DE69604472T2 - Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Flachdruckplatten - Google Patents
Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von FlachdruckplattenInfo
- Publication number
- DE69604472T2 DE69604472T2 DE69604472T DE69604472T DE69604472T2 DE 69604472 T2 DE69604472 T2 DE 69604472T2 DE 69604472 T DE69604472 T DE 69604472T DE 69604472 T DE69604472 T DE 69604472T DE 69604472 T2 DE69604472 T2 DE 69604472T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- recording material
- radiation
- material according
- sensitive layer
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 52
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 46
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 18
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 17
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 17
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 16
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 12
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- -1 polyethylene Polymers 0.000 claims description 9
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 6
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000001117 sulphuric acid Substances 0.000 claims description 6
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 claims description 6
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)prop-2-enamide Chemical group OC1=CC=C(NC(=O)C=C)C=C1 POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 5
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 claims description 5
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims description 4
- 229920001503 Glucan Polymers 0.000 claims description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 3
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 150000008442 polyphenolic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 claims description 2
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical group CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 33
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229940118056 cresol / formaldehyde Drugs 0.000 description 12
- 238000011161 development Methods 0.000 description 11
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical group OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VJKZIQFVKMUTID-UHFFFAOYSA-N 2-diazonio-5-sulfonaphthalen-1-olate Chemical compound N#[N+]C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1[O-] VJKZIQFVKMUTID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000002989 correction material Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001116 FEMA 4028 Substances 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 229960004853 betadex Drugs 0.000 description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229940097362 cyclodextrins Drugs 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 3
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 3
- MCNPOZMLKGDJGP-QPJJXVBHSA-N 2-[(e)-2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1\C=C\C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MCNPOZMLKGDJGP-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 2
- ISAVYTVYFVQUDY-UHFFFAOYSA-N 4-tert-Octylphenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 ISAVYTVYFVQUDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004166 Lanolin Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 2
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 2
- 235000019388 lanolin Nutrition 0.000 description 2
- 229940039717 lanolin Drugs 0.000 description 2
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 2
- ZRDYULMDEGRWRC-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O ZRDYULMDEGRWRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWMGONWXQSKRMH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-phenylethenyl)phenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=CC(C=CC=3C=CC=CC=3)=CC=2)=N1 TWMGONWXQSKRMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXAUCVOJRVFRBJ-UHFFFAOYSA-N 4-(trichloromethyl)triazine Chemical class ClC(Cl)(Cl)C1=CC=NN=N1 IXAUCVOJRVFRBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRPSWMCDEYMRPE-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C)C1=CC=C(O)C=C1 BRPSWMCDEYMRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000013871 bee wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000012166 beeswax Substances 0.000 description 1
- WHGYBXFWUBPSRW-FOUAGVGXSA-N beta-cyclodextrin Chemical class OC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)CO)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1CO WHGYBXFWUBPSRW-FOUAGVGXSA-N 0.000 description 1
- 235000011175 beta-cyclodextrine Nutrition 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 1
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 1
- 229960001777 castor oil Drugs 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- HOXINJBQVZWYGZ-UHFFFAOYSA-N fenbutatin oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C[Sn](O[Sn](CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)(CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)(CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 HOXINJBQVZWYGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003752 hydrotrope Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000010517 secondary reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
- B41N3/038—Treatment with a chromium compound, a silicon compound, a phophorus compound or a compound of a metal of group IVB; Hydrophilic coatings obtained by hydrolysis of organometallic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein positiv arbeitendes, strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Flachdruckplatten, wobei das Material einen Aluminiumträger und eine strahlungsempfindliche Schicht umfaßt.
- Strahlungsempfindliche Aufzeichnungsmaterialien für die Herstellung von Flachdruckplatten (vorsensibilisierte Druckplatten oder "PS-Platten") sind allgemein bekannt. Das Schichtgewicht der strahlungsempfindlichen Schicht ist im allgemeinen kleiner als 3 g/m². Das Aufzeichnungsmaterial wird gewöhnlich durch Evakuierung in direkten Kontakt mit dem Filmoriginal gebracht, bildartig bestrahlt, vorzugsweise mit UV-Strahlung, und anschließend entwickelt. Üblicherweise werden wäßrige alkalische Entwickler verwendet. Die auf diese Weise erhaltene Druckplatte kann gegebenenfalls gebrannt und/oder gummiert werden.
- Eine positiv arbeitende PS-Platte ist in JP-A 06-067419 (= DE- A 41 26 836) offenbart. Sie umfaßt einen Aluminiumträgerfilm, der (i) in Salzsäure elektrolytisch gekörnt, (ii) in Schwefelsäure gereinigt, (iii) in Schwefelsäure eloxiert und (iv) mit Polyvinylphosphonsäure hydrophilisiert wurde. Dieser Träger ist mit einer strahlungsempfindlichen Schicht beschichtet, die eine 1,2-Naphthochinon-2-diazid-Verbindung als hauptsächliche strahlungsempfindliche Komponente und ein polymeres Bindemittel, z. B. einen Novolak, umfaßt. Um zwischen bestrahlten und nichtbestrahlten Bereichen des Aufzeichnungsmaterials unterscheiden zu können, können kleinere Mengen weiterer strahlungsempfindlicher Komponenten vorhanden sein, die bei Bestrahlung eine starke Säure erzeugen oder freisetzen und in einer sekundären Reaktion mit einem geeigneten Farbstoff eine Farbänderung in der strahlungsempfindlichen Schicht bewirken. Um die Evakuierungszeit im Vakuumkontaktrahmen zu reduzieren und einen gleichmäßigen Kontakt zu induzieren, kann die Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials aufgerauht sein, z. B. durch geeignete Teilchen. In der zitierten Literaturstelle sind diese Teilchen Siliciumoxidteilchen, die partiell in die strahlungsempfindliche Schicht eingebettet sind.
- Kontinuierliche und diskontinuierliche Mattierungsschichten, die über die strahlungsempfindliche Schicht aufgetragen werden, sind ebenfalls aus dem Stand der Technik bekannt.
- Um den Spielraum des Entwicklungsprozesses zu verbessern und um die Verwendung schwach alkalischer Entwickler zu ermöglichen, wurden spezielle polymere Bindemittel vorgeschlagen. Gemäß der Lehre von JP-A 61-006647 (= DE-A 35 21 555) umfaßt das Bindemittel wenigstens zwei verschiedene Novolakharze. Sie werden durch Co-Polykondensation von 5 bis 75 Mol-% Phenol, 20 bis 70 Mol-% m-Kresol (und/oder o-Kresol) und 5 bis 75 Mol-% p-Kresol mit Formaldehyd erhalten. In JP-A 61-205933 (= DE-A 36 07 598) wird ein Novolakharz eingesetzt, das ein Gewichtsmittel des Molekulargewichts, Mw, von 6000 bis 20000 und ein Verhältnis von Mw : Mn (= Polydispersität) von 2 bis 14 hat.
