JPH09183908A - 硬化性オルガノポリシロキサン組成物および該組成物を使用して基材と被着体を接着させる方法 - Google Patents

硬化性オルガノポリシロキサン組成物および該組成物を使用して基材と被着体を接着させる方法

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JPH09183908A
JPH09183908A JP7352803A JP35280395A JPH09183908A JP H09183908 A JPH09183908 A JP H09183908A JP 7352803 A JP7352803 A JP 7352803A JP 35280395 A JP35280395 A JP 35280395A JP H09183908 A JPH09183908 A JP H09183908A
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sio
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JP7352803A
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Makoto Yoshitake
誠 吉武
Junji Nakanishi
淳二 中西
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Dow Corning Toray Silicone Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 密閉、遮光条件下では流動性を保つが、紫外
線、電子線等の高エネルギー線照射により速やかに非流
動性の粘着体を形成し、その後大気中の湿気により硬化
反応がさらに進行して弾性体となり得る硬化性オルガノ
ポリシロキサン組成物および該組成物を使用して基材と
被着体を接着させる方法を提供する。 【解決手段】 (A)アルケニル基を含まないシリコー
ンレジン、(B)ケイ素原子結合アルコキシ基を含むメ
ルカプト基含有シロキシ基を有するオルガノポリシロキ
サン(該シロキサンはアルケニル基を含有しない。)、
(C)アルケニル基を有するオルガノポリシロキサンお
よび(D)縮合反応促進触媒からなり、25℃における
粘度が30,000ポイズ以下である硬化性オルガノポ
リシロキサン組成物、および、該組成物を基材に塗布し
た後、高エネルギー線を照射し、次いで被着体を照射面
に接触させて、その後これを大気中に放置することによ
り基材と被着体を接着させる方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は硬化性オルガノポリ
シロキサン組成物および該組成物を使用して基材と被着
体を接着させる方法に関する。詳しくは、密閉、遮光条
件下では流動性を保つが、紫外線、電子線等の高エネル
ギー線照射により速やかに非流動性の粘着体を形成し、
その後大気中の湿気により硬化反応がさらに進行して弾
性体となり得る硬化性オルガノポリシロキサン組成物お
よび該組成物を使用して基材と被着体を接着させる方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】1液型室温硬化性オルガノポリシロキサ
ン組成物は耐熱性,電気特性,耐候性に優れることか
ら、接着剤,ポッティング剤,コーティング剤などに利
用されている。しかし、従来の1液型室温硬化性オルガ
ノポリシロキサン組成物は、湿気の作用により縮合反応
を起こして硬化するため、硬化が完了する迄にかなりの
時間を要するという欠点があった。このため、紫外線や
その他の高エネルギー線の照射により速やかに反応が開
始する紫外線(高エネルギー線)硬化反応を、従来の湿
気硬化反応に組み合わせてなる組成物が提案されている
(特開昭60−231761号公報、特開昭62−96
562号公報、特開昭62−197453号公報、特公
平5ー63514号公報、特開平5ー295271号公
報、特開平5ー295272号公報、特開平6ー329
85号公報、特開平6ー57143号公報参照)。これ
らの組成物は紫外線等を照射することにより増粘または
固化して初期接着性を発現するので、照射面に被着体を
接触させればこれを接着させることができる。しかしな
がら、これらの組成物は増粘しても流動性を有するため
に接着保持力が十分でなく、一方、固化が起こると組成
物表面の粘着性が低下するために被着体を接着させるこ
とが困難になるという問題点があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは上記問題
点を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。
即ち、本発明の目的は、密閉、遮光条件下では流動性を
保つが、紫外線、電子線等の高エネルギー線照射により
速やかに非流動性の粘着体を形成し、その後大気中の湿
