2
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 235000013312 flour Nutrition 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 2
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 1
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000006286 aqueous extract Substances 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRVWBEJJZZTIGJ-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Ce+3].[Ce+3] DRVWBEJJZZTIGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- -1 hydrogen ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014413 iron hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- NCNCGGDMXMBVIA-UHFFFAOYSA-L iron(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Fe+2] NCNCGGDMXMBVIA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000011089 mechanical engineering Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Abstract
Изобретение относится к получению полировальных композиций для обработки поверхностей оптических деталей из кристалла германия. Предложена суспензия для полирования кристаллов германия, содержащая в масс.%: 3-5 оксида церия, 45-55 оксида алюминия, 2-3 оксида трёхвалентного железа и остальное - вода. Технический результат – высокое качество обрабатываемой поверхности и сокращение общего времени полирования кристаллов германия при использовании предложенной суспензии. 2 табл., 1 пр.
Description
Настоящее изобретение относится к технологии оптического приборостроения, а именно к получению полировальных композиций для обработки поверхностей оптических деталей с автоматической подачей полировальной композиции в зону полирования, в частности для полирования деталей из кристалла германия.
Сам по себе процесс полирования, а именно физико-химический механизм разрушения поверхности представляет интерес не только, как составная часть процесса разрушения поверхности, но и как способ получения поверхности с минимальной шероховатостью. Процесс полирования оптики довольно сложен, но может быть кратко описан: суть заключается в получении у поверхности оптической детали заданного класса чистоты поверхности, а также радиуса кривизны и прозрачности. Можно сказать, что физико-химический состав полировальной суспензии оказывает значительное влияние на интенсивность полирования и качество полированной поверхности. Для полирования большинства оптических материалов в качестве дисперсионной среды полировальных суспензий применяют воду, в которой по мере необходимости растворяют различные реагенты - ускорители полирования, стабилизаторы суспензии и антивспениватели (Г.С. Ходаков, Н.Л. Кудрявцева. Физико-химические процессы полирования оптического стекла. Москва, Машиностроение, 1985, стр. 131).
Среди полирующих составов, используемых в настоящее время в стекольной промышленности наиболее распространены составы, основанные на оксиде церия. Но данные составы не являются универсальными и не подходят для обработки монокристаллов, в частности кристаллов германия, с показателем твердости по Моосу 6, так как достижение успеха при полировке зависит от свойств обрабатываемого материала, и полирование составами на основе церия (99%) приводит к появлению царапин на поверхности кристалла. В случае полирования кристаллов германия высокий показатель твердости является причиной быстрого появления царапин, так как обладая кристаллической решеткой типа алмаз, кристалл германия достаточно хрупкий материал.
Известен состав для полирования изделий из стекла и кристаллов, торговое название: «LINDE Оксид алюминия» (http://optecom.ru/index.php?option=com_content&view=article&id=630). Данная суспензия, состоящая на 99,98% из оксида алюминия, позволяет обрабатывать детали из хрупкого оптического стекла с коэффициентом твердости Кс≈0,61 и выше (до 1). Недостатком указанного состава является недостаточное качество поверхности, полученной после обработки, вследствие появления глубоких царапин, а также образование серого налета на краях детали, по причине избыточного количества абразивных частиц в зоне полирования, а также длительность процесса полирования.
Наиболее близким по технической сущности к заявляемой суспензии является состав для полирования оптических поверхностей, описанный в патенте RU 2181132 от 16.02.1999 г. Согласно указанному изобретению состав для полирования оптических поверхностей представляет собой водную дисперсию, в которой содержится от 5 до 20% твердых абразивных частиц, причем от 85 до 95% содержания твердых веществ составляет альфа-оксид алюминия и от 5 до 15% оксид церия, при этом размер частиц альфа-оксид алюминия менее 0,5 мкм, а преимущественно от 0,15 до 0,25 мкм, а оксид церия представляет собой порошок с размером частиц от 0,2 до 4 мкм, преимущественно от 3 до 4 мкм.
Представленный состав был опробован при полировании кристаллов германия, и показал, что при равных условиях полирования заявленный состав не позволяет добиться заданного качества поверхности.