- JP-A 07-114178 (= EP-A 639 797) betrifft das Problem der Korrektur von Filmrandteilen auf lithographischen Druckplatten. Dieses Problem tritt insbesondere dann auf, wenn sich eine positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung auf einem Träger befindet, der einer Körnungsbehandlung und Eloxierungsbehandlung unterzogen wurde. Es tritt weiterhin auf, wenn eine polymere Orthochinondiazid-Verbindung eingesetzt wird. Das Problem wird gelöst, indem man eine lichtempfindliche Zusammensetzung bereitstellt, die eine clathratbildende Verbindung mit hohem Molekulargewicht umfaßt. Die Verbindung mit hohem Molekulargewicht weist innere Kanäle oder andere Hohlräume auf, in die Verbindungen mit niedrigem Molekulargewicht hineinpassen. Bevorzugte clathratbildende Verbindungen sind cyclische D-Glucane, Cyclophane und insbesondere Cyclodextrine.
- Ein weiteres Problem besteht darin, daß positiv arbeitende lichtempfindliche lithographische Druckplatten im allgemeinen leicht von verschiedenen Verarbeitungschemikalien, die man während des Druckens verwendet, z. B. Isopropylalkohol, der in Dämpfungslösungen enthalten ist, angegriffen werden und folglich nur eine geringe Zahl von Druckvorgängen überstehen.
- Gemäß JP-A 01-302349, 02-001855 und 02-029750 (= EP-A 345 016) wird das Problem durch eine lichtempfindliche Zusammensetzung gelöst, die 0,2 bis 20 Gew.-% einer Aktivatorverbindung neben der o-Naphthochinondiazid-Verbindung und dem alkalilöslichen Harz umfaßt. Der Aktivator ist ein Ester oder ein Ether einer Polyoxyalkylensorbitfettsäure, ein Alkylenoxid-Addukt von Ricinusöl, Lanolin, Lanolinalkohol, Bienenwachs, Phytosterin oder Phytostanol, oder er ist ein Alkylether, Alkylphenylether oder Alkylester von Polyoxypropylen.
- Gemäß JP-A 63-223637, 63-276048, 63-303343 und 01-052139 (= EP-A 287 212) wird die Beständigkeit von Druckplatten gegen Chemikalien auch verbessert, wenn spezielle Verbindungen mit hohem Molekulargewicht in die strahlungsempfindliche Zusammensetzung eingebaut werden. Die Verbindungen mit hohem Molekulargewicht enthalten Monomereinheiten, bei denen eine hydroxysubstituierte aromatische Gruppe, vorzugsweise eine Hydroxyphenylgruppe, über eine Amidbindung gebunden ist.
- Zur Zeit ist keine PS-Platte verfügbar, die alle oben diskutierten Nachteile überwindet.
- Es war daher ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein positiv arbeitendes, strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial bereitzustellen, das kurze Evakuierungszeiten im Vakuumkontaktrahmen erlauben und jeden Einschluß von Luft oder anderer Gase zwischen dem Filmoriginal und dem Aufzeichnungsmaterial vermeiden sollte. Die Lichtempfindlichkeit des Aufzeichnungsmaterials sollte hoch sein und dadurch kurze Belichtungszeiten ermöglichen. Der Spielraum des Entwicklungsprozesses des bildartig bestrahlten Aufzeichnungsmaterials sollte groß genug sein, um die Verwendung wäßrig-alkalischer Entwickler mit einer Normalität von 0,6 mol/l oder noch weniger zu ermöglichen. Noch ein weiteres Ziel bestand darin, eine Flachdruckplatte bereitzustellen, die mit einer Korrekturflüssigkeit korrigiert werden kann und die gegenüber Feuchtlösungen, Reinigern, Drucktinten und anderen Chemikalien, die während des Druckens eingesetzt werden, beständig ist. Schließlich war es ein Ziel der Erfindung, eine Druckplatte bereitzustellen, die nach einem Anhalten der Presse bereits kurz nach dem Neustart makellose Druckbilder ergibt.
- Die obigen Ziele werden erreicht durch ein positiv arbeitendes, strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Flachdruckplatten, das aus einem Aluminiumträger und einer darauf aufgetragenen strahlungsempfindlichen Schicht besteht, wobei
- - der Aluminiumträger in Salpetersäure gekörnt, dann in Schwefelsäure gereinigt, in Schwefelsäure eloxiert und anschließend mit einer Verbindung, die wenigstens eine Einheit mit einer Phosphonsäure- oder Phosphonatgruppe umfaßt, hydrophilisiert wurde; und
- - die strahlungsempfindliche Schicht folgendes umfaßt:
- a) einen strahlungsempfindlichen Ester von 1,2-Naphthochinon-2-diazid-4- oder -5-sulfonsäure und einem Polykondensat, das phenolische Hydroxygruppen aufweist, wobei das Polykondensat durch Umsetzen einer phenolischen Verbindung mit einem Aldehyd oder Keton erhalten wird;
- b) einen Novolak oder ein Polykondensationsprodukt, das durch Umsetzen eines Polyphenols mit einem Aldehyd oder Keton erhalten wird, als alkalilösliches Harz;
- c) ein Polymer des Vinyltyps, das wenigstens eine Einheit mit einer seitenständigen Hydroxyphenylgruppe umfaßt;
- d) eine clathratbildende Verbindung;
- e) eine niedermolekulare Verbindung, die wenigstens ein saures Wasserstoffatom umfaßt; und
- f) Silicagelteilchen mit einem maximalen Durchmesser von 15 um.