気により硬化反応がさらに進行して弾性体となり得る硬
化性オルガノポリシロキサン組成物および該組成物を使
用して基材と被着体を接着させる方法を提供することに
ある。
【0004】
【課題を解決するための手段】 本発明は、(A)平均単位式:R1 aSiO(4-a)/2(式中、R1はアルケニル基 を含まない置換もしくは非置換の一価炭化水素基またはアルコキシ基であり、R 1 の内少なくとも80モル%は一価炭化水素基である。aは0.75〜2.5の数 である。)で示されるシリコーンレジン 30〜75重量%、 (B)25℃における粘度が1〜1,000ポイズであり、末端に、一般式:
【化3】 (式中、R2は炭素原子数1〜10のアルキレン基であり、R3はアルコキシ基で あり、R4はアルキル基であり、xは1または2である。)で示されるメルカプ ト基含有シロキシ基を有するオルガノポリシロキサン(但し、該シロキサンはア ルケニル基を含有しない。) 5〜65重量%、 (C)25℃における粘度が1〜1,000ポイズであり、1分子中に3個以上 のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン 5〜65重量% および (D)縮合反応促進触媒 (A)成分〜(C)成分の合計100重量部 に対して0.01〜10重量部 からなり、25℃における粘度が30,000ポイズ以下である硬化性オルガノ ポリシロキサン組成物、および、 該組成物を基材に塗布した後、高エネルギー線を照射し、次いで被着体を照射面 に接触させて、その後これを大気中に放置することにより基材と被着体を接着さ せる方法に関する。
【0005】
【発明の実施の形態】最初に本発明の硬化性オルガノポ
リシロキサン組成物について説明する。本発明に使用さ
れる(A)成分のシリコーンレジンは、高エネルギー線
照射後の本発明組成物に粘着性を発現させる成分であ
り、平均単位式:R1 aSiO4-a/ 2で示される。式中、
1はアルケニル基を含まない置換もしくは非置換の一
価炭化水素基またはアルコキシ基であるが、この内少な
くとも80モル%は一価炭化水素基である。一価炭化水
素基として具体的には、メチル基,エチル基,プロピル
基,ブチル基,ペンチル基,イソプロピル基,イソブチ
ル基,シクロペンチル基,シクロヘキシル基などのアル
キル基;フェニル基,ナフチル基などのアリール基;ベ
ンジル基,1−フェニルエチル基などのアラルキル基;
クロロメチル基,3−クロロプロピル基,3,3,3−ト
リフルオロプロピル基,ノナフルオロブチルエチル基な
どのハロゲン化アルキル基;4−クロロフェニル基,
3,5−ジクロロフェニル基,3,5ージフルオロフェニ
ル基などのハロゲン化アリール基;4−クロロメチルフ
ェニル基,4−トリフルオロメチルフェニル基などのハ
ロゲン化アルキル基置換アリール基が例示される。これ
らの中でもメチル基が好ましい。アルコキシ基として
は、メトキシ基,エトキシ基,プロポキシ基が例示さ
れ、中でもメトキシ基が好ましい。aは0.75〜2.5
の数である。尚、本発明に言うシリコーンレジンとは、
分子内に式:RSiO3/2(式中、Rは一価有機基であ
る。)で示される3官能性単位(T単位)や、式:Si
4/2で示される4官能性単位(Q単位)を含有するオ
ルガノポリシロキサンを指し、本成分としては、式:R
1 3SiO1/2で示されるシロキサン単位(M単位)と
式:SiO4/2で示されるシロキサン単位とからなるシ
リコーンレジン(MQレジン),式:R1 3SiO1/2
示されるシロキサン単位、式:R1SiO3/2で示される
シロキサン単位および式:SiO4/2で示されるシロキ
サン単位からなるシリコーンレジン(MTQレジン),
式:R1 3SiO1/2で示されるシロキサン単位、式:R1
2SiO2/2で示されるシロキサン単位(D単位)および
式:SiO4/2で示されるシロキサン単位からなるシリ
コーンレジン(MDQレジン),式:R1 3SiO1/2
示されるシロキサン単位、式:R1 2SiO2/2で示され
るシロキサン単位、式:R1SiO3/2で示されるシロキ
サン単位および式:SiO4/2で示されるシロキサン単
位からなるシリコーンレジン(MDTQレジン),式:
1SiO3/2で示されるシロキサン単位のみからなるシ
リコーンレジン(Tレジン)が挙げられる。好ましく
は、平均組成式:(R5 3SiO1/2b(SiO4/2c
示されるシリコーンレジンまたは平均組成式:(R5 3
iO1/2d(R5SiO3/2e(SiO4/2f(R6
1/2gで示されるシリコーンレジンである。上式中、R
5はアルケニル基を含まない置換もしくは非置換の一価
炭化水素基であり、R1中の一価炭化水素基と同様のも
のが挙げられる。R6はアルキル基であり、メチル基,
エチル基,プロピル基が挙げられる。尚、式:(R6
1/2)で示されるアルコキシ基はケイ素原子に結合した
ものである。b/cおよびd/fは0.2〜1.5の範囲
であり、好ましくは0.5〜1.2の範囲である。e/f
は0.05〜0.2の範囲であり、g/fは0.05〜0.
