JPH09160233A - 平版印刷板製造用感放射線記録材料 - Google Patents

平版印刷板製造用感放射線記録材料

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JPH09160233A
JPH09160233A JP7323912A JP32391295A JPH09160233A JP H09160233 A JPH09160233 A JP H09160233A JP 7323912 A JP7323912 A JP 7323912A JP 32391295 A JP32391295 A JP 32391295A JP H09160233 A JPH09160233 A JP H09160233A
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Andreas Elsaesser
アンドレアス、エルゼッサー
Raimund Haas
ライムント、ハース
Hultzsch Guenter
ギュンター、フルツッシュ
Lehmann Peter
ペーター、レーマン
Rudolf Neubauer
ルドルフ、ノイバウアー
Rudolf Zertani
ルドルフ、ツェルタニ
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Hoechst AG
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    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
    • B41N3/038—Treatment with a chromium compound, a silicon compound, a phophorus compound or a compound of a metal of group IVB; Hydrophilic coatings obtained by hydrolysis of organometallic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 耐現像性および耐化学薬品性に優れた感放射
線記録材料の提供。 【解決手段】 アルミニウム支持体、及びその上に塗布
した感放射線層からなり、支持体が、粗面化され陽極酸
化された後、親水化されたものであり、感放射線層が、
下記ａ）〜ｆ）を含んでなる平版印刷板製造用のポジ型
感放射線記録材料。 ａ）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホ
ン酸等と、フェノール性ヒドロキシル基を有する重縮合
物との感放射線エステル、 ｂ）アルカリに可溶な樹脂として、ノボラック、又はポ
リフェノールとアルデヒドもしくはケトンとの反応によ
り得られる重縮合物、 ｃ）ヒドロキシフェニル側基を有する単位を含んでなる
ビニル系ポリマー、 ｄ）包接化合物、 ｅ）酸性水素原子を含んでなる低分子量化合物、 ｆ）最大半径が１５μｍであるシリカゲル粒子。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アルミニウム支持体と
感放射線層からなる、平版印刷板製造用のポジ型感放射
線記録材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】平版印刷板（いわゆる「プレセンシダイ
ズド・プレート」もしくは「ＰＳ版」）を製造するため
の感放射線記録材料は、広く知られている。感放射線層
の層重量は、通常、３ｇ／ｍ2 以下である。このような
記録材料は、一般的に、排気によりオリジナルフィルム
と密着させ、好ましくは紫外線照射により像様露光し、
その後現像する。現像には、水性アルカリ現像液がしば
しば用いられる。このようにして製造した印刷板は、必
要ならばベーキング及び／又はゴム引きする。ポジ型Ｐ
Ｓ版はＪＰ−Ａ ０６−０６７ ４１９（＝ＤＥ−Ａ
４１ ２６ ８３６）に開示されている。このＰＳ版
は、（ｉ）塩酸中で電気分解により粗面化され、（ｉ
ｉ）硫酸中でスマット除去され、（ｉｉｉ）硫酸中で陽
極酸化され、（ｉｖ）ポリビニルホスホン酸で処理して
親水化されたアルミニウム支持体フィルムを含んでな
る。この支持体上に、主たる感放射線成分として１，２
−ナフトキノン−２−ジアジド化合物、及びノボラック
のような高分子バインダーを含んでなる感放射線層が塗
布されている。記録材料の露光部分と非露光部分との区
別をつけるために、露光時に強酸を発生もしくは放出
し、また適当な染料との二次反応で色が変わるような感
放射線成分を少量、感放射線層に存在させてもよい。真
空密着フレームの排気時間を短縮し、且つ均一に密着さ