- Das Ausgangsmaterial für den Träger ist im allgemeinen eine Aluminiumfolie mit einem bevorzugten Aluminiumgehalt von wenigstens 99 Gew.-%, insbesondere wenigstens 99,5 Gew.-%, wobei der Rest aus Si (nicht mehr als 0,20 Gew.-%), Fe (nicht mehr als 0,40 Gew.-%), Cu (nicht mehr als 0,05 Gew.-%), Zn (nicht mehr als 0,05 Gew.-%) und Ti (nicht mehr als 0,02 Gew.-%) besteht. Weitere Elemente, wie Mn oder Mg, können in der Aluminiumlegierung in einer Menge von jeweils nicht mehr als 0,03 Gew.-% vorhanden sein. Bevor die Aluminiumfolie gekörnt und gereinigt wird, kann sie mit einer alkalischen Lösung entfettet und/oder einer Vorkörnungsbehandlung unterzogen werden, die mechanisch, chemisch und/oder elektrochemisch erfolgen kann. Die Rauhtiefe des für das Aufzeichnungsmaterial gemäß dieser Erfindung eingesetzten Aluminiumträgers liegt im Bereich von 0,5 bis 1,5 um (ra-Wert). Durch die Eloxierungsbehandlung wird auf der Oberfläche des Aluminiumträgers eine Aluminiumoxidschicht aufgebaut. Die Oxidschicht hat ein Gewicht von 0,5 bis 5,0 g/m². Die Menge des phosphorhaltigen Hydrophilisierungsmittels kann durch ESCA (electron spectroscopy for chemical analysis) bestimmt werden. Das durch ESCA bestimmte P:Al-Signalverhältnis beträgt 0,1 oder mehr. Der Oberflächenreflexionsgrad des Aluminiumträgers beträgt weniger als 50%.
- Das phenolische Gruppen aufweisende Polykondensat, das eingesetzt wird, um den strahlungsempfindlichen Ester a) zu erzeugen, wird vorzugsweise erhalten, indem man Pyrogallol mit einem Aldehyd oder Keton umsetzt. Weitere geeignete Polykondensate können hergestellt werden, indem man alkylierte Phenole mit Formaldehyd umsetzt. Die Polykondensate erhöhen im allgemeinen den oleophilen Charakter der Bildbereiche der gebrauchsfertigen Druckplatte.
- Das Gewichtsmittel des Molekulargewichts, Mw, des strahlungsempfindlichen polymeren Esters von 1,2-Naphthochinon-2-diazid- 4- oder -5-sulfonsäure liegt im allgemeinen im Bereich von 3000 bis 10000. Vorzugsweise ist dieser Ester in der strahlungsempfindlichen Schicht in einer Menge von 5 bis 60 Gew.-% vorhanden. In der gesamten Patentbeschreibung sind die Gewichtsprozente auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Komponenten der strahlungsempfindlichen Schicht bezogen.
- Beispiele für das alkalilösliche Bindeharz b) sind Novolakharze, wie Phenol/Formaldehyd-Harz, Kresol/Formaldehyd-Harz, Phenol/Kresol/Formaldehyd-Harz und dergleichen. Das Bindeharz gewährleistet eine hohe Zahl von Druckvorgängen. Seine Menge im Aufzeichnungsmaterial liegt im allgemeinen im Bereich von 5 bis 95 Gew.-%.
- Das Polymer c) dient dazu, die Beständigkeit der Bildbereiche der Druckplatte gegenüber Verarbeitungschemikalien, die beim Drucken üblicherweise verwendet werden, zu erhöhen. Polymere, die Einheiten von N-Hydroxyphenylacrylamid und/oder -methacrylamid enthalten, sind besonders gut geeignet. Die anderen Einheiten können von (Meth)acrylsäureestern und/oder α,β- ethylenisch ungesättigten Nitrilen abgeleitet sein. Das Polymer c) ist in dem Aufzeichnungsmaterial im allgemeinen in einer Menge von 0,5 bis 70 Gew.-% vorhanden.
- Das Clathrat d) erleichtert die Verwendung von Korrekturflüssigkeiten, wie in JP-A 07-114178 offenbart ist. Bevorzugte clathratbildende Verbindungen sind cyclische D-Glucane und Cyclophane, insbesondere Cyclodextrine. Die Cyclodextrine sind gegebenenfalls modifiziert, z. B. mit Ethylenoxid oder Propylenoxid. Die Menge des Clathrats in dem Aufzeichnungsmaterial liegt im allgemeinen im Bereich von 0,01 bis 10 Gew.-%.
- Die niedermolekulare Verbindung e) steuert die Entwicklungseigenschaften, insbesondere die Entwicklungsgeschwindigkeit. Geeignete Verbindungen e), die phenolische Hydroxygruppen besitzen, sind in EP-A 668 540 offenbart. Beispiele dafür sind 4,4',4"-Trihydroxytriphenylmethan, 1,1,1-Tris(4-hydroxyphenyl)ethan, 4,4',2"-Trihydroxy-2,5,2',5'-tetramethyltriphenylmethan, 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenon, 4,4'-Dihydroxydiphenylsulfon, 2,4-Dihydroxybenzophenon, 2,3,4-Trihydroxybenzophenon, 5,5'-Diformyl-2,3,4,2',3',4'-hexahydroxydiphenylmethan und 5,5'-Diacetyl-2, 3,4,2',3',4'-hexahydroxydiphenylmethan. Außer niedermolekularen Verbindungen mit phenolischen Hydroxygruppen können auch niedermolekulare Verbindungen mit Carboxygruppen eingesetzt werden. Eine bevorzugte Verbindung dieses Typs ist Hexahydrophthalsäure. Die Menge an Verbindung e) in der strahlungsempfindlichen Schicht liegt im Bereich von 0,1 bis 10 Gew.-%.
- Die Silicagelteilchen f) haben eine mittlere Korngröße im Bereich von 3 bis 5 um (bestimmt mit einem Coulter-Zähler) mit einer Ausschlußgrenze von 15 um. Das bevorzugte mittlere Porenvolumen der Silicagelteilchen liegt über 1 ml/g. Diese Teilchen werden in einer solchen Menge verwendet, daß die Bekk-Glätte der strahlungsempfindlichen Schicht kleiner als 125 Sekunden ist (bestimmt gemäß DIN 53 107, Verfahren A), was im allgemeinen mit einer Menge an Silicagelteilchen von 0,01 bis 10 Gew.-% erreicht wird.
- Neben den Komponenten a) bis f) kann die strahlungsempfindliche Schicht einen Indikatorfarbstoff, vorzugsweise einen kationischen Farbstoff des Triarylmethan- oder Methintyps, enthalten. Die Schicht kann auch Verbindungen umfassen, die bei Einwirkung von aktinischer Strahlung eine Säure erzeugen. Bevorzugte "Photosäurebildner" sind chromophorsubstituierte Trichlormethyltriazine oder -oxadiazole. Schließlich kann die Schicht Tenside, insbesondere fluorierte Tenside oder Tenside auf Silikonbasis, sowie Polyalkylenoxide, die die Acidität der phenolischen Hydroxygruppen steuern, umfassen.