6の範囲である。このような本成分は、数平均分子量が
1,000〜10,000の範囲であるのが好ましく、よ
り好ましくは3,000〜6,000の範囲である。尚、
本成分には(B)成分のオルガノポリシロキサンは含ま
れない。
【0006】(A)成分のシリコーンレジンとしては、
下記式で示されるようなオルガノポリシロキサンが挙げ
られる。下式中、Meはメチル基を表す。 (Me3SiO1/236(SiO4/259 (Me3SiO1/236(MeSiO3/25(Si
4/259 (Me3SiO1/240(SiO4/260(MeO1/210 (Me3SiO1/236(MeSiO3/25(Si
4/259(MeO1/215
【0007】本発明に使用される(B)成分は、末端
に、一般式:
【化4】 で示されるメルカプト基含有シロキシ基を有するオルガ
ノポリシロキサンである。上式中、R2は炭素原子数1
〜10のアルキレン基であり、メチレン基,エチレン
基,プロピレン基,イソブチレン基,デシレン基が例示
される。R3はアルコキシ基であり、メトキシ基,エト
キシ基,プロポキシ基,イソプロポキシ基,ブトキシ
基,イソブトキシ基が例示される。これらの中でもメト
キシ基またはエトキシ基が好ましい。R4はアルキル基
であり、メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,
ペンチル基,イソプロピル基,イソブチル基,シクロペ
ンチル基,シクロヘキシル基が例示される。xは1また
は2である。このメルカプト基含有シロキシ基は、一部
の末端のみに結合していてもよく、また全ての末端に結
合していてもよい。本成分の25℃における粘度は1〜
1,000ポイズの範囲であり、好ましくは10〜80
0ポイズの範囲である。これは、1ポイズ未満である
と、本発明組成物の粘度が低くなり過ぎて高エネルギー
線を照射する前に流れ落ちてしまったり、照射後の粘着
性が低下したりすることがあり、また、1,000ポイ
ズを越えると、本発明組成物の粘度が高くなり過ぎて塗
布作業性が低下したり、高エネルギー線照射後の接着保
持力が低下したりするためである。このような本成分の
オルガノポリシロキサンの分子構造は直鎖状であるのが
好ましく、一部に分岐を有していてもよい。また、上記
一般式で示されるメルカプト基含有シロキシ基以外のケ
イ素原子に結合する基としては、アルケニル基以外の置
換もしくは非置換の一価炭化水素基またはメルカプト基
含有有機基が好ましい。一価炭化水素基としては、メチ
ル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ペンチル基,
イソプロピル基,イソブチル基,シクロペンチル基,シ
クロヘキシル基などのアルキル基;フェニル基,ナフチ
ル基などのアリール基;ベンジル基,1−フェニルエチ
ル基などのアラルキル基;クロロメチル基,3−クロロ
プロピル基,3,3,3−トリフルオロプロピル基,ノナ
フルオロブチルエチル基などのハロゲン化アルキル基;
4−クロロフェニル基,3,5−ジクロロフェニル基,
3,5−ジフルオロフェニル基などのハロゲン化アリー
ル基;4−クロロメチルフェニル基,4−トリフルオロ
メチルフェニル基などのハロゲン化アルキル基置換アリ
ール基が例示される。これらの中でもメチル基が好まし
い。メルカプト基含有有機基としては、メルカプトプロ
ピル基,メルカプトメチル基が例示される。
【0008】(B)成分のオルガノポリシロキサンとし
ては、下記式で示されるものが挙げられる。下式中、M
eはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Phはフ
ェニル基を表す。
【化5】
【化6】
【化7】
【化8】
【0009】本発明に使用される(C)成分の1分子中
に3個以上のアルケニル基を有するオルガノポリシロキ
サンは、高エネルギー線照射による架橋反応を促進し、
照射後の粘着体の接着保持力を向上させる成分である。