せるために、例えば適当な粒子を用いて、記録材料の表
面を粗くしてもよい。この引用文献においては、粒子は
シリカ粒子であり、それが感放射線層に部分的に埋め込
まれている。感放射線層上に形成される連続的、及び非
連続的な艶消し層も、当該技術分野で知られている。
【０００３】耐現像性を改良するため、及び弱アルカリ
現像液を使用できるようにするために、特定の高分子バ
インダーが提案されている。ＪＰ−Ａ ６１−００６
６４７（＝ＤＥ−Ａ ３５ ２１ ５５５）において
は、バインダーは少なくとも異なる２種類のノボラック
樹脂からなる。これらの樹脂は、フェノール５〜７５モ
ル％、ｍ−クレゾール（及び／又はｏ−クレゾール）２
０〜７０モル％、及びｐ−クレゾール５〜７５モル％と
ホルムアルデヒドとの共重縮合により得られる。ＪＰ−
Ａ ６１−２０５ ９３３（＝ＤＥ−Ａ ３６ ０７
５９８）においては、平均分子量Ｍw が６，０００〜２
０，０００、Ｍw ／Ｍn 比（＝多分散度）が２〜１４で
あるノボラック樹脂が用いられている。
【０００４】ＪＰ−Ａ ０７−１１４ １７８（＝ＥＰ
−Ａ ６３９ ７９７）には、石版印刷板上でのフィル
ム縁部の修正の問題が述べられている。この問題は、砂
目立て処理及び陽極酸化処理を施された支持体上にポジ
型感光性組成物が塗布されている場合に、特に起きる。
また、高分子オルト−キノンジアジド化合物を用いた時
にも著しく生じる。この問題は、高分子量の包接形成化
合物を含んでなる感光性組成物により解決される。この
ような高分子量の化合物により、低分子量化合物に合う
ような内部溝やその他の空隙がもたらされる。好ましい
包接形成化合物は環状Ｄ−グルカンやシクロファンであ
り、特にシクロデキストリンが好ましい。
【０００５】もう一つの問題は、ポジ型の感光性石版印
刷板は、通常、印刷の過程で使用される種々の化学薬
品、例えば湿潤水中に含まれるイソプロピルアルコー
ル、に対する耐性が弱いので、耐刷性が低くなるという
点である。ＪＰ−Ａ ０１−３０２ ３４９、０２−０
０１ ８５５、及び０２−０２９ ７５０（＝ＥＰ−Ａ
３４５ ０１６）によれば、この問題は、ｏ−ナフトキ
ノンジアジド化合物、及びアルカリに可溶な樹脂の他
に、０．２〜２０重量％の活性剤化合物を含んでなる感
光性組成物により解決される。このような活性剤は、ポ
リオキシアルキレンソルビトール脂肪酸のエステルもし
くはエーテル、ヒマシ油、ラノリン、ラノリンアルコー
ル、ビーズワックス、植物ステロールもしくは植物スタ
ノールのアルキレンオキシド付加物、又はポリオキシプ
ロピレンのアルキルエーテル、アルキルフェニルエーテ
ルもしくはアルキルエステルである。ＪＰ−Ａ ６３−
２２３６３７、６３−２７６ ０４８、６３−３０３
３４３及び０１−０５２ １３９（＝ＥＰ−Ａ ２８７
２１２）によれば、印刷板の耐化学薬品性は、感放射
線組成物に特定の高分子量化合物を添加した場合にも改
良される。このような高分子量化合物は、アミド結合に
より、ヒドロキシ置換芳香族基、好ましくはヒドロキシ
フェニル基、と結合したモノマー単位を含む。
【０００６】現在のところ、上記の問題を全て解決した
ＰＳ版は存在していない。
【０００７】本発明の目的は、真空密着フレームを短時
間で排気でき、空気もしくはその他の気体がオリジナル
フィルムと記録材料との間に入り込まないような、ポジ
型感放射線記録材料を提供することである。記録材料の
感光速度は早くなければならず、従って画像化時間が短
くてすむ。像様露光した記録材料の耐現像性は、規定度
が０．６モル／リットルもしくはそれ以下の水性アルカ
リ現像液が使える程度に高くなければならない。本発明
の別の目的は、消去液を用いての修正が可能であり、湿
し水、クリーナー、印刷インク、及び印刷の過程で使用
されるその他の化学薬品に対して耐性のある、平版印刷
板を提供することである。最後に、本発明の目的は、印
刷機を停止した後すぐに再スタートしても、スカムのな
い印刷物の得られる印刷板を提供することである。
【０００８】上記の目的は、アルミニウム支持体、及び
その上に塗布した感放射線層からなり、 −アルミニウム支持体が、硝酸中で粗面化された後、硫
酸中でスマット除去され、硫酸中で陽極酸化された後、
ホスホン酸もしくはホスホネート基を有する単位を少な
くとも１つ含んでなる化合物を用いて親水化されたもの
であり、 −感放射線層が、 ａ）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホ
ン酸もしくは１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５
−スルホン酸と、フェノール性化合物とアルデヒドもし
くはケトンとの反応により得られるフェノール性ヒドロ
キシル基を有する重縮合物との感放射線エステル、 ｂ）アルカリに可溶な樹脂として、ノボラック、又はポ