Недостатком указанного состава является низкое качество обработки поверхности, дефекты в виде царапин, а также длительное время обработки. Длительное время обработки приводит к уменьшению скорости полирования и эффективности сглаживания, поскольку по мере полирования неровностей поверхности скорость химического воздействия падает и одновременно уменьшается воздействие механического фактора.
Техническая проблема заключается в создании полировальной суспензии, позволяющей получить высокое качество обрабатываемой поверхности и сократить общее время полирования кристаллов германия.
Указанный технический результат достигается тем, что разработанная полировальная композиция, включающая в себя водную суспензию полирующего порошка, на основе оксидов алюминия и церия, содержит дополнительно оксид железа, в качестве добавки, при следующем соотношении компонентов: 45-55% оксида алюминия, 3-5% оксид церия, 2-3% оксид железа, вода остальное.
Заявляемая полировальная суспензия отличается от известной введением компонента - оксида железа.
Полирующий порошок представлен в виде смеси оксидов редкоземельных металлов: оксид церия (CeO2) - 3-5%, оксид алюминия (Al2O3) - 84-96%, оксид железа (Fe2O3) - 2-3%. Твердый раствор представлен кристаллическим мелкодисперсным порошком с прямоугольной или шестигранной формой частиц, размер зерна - 0,6-0,8 мкм, реакция водной вытяжки(рН) - 6,0-7,0.
Приготовление полировальной суспензии осуществляют следующим образом. Полирующий порошок заливают при перемешивании в неокисляющейся емкости горячей водой (75-90°С), так, чтобы порошок был полностью покрыт водой, плотно закрывают крышкой и оставляют до полного остывания. Затем полученный осадок промывают и фильтруют через капроновое сито с размером ячеек 0,8 мкм. Полученный фильтрат разделяют на твердую и жидкую фракции, твердую фракцию разбавляют водой до получения необходимой плотности полирующей суспензии из расчета 1 кг полирующего порошка на 10 л воды. Контроль плотности проводится ареометром (марка АОН-1, ГОСТ 18481-81), плотность полученной суспензии должна составлять 1,031-1,035 г/см3.
Для экспериментальной проверки настоящей суспензии были приготовлены пять образцов, а также для сравнения был приготовлена суспензия, состав которой является прототипом, состав которых представлен в таблице 1.
Для сравнительных испытаний известного и предлагаемого составов были взяты линзы из кристалла германия в количестве 10 штук, диаметром 27 мм, класс чистоты поверхности 7. Линзы обрабатывались поштучно, были наклеены эластичным способом наклеечными смолами с пекоканифольной основой, с наполнителями. В качестве полировальной подложки использовались пекоканифольная смола с твердостью 10-16 ед. МИВСК с наполнителями из древесной муки. Для деталей из германия при наклейке используются прокладки со смолой твердостью 11 ед. МИВСК, упругостью 3 ед. МИВСК с мукой.
Полирование деталей осуществлялось на станках 6ШП-100М, 3ШП-350 с автопитанием, максимальная скорость полирования составляла 3 м/с. Выход годных деталей составил 90-95%, что является допустимым. В результате проведенных экспериментов определено оптимальное процентное соотношение компонентов для получения наиболее эффективного состава полировальной суспензии.
Так как поверхность германия гладкая и блестящая, максимально глубокие царапины, шероховатости и мат видно уже в процессе полирования с помощью лупы с максимальным увеличением, поэтому если спустя 30-40 мин заметно, что поверхность теряет блеск, появляется сетка царапин, процесс полирования останавливается, плотность суспензии замеряется ариометром. Съем материала контролируется микрометром-индикатором часового типа (ГОСТ 577-68).
Под воздействием воды на поверхности оптической детали происходит гидролиз, при котором слабосвязанные ковалентные связи решетки кристалла замещаются ионами водорода, образовавшимися при диссоциации воды. При этом образуются гидроокиси щелочей и щелочноземельных металлов и тонкая пленка германия - этот слой имеет пористую структуру, толщина пленки при этом - различна. При полировке кристалла непрерывно снимается поверхностный слой, а именно - эта самая пленка германия.