アルケニル基としては、ビニル基,アリル基,5−ヘキ
セニル基が例示されるが、中でもビニル基もしくは5−
ヘキセニル基が好ましい。アルケニル基以外のケイ素原
子に結合する基としては、置換もしくは非置換の一価炭
化水素基が好ましく、メチル基,エチル基,プロピル
基,ブチル基,ペンチル基,イソプロピル基,イソブチ
ル基,シクロペンチル基,シクロヘキシル基などのアル
キル基;フェニル基,ナフチル基などのアリール基;ベ
ンジル基,1−フェニルエチル基などのアラルキル基;
クロロメチル基,3−クロロプロピル基、3,3,3−ト
リフルオロプロピル基,ノナフルオロブチルエチル基な
どのハロゲン化アルキル基;4−クロロフェニル基,
3,5−ジクロロフェニル基,3,5−ジフルオロフェニ
ル基などのハロゲン化アリール基;4−クロロメチルフ
ェニル基,4ートリフルオロメチルフェニル基などのハ
ロゲン化アルキル基置換アリール基が例示される。これ
らの中でもメチル基が好ましい。本成分の25℃におけ
る粘度は1〜1,000ポイズの範囲であり、好ましく
は10〜800ポイズの範囲である。これは、1ポイズ
未満であると本発明組成物の粘度が低くなり過ぎて高エ
ネルギー線を照射する前に流れ落ちてしまったり、照射
後の粘着性が低下したりすることがあり、また、1,0
00ポイズを越えると本発明組成物の粘度が高くなり過
ぎて塗布作業性が低下したり、高エネルギー線照射後の
接着保持力が低下したりするためである。このような本
成分のオルガノポリシロキサンの分子構造は直鎖状であ
るのが好ましく、一部に分枝を有していてもよい。
【0010】(C)成分のオルガノポリシロキサンとし
ては、下記式で示されるものが挙げられる。下式中、M
eはメチル基を表し、Viはビニル基を表す。
【化9】
【化10】
【化11】
【0011】本発明に使用される(D)成分の縮合反応
促進触媒は、(B)成分中のR3で示されるアルコキシ
基の加水分解および縮合反応を促進する成分である。本
成分としては従来公知の縮合反応促進触媒が使用でき、
テトライソプロポキシチタン,テトラブトキシチタンな
どのテトラアルコキシチタン化合物;ジイソプロポキシ
ビス(アセト酢酸エチル)チタン,ジイソプロポキシビ
ス(アセチルアセトン)チタン,ジブトキシビス(アセ
ト酢酸メチル)チタンなどのチタン錯化合物;ジブチル
スズジアセテート,ジブチルスズジオクトエート,ジブ
チルスズジラウレートなどのジアルキルスズカルボキシ
レート化合物;スタナスオクトエートなどのスズカルボ
キシレート化合物が例示される。これらの中でもテトラ
アルコキシチタン化合物またはチタン錯化合物が好まし
い。
【0012】本発明組成物は(A)成分30〜75重量
%、(B)成分5〜65重量%および(C)成分5〜6
5重量%を主成分とし、さらにこれらの合計100重量
部に(D)成分を0.01〜10重量部加えてなるもの
である。また、紫外線や電子線等の高エネルギー線の照
射による粘着体の形成をより容易にするために、(B)
成分中のメルカプト基と(C)成分中のアルケニル基の
モル比が1:2〜5:1の範囲であるのが好ましい。
【0013】本発明組成物は上記(A)成分〜(D)成
分からなるものであるが、紫外線や電子線等の高エネル
ギー線の照射による粘着体の形成をより容易にするため
に、(E)成分としてラジカル光重合開始剤を添加して
もよい。このようなラジカル光重合開始剤としては、ト
リクロロアセトフェノン,2,2−ジエトキシアセトフ
ェノン,2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェ
ノンなどのアセトフェノン類;ベンゾフェノン,メチル
ベンゾフェノン,p−クロルベンゾフェノン,p−ジメ
チルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類が例
示される。このラジカル光重合開始剤の添加量は、上記
(A)成〜(C)成分の合計100重量%に対して0.