- Das Aufzeichnungsmaterial gemäß der vorliegenden Erfindung wird hergestellt, indem man den Aluminiumträger mit einer Beschichtungslösung beschichtet und dann trocknet, um das flüchtige Lösungsmittel zu verdampfen. Zu den geeigneten Lösungsmitteln gehören Butanon (= Methylethylketon), Propylenglycolmonomethylether und dergleichen. Lösungsmittelgemische können ebenfalls eingesetzt werden. Das Lösungsmittel wird herkömmlicherweise entfernt, indem man das Aufzeichnungsmaterial etwa 1 min lang auf eine Temperatur zwischen etwa 80 und 140ºC erhitzt.
- Flachdruckplatten werden durch herkömmliche Verfahrensschritte aus dem Aufzeichnungsmaterial gemäß der vorliegenden Erfindung erhalten. Zu diesem Zweck wird das Aufzeichnungsmaterial zuerst in einem Vakuumkontaktrahmen, wo die bildartige Bestrah lung stattfindet, in engen Kontakt mit dem Filmoriginal gebracht. Im anschließenden Entwicklungsschritt wird ein wäßriger alkalischer Entwickler auf Silicatbasis mit einer Normalität von nicht mehr als 0,6 mol/l eingesetzt. Das SiO&sub2;: Me&sub2;O-Verhältnis (Me = Alkalimetall) im Entwickler ist vorzugsweise 1 oder größer als 1. Bevorzugte Alkalioxide sind Na&sub2;O und K&sub2;O. Dieser Typ von Entwickler greift die Aluminiumoxidschicht nicht an. Der Entwickler kann weiterhin Puffersubstanzen, Komplexbildner, Schaumverhütungsmittel, organische Lösungsmittel, Korrosionsinhibitoren, Farbstoffe und vor allem Tenside und Hydrotropika enthalten. Die Entwicklung wird vorzugsweise bei einer Temperatur von 20 bis 40ºC in einer automatischen Entwicklungsstation durchgeführt. Das Aufzeichnungsmaterial wird mit einer Geschwindigkeit von 0,8 m/min oder mehr durch die Entwicklungsstation transportiert. Um einen kontinuierlichen Betrieb zu ermöglichen, müssen die Entwickler mit einer Auffüllösung mit einem Alkaligehalt von 0,6 bis 2,0 mol/l regeneriert werden. In der Auffüllösung kann das SiO&sub2;: Me&sub2;O-Verhältnis das gleiche wie im Entwickler oder von diesem verschieden sein. In der Auffüllösung können auch Additive vorhanden sein, wie im Entwickler. Die zur Regeneration des Entwicklers notwendige Menge der Auffüllösung hängt vom Typ der Entwicklungsstation, der Zahl der entwickelten Platten und der Bildabdeckung der Platten ab. Im allgemeinen sind 1 bis 50 ml Auffüllösung pro m Aufzeichnungsmaterial ausreichend. Die erforderliche Menge der Auffüllösung kann bestimmt werden, indem man die Leitfähigkeit des Entwicklers mißt.
- Die vorliegende Erfindung wird ausführlicher anhand der folgenden Beispiele erläutert. Vergleichsbeispiele oder Vergleichssubstanzen sind mit einem Sternchen (*) markiert. Prozente sind Gewichtsprozente, wenn nichts anderes angegeben ist.
- Fünf verschiedene Typen von Trägern wurden hergestellt. In jedem Fall wurde der Aluminiumträger zuerst 10 Sekunden bei einer Temperatur von 65ºC entfettet, wobei man eine Natronlauge mit einer Stärke von 3 Gew.-% verwendete. Dann wurde der Träger in einer 2% starken wäßrigen Salpetersäure (Beispiel 1- 1, 1-2 und 1-3*) oder in einer 1% starken Salzsäure (Beispiele 1-4* und 1-5*) elektrolytisch gekörnt, wobei die Körnung in jedem Fall 30 s lang bei einer Temperatur von 35ºC durchgeführt wurde. Die in jedem Fall eingesetzte Spannung betrug 20 V, und die Stromdichte betrug 50 A/dm². Auf diesen Schritt folgte eine Zwischenreinigung während 10 s bei 70ºC mit 15%iger wäßriger Schwefelsäure (Beispiele 1-1, 1-2, 1-3* und 1-4*) oder während 10 s bei 60ºC mit 5%iger Natronlauge (Beispiel 1-5*). Dann wurden die Trägermaterialien 60 s bei 45ºC in 15%iger wäßriger Schwefelsäure eloxiert (20 V; 5 A/dm²) und versiegelt. Das Versiegeln erfolgte durch 5 s Abspülen mit Wasser von 70ºC (Beispiele 1-1, 1-3* und 1-4*), durch 5 s Abspülen mit einer 0, 1% starken wäßrigen Lösung des Natriumsalzes von N-Phosphonomethylpolyethylenimin (DE-A 44 23 140) von 70ºC (Beispiel 1-2)oder durch 5 s Abspülen mit einer 10% starken wäßrigen Natriumnitritlösung von 80ºC (Beispiel 1-5*). Die versiegelten Materialien wurden mit einer 0,3% starken wäßrigen Lösung von Polyvinylphosphonsäure, die man 10 s bei 65ºC auf das Material einwirken ließ (Beispiele 1-1 und 1-4*), oder mit einer 0,1%igen wäßrigen Lösung von Carboxymethylcellulose, die man 10 s bei 85ºC auf das Material einwirken ließ (Beispiel 1-5*), hydrophilisiert. In Beispiel 1-3* wurde das Trägermaterial nicht hydrophilisiert. Das (durch ESCA bestimmte) P:Al-Signalverhältnis betrug 0,35 in Beispiel 1-1 und 1-4*, 1,4 in Beispiel 1-2 und 0 (kein Phosphor vorhanden) in den Beispielen 1-3* und 1-5*.
- Anschließend wurden die Trägermaterialien mit einer Lösung einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung beschichtet und 1 min bei 125ºC getrocknet. Das in der Beschichtungslösung eingesetzte Lösungsmittel war ein Gemisch von Butanon (40%) und Propylenglycolmonomethylether (60%). Die Menge an nicht- flüchtigen Komponenten in der Beschichtungslösung betrug 8%. Nach dem Trocknen hatte die strahlungsempfindliche Schicht ein Gewicht von 2,0 g/m².