リフェノールとアルデヒドもしくはケトンとの反応によ
り得られる重縮合物、 ｃ）ヒドロキシフェニル側基を有する単位を少なくとも
一つ含んでなるビニル系ポリマー、 ｄ）包接形成化合物、 ｅ）酸性水素原子を少なくとも一つ含んでなる低分子量
化合物、及び ｆ）最大半径が１５μｍであるシリカゲル粒子からなる
ものである、平版印刷板製造用のポジ型感放射線記録材
料により達成される。
【０００９】支持体の出発材料は、通常、アルミニウム
フィルムである。アルミニウムフィルムは、少なくとも
９９重量％のＡｌからなるのが好ましく、特に９９．５
重量％のＡｌからなるのが好ましい。残部は、Ｓｉ
（０．２０重量％程度）、Ｆｅ（０．４０重量％程
度）、Ｃｕ（０．０５重量％程度）、Ｚｎ（０．０５重
量％程度）、及びＴｉ（０．０２重量％程度）である。
アルミニウム合金中に、ＭｎやＭｇのようなその他の元
素がそれぞれ０．０３重量％程度存在してもよい。アル
ミニウムフィルムを粗面化し、スマット除去をおこなう
前に、アルカリ溶液で脱脂したり、及び／又は、機械
的、化学的及び／又は電気化学的に処理して予め粗面化
してもよい。記録材料に用いるアルミニウム支持体の粗
さは、０．５〜１．５μｍ（ｒa 値）の範囲である。陽
極酸化処理によりアルミニウム支持体の表面に酸化アル
ミニウム層が形成される。この酸化物層の重量は、０．
５〜５．０ｇ／ｍ2 である。リンを含有する親水性化剤
の量は、ＥＳＣＡ（化学分析用電子分光分析法）により
測定できる。ＥＳＣＡにより測定されるＰ／Ａｌシグナ
ル比は０．１以上である。アルミニウム支持体の表面反
射率は、５０％未満である。
【００１０】感放射線エステルａ）の調製に使用され
る、フェノール性基を有する重縮合物は、ピロガロール
とアルデヒドもしくはケトンとの反応により得るのが好
ましい。アルキル化フェノールとホルムアルデヒドとの
反応により得られる重縮合物も有用である。これらの重
縮合物は、通常、すぐに使用可能な印刷板上の画像領域
の親油性を高める。１，２−ナフトキノン−２−ジアジ
ド−４−スルホン酸もしくは１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−５−スルホン酸の感放射線高分子エステル
の分子量Ｍw は、通常、３，０００〜１０，０００の範
囲である。このようなエステルは、感放射線層中に５〜
６０重量％存在するのが好ましい。ここで、及び以下に
おいて、重量パーセンテージは、感放射線層の不揮発性
成分の合計重量をベースとしたものである。
【００１１】アルカリに可溶なバインダー樹脂ｂ）は特
に限定されないが、このような樹脂には、ノボラック樹
脂、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、クレゾ
ール／ホルムアルデヒド樹脂、フェノール／クレゾール
／ホルムアルデヒド樹脂、が含まれる。バインダー樹脂
により、高い耐刷性が得られる。記録材料中のバインダ
ー樹脂の量は、通常、５〜９５重量％である。
【００１２】ポリマーｃ）は、印刷過程で用いられる化
学薬品に対する、印刷板の画像領域の耐性を増す。特に
好ましいのは、Ｎ−ヒドロキシフェニルアクリルアミド
及び／又はＮ−ヒドロキシフェニルメタクリルアミドの
単位を有するポリマーである。その他の単位は、（メ
タ）アクリル酸エステル及び／又はα，β−エチレン性
不飽和ニトリルから誘導されたものであってよい。ポリ
マーｃ）は、通常、記録材料中に０．５〜７０重量％の
量で存在する。
【００１３】包接化合物ｄ）は、ＪＰ−Ａ ０７−１１
４ １７８に開示されているように、修正液の使用を容
易にする。好ましい包接形成化合物は、環状Ｄ−グルカ
ン及びシクロファンであり、特にシクロデキストリンが
好ましい。シクロデキストリンは、必要に応じて例えば
酸化エチレンもしくは酸化プロピレンを用いて変性する
ことができる。記録材料中の包接化合物の量は、通常、
０．０１〜１０重量％である。
【００１４】低分子量化合物ｅ）により、現像特性、特
に現像速度、がコントロールされる。フェノール性ヒド
ロキシル基を有する化合物ｅ）として適当なものは、Ｅ
Ｐ−Ａ ６６８ ５４０に開示されている。それらのう
ちの幾つかは、４，４’，４”−トリヒドロキシ−トリ
フェニルメタン、１，１，１−トリス−（４−ヒドロキ
シ−フェニル）−エタン、４，４’，２”−トリヒドロ
キシ−２，５，２’，５’−テトラメチル−トリフェニ
ルメタン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−ベン
ゾフェノン、４，４’−ジヒドロキシ−ジフェニルスル
ホン、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２，
３，４−トリヒドロキシ−ベンゾフェノン、５，５’−