1〜5重量%の範囲が好ましく、より好ましくは0.2
〜3重量%の範囲である。またこの他にも本発明組成物
には、必要に応じてアルコキシシラン等の保存安定剤,
フュームドシリカ系等の充填剤,官能性もしくは無官能
性のオルガノポリシロキサンガム,可塑剤,チクソトロ
ピー付与剤,耐熱添加剤,着色剤,接着性付与剤などを
添加配合することができる。
【0014】本発明組成物の25℃における粘度は3
0,000ポイズ以下であり、好ましくは100〜20,
000ポイズの範囲である。これは、30,000ポイ
ズを越えると各種基材への塗布が困難となるためであ
る。
【0015】本発明組成物は上記(A)成分〜(D)成
分および必要に応じて(E)成分を混合することにより
製造できるが、混合は湿気を遮断した遮光条件下で行う
のが好ましい。遮光が不可能な場合には、乾燥雰囲気中
に酸素を存在させるのが好ましい。
【0016】以上のような本発明組成物は、紫外線、電
子線等の高エネルギー線を照射することにより、速やか
に感圧接着性を示す粘着体を形成する。この感圧接着性
は、通常10分〜2時間程度維持され、その後大気中の
湿気の作用により架橋反応が進行して弾性体となる。こ
のため、本発明組成物は粘接着剤として好適に使用され
る。即ち、感圧接着性が持続している間であれば接合体
を形成することができ、さらにこれを大気中に放置する
ことにより完全に接着した接合体を得ることができる。
【0017】次に本発明の基材と被着体を接着させる方
法について説明する。本発明の方法は、上記した本発明
組成物を各種基材に均一に塗布した後、紫外線、電子線
等の高エネルギー線を照射し、次いでこの照射面に被着
体を接触させ、その後これを大気中に放置することを特
徴とする。本発明組成物を塗布する各種基材および該基
材に接着させる被着体としては、ガラス板;銅,鉄,ス
テンレススチール,アルミニウム,亜鉛等の金属板;上
質紙,藁半紙等の紙;ポリエステル樹脂,ポリカーボネ
ート樹脂,ポリスチレン,アクリル樹脂,メタクリル樹
脂,ナイロン樹脂等の合成樹脂板もしくはそのフィル
ム;天然繊維,合成繊維等の繊維;天然ゴム,合成ゴム
等のゴムシートが例示される。塗布方法としては、例え
ば、刷毛,バーコーター,スピンコーター等を用いて塗
布する方法が挙げられ、またその塗布量は皮膜の厚さが
10μm〜1mmの範囲となるような量であるのが好ま
しい。高エネルギー線としては、高圧水銀灯、キセノン
ランプ、メタルハライドランプ等を線源とする紫外線、
電子線、放射線が挙げられる。尚、本発明でいう紫外線
には、太陽や蛍光灯などを線源とする可視光線も含まれ
る。これらの照射量は、紫外線の場合には20〜500
0mJ/cm2の範囲であるのが好ましく、電子線、放
射線の場合は0.5〜50Mradの範囲であるのが好
ましい。被着体は高エネルギー線照射後10分〜2時間
以内に照射面に接触させるのが好ましい。また、大気中
の放置時間は、通常、2〜100時間である。このよう
な本発明の方法は、基材と被着体を接触させた直後から
十分な接着強度が得られるという利点を有する。
【0018】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明す
る。実施例中、粘度は25℃における測定値であり、M
eはメチル基を表し、Viはビニル基を表す。尚、硬化
性オルガノポリシロキサン組成物の引張剪断接着強度は
下記の方法により測定した。
【0019】○引張剪断接着強度 硬化性オルガノポリシロキサン組成物を、厚さ5mm、
幅2.5cmのガラス製テストパネル上に、約100μ
mの厚さになるように均一に塗布した。5分間放置後こ
の塗布面に、コンベヤー式紫外線照射装置(120W高
圧水銀灯)を用いて光量300mJ/cm2の紫外線を
照射した。照射後、1分間,10分間もしくは20分間
放置し、次いでその照射面に前記と同じガラス製テスト
パネルを接着面積が2.5cm2となるように貼り合わせ
た。そして、一定時間(5分間,2時間,4時間,24
時間)経過後の引張剪断接着強度(kg/cm2)を、
JIS K6850に規定される方法に従って測定し
た。
【0020】
【実施例1】 平均組成式: (Me3SiO1/241(SiO4/259 で示され、数平均分子量4,600のシリコーンレジン
の70%キシレン溶液71.4g、平均構造式:
【化12】 で示される粘度39ポイズのメルカプト基含有シロキシ
基を両末端に有するジメチルポリシロキサン45.0g
および平均構造式:
【化13】 で示される粘度15.6ポイズのビニル基含有オルガノ
ポリシロキサン5.0gを均一に混合した後、減圧下で
加熱してキシレンを除去した。これを冷却した後、2,
2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン0.5
g、テトラブトキシチタン1.0gおよびメチルトリメ
トキシシラン2.0gを添加して乾燥雰囲気下で均一に
混合し、粘度1,100ポイズの硬化性オルガノポリシ