Съем слоя является, с одной стороны, результатом механического воздействия, а с другой - результатом сложного физико-химического процесса, протекающего в системе кристалл - полировочный порошок - полировальный инструмент. Скорость полирования оптических деталей из германия при химико-механической обработке зависит от скорости химической реакции на поверхности детали, эффективности подачи суспензии (а именно сохранения ее стабильности) и также от времени полирования, которое необходимо контролировать, чтобы избежать излишнего съема с поверхности кристалла. Исходя из того, что происходит замещение водорода, пленка германия будет иметь отрицательный заряд, в то же время, частицы полирующего порошка будут иметь положительный заряд (будучи в нейтральной или кислой среде). Таким образом, при добавлении оксида железа, происходит образование пленки гидроокиси железа, частицы которой при этом положительно заряжены, сами частицы оксида железа создают вокруг себя пленку. В процессе полировки начинается контакт положительно заряженных частиц оксида железа с отрицательно заряженной поверхностью пленки. Полирующий порошок, прилегающий (прилипающий) к поверхности стекла, движимый полировальником срывает слой пленки. Обнаженный слой кристалла мгновенно гидролизуется водой, образуя новый защитный слой. Тем самым, стабильно высокое качество поверхности оптической детали достигается за счет добавления оксида железа.
Результаты проведенных испытаний представлены в табл. 2.
Как следует из таблицы 2, составы 1 и 3 обладают значительными преимуществами перед прототипом. Сочетание оптимального содержания полирующих веществ и воды позволяют добиться высокого заданного качества поверхности и увеличить скорость полирования за счет участия в работе большего стабильного числа зерен твердой фазы суспензии. Активный процесс физико-химических реакций на поверхности детали при схеме взаимодействия «ионы кристалла - ионы оксида железа» повышает эффективность выравнивания профиля поверхности. Образец под номер 1 имеет в своем составе наиболее эффективное сочетание компонентов, так как при увеличении количества оксида железа может наблюдаться быстрое расслоение суспензии (образец №5), или же возникает необходимость увеличить время полирования, как в случае образца №3.
Наличие оксида железа позволяет получить чистоту поверхности оптических деталей не ниже Р-2, получить заданную точность отклонения по форме при Общей ошибке N - 3; местной ошибке ΔN - 0,3, получить шероховатость Rz=0,05. Уменьшается количество дефектов полированных поверхностей, увеличивается процент выхода годных деталей и сокращается количество деталей, подлежащих перешлифовке и переполировке. Использование оксида железа в заявленной суспензии в заданном количестве позволяет проводить процесс полирования оптимально интенсивно с получением высокого качества обработанной поверхности.
Таким образом, предлагаемая полировальная суспензия позволяет сохранить высокое качество обрабатываемой поверхности и сократить общее время полирования кристаллов германия.
Claims (2)
- Суспензия для полирования кристаллов германия, состоящая из механической смеси воды и твердой фазы, в которой в качестве твердых частиц используют оксид церия, оксид алюминия, отличающаяся тем, что дополнительно содержит оксид железа трехвалентный при следующем соотношении компонентов, мас.%:
-
Оксид церия 3-5 Оксид алюминия 45-55 Оксид железа 2-3 Вода Остальное
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2809530C1 true RU2809530C1 (ru) | 2023-12-12 |