ジホルミル−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサヒ
ドロキシ−ジフェニルメタン、及び５，５’−ジアセチ
ル−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサヒドロキシ
−ジフェニルメタンである。フェノール性ヒドロキシル
基を有する低分子量化合物だけではなく、カルボキシル
基を有するものも使用できる。この種の化合物として好
ましいのは、ヘキサヒドロフタール酸である。感放射線
層中の化合物ｅ）の量は、０．１〜１０重量％である。
【００１５】シリカゲル粒子ｆ）の平均粒度は３〜５μ
ｍ（コルターカウンターにより測定した場合）であり、
除外限度は１５μｍである。シリカゲル粒子の平均気孔
体積は、１ｍｌ／ｇより大きいのが好ましい。シリカゲ
ル粒子は、感放射線層のベック平滑度が１２５秒未満
（ＤＩＮ ５３ １０７、方法Ａにより測定）となるよ
うな量で使用する。通常、シリカゲル粒子を０．０１〜
１０重量％使用することにより、このような平滑度が得
られる。
【００１６】感放射線層は、成分ａ）〜ｆ）の他に、表
示染料を含むことができる。このような染料は、トリア
リールメタンもしくはトリアリールメチンタイプのカチ
オン染料であるのが好ましい。感放射線層は、化学線に
暴露した時に酸を発生するような化合物を含むこともで
きる。好ましい「光酸発生剤」は、発色団で置換された
トリクロロメチルトリアジンもしくはトリクロロメチル
オキサジアゾールである。最後に、感放射線層は界面活
性剤、特にフッ素化界面活性剤もしくはシリコーンをベ
ースとした界面活性剤、及びフェノール性ヒドロキシル
基の酸性度をコントロールするポリアルキレンオキシド
を含むことができる。
【００１７】本発明による記録材料は、アルミニウム支
持体に塗工液を塗布し、その後乾燥させて揮発性の溶剤
を除去することにより得られる。溶剤として適当なもの
は、ブタノン（＝メチルエチルケトン）、プロピレング
リコールモノメチルエーテル等である。混合溶剤を使用
することもできる。溶剤の除去は、常法により記録材料
を８０〜１４０℃の温度で約１分間加熱しておこなう。
【００１８】平版印刷板は通常の加工工程により、本発
明による記録材料から得られる。すなわち、記録材料を
先ず真空密着フレーム中でオリジナルフィルムと密着さ
せる。その後、像様露光する。次の現像工程において
は、ケイ酸塩をベースとした規定度が０．６モル／リッ
トル程度の水性アルカリ現像液を使用する。現像液中の
ＳｉＯ2 ：Ｍｅ2 Ｏ比（Ｍｅ＝アルカリ金属）は、１も
しくはそれ以上であるのが好ましい。好ましいアルカリ
酸化物はＮａ2 Ｏ、及びＫ2 Ｏである。このような現像
液を使用することで、酸化アルミニウム層の損傷が避け
られる。現像液には、緩衝物質、錯体形成剤、脱泡剤、
有機溶剤、腐食防止剤、染料、及び特に重要な界面活性
剤やハイドロトロープが更に含まれていてもよい。現像
は、自動現像システム中で、２０〜４０℃の温度でおこ
なうのが好ましい。記録材料は、０．８ｍ／分以上の速
度で現像システム中を通過させる。連続操作を可能とす
るために、アルカリ含有量が０．６〜２．０モル／リッ
トルである補充液により、現像液を再生してもよい。補
充溶液中のＳｉＯ2 ：Ｍｅ2 Ｏ比は、現像液中のそれと
同じであってもよいし、異なっていてもよい。補充溶液
には、現像液と同様、添加剤が存在していてもよい。現
像液を再生するのに必要な補充液の量は、現像システ
ム、現像する版の数、及び版上の画像の割合により異な
る。補充液は、通常、記録材料１平方メートル当たり１
〜５０ｍｌで充分である。必要な補充液の量は、現像液
の電導度を測定することにより決定できる。
【００１９】以下の例により本発明を説明する。比較例
もしくは比較物質には、アステリスク（＊）を付す。パ
ーセンテージは、特に断りのない限り、重量パーセンテ
ージである。
【００２０】
【実施例】例１ ５種類の異なる支持体を作製した。どの場合も、始めに
アルミニウム支持体を水酸化ナトリウムの３重量％水溶
液を用いて、６５℃の温度で１０秒間、脱脂した。その
後、２％の硝酸水溶液中（例１−１、１−２及び１−３
* ）、もしくは１％の塩酸水溶液中（例１−４* 及び１
−５* ）で、どの場合も３５℃で３０秒間、電気分解に
より砂目立てした。かけた電圧はどの場合も２０Ｖであ
り、電流は５０Ａ／ｄｍ2 であった。次に、１５％の硫
酸水溶液を用いて７０℃で１０秒間（例１−１、１−
２、１−３* 及び１−４* ）、もしくは５％の水酸化ナ
トリウム水溶液を用いて６０℃で１０秒間（例１−
５* ）、スマット除去をおこなった。その後支持体の材
料を１５％の硫酸水溶液中で、４５℃で６０秒間、陽極
酸化した（２０Ｖ、５Ａ／ｄｍ2 ）後、封孔処理をおこ