ロキサン組成物を調製した。得られた組成物の引張剪断
接着強度を測定した。このとき紫外線照射後の放置時間
は1分間とした。この結果を表1に示した。
【0021】
【実施例2】 平均組成式: (Me3SiO1/245(SiO4/255 で示され、数平均分子量3,700のシリコーンレジン
の70%キシレン溶液78.6g、平均構造式:
【化14】 で示される粘度39ポイズのメルカプト基含有シロキシ
基を両末端に有するジメチルポリシロキサン41.9g
および平均構造式:
【化15】 で示される粘度610ポイズのビニル基含有オルガノポ
リシロキサン3.1gを均一に混合した後、減圧下で加
熱してキシレンを除去した。これを冷却した後、2,2
−ジエトキシアセトフェノン0.5g、テトラブトキシ
チタン2.0gおよびメチルトリメトキシシラン2.0g
を添加して乾燥雰囲気下で均一に混合し、粘度4,20
0ポイズの硬化性オルガノポリシロキサン組成物を調製
した。得られた組成物の引張剪断接着強度を測定した。
このとき紫外線照射後の放置時間は20分間とした。こ
の結果を表1に示した。
【0022】
【実施例3】 平均組成式: (Me3SiO1/236(MeSiO3/25(Si
4/259(MeO1/215 で示され、数平均分子量3,500のシリコーンレジン
の70%キシレン溶液85.7g、平均構造式:
【化16】 で示される粘度39ポイズのメルカプト基含有シロキシ
基を両末端に有するジメチルポリシロキサン35.0g
および平均構造式:
【化17】 で示される粘度15.6ポイズのビニル基含有オルガノ
ポリシロキサン5.0gを均一に混合した後、減圧下で
加熱してキシレンを除去した。これを冷却した後、2,
2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン1.0
g、ジイソプロポキシビス(アセト酢酸エチル)チタン
2.0gを添加して乾燥雰囲気下で均一に混合し、粘度
1,600ポイズの硬化性オルガノポリシロキサン組成
物を調製した。得られた組成物の引張剪断接着強度を測
定した。このとき紫外線照射後の放置時間は10分間と
した。この結果を表1に示した。
【0023】
【比較例1】 平均構造式:
【化18】 で示される粘度39ポイズのメルカプト基含有シロキシ
基を両末端に有するジメチルポリシロキサン81.0
g、平均構造式:
【化19】 で示される粘度16ポイズのビニル基含有オルガノポリ
シロキサン9.0gおよびシリカ微粉末[日本アエロジ
ル(株)製;商品名RDX200]10.0gを均一に
混合した。次いでこれに、2,2−ジメトキシ−2−フ
ェニルアセトフェノン0.5g、テトラブトキシチタン
1.0gおよびメチルトリメトキシシラン2.0gを添加
して乾燥雰囲気下で均一に混合し、粘度210ポイズの
硬化性オルガノポリシロキサン組成物を調製した。得ら
れた組成物に前記と同様に紫外線を照射して10分間放
置した後、ガラス製テストパネルを貼り合わせたとこ
ろ、これらは全く接着しなかった。この結果を表1に示
した。
【0024】
【比較例2】 平均組成式: (Me3SiO1/242(SiO4/258 で示され、数平均分子量4,300のシリコーンレジン
の70%キシレン溶液71.4g、平均構造式:
【化20】 で示される粘度39ポイズのメルカプト基含有シロキシ
基を両末端に有するジメチルポリシロキサン26.0g
および平均構造式:
【化21】 で示される粘度20ポイズのビニル基含有ジメチルポリ
シロキサン24.0gを均一に混合した後、減圧下で加
熱してキシレンを除去した。これを冷却した後、2,2
−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン0.5g、
テトラブトキシチタン1.0gおよびメチルトリメトキ
シシラン2.0gを添加して乾燥雰囲気下で均一に混合
し、粘度120ポイズの硬化性オルガノポリシロキサン
組成物を調製した。得られた組成物の引張剪断接着強度
を測定した。このとき紫外線照射後の放置時間は10分
間とした。この結果を表1に示した。
【0025】
【表1】
【0026】
【発明の効果】本発明の硬化性オルガノポリシロキサン
組成物は、上記(A)成分〜(D)成分からなるが故
に、密閉、遮光条件下では流動性を保つが、紫外線、電
子線等の高エネルギー線照射により速やかに非流動性の
粘着体を形成し、その後大気中の湿気により硬化反応が
さらに進行して弾性体となり得るという特徴を有する。
またこのような本発明組成物を使用する本発明の接着方
法は、基材と被着体を完全に接着させることができると
いう特徴を有する。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成8年8月27日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0020
【補正方法】変更
【補正内容】
【0020】