- Die strahlungsempfindliche Zusammensetzung bestand aus
- 25,0% Pyrogallol/Aceton-Polykondensat, verestert mit 1,2- Naphthochinon-2-diazid-5-sulfonsäure (Veresterungsgrad: 30%; mittleres Molekulargewicht Mw: 3000);
- 1,0% 4-(1,1,3,3-Tetramethylbutyl)phenol/Formaldehyd-Novolak, verestert mit 1,2-Naphthochinon-2-diazid-5-sulfonsäure, mit einem Extinktionskoeffizienten von 7000;
- 31,0% eines Phenol/Kresol/Formaldehyd-Novolaks (Phenolgehalt: 5 Mol-%; Viskosität einer 50%igen Lösung in Ethanol: 144 Centistokes (cSt);
- 31,0% eines Phenol/Kresol/Formaldehyd-Novolaks (Phenolgehalt: 5 Mol-%; Viskosität einer 50%igen Lösung in Ethanol: 88 cSt);
- 3,0% Hexahydrophthalsäure;
- 1,0% 2-(4-Methoxystyryl)-4,6-bis(trichlormethyl)-1,3,5-triazin;
- 1,0% Victoria Reinblau BO (Basic Blue 7);
- 0,5% Polyethylenglycol 2000;
- 2,0% Heptakis(2-hydroxypropyl)-β-cyclodextrin;
- 3,0% N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid/Acrylnitril/Methylmethacrylat/Benzylmethacrylat-Copolymer (Stoffmengenverhältnis der Monomereinheiten: 30 : 20 : 40 : 10);
- 0,5% Poly(nonacosafluorhexadecylmethacrylat); und
- 1,0% Silicagelteilchen mit einem mittleren Durchmesser von 4 um mit einer Ausschlußgrenze von 15 um und einem Porenvolumen von 1,8 ml/g, beschichtet mit Polyethylenwachs.
- Die auf diese Weise hergestellten Aufzeichnungsmaterialien wurden in einem Vakuumkontaktrahmen (15 s Vorvakuum; 15 s kontinuierliches Vakuum; Restdruck während des Anlegens des Vakuums: 250 mbar) mit einem Filmoriginal in Kontakt gebracht und mit einer 5-kW-Metallhalogenid-Quecksilberdampflampe bestrahlt, die sich in einem Abstand von 110 cm befand, wobei eine Strahlungsdosis von etwa 400 mJ/cm² verwendet wurde. Das Filmoriginal enthielt einen UGRA-Versetztestkeil und ein ausgedehntes 20%-Punktraster (60 Linien pro cm) und hatte eine Bildfläche von 20%. Die Entwicklung wurde in einer Tauchbad- Entwicklungsapparatur mittels eines Kaliumsilicat-Entwicklers mit einem K&sub2;O : SiO&sub2;-Stoffmengenverhältnis von 1 : 1 und einer Normalität von 0,40 mol/l durchgeführt. Die bildartig bestrahlte Platte wurde in der Entwicklungsapparatur 12 s lang bei einer Temperatur von 30ºC mit dem Entwickler behandelt.
- Die folgenden Merkmale der entwickelten Druckplatten wurden gemessen und bewertet:
- Die offene Stufe des UGRA-Halbton-Stufenkeils wird bestimmt (Minimum: 3).
- Die Wiedergabe der kleinen Rasterpunkte auf dem UGRA- Testelement wird bewertet (Minimum: 2%)
- Das visuelle Erscheinungsbild des Rasterbereichs wird bewertet (+: homogene Verteilung der Punkte im Rasterbereich; 0: leicht inhomogene Verteilung; -: völlig inhomogene Verteilung).
- Die Gegenwart von (unerwünschten) übriggebliebenen Schichtbestandteilen in den Nichtbildbereichen der Druckplatte, die die Farbverfleckung verursachen, wird mit einer Korrekturflüssigkeit (SIR-16, Konica Corp.) überprüft (+: keine Farbverfleckung; 0: leichte Farbverfleckung; -: ausgeprägte Farbverfleckung).
- Ein Teil der Bildfläche wird mit Hilfe der oben beschriebenen Korrekturflüssigkeit entfernt, dann wird die Fläche mit einer Schutztinte (SPO-1, Konica Corp.) bedeckt und bewertet (+: tintenabweisend; -: tintenaufnehmend).
- Ein Bildbereich wird 1 min lang mit einer 50% starken Isopropanollösung behandelt und dann bewertet (+: die Schicht zeigt keine Beschädigung; -: sichtbare Beschädigung).
- Bestimmt auf einer Heidelberg-GTO-Presse unter Verwendung einer 2%igen Feuchtlösung, 10% Isopropanol auf normalem Papier, das keinen mechanischen Holzschliff enthält (Minimum: 100000).
- Das Drucken wird nach einer einstündigen Abschaltzeit der Druckmaschine wieder aufgenommen; die Zahl der erzeugten Abfallbögen, bevor man befriedigende Druckbilder erhält, wird bestimmt (+: erheblich weniger als 20 Abfallbögen; 0: etwa 20 Abfallbögen; -: erheblich mehr als 20 Abfallbögen).
- Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 unten zusammengefaßt: Tabelle 1
- Die Trägermaterialien von Beispiel 1 (als -1, -2, -3*, -4* und 5* angegeben) wurden mit einer Lösung einer strahlungsemp findlichen Zusammensetzung beschichtet und 1 min bei 125ºC getrocknet. Das in der Beschichtungslösung vorhandene Lösungsmittel war ein Gemisch von Tetrahydrofuran (45%) und Propylenglycolmonomethylether (55%). Die Menge der nichtflüchtigen Komponenten in der Beschichtungslösung war 8%. Nach dem Trocknen hatte die strahlungsempfindliche Schicht ein Gewicht von 2,0 g/m².