Family
ID=
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2181132C1 (ru) * | 1998-02-18 | 2002-04-10 | Сент-Гобэн Керамикс Энд Пластикс, Инк. | Состав для полирования оптических поверхностей |
JP2007005562A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Yamaguchi Seiken Kogyo Kk | ウェーハ研磨液組成物及びウェーハ研磨方法 |
DE60323733D1 (de) * | 2002-02-11 | 2008-11-06 | Dupont Air Prod Nanomaterials | An feststoff gebundener radikalbildender aktivator und verwendung zur verbesserung von formulierungen für das chemisch-mechanische polieren |
RU2471609C2 (ru) * | 2007-07-13 | 2013-01-10 | 3М Инновейтив Пропертиз Компани | Структурированный абразивный материал с верхним слоем и способ его изготовления и использования |
RU2605941C2 (ru) * | 2011-08-01 | 2016-12-27 | Басф Се | СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ УСТРОЙСТВ, ВКЛЮЧАЮЩИЙ ХИМИКО-МЕХАНИЧЕСКОЕ ПОЛИРОВАНИЕ ЭЛЕМЕНТАРНОГО ГЕРМАНИЯ И/ИЛИ МАТЕРИАЛА Si1-x Gex В ПРИСУТСТВИИ ХМП (ХИМИКО-МЕХАНИЧЕСКОЙ ПОЛИРОВАЛЬНОЙ) КОМПОЗИЦИИ, ВКЛЮЧАЮЩЕЙ СПЕЦИАЛЬНОЕ ОРГАНИЧЕСКОЕ СОЕДИНЕНИЕ |
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2181132C1 (ru) * | 1998-02-18 | 2002-04-10 | Сент-Гобэн Керамикс Энд Пластикс, Инк. | Состав для полирования оптических поверхностей |
DE60323733D1 (de) * | 2002-02-11 | 2008-11-06 | Dupont Air Prod Nanomaterials | An feststoff gebundener radikalbildender aktivator und verwendung zur verbesserung von formulierungen für das chemisch-mechanische polieren |
JP2007005562A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Yamaguchi Seiken Kogyo Kk | ウェーハ研磨液組成物及びウェーハ研磨方法 |
RU2471609C2 (ru) * | 2007-07-13 | 2013-01-10 | 3М Инновейтив Пропертиз Компани | Структурированный абразивный материал с верхним слоем и способ его изготовления и использования |
RU2605941C2 (ru) * | 2011-08-01 | 2016-12-27 | Басф Се | СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ УСТРОЙСТВ, ВКЛЮЧАЮЩИЙ ХИМИКО-МЕХАНИЧЕСКОЕ ПОЛИРОВАНИЕ ЭЛЕМЕНТАРНОГО ГЕРМАНИЯ И/ИЛИ МАТЕРИАЛА Si1-x Gex В ПРИСУТСТВИИ ХМП (ХИМИКО-МЕХАНИЧЕСКОЙ ПОЛИРОВАЛЬНОЙ) КОМПОЗИЦИИ, ВКЛЮЧАЮЩЕЙ СПЕЦИАЛЬНОЕ ОРГАНИЧЕСКОЕ СОЕДИНЕНИЕ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5277702A (en) | Plately alumina | |
US5735729A (en) | Abrasive composition with an electrolytic water and a polishing process with the use of said abrasive composition | |
KR100429940B1 (ko) | 개선된 세리아 분말 | |
US5114437A (en) | Polishing composition for metallic material | |
KR940000662B1 (ko) | 연마용 조성물 및 연마 방법 | |
CN109848821A (zh) | 一种镍合金的绿色环保化学机械抛光方法 | |
WO2012090510A1 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法 | |
TW201348168A (zh) | 合成石英玻璃基板之製造方法 | |
US4929257A (en) | Abrasive composition and process for polishing | |
TWI662115B (zh) | 具有陽離子界面活性劑之硏光漿料 | |
CN111633476B (zh) | 一种获得氧化钇透明陶瓷埃级光滑表面的方法 | |
JPH0214280A (ja) | プラスチック研磨用組成物 | |
CN108406619B (zh) | 抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘及其制备工艺 | |
TW495418B (en) | Polishing compact and polishing surface plate using the same | |
RU2809530C1 (ru) | Суспензия для полирования кристаллов германия | |
CN108997940A (zh) | 适用于蓝宝石抛光的化学机械抛光液 | |
US4883502A (en) | Abrasive composition and process for polishing | |
US3673746A (en) | Method of polishing glass | |
JPH06330025A (ja) | ガラス研磨用研磨材 | |
JP4557105B2 (ja) | 研磨用組成物 | |
JPS63114866A (ja) | ガラスの加工方法 | |
Desai | Advances and processes in precision glass polishing techniques | |
JP2850254B2 (ja) | 研磨剤組成物 | |
JPH01205973A (ja) | 研磨用組成物 | |
KR100679460B1 (ko) | 세리아-판상마이카 복합연마재 및 그 제조방법 |