なった。封孔処理は、水を７０℃で５秒間塗布する（例
１−１、１−３* 及び１−４* ）、Ｎ−ホスホノメチル
−ポリエチレンイミン（ＤＥ−Ａ ４４ ２３ １４
０）のナトリウム塩の０．１％水溶液を７０℃で５秒間
塗布する（例１−２）、もしくは硝酸ナトリウムの１０
％水溶液を８０℃で５秒間塗布する（例１−５* ）こと
によりおこなった。最後に、封孔処理を施した材料を、
ポリビニルホスホン酸の０．３％水溶液を用いて６５℃
で１０秒間（例１−１及び１−４* ）、もしくはカルボ
キシメチルセルロースの０．１％水溶液を用いて８５℃
で１０秒間（例１−５* ）処理して親水性とした。例１
−３* においては、支持体の材料は親水性としなかっ
た。Ｐ／Ａｌシグナル比（ＥＳＣＡにより測定）は、例
１−１、１−４* 及び１−５* においては０．３５、例
１−２では１．４、例１−３* 及び１−５* では０（リ
ンが存在しない）であった。
【００２１】次に、支持体材料に感放射線組成物の溶液
を塗布し、１２５℃で１分間乾燥させた。塗工液中の溶
剤は、ブタノン（４０％）とプロピレングリコールモノ
メチルエーテル（６０％）との混合物であった。塗工液
中の不揮発性成分の量は８％であった。乾燥後の感放射
線層の重量は２．０ｇ／ｍ2 であった。
【００２２】感放射線組成物の組成は以下の通りであ
る。 １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸
でエステル化されたピロガロール／アセトン重縮合物
（エステル化度：３０％、平均分子量Ｗw ：３，００
０）・・・・・・２５．０％ １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸
でエステル化され、吸光係数が７，０００である４−
（１，１，３，３−テトラメチル−ブチル）−フェノー
ル／ホルムアルデヒド−ノボラック・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・１．０％ フェノール／クレゾール／ホルムアルデヒド−ノボラッ
ク（フェノール含有量：５モル％、５０％エタノール溶
液の粘度：１４４センチストークス（ｃＳｔ））・・・
・・・・・３１．０％ フェノール／クレゾール／ホルムアルデヒド−ノボラッ
ク（フェノール含有量：５モル％、５０％エタノール溶
液の粘度：８８ｃＳｔ）・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・３１．０％ ヘキサヒドロフタール酸・・・・・・・・・・・・・・
・・・・３．０％ ２−（４−メトキシ−スチリル）−４，６−ビス−トリ
クロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン・・・・・・
・・・・・１．０％ ビクトリアピュアブルーＢＯ（ベーシックブルー７）・
・・・・１．０％ ポリエチレングリコール２，０００・・・・・・・・・
・・・・０．５％ ヘプタキス−（２−ヒドロキシ−プロピル）−β−シク
ロデキストリン・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・２．０％ Ｎ−（４−ヒドロキシ−フェニル）−メタクリルアミド
／アクリロニトリル／メチルメタクリレート／ベンジル
メタクリレートコポリマー（モノマー単位のモル比：３
０／２０／４０／１０）・・・・・・・・・・・・・・
・・・３．０％ ポリ（ノナコサフルオロヘキサデシルメタクリレート）
・・・・０．５％ ポリエチレンワックスがコートされた平均半径４μｍ
（除外限度１５μｍ）、気孔体積１．８ｍｌ／ｇのシリ
カゲル粒子・・１．０％
【００２３】このようにして得られた記録材料を真空密
着フレーム中でオリジナルフィルムと密着させ（予め１
５秒間減圧後、１５秒間連続的に減圧、減圧中の残圧：
２５０ｍｂａｒ）、５ｋＷの金属ハロゲン化物水銀灯を
用い、１１０ｃｍの距離から約４００ｍＪ／ｃｍ2 の線
量で露光した。オリジナルフィルムはＵＧＲＡ−オフセ
ットテスト用ウェッジと広幅の２０％ドットスクリーン
（６０本／ｃｍ）を有しており、画像領域は２０％であ
った。現像は、Ｋ2 Ｏ：ＳｉＯ2 モル比が１：１、規定
度が０．４０モル／リットルであるケイ酸カリウム現像
液を用いて、浸漬浴現像装置中でおこなった。像様露光
したプレートを、現像液を用いて、３０℃で１２秒間、
現像装置中で処理した。
【００２４】以下の特性について、現像した印刷板を評
価した。 １．感光性（ＰＳ） 測定したのは、ＵＧＲＡ連続階調ステップウェッジのオ
ープンステップである（最小：３）。 ２．「ハイライト」再現性（ＨＬ） 測定したのは、ＵＧＲＡ試験用エレメントの小さなハー
フトーンドットの再現性である（最小：２％）。 ３．ハーフトーンドットの再現性の「不均一性」（Ｒ
Ｌ） 評価したのは、ハーフトーン領域の目に見える外観であ
る（＋：ハーフトーン領域中にドットが均一に分布、
ｏ：やや不均一（「不均一性」）に分布、−：非常に不
均一に分布）。 ４．色汚れ（ＣＳ） 色汚れを生じる、印刷板の非画像領域中に存在する（好
ましくない）残存層成分を、修正液（ＳＩＲ−１６、コ
ニカ社製）を用いてチェックする（＋：色汚れなし、
ｏ：軽度の色汚れあり、−：著しい色汚れあり）。 ５．修正の容易性（ＥＣ） 画像領域の一部を上記の修正液で除去し、その部分を保
護インク（ＳＰＯ−１、コニカ社製）で塗り、評価する
（＋：インクをはじく、−：インクがのる）。 ６．耐イソプロパノール性（ＩＲ） 画像領域をイソプロパノールの５０％溶液で１分間処理
した後、評価する（＋：層に損傷なし、−：目に見える
損傷あり）。 ７．耐刷性（ＰＲ） ハイデルベルグＧＴＯ印刷機を使用し、２％の湿し水と
１０％のイソプロパノールを用い、砕木パルプを含まな
い標準紙に印刷して測定する（最小：１００，００
０）。 ８．印刷停止後の挙動（ＢＳ） 印刷機を１時間停止した後、印刷を続ける。測定したの
は、満足な印刷物が得られる迄に生じた廃棄紙数である
（＋：廃棄紙数が２０枚よりかなり少ない、ｏ：廃棄紙
数が約２０枚、−：廃棄紙数が２０枚よりかなり多
い）。
【００２５】結果をまとめると以下の表の通りとなる。表１ 例 特性 １−１ １−２ １−３* １−４* １−５* ＰＳ ３ ３ ３ ３ ３ ＨＬ ２ ２ ２ ２ ２ ＲＬ ＋ ＋ ＋ ＋ ＋ ＣＳ ＋ ＋ − ＋ ＋ ＥＣ ＋ ＋ ＋ ＋ ＋ ＩＲ ＋ ＋ ＋ ＋ ＋ ＰＲ １２０Ｔ １２０Ｔ １５０Ｔ １２０Ｔ １２０Ｔ ＢＳ ＋ ＋ − − ｏ
【００２６】例２ 例１（１−１、１−２、１−３* 、１−４* 及び１−５
* ）の支持体材料に感放射線組成物溶液を塗布し、１２
５℃で１分間乾燥させた。塗工液中の溶剤は、テトラヒ
ドロフラン（４５％）とプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル（５５％）との混合物であった。塗工液中の
不揮発性成分の量は８％であった。乾燥後の感放射線層
の重量は２．０ｇ／ｍ2 であった。
【００２７】感放射線組成物の組成は以下の通りであ
る。 １，２−ナフトキノン−３−ジアジド−５−スルホン酸
でエステル化されたピロガロール／アセトン重縮合物
（エステル化度：３０％、平均分子量Ｗw ：３，００
０）・・・・・・２６．０％ フェノール／クレゾール／ホルムアルデヒド−ノボラッ
ク（フェノール含有量：５モル％；５０％エタノール溶
液の粘度：１４４ｃＳｔ）・・・・・・・・・・・・・
・・・・・３１．０％ フェノール／クレゾール／ホルムアルデヒド−ノボラッ
ク（フェノール含有量：５モル％、５０％エタノール溶
液の粘度：８８ｃＳｔ）・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・３１．０％ ヘキサヒドロフタール酸・・・・・・・・・・・・・・
・・・・３．０％ ２−（４−スチリル−フェニル）−４，６−ビス−トリ
クロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン・・・・・・
・・・・・０．５％ ビクトリアピュアブルーＢＯ（ベーシックブルー７）・
・・・・１．０％ ポリエチレングリコール２，０００・・・・・・・・・
・・・・０．５％ ヘキサキス−（２−ヒドロキシ−プロピル）−β−シク
ロデキストリン・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・２．０％ Ｎ−（４−ヒドロキシ−フェニル）−アクリルアミド／
アクリロニトリル／メチルメタクリレートコポリマー
（モノマー単位のモル比：３５／２０／４５）・・・・
・・・・３．９％ ジメチルシロキサン／酸化エチレン／酸化プロピレンコ
ポリマー（モノマー単位のモル比：４０／５０／１０）
・・・０．１％ 平均半径４μｍ（除外限度１５μｍ）、気孔体積１．２
ｍｌ／ｇのシリカゲル粒子・・・・・・・・・・・・・
・・・・１．０％
【００２８】このようにして得られた記録材料を、例１
に記載のように、像様露光し、現像した。得られた結果
をまとめると、以下の表の通りとなる。表２ 例 特性 ２−１ ２−２ ２−３* ２−４* ２−５* ＰＳ ３ ３ ３ ３ ３ ＨＬ ２ ２ ２ ２ ２ ＲＬ ＋ ＋ ＋ ＋ ＋ ＣＳ ＋ ＋ − ＋ ＋ ＥＣ ＋ ＋ ＋ ＋ ＋ ＩＲ ＋ ＋ ＋ ＋ ＋ ＰＲ １２０Ｔ １２０Ｔ １５０Ｔ １２０Ｔ １２０Ｔ ＢＳ ＋ ＋ − − ｏ
【００２９】例３−１ 例２−１の支持体材料に感放射線組成物溶液を塗布し、
１２５℃で１分間乾燥させた。塗工液中の溶剤は、テト
ラヒドロフラン（４５％）とプロピレングリコールモノ
メチルエーテル（５５％）との混合物であった。塗工液
中の不揮発性成分の量は８％であった。乾燥後の感放射
線層の重量は２．０ｇ／ｍ2 であった。
【００３０】感放射線組成物の組成は以下の通りであ
る。 １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸
でエステル化されたピロガロール／アセトン重縮合物
（エステル化度：３０％、平均分子量Ｗw ：３，００
０）・・・・・・２５．０％ １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸
でエステル化され吸光係数が７，０００である４−
（１，１，３，３−テトラメチル−ブチル）−フェノー
ル／ホルムアルデヒド−ノボラック・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・１．０％ フェノール／クレゾール／ホルムアルデヒド−ノボラッ
ク（フェノール含有量：５モル％、５０％エタノール溶
液の粘度：１４４ｃＳｔ）・・・・・・・・・・・・・
・・・・・３１．０％ フェノール／クレゾール／ホルムアルデヒド−ノボラッ
ク（フェノール含有量：５モル％、５０％エタノール溶
液の粘度：８８ｃＳｔ）・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・３１．０％ ヘキサヒドロフタール酸・・・・・・・・・・・・・・
・・・・３．０％ ２−（４−メトキシ−スチリル）−４，６−ビス−トリ
クロロメチル−〔１，３，５〕トリアジン・・・・・・
・・・・・１．０％ ビクトリアピュアブルーＢＯ（ベーシックブルー７）・
・・・・１．０％ ポリエチレングリコール２，０００・・・・・・・・・
・・・・０．５％ ヘプタキス−（２−ヒドロキシ−プロピル）−β−シク
ロデキストリン・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・２．０％ Ｎ−（４−ヒドロキシ−フェニル）−アクリルアミド／
アクリロニトリル／メチルメタクリレート／ベンジルメ
タクリレートコポリマー（モノマー単位のモル比：３０
／２０／４０／１０）・・・・・・・・・・・・・・・
・・３．０％ ポリ（ノナコサフルオロヘキサデシルメタクリレート）
・・・・０．５％ ポリエチレンワックスがコートされた平均半径４μｍ
（除外限度１５μｍ）、気孔体積１．８ｍｌ／ｇのシリ
カゲル粒子・・１．０％ このようにして得られた記録材料を、例１に記載のよう
に、像様露光し、現像した。得られた結果をまとめる
と、以下の表の通りとなる。
【００３１】表３ 例 特性 ３−１ ４* −１ ５* −１ ６* −１ ７* −１ ＰＳ ３ ２ ２ ３ ３ ＨＬ ２ ２ ２ ２ ２ ＲＬ ＋ ＋ ＋ ＋ − ＣＳ ＋ ｏ ｏ ＋ ＋ ＥＣ ＋ ＋ − ＋ ＋ ＩＲ ＋ ＋ ＋ − ＋ ＰＲ １２０Ｔ １２０Ｔ １２０Ｔ １２０Ｔ １２０Ｔ ＢＳ ＋ ＋ ＋ ＋ ＋
【００３２】例４* −１ ヘキサヒドロフタール酸を含まない（その代わりに、フ
ェノール含有量が５モル％、５０％エタノール溶液の粘
度が１４４ｃＳｔであるフェノール／クレゾール／ホル
ムアルデヒド−ノボラックの量を３４％に増した）感放
射線組成物を用いて、例３−１の手順を繰り返した。結
果は、表３に示す通りである。
【００３３】例５* −１ 置換β−シクロデキストリンを含まない（その代わり
に、フェノール含有量が５モル％、５０％エタノール溶
液の粘度が１４４ｃＳｔであるフェノール／クレゾール
／ホルムアルデヒド−ノボラックの量を３３％に増し
た）感放射線組成物を用いて、例３−１の手順を繰り返
した。結果は、表３に示す通りである。
【００３４】例６* −１ Ｎ−（４−ヒドロキシ−フェニル）−アクリルアミド／
アクリロニトリル／メチルメタクリレート／ベンジルメ
タクリレートコポリマーを含まない（その代わりに、フ
ェノール含有量が５モル％、５０％エタノール溶液の粘
度が１４４ｃＳｔであるフェノール／クレゾール／ホル
ムアルデヒド−ノボラックの量を３４％に増した）感放
射線組成物を用いて、例３−１の手順を繰り返した。結
果は、表３に示す通りである。
【００３５】例７* −１ シリカゲル粒子を含まない（その代わりに、フェノール
含有量が５モル％、５０％エタノール溶液の粘度が１４
４ｃＳｔであるフェノール／クレゾール／ホルムアルデ
ヒド−ノボラックの量を３２％に増した）感放射線組成
物を用いて、例３−１の手順を繰り返した。結果は、表