- Die strahlungsempfindliche Zusammensetzung bestand aus
- 26,0% eines Pyrogallol/Aceton-Polykondensats, das mit 1,2- Naphthochinon-3-diazid-5-sulfonsäure verestert war (Veresterungsgrad: 30%; mittleres Molekulargewicht Mw: 3000);
- 31,0% eines Phenol/Kresol/Formaldehyd-Novolaks (Phenolgehalt: 5 Mol-%; Viskosität einer 50%igen Lösung in Ethanol: 144 cSt)
- 31,0% eines Phenol/Kresol/Formaldehyd-Novolaks (Phenolgehalt: 5 Mol-%; Viskosität einer 50%igen Lösung in Ethanol: 88 cSt);
- 3,0% Hexahydrophthalsäure;
- 0,5% 2-(4-Styrylphenyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-1,3,5-triazin;
- 1,0% Victoria Reinblau BO (Basic Blue 7);
- 0,5% Polyethylenglycol 2000;
- 2,0% Hexakis(2-hydroxypropyl)-β-cyclodextrin;
- 3,9% N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid/Acrylnitril/Methylmethacrylat-Copolymer (Stoffmengenverhältnis der Monomereinheiten: 35 : 20 : 45);
- 0,1% eines Dimethylsiloxan/Ethylenoxid/Propylenoxid-Copolymers (Stoffmengenverhältnis der Monomereinheiten: 40 : 50 : 10); und
- 1,0% Silicagelteilchen mit einem mittleren Durchmesser von 4 um mit einer Ausschlußgrenze von 15 um und einem Porenvolumen von 1,2 ml/g.
- Die auf diese Weise hergestellten Aufzeichnungsmaterialien wurden bildartig bestrahlt und entwickelt, wie es in Beispiel 1 beschrieben wurde.
- Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 unten zusammengefaßt: Tabelle 2
- Das Trägermaterial von Beispiel 2-1 wurde mit einer Lösung einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung beschichtet und 1 min bei 125ºC getrocknet. Das Lösungsmittel in der Beschichtungslösung war ein Gemisch von Tetrahydrofuran (45%) und Propylenglycolmonomethylether (55%). Die Menge der nichtflüchtigen Bestandteile in der Beschichtungslösung war 8%. Nach dem Trocknen hatte die strahlungsempfindliche Schicht ein Gewicht von 2,0 g/m².
- Die strahlungsempfindliche Zusammensetzung bestand aus
- 25,0% eines Pyrogallol/Aceton-Polykondensats, das mit 1,2- Naphthochinon-2-diazid-5-sulfonsäure verestert war (Veresterungsgrad: 30%; mittleres Molekulargewicht Mw: 3000);
- 1,0% eines 4-(1,1,3,3-Tetramethylbutyl)phenol/Formaldehyd- Novolaks, der mit 1,2-Naphthochinon-2-diazid-5-sulfonsäure verestert war und einen Extinktionskoeffizienten von 7000 hatte;
- 31,0% eines Phenol/Kresol/Formaldehyd-Novolaks (Phenolgehalt: 5 Mol-%; Viskosität einer 50%igen Lösung in Ethanol: 144 cSt);
- 31,0% eines Phenol/Kresol/Formaldehyd-Novolaks (Phenolgehalt: 5 Mol-%; Viskosität einer 50%igen Lösung in Ethanol: 88 cSt);
- 3,0% Hexahydrophthalsäure;
- 1,0% 2-(4-Methoxystyryl)-4,6-bis(trichlormethyl)-1,3,5-triazin;
- 1,0% Victoria Reinblau BO (Basic Blue 7);
- 0,5% Polyethylenglycol 2000;
- 2,0% Heptakis(2-hydroxypropyl)-(3-cyclodextrin;
- 3,0% eines N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid/Acrylnitril/Methylmethacrylat/Benzylmethacrylat-Copolymers (Stoffmengenverhältnis der Monomereinheiten: 30 : 20 : 40 : 10);
- 0,5% Poly(nonacosafluorhexadecylmethacrylat); und
- 1,0% Silicagelteilchen mit einem mittleren Durchmesser von 4 um mit einer Ausschlußgrenze von 15 um und einem Porenvolumen von 1,8 ml/g, beschichtet mit Polyethylenwachs.
- Die auf diese Weise hergestellten Aufzeichnungsmaterialien wurden bildartig bestrahlt und entwickelt, wie es in Beispiel 1 beschrieben wurde.
- Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 unten zusammengefaßt: Tabelle 3
- Beispiel 3-1 wurde wiederholt, mit der Ausnahme, daß eine strahlungsempfindliche Zusammensetzung verwendet wurde, die keine Hexahydrophthalsäure enthielt (stattdessen wurde die Menge des Phenol/Kresol/Formaldehyd-Novolaks mit einem Phenolgehalt von 5 Mol-% und einer Viskosität (in einer 50%igen Lösung in Ethanol) von 144 cSt auf 34% erhöht). Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 oben gezeigt.
- Beispiel 3-1 wurde wiederholt, mit der Ausnahme, daß eine strahlungsempfindliche Zusammensetzung verwendet wurde, die das substituierte β-Cyclodextrin nicht enthielt (stattdessen wurde die Menge des Phenol/Kresol/Formaldehyd-Novolaks mit einem Phenolgehalt von 5 Mol-% und einer Viskosität (in einer 50%igen Lösung in Ethanol) von 144 cSt auf 33% erhöht). Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 oben zusammengefaßt.
- Beispiel 3-1 wurde wiederholt, mit der Ausnahme, daß eine strahlungsempfindliche Zusammensetzung verwendet wurde, die das N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid/Acrylnitril/Methylmethacrylat/Benzylmethacrylat-Copolymer nicht enthielt (stattdessen wurde die Menge des Phenol/Kresol/Formaldehyd-Novolaks mit einem Phenolgehalt von 5 Mol-% und einer Viskosität (in einer 50%igen Lösung in Ethanol) von 144 cSt auf 34% erhöht). Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 oben zusammengefaßt.
- Beispiel 3-1 wurde wiederholt, mit der Ausnahme, daß eine strahlungsempfindliche Zusammensetzung verwendet wurde, die die Silicagelteilchen nicht enthielt (stattdessen wurde die Menge des Phenol/Kresol/Formaldehyd-Novolaks mit einem Phenolgehalt von 5 Mol-% und einer Viskosität (in einer 50%igen Lösung in Ethanol) von 144 cSt auf 32% erhöht). Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 oben zusammengefaßt.