【実施例1】 平均組成式: (Me3SiO1/241(SiO4/259 で示され、数平均分子量4,600のシリコーンレジン
の70%キシレン溶液71.4g、平均構造式:
【化12】 で示される粘度39ポイズのメルカプト基含有シロキシ
基を両末端に有するジメチルポリシロキサン45.0g
および平均構造式:
【化13】 で示される粘度15.6ポイズのビニル基含有オルガノ
ポリシロキサン5.0gを均一に混合した後、減圧下で
加熱してキシレンを除去した。これを冷却した後、2,
2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン0.5
g、テトラブトキシチタン1.0gおよびメチルトリメ
トキシシラン2.0gを添加して乾燥雰囲気下で均一に
混合し、粘度1,100ポイズの硬化性オルガノポリシ
ロキサン組成物を調製した。得られた組成物の引張剪断
接着強度を測定した。このとき紫外線照射後の放置時間
は1分間とした。この結果を表1に示した。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0021
【補正方法】変更
【補正内容】
【0021】
【実施例2】 平均組成式: (Me3SiO1/245(SiO4/255 で示され、数平均分子量3,700のシリコーンレジン
の70%キシレン溶液78.6g、平均構造式:
【化14】 で示される粘度39ポイズのメルカプト基含有シロキシ
基を両末端に有するジメチルポリシロキサン41.9g
および平均構造式:
【化15】 で示される粘度610ポイズのビニル基含有オルガノポ
リシロキサン3.1gを均一に混合した後、減圧下で加
熱してキシレンを除去した。これを冷却した後、2,2
−ジエトキシアセトフェノン0.5g、テトラブトキシ
チタン2.0gおよびメチルトリメトキシシラン2.0g
を添加して乾燥雰囲気下で均一に混合し、粘度4,20
0ポイズの硬化性オルガノポリシロキサン組成物を調製
した。得られた組成物の引張剪断接着強度を測定した。
このとき紫外線照射後の放置時間は20分間とした。こ
の結果を表1に示した。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0022
【補正方法】変更
【補正内容】
【0022】
【実施例3】 平均組成式: (Me3SiO1/236(MeSiO3/25(Si
4/259(MeO1/215 で示され、数平均分子量3,500のシリコーンレジン
の70%キシレン溶液85.7g、平均構造式:
【化16】 で示される粘度39ポイズのメルカプト基含有シロキシ
基を両末端に有するジメチルポリシロキサン35.0g
および平均構造式:
【化17】 で示される粘度15.6ポイズのビニル基含有オルガノ
ポリシロキサン5.0gを均一に混合した後、減圧下で
加熱してキシレンを除去した。これを冷却した後、2,
2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン1.0
g、ジイソプロポキシビス(アセト酢酸エチル)チタン
2.0gを添加して乾燥雰囲気下で均一に混合し、粘度
1,600ポイズの硬化性オルガノポリシロキサン組成
物を調製した。得られた組成物の引張剪断接着強度を測
定した。このとき紫外線照射後の放置時間は10分間と
した。この結果を表1に示した。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0023
【補正方法】変更
【補正内容】
【0023】
【比較例1】 平均構造式:
【化18】 で示される粘度39ポイズのメルカプト基含有シロキシ
基を両末端に有するジメチルポリシロキサン81.0
g、平均構造式:
【化19】 で示される粘度16ポイズのビニル基含有オルガノポリ
シロキサン9.0gおよびシリカ微粉末[日本アエロジ
ル(株)製;商品名RDX200]10.0gを均一に
混合した。次いでこれに、2,2−ジメトキシ−2−フ
ェニルアセトフェノン0.5g、テトラブトキシチタン
1.0gおよびメチルトリメトキシシラン2.0gを添加
して乾燥雰囲気下で均一に混合し、粘度210ポイズの
硬化性オルガノポリシロキサン組成物を調製した。得ら
れた組成物に前記と同様に紫外線を照射して10分間放
置した後、ガラス製テストパネルを貼り合わせたとこ
ろ、これらは全く接着しなかった。この結果を表1に示
した。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0024
【補正方法】変更
【補正内容】
【0024】
【比較例2】 平均組成式: (Me3SiO1/242(SiO4/258 で示され、数平均分子量4,300のシリコーンレジン
の70%キシレン溶液71.4g、平均構造式:
【化20】 で示される粘度39ポイズのメルカプト基含有シロキシ
基を両末端に有するジメチルポリシロキサン26.0g
および平均構造式:
【化21】 で示される粘度20ポイズのビニル基含有ジメチルポリ
シロキサン24.0gを均一に混合した後、減圧下で加