３に示す通りである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/023 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/023 ５０１ ５１１ ５１１ (72)発明者 ギュンター、フルツッシュ ドイツ連邦共和国ビースバーテン、ドルス スシュトラーセ、61 (72)発明者 ペーター、レーマン ドイツ連邦共和国ケルクハイム、アン、デ ル、ズィーゲライ、12 (72)発明者 ルドルフ、ノイバウアー ドイツ連邦共和国エーストリッヒ‐ビンケ ル、アドルフ‐コルピング‐シュトラー セ、28 (72)発明者 ルドルフ、ツェルタニ ドイツ連邦共和国ベクトルシャイム、ペー タースベルクシュトラーセ、12

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】アルミニウム支持体、及びその上に塗布し
    た感放射線層からなり、アルミニウム支持体が、硝酸中
    で粗面化された後、硫酸中でスマット除去され、硫酸中
    で陽極酸化された後、ホスホン酸もしくはホスホネート
    基を有する単位を少なくとも１つ含んでなる化合物を用
    いて親水化されたものであり、感放射線層が、 ａ）１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホ
    ン酸もしくは１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５
    −スルホン酸と、フェノール性化合物とアルデヒドもし
    くはケトンとの反応により得られるフェノール性ヒドロ
    キシル基を有する重縮合物との感放射線エステル、 ｂ）アルカリに可溶な樹脂として、ノボラック、又はポ
    リフェノールとアルデヒドもしくはケトンとの反応によ
    り得られる重縮合物、 ｃ）ヒドロキシフェニル側基を有する単位を少なくとも
    一つ含んでなるビニル系ポリマー、 ｄ）包接形成化合物、 ｅ）酸性水素原子を少なくとも一つ含んでなる低分子量
    化合物、及び ｆ）最大半径が１５μｍであるシリカゲル粒子からなる
    ものである、平版印刷板製造用のポジ型感放射線記録材
    料。
  2. 【請求項２】アルミニウム支持体が、少なくとも９９重
    量％のアルミニウムからなるアルミニウムフィルムであ
    る、請求項１に記載の記録材料。
  3. 【請求項３】アルミニウム支持体が０．５〜１．５μｍ
    （ｒa 値）の範囲内の粗さを有する、請求項１に記載の
    記録材料。
  4. 【請求項４】感放射線エステルａ）の分子量Ｍw が３，
    ０００〜１０，０００の範囲内である、請求項１に記載
    の記録材料。
  5. 【請求項５】感放射線層中のエステルａ）の量が５〜６
    ０重量％の範囲内である、請求項１に記載の記録材料。
  6. 【請求項６】フェノール性ヒドロキシル基を有する重縮
    合物が、ピロガロールとアルデヒドもしくはケトンとの
    反応により得られるものである、請求項１に記載の記録
    材料。
  7. 【請求項７】感放射線層中のアルカリに可溶なバインダ
    ー樹脂ｂ）の量が５〜９５重量％である、請求項１に記
    載の記録材料。
  8. 【請求項８】ポリマーｃ）がＮ−ヒドロキシフェニルア
    クリルアミド及び／又はＮ−ヒドロキシフェニルメタク
    リルアミドの単位を含む、請求項１に記載の記録材料。
  9. 【請求項９】感放射線層中のポリマーｃ）の量が０．５
    〜７０重量％の範囲内である、請求項１に記載の記録材
    料。
  10. 【請求項１０】包接形成化合物ｄ）が環状Ｄ−グルカン
    もしくはシクロファンである、請求項１に記載の記録材
    料。
  11. 【請求項１１】感放射線層中の包接形成化合物ｄ）の量
    が０．０１〜１０重量％の範囲内である、請求項１に記
    載の記録材料。
  12. 【請求項１２】感放射線層中の化合物ｅ）の量が０．１
    〜１０重量％の範囲内である、請求項１に記載の記録材
    料。
  13. 【請求項１３】シリカゲル粒子ｆ）が３〜５μｍ（除外
    限度：１５μｍ）の平均粒度、及び１ｍｌ／ｇより大き
    い平均気孔体積を有する、請求項１に記載の記録材料。
  14. 【請求項１４】シリカゲル粒子がポリエチレンワックス
    でコートされたものである、請求項１に記載の記録材
    料。
  15. 【請求項１５】感放射線層中のシリカゲル粒子の量が
    ０．０１〜１０重量％の範囲内である、請求項１に記載
    の記録材料。
  16. 【請求項１６】感放射線層のベック平滑度が１２５秒未
    満（ＤＩＮ ５３ １０７、方法Ａにより測定）であ
    る、請求項１に記載の記録材料。
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MX9605443A (es) 1997-10-31

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