Claims (16)
1. Positiv arbeitendes, strahlungsempfindliches
Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Flachdruckplatten,
das aus einem Aluminiumträger und einer darauf
aufgetragenen strahlungsempfindlichen Schicht besteht, wobei
- der Aluminiumträger in Salpetersäure gekörnt, dann
in Schwefelsäure gereinigt, in Schwefelsäure
eloxiert und anschließend mit einer Verbindung, die
wenigstens eine Einheit mit einer Phosphonsäure- oder
Phosphonatgruppe umfaßt, hydrophilisiert wurde; und
- die strahlungsempfindliche Schicht folgendes umfaßt:
a) einen strahlungsempfindlichen Ester von 1,2-
Naphthochinon-2-diazid-4- oder -5-sulfonsäure
und einem Polykondensat, das phenolische
Hydroxygruppen aufweist, wobei das
Polykondensat durch Umsetzen einer phenolischen
Verbindung mit einem Aldehyd oder Keton erhalten
wird;
b) einen Novolak oder ein
Polykondensationsprodukt, das durch Umsetzen eines Polyphenols mit
einem Aldehyd oder Keton erhalten wird, als
alkalilösliches Harz;
c) ein Polymer des Vinyltyps, das wenigstens eine
Einheit mit einer seitenständigen
Hydroxyphenylgruppe umfaßt;
d) eine clathratbildende Verbindung;
e) eine niedermolekulare Verbindung, die
wenigstens ein saures Wasserstoffatom umfaßt; und
f) Silicagelteilchen mit einem maximalen
Durchmesser von 15 um.
2. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, wobei der
Aluminiumträger eine Aluminiumfolie mit einem Aluminiumgehalt
von wenigstens 99 Gew.-% ist.
3. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, wobei der Träger
eine Rauhigkeit im Bereich von 0,5 bis 1,5 um (ra-Wert)
hat.
4. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, wobei das
Molekulargewicht Mw des strahlungsempfindlichen Esters a) im
Bereich von 3000 bis 10000 liegt.
5. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, wobei die Menge
des Esters a) in der strahlungsempfindlichen Schicht im
Bereich von 5 bis 60 Gew.-% liegt.
6. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, wobei das
Polykondensat, das phenolische Hydroxygruppen aufweist, durch
Umsetzen von Pyrogallol mit einem Aldehyd oder Keton
erhalten wird.
7. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, wobei die Menge
des alkalilöslichen Bindeharzes b) in der
strahlungsempfindlichen Schicht im Bereich von 5 bis 95 Gew.-% liegt.
8. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, wobei das Polymer
c) Einheiten von N-Hydroxyphenylacrylamid und/oder
-methacrylamid enthält.
9. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, wobei die Menge
des Polymers c) in der strahlungsempfindlichen Schicht im
Bereich von 0,5 bis 70 Gew.-% liegt.
10. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, wobei die
clathratbildende Verbindung d) ein cyclisches D-Glucan oder
Cyclophan ist.
11. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, wobei die Menge
der clathratbildenden Verbindung d) in der
strahlungsempfindlichen Schicht im Bereich von 0,01 bis 10 Gew.-%
liegt.
12. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, wobei die Menge
der Verbindung e) in der strahlungsempfindlichen Schicht
im Bereich von 0,1 bis 10 Gew.-% liegt.
13. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, wobei die
Silicagelteilchen f) eine mittlere Korngröße von 3 bis 5 um mit
einer Ausschlußgrenze von 15 um sowie ein mittleres
Porenvolumen von mehr als 1 ml/g haben.
14. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, wobei die
Silicagelteilchen mit einem Polyethylenwachs beschichtet sind.
15. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, wobei die Menge
der Silicagelteilchen in der strahlungsempfindlichen
Schicht im Bereich von 0,01 bis 10 Gew.-% liegt.
16. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1, wobei die Bekk-
Glätte der strahlungsempfindlichen Schicht kleiner als
125 Sekunden ist (bestimmt gemäß DIN 53 107, Verfahren
A).
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7323912A JPH09160233A (ja) | 1995-11-17 | 1995-11-17 | 平版印刷板製造用感放射線記録材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69604472D1 DE69604472D1 (de) | 1999-11-04 |
DE69604472T2 true DE69604472T2 (de) | 2000-03-09 |
Family
ID=18160012
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69604472T Expired - Fee Related DE69604472T2 (de) | 1995-11-17 | 1996-11-09 | Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Flachdruckplatten |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5998084A (de) |
EP (1) | EP0774692B1 (de) |
JP (1) | JPH09160233A (de) |
AR (1) | AR004322A1 (de) |
AU (1) | AU704980B2 (de) |
BR (1) | BR9605572A (de) |
DE (1) | DE69604472T2 (de) |
ES (1) | ES2139298T3 (de) |
ZA (1) | ZA969602B (de) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1159007A (ja) * | 1997-08-26 | 1999-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
US6399270B1 (en) * | 1998-12-04 | 2002-06-04 | Konica Corporation | Support for printing plate and printing plate |
DE29924474U1 (de) | 1999-07-02 | 2003-08-28 | Hydro Aluminium Deutschland GmbH, 53117 Bonn | Lithoband |
DE19956692B4 (de) * | 1999-07-02 | 2019-04-04 | Hydro Aluminium Deutschland Gmbh | Lithoband |
US6783914B1 (en) * | 2000-02-25 | 2004-08-31 | Massachusetts Institute Of Technology | Encapsulated inorganic resists |
ATE404383T1 (de) | 2000-09-14 | 2008-08-15 | Fujifilm Corp | Aluminiumträger für flachdruchplatte, verfahren zu seiner herstellung und originalflachdruckplatte |
US6692890B2 (en) * | 2001-04-04 | 2004-02-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Substrate improvements for thermally imageable composition and methods of preparation |
US6638679B2 (en) * | 2001-07-12 | 2003-10-28 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Photosensitive compositions having mixtures of alkoxy and non-alkoxy diazonium salt containing compounds |
US20050260934A1 (en) * | 2002-07-03 | 2005-11-24 | Agfa-Gevaert | Positive-working lithographic printing plate precursor |
US20040265734A1 (en) * | 2003-06-30 | 2004-12-30 | Wang Yueh | Photoresist performance through control of polymer characteristics |
EP1818724A1 (de) * | 2004-11-30 | 2007-08-15 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc. | Korrekturflüssigkeit zur verwendung auf lithographischen druckplatten und bildkorrekturverfahren für lithographische druckplatten |
KR100761759B1 (ko) * | 2006-09-14 | 2007-10-04 | 삼성전자주식회사 | 분자 수지, 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 및 이를이용한 패턴 형성 방법 |