熱してキシレンを除去した。これを冷却した後、2,2
−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン0.5g、
テトラブトキシチタン1.0gおよびメチルトリメトキ
シシラン2.0gを添加して乾燥雰囲気下で均一に混合
し、粘度120ポイズの硬化性オルガノポリシロキサン
組成物を調製した。得られた組成物の引張剪断接着強度
を測定した。このとき紫外線照射後の放置時間は10分
間とした。この結果を表1に示した。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)平均単位式:R1 aSiO(4-a)/2(式中、R1はアルケ ニル基を含まない置換もしくは非置換の一価炭化水素基またはアルコキシ基であ り、R1の内少なくとも80モル%は一価炭化水素基である。aは0.75〜2. 5の数である。)で示されるシリコーンレジン 30〜75重量%、 (B)25℃における粘度が1〜1,000ポイズであり、末端に、一般式: 【化1】 (式中、R2は炭素原子数1〜10のアルキレン基であり、R3はアルコキシ基で あり、R4はアルキル基であり、xは1または2である。)で示されるメルカプ ト基含有シロキシ基を有するオルガノポリシロキサン(但し、該シロキサンはア ルケニル基を含有しない。) 5〜65重量%、 (C)25℃における粘度が1〜1,000ポイズであり、1分子中に3個以上 のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン 5〜65重量% および (D)縮合反応促進触媒 (A)成分〜(C)成分の合計100重量部 に対して0.01〜10重量部 からなり、25℃における粘度が30,000ポイズ以下である硬化性オルガノ ポリシロキサン組成物。
  2. 【請求項2】 (A)成分が、平均組成式:(R5 3Si
    1/2b(SiO4/2c(式中、R5はアルケニル基を
    含まない置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、
    b/c=0.2〜1.5である。)で示されるシリコーン
    レジンである、請求項1記載の硬化性オルガノポリシロ
    キサン組成物。
  3. 【請求項3】 (A)成分が、平均組成式: (R5 3SiO1/2d(R5SiO3/2e(SiO4/2f
    (R61/2g (式中、R5はアルケニル基を含まない置換もしくは非
    置換の一価炭化水素基であり、R6はアルキル基であ
    り、d/f=0.2〜1.5であり、e/f=0.05〜
    0.2であり、g/f=0.05〜0.6である。)で示
    されるシリコーンレジンである、請求項1記載の硬化性
    オルガノポリシロキサン組成物。
  4. 【請求項4】 (B)成分中のメルカプト基と(C)成
    分中のアルケニル基のモル比が1:2〜5:1である請
    求項1記載の硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
  5. 【請求項5】 さらに(E)ラジカル光重合開始剤を、
    (A)成分〜(C)成分の合計100重量%に対して
    0.1〜5重量%含有する請求項1記載の硬化性オルガ
    ノポリシロキサン組成物。
  6. 【請求項6】 粘接着剤である請求項1記載の硬化性オ
    ルガノポリシロキサン組成物。
  7. 【請求項7】 (A)平均単位式:R1 aSiO(4-a)/2(式中、R1はアルケ ニル基を含まない置換もしくは非置換の一価炭化水素基またはアルコキシ基であ り、R1の内少なくとも80モル%は一価炭化水素基である。aは0.75〜2. 5の数である。)で示されるシリコーンレジン 30〜75重量%、 (B)25℃における粘度が1〜1,000ポイズであり、末端に、一般式: 【化2】 (式中、R2は炭素原子数1〜10のアルキレン基であり、R3はアルコキシ基で あり、R4はアルキル基であり、xは1または2である。)で示されるメルカプ ト基含有シロキシ基を有するオルガノポリシロキサン(但し、該シロキサンはア ルケニル基を含有しない。) 5〜65重量%、 (C)25℃における粘度が1〜1,000ポイズであり、1分子中に3個以上 のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン 5〜65重量% および (D)縮合反応促進触媒 (A)成分〜(C)成分の合計100重量部 に対して0.01〜10重量部 からなり、25℃における粘度が30,000ポイズ以下である硬化性オルガノ ポリシロキサン組成物を基材に塗布した後、高エネルギー線を照射し、次いで被 着体を照射面に接触させて、その後これを大気中に放置することにより基材と被 着体を接着させる方法。
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