KR100761761B1 (ko) * | 2006-09-14 | 2007-10-04 | 삼성전자주식회사 | 분자 수지, 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 및 이를이용한 패턴 형성 방법 |
GB2473000B (en) * | 2009-08-25 | 2014-02-19 | Promethean Ltd | Dynamic switching of interactive whiteboard data |
US9054148B2 (en) * | 2011-08-26 | 2015-06-09 | Lam Research Corporation | Method for performing hot water seal on electrostatic chuck |
CN110032041B (zh) * | 2019-05-07 | 2020-11-10 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 光阻组合物、显示面板及其制备方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3406101A1 (de) * | 1984-02-21 | 1985-08-22 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur zweistufigen hydrophilierenden nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern |
JPS616647A (ja) | 1984-06-20 | 1986-01-13 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ポジ型感光性平版印刷版用感光性組成物 |
JPS61205933A (ja) | 1985-03-08 | 1986-09-12 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JP2719912B2 (ja) | 1987-05-07 | 1998-02-25 | コニカ株式会社 | 感光性平版印刷版 |
JPS63303343A (ja) | 1987-06-03 | 1988-12-09 | Konica Corp | 感光性組成物及び感光性平版印刷版 |
JP2551943B2 (ja) | 1987-03-12 | 1996-11-06 | 三菱化学株式会社 | 感光性平版印刷版 |
DE3852559T2 (de) | 1987-03-12 | 1995-05-24 | Konishiroku Photo Ind | Lichtempfindliche positive Flachdruckplatte. |
JPS6452139A (en) * | 1987-05-18 | 1989-02-28 | Konishiroku Photo Ind | Photosensitive composition |
JPH021855A (ja) | 1988-06-13 | 1990-01-08 | Konica Corp | 感光性平版印刷版 |
JP2539664B2 (ja) | 1988-05-31 | 1996-10-02 | コニカ株式会社 | 感光性平版印刷版 |
DE68917529T2 (de) | 1988-05-31 | 1995-04-06 | Konishiroku Photo Ind | Lichtempfindliche Zusammensetzung und lichtempfindliche lithographische Druckplatte. |
DE4126836A1 (de) * | 1991-08-14 | 1993-02-18 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial aus schichttraeger und positiv arbeitender, strahlungsempfindlicher schicht mit rauher oberflaeche |
JPH07114178A (ja) | 1993-08-21 | 1995-05-02 | Konica Corp | 感光性平版印刷版及び製版方法 |
US5635328A (en) * | 1993-08-21 | 1997-06-03 | Konica Corporation | Light-sensitive lithographic printing plate utilizing o-quinone diazide light-sensitive layer containing cyclic clathrate compound |
DE4401940A1 (de) | 1994-01-24 | 1995-07-27 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes Aufzeichnungsmaterial mit verbesserter Entwickelbarkeit |
JPH086241A (ja) * | 1994-06-21 | 1996-01-12 | Konica Corp | 感光性平版印刷版 |
DE4423140A1 (de) * | 1994-07-01 | 1996-01-04 | Hoechst Ag | Hydrophiliertes Trägermaterial und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
EP0716344A1 (de) * | 1994-12-05 | 1996-06-12 | Konica Corporation | Lichtempfindliche Zusammensetzung und lithographische Druckplatte |
-
1995
- 1995-11-17 JP JP7323912A patent/JPH09160233A/ja active Pending
-
1996
- 1996-11-09 ES ES96118015T patent/ES2139298T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-11-09 EP EP96118015A patent/EP0774692B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-11-09 DE DE69604472T patent/DE69604472T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-11-14 BR BR9605572A patent/BR9605572A/pt not_active Application Discontinuation
- 1996-11-14 AR ARP960105183A patent/AR004322A1/es unknown
- 1996-11-15 US US08/749,854 patent/US5998084A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-11-15 AU AU71781/96A patent/AU704980B2/en not_active Ceased
- 1996-11-15 ZA ZA9609602A patent/ZA969602B/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ZA969602B (en) | 1998-05-15 |
AU704980B2 (en) | 1999-05-13 |
EP0774692A3 (de) | 1997-12-17 |
ES2139298T3 (es) | 2000-02-01 |
BR9605572A (pt) | 1998-08-18 |
US5998084A (en) | 1999-12-07 |
AU7178196A (en) | 1997-05-22 |
JPH09160233A (ja) | 1997-06-20 |
EP0774692B1 (de) | 1999-09-29 |
MX9605443A (es) | 1997-10-31 |
AR004322A1 (es) | 1998-11-04 |
EP0774692A2 (de) | 1997-05-21 |
DE69604472D1 (de) | 1999-11-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69604472T2 (de) | Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Flachdruckplatten | |
DE69905098T2 (de) | Fotoempfindliche Flachdruckplatte | |
DE2512933C2 (de) | Lichtempfindliche Flachdruckplatte | |
EP0222297B1 (de) | Einbrenngummierung für Offsetdruckplatten | |
DE4411176B4 (de) | Entwickler für PS-Platten und Ergänzungsflüssigkeiten für Entwickler | |
DE69527494T2 (de) | Entwickler für ein lichtempfindliches lithographisches Druckmaterial | |
EP0155620A2 (de) | Einbrenngummierung für Offsetdruckplatten und Verfahren zur Herstellung einer Offsetdruckform | |
DE3521555A1 (de) | Lichtempfindliche zusammensetzung fuer lichtempfindliche lithographische druckplatten vom positiven typ | |
DE69320735T2 (de) | Lichtempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte mit reduzierter Tendenz zum Blind werden | |
EP0257505A2 (de) | Vorsensibilisierte Druckplatte und Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den wasserlosen Flachdruck | |
EP0527369B1 (de) | Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial aus Schichtträger und positiv arbeitender, strahlungsempfindlicher Schicht mit rauher Oberfläche | |
DE2925362C2 (de) | Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten | |
DE69219175T2 (de) | Vorsensibilisierte Platte zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte | |
DE3607598A1 (de) | Lichtempfindliche zusammensetzung | |
DE69202888T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte. | |
DE69309013T2 (de) | Wässriger Entwickler für lithographische Druckplatten, der zu verbesserter Oleophilie führt | |
DE69131175T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte | |
DE2340323A1 (de) | Verfahren zur herstellung von flachdruckformen | |
DE69001272T2 (de) | Endbearbeitungsloesung fuer lithographische platten. | |
DE69812817T2 (de) | Positiv arbeitende lithographische Druckplatte | |
EP0111274B1 (de) | Lichtempfindliches Gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial und Verfahren zur Herstellung einer Druckform aus dem Kopiermaterial | |
DE4119686B4 (de) | Vorsensibilisierte Platte | |
DE69321305T2 (de) | Wässerige Entwicklerlösung für Flachdruckplatten mit verbesserter Desensiblisierungsfähigkeit | |
DE69118614T2 (de) | Substrat für lithographische Druckplatten | |
DE3730213A1 (de) | Vorsensibilisierte druckplatte fuer den wasserlosen flachdruck und verfahren zu ihrer herstellung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |