DE3521555A1 - Lichtempfindliche zusammensetzung fuer lichtempfindliche lithographische druckplatten vom positiven typ - Google Patents
Lichtempfindliche zusammensetzung fuer lichtempfindliche lithographische druckplatten vom positiven typInfo
- Publication number
- DE3521555A1 DE3521555A1 DE19853521555 DE3521555A DE3521555A1 DE 3521555 A1 DE3521555 A1 DE 3521555A1 DE 19853521555 DE19853521555 DE 19853521555 DE 3521555 A DE3521555 A DE 3521555A DE 3521555 A1 DE3521555 A1 DE 3521555A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- cresol
- photosensitive
- lithographic printing
- photosensitive composition
- phenol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
- G03F7/0236—Condensation products of carbonyl compounds and phenolic compounds, e.g. novolak resins
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
T 55 069 ■
Lichtempfindliche Zusammensetzung für lichtempfindliche lithographische Druckplatten vom
' positiven Typ
Die Erfindung betrifft eine lichtempfindliche Zusammensetzung
für die Verwendung zur Herstellung von lichtempfindlichen
lithographischen Druckplatten vom positiven Typ, sie betrifft insbesondere eine lichtempfindliche Zusammensetzung,
die eine o-Naphthochinondiazid-Verbindung und ein
20. Novolakharz enthält und ausgezeichnete Eigenschaften in bezug auf die Sicherheit gegenüber Licht, die Entwickelbarkeit
und die Beständigkeit gegen Behandlungs- bzw. Entwicklungschemikalien aufweist.
Iro allgemeinen handelt es sich bei den Zusammensetzungen,
die für die Herstellung von lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten vom positiven Typ verwendet werden,
um solche, die eine o-Chinondiazid-Verbindung als lichtempfindlichen
Bestandteil und ein alkalilösliches Harz
30- zur Erhöhung.der Festigkeit der Überzugsschicht auf der
Platte enthalten.
Üblicherweise werden Novolakharze, wie z.B■. Phenol-Formaldehyd-Harz,
Kresol-Formaldehyd-Harz und dgl., als alkalilösliches
Harz verwendet. In der DE-OS 26 16 992 ist die Verwendung eines Novolakharzes als Bindemittel beschrieben,
das durch Polykondensation eines durch eine Älkylgruppe mit
1 bis 9 Kohlenstoffatomen substituierten Phenols und von
Formaldehyd hergestellt wurde, zur Verbesserung der Druckplatte
in bezug auf ihre Beständigkeit gegen einen alkalisehen Entwickler und in bezug auf die Abriebsbeständigkeit
ihrer lichtempfindlichen Schicht. Außerdem ist in der offengelegten japanischen Patentpublikation (nachstehend als
japanische OPI-Patentpublikation bezeichnet) 127 553/1980 die Verwendung eines copolykondensierten Novolakharzes
als Bindemittel, das durch Kondensation mindestens eines Alkylphenols und Phenols oder eines methylsubstituierten
Phenols oder einer Mischung dieser mit Formaldehyd hergestellt wurde, zur Verbesserung der Beständigkeit gegenüber
einem alkalischen Entwickler, wie oben, beschrieben.
Die obengenannten beiden Harze weisen jedoch eine geringe
Alkalilöslichkeit auf. Eine lithographische Druckplatte, in der eine diese Harze als Bindemittelmaterialien enthaltende
lichtempfindliche Zusammensetzung verwendet wird, hat den Nachteil, daß ihre Alkalilöslichkeit zum Zeitpunkt
ihrer Entwicklung schlecht ist, daß sie bei der Behandlung bzw. Entwicklung.in einer erschöpften alkalischen Entwicklerlösung
nicht zufriedenstellend entwickelt wird und daß somit die Empfindlichkeit der Druckplatte beeinträchtigt
(verschlechtert) wird. l «& '
In der japanischen OPI-Patentpublikation 57 841/1980 ist ein Novqlakharz mit verbesserter Alkalilöslichkeit beschrieben,
das durch Copolykondensation von Phenol und
30. Kresol mit einem Aldehyd erhalten wurde. Obgleich das
Harz in bezug auf die Alkalilöslichkeit zufriedenstellend ist, weist es jedoch nicht notwendigerweise eine ausreichende
Beständigkeit gegenüber den Behandlungs- bzw. Entwicklungschemikalien auf. Eine lichtempfindliche
lithographische Druckplatte vom positiven Typ bildet, wenn sie unter einem weißen Fluoreszenzlampenlicht
(Leuchtstoffröhrenlicht) einer Plattenherstellungbehand-
χ lung unterzogen wird, einen Schleier, der zu. einem Verlust
an lichtempfindlicher Schicht in dem Bildbereich während des Entwicklungsverfahrens führt, wodurch die
Drucklebensdauer der Druckplatte beeinträchtigt (verschlechtert) wird (diese Eigenschaften werden nachstehend
als "Sicherheit gegenüber Licht-Eigenschaften" bezeichnet). Die Verwendung der vorstehend beschriebenen copolykondensierten
Harze ist insofern nachteilig, als dadurch die Beeinträchtigung (Verschlechterung) der Drucklebensdauer
als Folge des Schleiers erhöht wird. Die obengenannten copolykondensierton Harze verbessern zwar die Beständigkeit
der Druckplatte gegen Behandlungs- bzw. Entwicklungschemikalien, wenn ihr gewichtsdurchschnittliches Molekulargewicht
6000 übersteigt, andererseits tritt jedoch der
IQ Nachteil auf, daß ihre Alkalilöslichkeit und ihre Empfindlichkeit
gleichzeitig beeinträchtigt (verschlechtert) werden.
In der geprüften japanischen Patentpublikation 2 3 570/1979
2Q ist die Verbesserung der Druckplatte in bezug auf ihre
Empfindlichkeit durch Verwendung von zwei Typen von Phenol-Formaldehyd-Novolakharzen oder Resolharzen mit einer
unterschiedlichen Löslichkeit in einer wäßrigen alkalischen Lösung mit einem pH-Wert von nicht mehr als 12 als
2g Bindemittelharz, das in einer Photoresist-Zusammensetzung^
enthalten sein soll, beschrieben. Da eine Entwicklerlösung für die Behandlung bzw. Entwicklung einer lichtempfindlichen
lithographischen Druckplatte vom positiven Typ eine hohe Alkalinität (einen pH-Wert von etwa 13) aufweist,
ο« kann in dem Fall, in dem die obengenannten beiden Harztypen
als Bindemittel für die lichtempfindliche Zusammensetzung der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte
vom positiven Typ verwendet werden, die Empfindlichkeit der Platte verbessert werden, es tritt jedoch eine extreme
or Korrosion in dem unbelichteten Bildteil der lichtempfindliehen
Schicht durch eine für diese Entwicklung verwendete alkalische Entwicklerflüssigkeit auf, die zu einer
Beeinträchtigung (Verschlechterung) des Druckerfarbeaufnahmevermögens,
der Beständigkeit gegenüber den Behandlungsbzw. Entwicklungschemikalien und der Sicherheit gegenüber
Licht-Eigenschaften der Druckplatte führt.
In den japanischen OPI-Patentpublikationen 101 833/1982
und 101 834/1982 ist ein Verfahren zur Verbesserung der
Beständigkeit gegen Behandlungs- bzw. Entwicklungschemikalien, der Alkalilöslichkeit und der Drucklebensdauer der
Druckplatte durch Verwendung eines Polyhydroxyphenol-Benzaldehyd-Kondensats,
wie z.B. eines Rcsorcin-Benzaldehyd-Harzes,
eines Pyrogallol-Benzaldehyd-Harzes und dgl.; eines Polyhydroxyphenol-Aceton-Copolykondensatharzes,
wie z.B. eines Pyrogallol-Resorcin-Äceton-Harzes und dgl·.; und dgl. als Bindemittel für die lichtempfindliche Zusammensetzung
einer lichtempfindlichen lithographischen ' Druckplatte vom positiven Typ beschrieben. Dieses Verfahren
ist jedoch nachteilig in bezug auf die Sicherheitgegenüber-Licht-Eigenschaften
.
'
Ein Ziel der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine lichtempfindliche Zusammensetzung für lichtempfindliche
lithographische Druckplatten vom positiven Typ zu schaffen, die verbessert ist in bezug auf die Beständigkeit
gegenüber Behandlungs- bzw. Entwicklungschemikalien,
die Sicherheit gegenüber Licht und das Druckerfarbeauf-ηahmevermögen,
ohne daß eine Beeinträchtigung (Verschlechterung) der Alkalilöslichkeit und Empfindlichkeit der
lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vom positiven
Typ auftritt.
Das obengenannte Ziel wird erfindungsgemäß erreicht durch
eine lichtempfindliche Zusammensetzung für lichtempfindliche
lithographische Druckplatten vom positiven Typ, die eine o-Chinondiazid-Verbindung und ein Novolakharz enthält,
die-dadurch gekennzeichnet ist, daß das obengenannte
Novolakharz enthält oder besteht aus mindestens zwei ver-
schiedenen Novolakharzen, von denen jedes erhalten wurde durch Polykondensation oder (^polykondensation eines Aldehyds
mit mindestens einer Verbindung, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Phenol, mr-Kresol, o-Kresol und p-Kresol,
und in der die Verhältnisse, ausgedrückt durch die Molprozentsätze, der jeweiligen Summen der Mengen
des Phenols, der Mengen des m-Kresols (und/oder des o-Kresols) und der Mengen des p-Kresols, die Bestandteile
für die Polykondensation oder Copolykondensation aller in der lichtempfindlichen Zusammensetzung enthaltenen
Novolakharze sind, zu den Gesamtmengen aller Bestandteile 5 bis 75 Mol-% für das Phenol, 2 0 bis 70 Mol-% für das m-Kresol
(und/oder das o-Kresol) und 5 bis 75 Mol-% für das p-Kresol betragen.
Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die beiliegende Zeichnung (Fig. 1) näher erläutert.
Die Fig. 1 ist ein Diagramm, das mit ternären Koordinaten
die jeweiligen Molprozentsätze der drei Bestandteile Phenol, m-Kresol (oder o-Kresol) und p-Kresol zeigt.
In der Fig. 1 ist jede Spitze des Dreiecks ein Ort, an dem irgendeiner der Bestandteile Phenol, m-Kresol (oder o-Kresol)
und p-Kresol 100 % beträgt, ohne daß die beiden anderen -Bestandteile vorliegen. Wenn sich der Punkt von
der Spitze in Richtung auf die gegenüberliegende Seite bewegt, wird der Prozentsatz des Bestandteils, der durch
ihn dargestellt wird, geringer und wird schließlich zu 0 %, wenn er die gegenüberliegende Seite erreicht. Die
Punkte A bis H in der Fig. 1 sind durch die Koordinaten der drei Bestandteile definiert und die Koordinaten von
(phe, p, m/o) zeigen den Mengenanteil (Mol-%) an Phenol, den Mengenänteil (Mol-%) an p-Kresol und den Mengenanteil
(Mol-%) an m-Kresol oder o-Kresol an.
Bei dem erfindungsgemäß verwendeten Novolakharz handelt
3S21555
es sich um ein solches, das erhalten wird durch Copolykondensation
mindestens einer Verbindung, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus Phenol, m-Kresol (oder o~
Kresol) und p-Kresol, mit einem Aldehyd in Gegenwart eines
Säurekatalysators. Der Aldehyd umfaßt aliphatisch^ und aromatische Aldehyde, wie z.B. Formaldehyd, Acetaldehyd,
Benzaldehyd, Acrolein, Furfural und dgl. Unter diesen ist Formaldehyd bevorzugt.
XO Zu Beispielen für das erfindungsgomäß verwendbare Novolakharz
gehören Phenol-Formaldehyd-Harz, m-Kresol-Forma1-dehyd-IIarζ,
o—Kresol-Formaldehyd-lIarz, Phenol-m-Kresol-Formaldehyd-Polykondensatharz,
Phenol-p-Kresol-Formaldehyd-Copolykondensatharz,
m-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Copolykondensatharz,
o-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Copolykondensatharz,
Phenol-m-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Copolykondensatharz,
Phenol-o-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Copolykondensatharz
und dgl. Die obengenannten Polykondensat- oder Copolykondensatharze können nach üblichen
20- Verfahren erhalten werden.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung
umfaßt zwei oder mehr Harze und vorzugsweise zwei Harze mit unterschiedlichen Eigenschaften der obengenannten
Novolakharze. Die kombinierten Harze enthalten insgesamt
Phenol und p-Kresol, von denen jeweils mindestens 5 % in Mol-% bei der Herstellung zur Synthese der Harze verwendet
werden. Die bevorzugte Kombination ist eine Kombination von Phenol-m-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Copoly-
QQ. kondensatharzen mit unterschiedlichen Eigenschaften oder
eine Kombination von Phenol-m-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Copolykondensatharz
mit in-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd~Copolykondensatharz,
worin die "Eigenschaften" sind das Molekulargewicht, das Zusammensetzungsverhältnis
gg jedes Komponentenmonomeren und dgl. dieser Harze.
Bezüglich des .Molekulargewichtes (Polystyrol-Standard) des
ιο ■ 3S21555
obengenannten Novolakharzes sei bemerkt, daß· das bevorzugte
zahlendurchschnittliche Molekulargewicht Mn 3,00 χ
bis 5,00 χ 10 und das bevorzugte gewichtsdurchschnittliche Molekulargewicht Mw 1,00 χ 103 bis 2,00 χ 104 betra-
3 ?
gen und daß insbesondere Mn 1,00 χ 10 bis 3,00 χ 10
und Mw 6,00 χ 10 bis 1,50 χ 104 betragen.
Die Bestimmung des Molekulargewichtes des Harzes erfolgt
durch GPC (d.h. nach dem Gelpermeationschromatographieverfahren). Die Berechnung des zahlendurchschnittlichen
Molekulargewichtes Mn und des gewichtsdurchschnittlichen Molekulargewichtes Mv; erfolgt nach dem Verfahren des
Abgleichs des Peaks (Maximums) in dem Oligomerbereich (durch eine Verbindung zwischen dem Spitzenpunkt und dem
Zentrum des Minimums, wie von Morio Tsuge et al in "The Journal of the Chemical Society of Japan", S. 800-805
(1972), beschrieben.
Der obengenannte Novolakharz-Gehalt der Gesamtzusammenset-
· ■ zung in der lichtempfindlichen Schicht beträgt vorzugsweise
30 bis 95 Gew.-%, insbesondere 50 bis 85 Gew.-%.
Außerdem ist erfindungsgemäß unter der Summe aller Bestandteile
Phenol, m-Kresol (oder o-Kresol) und p-Kresol,
die bei der Copolycondensation des obigen Novolakharzes ■
verwendet werden, im Falle der Verwendung von zwei oder mehr Typen des obengenannten Novolakharzes in Kombination
die Gesamtmenge aller Bestandteile Phenol, m-Kresol (oder o-Kresol) und p-Kresol, die bei der Synthese der
30· jeweiligen Novolakharze, die in Kombination verwendet
werden sollen, eingesetzt wird, zu verstehen; d.h., darunter ist zu verstehen die Menge an Phenol, m-Kresol
(oder o-Kresol) und p-Kresol, die bei der Synthese der kombinierten Harze, als einziges Harz betrachtet,
verwendet wird. Das Mengenverhältnis der drei Bestandteile,,"
dargestellt durch das Molverhältnis, liegt innerhalb des durch, das Trapez mit seinen Spitzen A, B,. C und D
in der Fig. 1 gebildeten Bereiches (einschließlich des
Linienanteils des Trapezes ABCD). Dieses Molverhältnis wird errechnet aus den Gewichtsprozentsätzen der jeweiligen
Harzgehalte, die miteinander kombiniert werden sollen, und dem bei der Synthese der jeweiligen Harze verwendeten
Molverhältnis zwischen dem Phenol, dem m-Kresol (oder
o-Kresol) und dem p-Kresol. Dieses Molverhältnis liegt
vorzugsweise innerhalb des von dem Trapez mit seinen . Spitzen E, F, G und H umgebenen Bereiches (einschließlich
des Linienanteils des Trapezes EFGH). 10
In der Fig. 1 sind die Koordinaten der Punkte A bis H
(Mengenanteil (Mol-%) Phenol, Mengenanteil (Mol-%) p-Kresol und Mengenanteil (Mol-%) m-Kresol oder o-Kresol)
die folgenden:
15
15
Punkt A (75%, 5%, 20%) .
Punkt B (25%, 5%, 70%)
Punkt C (5%, 25%, 70%)
*""'. Punkt D' (5%, 75%, 20%)
Punkt E (65%, 5%, 30%)
Punkt F (40%, 5%, 55%)
Punkt G (10%, 35%, 55%)
■ Punkt H (30%, 40%, 30%)
In dem obigen Novolakharz ist das Verfahren zur Bestimmung
des Mengenverhältnisses zwischen den drei Bestandteilen Phenol, mKresol (oder o-Kresol) und p-Kresol,
die bei der Synthese desselben verwendet werden, die Pyrolysegaschromatographie (PGC). Das Prinzip
und die Vorrichtung und die experimentellen Voraussetzungen
für die Durchführung der Pyrolysegaschromatographie werden beispielsweise von Shin Tsuge in "Kobunshi
Kagaku [l] (Polymer Chemistry [l])", S. 474-485, Band
19, des "Shin Jikken Kagaku Koza (Course of New Experimental Chemistry)", gesammelt von der Chemical
ήΐ- ■ 3 S 215 5
Society of Japan (publiziert von Maruzen Co.., Ltd. 1978),
beschrieben, und die qualitative Analyse der Novolakharze durch Pyrolysegaschromatographie kann nach dem Verfahren
. erfolgen, wie es beispielsweise von Morio Tsuge, Tagashi Tanaka und Shigeyuki Tanaka in "Bunseki Kagaku (Analytical
Chemistry)", Band 18, S. 47-52 (1969), beschrieben ist.
Bei der erfindungsgemäß verwendeten o-Chinondiazid-
IQ Verbindung handelt es sich um eine Verbindung mit mindestens
einer o-Naphthochinondiazido-Gruppe, vorzugsweise o-Benzochinondiazido-Gruppe oder o-Naphthochinondiazido-Gruppe,
und sie umfaßt bekannte Verbindungen verschiedener Strukturen, z.B. die Verbindungen, wie sie beispielsweise
von J. Kosar in "Light-Sensitive Systems" (publiziert von John Wiley & Sons, Inc. 1965), S. 339-353,
im Detail beschrieben sind. Geeignet sind insbesondere die Ester oder Amide der o-Naphthochinondiazidosulfonsäure
mit verschiedenen Hydroxyverbindungen oder Aminoverbindungen. Die bevorzugten Hydroxyverbindungen
umfassen Kondensatharze von Phenolen und carbonylgruppenhaltigen Verbindungen und insbesondere solche Harze,
die erhältlich sind durch Kondensation in Gegenwart eines Säurekatalysators. Die Phenole umfassen Phenol,
Resorcin, Kresol, Pyrogallol und dgl. Die carbonylgruppenhaltigen Verbindungen umfassen Aldehyde, wie Formaldehyd,
Benzaldehyd und dgl., und Ketone, wie Aceton.
Bevorzugt sind insbesondere Phenol-Formaldehyd-Harz, QQ Kresol-Formaldehyd-Harz, Kresol-Formaldehyd-Harz, Pyrogallol-Aceton-Harz
und Resorcin-Benzaldehyd-Harz. Besonders bevorzugt ist Pyrogallol-Aceton-Harz.
Zu typischen Beispielen für die o-Chinondiazid-Verbindung gehören Ester der Benzochinon-(1,2)-diazidosulfonsäure
oder·- Naphthochinon- (1,2) -diazidosulf onsäure mit
Phenol-Formaldehyd-Harzen oder Kresol-Formaldehyd-Harzen;
Sulfonate der Naphthochinon-(1,2)-diazidosulfonsäure
mit Pyrogallol-Aceton-Harzen, wie in der US-PS 3 635 beschrieben; Kondensate von Naphthochinon-(1,2)-diazido-(2)-5-sulfonsäure
mit Resorcin-Benzaldehyd-Harzen, wi-e in der japanischen OPI-Patentpublikation 1 044/1981
beschrieben; Esterverbindungen der Naphthochinon-(1,2)-diazido-(2)-5-sulfonsäure
mit Resorcin-Pyrogallol-Aceton-Copolykondensaten, wie in der' japanischen OPI-Patentpublikation
76 346/1980 beschrieben; zu weiteren brauchbaren o-Chinondiazid-Verbindungen, wie sie in der
japanischen OPI-Patcmtpublikation 117 503/1975 beschrieben
sind, gehören die Ester der o-Naphthochinondiazidosulfonsäure mit Polyestern mit einer Hydroxygruppe
an ihrem Ende; Ester der o-Naphthochinondiazidosulfonsäure mit p-Hydroxystyrolhomopolymeren oder Copolymeren
derselben mit anderen copolymerisierbaren Monomeren;
und dgl.
Der Gehalt der lichtempfindlichen resistbildendeh Zusam-20·
mensetzung an der o-Chinondiazidverbindung beträgt vorzugsweise 5 bis 60 Gew.-% der gesamten Feststoffkomponenten
der Zusammensetzung und insbesondere 10 bis 50 Gew.-%.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung
kann erforderlichenfalls andere Zusätze als die obengenannten Materialien enthalten, wobei die Zusätze umfassen
verschiedene niedermolekulare Verbindungen, wie Weichmacher, z.B. Phthalate, Triphenylphosphate, Maleate;
30· oberflächenaktive Mittel als Mittel zur Verbesserung der
Beschichtbarkeit, wie z.B. nicht-ionische oberflächenaktive
Mittel, repräsentiert durch Ethylcellulose-Polyalkylenäther;
Säureanhydride als Sensibilisatoren; und außerdem Auskopiermaterialien, wie sie für die Erzeugung
von sichtbaren Bildern durch Belichtung verwendet werden. Bei dem Auskopiermaterial (print-out
material) handelt es sich um ein solches, das eine Ver-
-μ-
bindung enthält, die bei der Belichtung eine Säure oder ein freies Radikal und einen organischen Farbstoff
bildet, der seine eigene Farbe durch Wechselwirkung mit der obigen Verbindung ändert. Die durch Belichtung
eine Säure oder ein freies Radikal liefernde Verbindung umfaßt beispielsweise ein o-Naphthochinondiazido-4-sulfonsäurehalogenid,
wie in der japanischen OPI-Patentpublikation 36 209/1975 beschrieben; Trihalogenmethyl-2-pyron
und Trihalogenmethyl-tolidin, wie in der japanischen OPI-Patentpublikation 36 22 3/1978
beschrieben; o-Naphthochinondiazido-4-sulfonsäurechlorid
und Phenole mit einem Elektronen anziehenden Substituenten oder Esterverbindungen mit Anilinen,
wie in der japanischen OPI-Patentpublikation 6 244/1980 beschrieben; Halogenmethyl-vinyl-oxadiazol-Verbindungen
und Diazoniumsalze, wie in der japanischen OPI-Patentpublikation 77 742/1980 beschrieben, und dgl.
Der obengenannte organische Farbstoff umfaßt Farbstoffe vom Triphenylmethan-Typ, Diphenylmethan-Typ, Oxazin-Typ,
Xanthen-Typ, Iminonaphthochinon-Typ, Azomethin-Typ und
Anthrachinon-Typ, repräsentiert beispielsweise durch Victoria Pure Blue BOH (Hodogaya Chemical Co., Ltd.),
Oil Blue #603 (Orient Chemical Co., Ltd.), Patent Pure Blue (Sumitomo-Mikuni Chemical Co., Ltd.), Kristallviolett,
Brilliantgrün, Ethylviolett, Methylgrün, Erythröcin B, basisches Fuchsin, Malachitgrün, Oil Red,
m-Kresol Purple, Rhodamine B, Auramin, 4-p-Diethylaminophenyliminonaphthochinon,
Cyano-p-diethyl-. aminophenolacetanilid und dgl. · ·
Außerdem kann die lichtempfindliche Zusammensetzung zur Verbesserung des Druckerfarbenaufnahmevermögens
enthalten ein lichtempfindliches Harz, das erhalten wurde durch Kondensation eines oleophilen Phenol-Formaldehyd-Harzes und eines p-substituierten Phenol-Formaldehyd-Harzes
mit o-Chinondiazidosulfonsäurechlorid»
-a*- <iS . 352T555
Das Mittel zur Verbesserung des Druckerfarbenaufnahmevermögens
ist zweckmäßig in einer Menge von 0,1 bis 2 Gcw.~% der gesamten Zusammensetzung der lichtempfindlichen
Schicht enthalten.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung
wird in einem Lösungsmittel, das umfaßt Cellosolven,
wie z.B. Methylcellosolve, Ethylcellosolve, Methylcellosolveacetat,
Ethylcellosolveacetat und dgl., Dimethyl-
jQ formamid, Dimethylsulfoxid, Dioxan, Aceton, Cyclohexan,
Trichlorethylen, Methylethylketon und dgl., oder in einem Gemisch von zwei oder mehr dieser Lösungsmittel gelöst
zur Herstellung einer lichtempfindlichen Beschichtungsflüssigkeit,
die dann in Form einer Schicht auf ei-
jr nen Träger aufgebracht und danach getrocknet wird,
wodurch eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte vom positiven Typ erhalten werden kann. Zu den
Materialien, die als obengenannter Träger verwendet werden, können, gehören Aluminiumplatten (vorzugsweise durch
2Q anodische Oxidation behandelte Aluminiumplatten), Zink-'
platten, Kupferplatten; Eisen- und Stahlplatten, die mit mindestens einem Metall, ausgewählt aus der Gruppe
Zinn, Chrom und Nickel, plattiert sind; Metallplatten, die mit geschmolzenem Aluminium plattiert sind; mit Eisen
pe plattierte Stahlplatten; solche Platten, die durch Auf la·-
minieren einer Aluminiumfolie direkt oder über eine Adhäsionsschicht
auf die Rückseite der Metallplatten, eines Kunststoffilms oder von Papier und dgl. erhalten
wurden, und ein Kunststoffilm und dgl.
Am meisten bevorzugt sind Aluminiumplatten. Der Aluminiumplattenträger
wird zweckmäßig einer Aufrauhungsbehandlung, einer Reinigungsbehandlung oder, einer anodischen Oxidationsbehandlung
und erforderlichenfalls einer Oberflächen-„,_
behandlung, wie z.B. einer Versiegelungsbehandlung, unterworfen. Diese Behandlungen können nach bekannten
Verfahren durchgeführt werden. Das Aufrauhungsverfahren
umfaßt mechanische Verfahren, wie z.B. das Bürstenabriebsverfahren,
das Kugelabriebsverfahren und dgl.; chemische Verfahren, wie z,B. ein elektrolytisches Ätzverfahren;
und Kombinationen von mechanischen und elektrolytischen Verfahren; und dgl.
Das Reinigungsbehandlungsverfahren umfaßt das alkalische Ätzverfahren, das Schwefelsäurereinigungsverfahren und
dgl. Die anodische Oxidation wird durchgeführt durch Anlegen eines elektrischen Stromes an eine Aluminiumplatte
als eine Anode, die in eine wäßrige Lösung oder in eine nicht-wäßrige Lösung einer einzigen oder einer Mischung
von zwei oder mehr anorganischen Säuren, wie Borsäure, Schwefelsäure und dgl., oder organischen
Säuren, wie Oxalsäure, Sulfamidsäure und dgl. eingebracht
wird. Außerdem wird die Versiegelungsbehandlung durchgeführt durch Eintauchen einer Aluminiumplatte in
eine wäßrige Natriumsilicatlösung, erhitztes Wasser oder eine erhitzte wäßrige anorganische oder organische SaIzlösung
oder durch Einbringen derselben in ein Wasserdampfbad.
Andererseits weisen in jeder der erfindungsgomäßen lichtempfindlichen
lithographischen Druckplatten, die umfassen einen Träger auf Aluminiumbasis, der einer Aufrauhungsbehandlung
unterworfen worden ist und mit einem anodischen Oxidationsüberzug versehen wurde, so daß die
Menge der anodischen Oxidationsüberzugsschicht innerhalb des Bereiches von 25 bis 50 mg/dm2 liegt, und eine lichtempfindliche
Schicht, die eine o-Chinondiazid-Verbindung und das Novolakharz enthält, die lithographischen
Druckplatten, in denen jeweils eine erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung verwendet wird, in
der das gewichtsdurchschnittliche Molekulargewicht
des Novolakharzes 6,00 χ 103 bis 2,00 χ 10 beträgt, ausgezeichnete-
Eigenschaften, wie z.B. eine hohe Empfindlichkeit, einen ausgezeichneten Punktverlusteffekt, eine aus-
gezeichnete Kugelschreiberbeständigkeit und eine ausgezeichnete Haltbarkeit gegenüber einer Vielzahl von Behandlungsbzw.
Eritwicklungschemikalien, wie sie im
Verlaufe von Druckarbeiten verwendet werden, auf.
Unter dem hier verwendeten Ausdruck "Kugelschreiber-Beständigkeit"
ist folgendes zu verstehen: es gibt einige Fälle, in denen die Positionen von mehreren Filmoriginalen
jeweils auf einer lichtempfindlichen lithographisehen
Druckplatte markiert werden, um sie darauf auszurichten, wenn die mehreren Filmoriginale ausgelegt werden,
um nacheinander auf der lithographischen Druckplatte vervielfältigt zu werden, d.h. beim sogenannten "multiplen
Drucken bzw. Vervielfältigen", und in diesem Falle wird
im allgemeinen ein Kugelschreiber als Markierungseinrichtung verwendet. Die lichtempfindliche Schicht der lithographischen
Druckplatte wird erodiert und dann aufgelöst durch die Farbe des Kugelschreibers. Wenn die markierte Position
sich in einem Bildbereich befindet und eine Entwicklung so wie sie ist durchgeführt wird, können einige Störungen
dort auftreten, wo der Teil der die Markierungen in dem Bildbereich bedeckenden lichtempfindlichen Schicht entfernt
sein kann, und die Markierungen können beim Drucken auf einem bedruckten Material reproduziert werden. Der
Ausdruck "Kugelschreiber-Beständigkeit" bedeutet, daß eine
lithographische Druckplatte durch die Farbe eines Kugelschreibers kaum erodiert werden kann.
Die vorstehend beschriebenen lithographischen Druckplatten
30. werden vorzugsweise verwendet, wenn das Molekulargewicht
2 ' 3
ihres Novolakharzes 8 χ 10 bis 5 χ 10 als zahlendurch-
3
schnittliches Molekulargewicht Mn und 6 χ 10 bis 2 χ 10 als gewichtsdurchschnittliches Molekulargewicht Mw
betragen, und sie können besonders bevorzugte Effekte aufweisen, wenn das zahlendurchschnittliche Molekularge-
~- 3 3
wicht Mn 1 χ 10 bis 3x10 und das gewichtsdurchschnittliche·
Molekulargewicht Mw 8 χ 10 bis 1,5 χ 10 betragen.
In den vorstehend beschriebenen lithographischen Druckplatten handelt es sich bei den bevorzugten o-Chinondiazid-Verbindungen
ihrer lichtempfindlichen Schichten um o-Chinondiazidsulfonate, welche die polykondensierten
Harze von Polyhydroxyphenol und Keton oder Aldehyd sind, deren zahlendurchschnittliches Molekulargewicht
2 3
3,00 χ 10 bis 2,00 χ 10 beträgt und deren gewichts-
■> 2
durchschnittliches Molekulargewicht 5,00 χ 10 bis 4,00 χ
10 beträgt. Besonders bevorzugt ist ein o-Naphthochinondiazidsulfonat, bei dem es sich um ein polykondensiertes
Harz von Pyrogallol und Aceton handelt, dessen zahlen-
durchschnittliches Molekulargewicht 4,00 χ 10 bis
1,50 χ 10 beträgt und dessen gewichtsdurchschnittliches Molekulargewicht 7,00 χ 102 bis 3,00 χ 103 beträgt.
Der Grad der Kondensation des o-Naphthochinondiazidchlorids
an den OH-Rcst des Phenols der obengenannten Esterverbindungen, d.h. der Prozentsatz an einem OH-Restf
beträgt vorzugsweise 20 bis 80 %, insbesondere 2 5 bis 70 % und ganz besonders bevorzugt 30 bis 60 %.
Bei einem Verfahren zur Herstellung der obengenannten lithographischen Druckplatten wird ein Träger aus einem
Material auf Aluminiumbasis einer Aufrauhungsbehandlung unterworfen und dann einer anodischen Oxidationsbehandlung
unterworfen, wie vorstehend beschrieben.
Wenn eine Elektrolyse durchgeführt wird unter Verwendung einer Lösung, die Schwefelsäure, Chromsäure, Oxalsäure,
Phosphorsäure, Malonsäure oder dgl. unabhängig oder in Kombination enthält, als Elektrolytlösung und Aluminium
als Anode verwendet wird, wird eine anodische Oxidationsüberzugsschicht auf der Aluminiumoberfläche gebildet.
Die geeigneten Bedingungen der Elektrolyse liegen innerhalb des Bereiches von 5 bis 85 Gew.-% in der Säurekonzentration,
von-. 1 bis 60 A/dm2 in der Stromdichte und von 0 bis 800C in der Badtemperatur. Die Verfahren sind als Beispiele
angegeben, nach denen die obengenannten Druckplat-
ten unter den folgenden Bedingungen erhalten werden:
Badtemperatur von 10 bis 3O0C, Spannung von 15 bis 20 V,
• ,Stromdichte von 1 bis 2 A/dm2 und Behandlungs- bzw. Entwicklungszeit
von 2 bis 10 min in einer wäßrigen Schwefelsäurelösung von TO bis 20 Gew.-% in der Konzentration
oder bei einer Badteinperatur von 2 0 bis 70°Cf einer
Spannung von 20 bis 50 V, einer Stromdichte von T bis 2 A/m2 und einer Behandlungs- bzw. Entwicklungszeit von
0,5 bis 10 min in einer wäßrigen Schwefelsäurelösung von 1 bis 30 Gew.-% in der Konzentration. Die anodische
Oxidationsbeschichtungsmenge dieser Platten, die bei dom Verfahren gebildet wird, beträgt 25 bis 50 mg/dm2.
Das dabei erhaltene lithographische Plattenmaterial wird
]_5 auf bekannte Weise verwendet: die Platte wird durch einen
in engem Kontakt damit stehenden positiven Bildfilm mit Licht aus einer Ultrahochspannungsquecksilberlichtbogenlampe,
einer Metallhalogenidlampe oder dgl. belichtet und dann in einer alkalischen Entwicklerflüssigkeit
entwickelt und danach als Druckplatte verwendet.
Die alkalische Entwicklerflüssigkeit ist eine wäßrige
Lösung, die Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumcarbonat
, Natriums!] i cat, Natriumme ta.s.il j cat, Kaliummet ar. 1.1 icat,
Natrium-sec.-phosphat, Natriuin-tert.-phosphat oder dgl. enthält. Die Konzentration des alkalischen Agens
beträgt vorzugsx^else 0,1 bis 10 Gew.-%.
Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele näher
OQ erläutert, ohne jedoch darauf beschränkt zu sein.
Eine 0,24 'mm dicke Aluminiumplatte (Material 1050, Temper
H16) wurde in einer 5 %igen wäßrigen Natriumhydroxidlösung,
die bei 6-00C gehalten wurde, 1 min lang entfettet und
dann 30 s lang einer elektrolytischen Ätzbehandlung
unterworfen in 1 1 einer 0,5 molaren wäßrigen Chlorwasserstoff säurelösung, die bei 25°C bei einer Stromdichte
von 60 A/dm2 gehalten wurde. Danach wurde die Platte einer 10 s langen Reinigungsbehandlung in einer 5
%igen wäßrigen Natriumhydroxidlösung bei 6O0C unterworfen
und dann einer 1 min langen anodischen Oxidationsbehandlung in einer 2 0 %igen wäßrigen Schwefelsäurelösung
bei 20°C und einer Stromdichte von"3 A/dm2 unterzogen.
Ferner wurde die Platte einer 20 s langen Versiegelungsbehandlung
in erhitztem Wasser bei 800C unterworfen zur Herstellung eines Aluminiumplattenträgers für ein lithographisches
Druckplattenmaterial.
Auf die resultierende Aluminiumplatte wurde in Form einer Schicht aufgebracht eine lichtempfindliche Beschichtungsflüssigkeit
mit der nachstehend angegebenen Zusammensetzung unter Verwendung einer Rotationsbeschichtungsvorriehtung
und dann wurde sie 4 min lang bei 1000C getrocknet, wobei
man eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte vom positiven Typ erhielt.
Zusammensetzung der lichtempfindlichen Beschichtungsflüssigkeit
- Eine Esterverbindung von Naphthochinon-(1,2)-diazido-(2)
-S-^sulfonsäurechlorid mit Pyrogallol-Aceton-Harz
(beschrieben in Beispiel 1 der US-PS 3 635709; Kondensationsrate 33 Mol-%) 1,7g
- Phenol-m-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Copolykoriden-
satharz (Molverhältnis Phenol : m-Kresol : p-Kresol =
20 : 48 : 32, zahlendurchschnittliches Molekulargewicht Mn = 1360, gewichtsdurchschnittliches Molekulargewicht
Mw = 9140, Produktname SK-102, hergestellt
von der Firma Sumitomo Durez) 4,42g
- Phenol-m-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Copolykondensatharz
(Molverhältnis Phenol : m-Kresol : p-Kresol = 50 : 30 : 20, Mn = 1200, Mw = 9410, Produktname
SK-105, hergestellt von der Firma Sumitomo Durez) 2,08g
- eine Esterverbindung eines Novolakharzes, synthetisiert
aus p-t-Butylphenol und Benzaldehyd und
Naphthochinone. 1 ,2) -diazido- (2)-5-sulfonsäurechlorid
(Kondensationsrate 50 Mol-%) 0,16 g
- pil Blue #603 (ein Produkt der Firma Oriental) 0,07 g
- Methylcellosolve 100 g
Das Überzugsgewicht nach dem Trocknen betrug 22 mg/dm2.
Die Molekulargewichte der obengenannten beiden Novolakharze
wurden nach dem GPC-Verfahren (Gelpermeationschromatographieverfahren)
bestimmt. Die dabei angewendeten GPC-Meßbedingungen waren folgende:
Instrument: Kolonne vom Typ 635 (hergestellt von der
Firma Hitachi, Ltd.), Shodex A 802, A803 und A804, verbunden in Reihe (hergestellt von der Firma Showa
Denko K.K.)
Temperatur: Raumtemperatur
Lösungsmittel: Tetrahydrofuran
■ Strömungsrate: 1,5 ml/min.
Lösungsmittel: Tetrahydrofuran
■ Strömungsrate: 1,5 ml/min.
Die Eichkurven wurden mit Styrol als Standard hergestellt.
Die auf diese Weise erhaltene lichtempfindliche lithogra-25
phische.Druckplatte vom positiven Typ wurde 70 s lang
durch eine Empfindlichkeitstest-Stufenplatte (Nr. 2, hergestellt von der Firma Eastman Kodak Co.) und einen
positiven Bildfilm belichtet, die beide dicht aufeinander
lagen, unter Verwendung von Licht aus einer 2KW-Metall-•
halogenidlampe (Idolfin 2000, hergestellt von der Firma
Iwasaki Electric Co., Ltd.), die einen Meter von der Druckplatte entfernt angeordnet war. Die belichtete Platte
wurde dann· 45s lang in einer wäßrigen 4 %igen Natriumsilicatlösung
bei 25°C behandelt (entwickelt), wobei man
eine lithographische Druckplatte mit vollständig entferntem bildfreiem Bereich erhielt. Bei der Messung der
Empfindlichkeit der erhaltenen lichtempfindlichen
lithographischen Druckplatte vom positiven Typ wurde gefunden, daß in der Grauskala (21 Stufen mit einem jeweiligen
Dichtestufendifferential von 0,15) die Stufe
4-1/2 vollständig entwickelt (klar) war.
Z.ur Untersuchung der Behandlungs- bzw. Entwicklungschemikalien-Beständigkeitseigenschaften
wurde anschließend ein Ultraplate Cleaner (hergestellt von der Firma A.B.C. Chemical Co., Ltd.) verwendet, der als Reiniger
zur Entfernung des während des Drückens (Vervielfältigens) in dem bildfreien Bereich auftretenden Schaums (scum)
verwendet werden soll, und es wurde die Haltbarkeit der Platte gegenüber der Chemikalie' getestet.
Die Druckplatte, die ein Bild mit einem Dichtedifferential
auf den Sttifen der obengenannten Grauskala trug, wurde
4 5 min lang in die bei Raumtemperatur flüssige unverdünnte Ultraplate-Reinigerflüssigkeit eingetaucht und dann
20. gewaschen und mit dem Bildbereich vor dem Eintauchen verglichen und auf diese Weise wurde der Korrosionsgrad
auf dem Bildbereich durch die Chemikalie beurteilt. Als Ergebnis wurde eine zufriedenstellende Behandlungsbzw. Entwicklungschemikalien-Beständigkeit erhalten,
wobei die Ergebnisse zeigten, daß auf dem Bildbereich äe±
Platte keine Korrosion auftrat und der Halbton bis zu den 3 %-Flächenpunkten aufrechterhalten wurde.
Anschließend wurden die Sicherheit -gegenüber-Licht-30.
Eigenschaften der obengenannten lichtempfindlichen lithographischen
Druckplatte vom positiven Typ getestet.
Die lithographische Druckplatte wurde vor der bildmäßigen Belichtung und Entwicklung 10 min lang belichtet, wobei
sie unter ein Fluoreszenzlampenlicht (310 Lux) gelegt wurde, um"sie verschleiern zu lassen, und dann wurde sie
auf die gleiche Weise wie oben behandelt bzw.. entwickelt
und der Grad des Verlustes der lichtempfindlichen
Schicht wurde gemessen. Der Grad des Verlustes der Schicht ist der Grad der Abnahme der Dicke der Schicht,
d.h. die Differenz zwischen der Dicke der lichtempfindliehen
Schicht der lithographischen Druckplatte, die ohne Verschleierung durch Licht entwickelt wurde, und
derjenigen der gleichen Druckplatte, die nach dem Verschleiern entwickelt wurde. Je größer der Differenzwert ist, um so schlechter sind die Sicherheit-gegenüber-Licht-Eigenschaften.
■
Als Ergebnis wurde gefunden, daß der Grad des Verlustes der Schicht 5 % betrug. Außerdem wurde zur Bestimmung
der Drucklebensdauer die oben erhaltene lithographische
.15 Druckplatte bildmäßig belichtet durch einen positiven
Film, der auf die gleiche Weise wie vorstehend beschrieben damit in Kontakt war, dann durch Licht aus einer
weißen Fluoreszenzlampe auf ähnliche Weise verschleiert
und anschließend in entsprechender Weise entwickelt,
20. wobei man eine lithographische Druckplatte A erhielt.
Andererseits wurde eine weitere Druckplatte B auf die
gleiche Weise hergestellt, die jedoch nicht verschleiert wurde. Beide lithographischen Druckplatten A und B wurden
zur Durchführung des Drückens auf einer Offset-Druckvorrichtung
unmittelbar übereinander angeordnet. Als Ergebnis wurde gefunden, daß beide Druckplatten ein zufriedenstellendes
Druckerfarbenaufnahmevermögen mit einem Ausschuß
von nur 12 Abzügen aufwiesen. Bezüglich der Drucklebensdauer wies die lithographische Druckplatte Ä eine
30- akzeptable Drucklaufzeit von 180 000 Drucken (Vervielfältigungen)
auf, während die Druckplatte B 200 000 Drucke (Vervielfältigungen) ergab, so daß die Beeinträchtigung
(Verschlechterung) der Drucklebensdauer als Folge der Verschleierung durch Licht 10 % betrug. Die Beurteilung
des-Endes der Drucklebensdauer erfolgte an dem Punkt,
an dem der feste Anteil der Bildfläche sich ablöste, so daß das Drucken mit der Platte nicht mehr forgesetzt
werden konnte.
Vergleichsbeispiel 1
Auf einen Aluminiumplattenträger ähnlich demjenigen des Beispiels 1 wurde in Form einer Schicht auf ähnliche
Weise die folgende lichtempfindliche BeSchichtungsflüssigkeit aufgebracht und dann getrocknet, wobei man
eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte vom
positiven Typ erhielt.
Zusammensetzung der lichtempfindlichen Beschichtungsflüssicjkeit
- Eine Esterverbindung von Naphthochinon-(1,2)-diazido-(2)-5-sulfonsäurechlorid
mit Pyrogallol-Aceton-Harz
(wie in Beispiel 1 der US-PS 3 635.709 beschrie-
ben, Kondensationsgrad 33 Mol-%) 1,7 g
- Phenol-m-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Copolykondensatharz
(Molverhältnis Phenol : m-Kresol : p-Kresol =
30 : 42 : 28, zahlendurchschnittliches Molekularge- ~~wicht Mn = 1400, gewichtsdurchschnittliches Moleku-
^ . largewicht Mw = 9800; bestimmt auf die gleiche Weise
wie in Beispiel 1, Produktname SK-103, hergestellt von der Firma Sumitomo Durez) 6,5g
- eine Esterverbindung eines Novolakharzes, synthetisiert
' aus p-t-Butylphenol und Benzaldehyd mit Naphthochinon-(1,2)
-rdiazido- (2) -5-sulfonsäurechlorid (Kondensationsgrad 50 Mol-%) 0,16g
- Oil Blue #603 (hergestellt von der Firma Oriental) 0,07g
- Methylcellosolve 100 g 30.
Das Überzugsgewicht nach dem Trocknen betrug etwa 22 mg/dm2.
Das heißt,.bei der in Vergleichsbeispiel 1 hergestellten
lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vom positiven Typ handelte es sich um eine solche, die auf die
gleiche Weise und nach den gleichen Vorschriften wie in
Beispiel 1 hergestellt wurde, jedoch mit der Ausnahme, daß die beiden Novolakharze (SK-102 und SK-105, Gesamtmenge
6,5 g) , die als Bindemittel für die lichtempfindliche
lithographische Druckplatte vom positiven Typ des Beispiels 1 verwendet worden waren, durch ein anderes
Novolakharz (SK-103, 6,5 g) ersetzt wurden. Wenn die Mengen von Phenol, m-Kresol und p-Kresol, die bei der
Synthese verwendet wurden und in den obengenannten beiden Novolakharzen (SK-102 und SK-105, insgesamt 6,5 g) enthal-
-^q ten sind, zusammengezählt werden und das Mengenverhältnis
der drei Bestandteile, ausgedrückt durch das Molverhältnis, errechnet wird, so ergibt sich Phenol : m-Kresol : p-Kresol
= (4.42x20 +
D . D
2.08x50) : ^(4.42x48 + 2.08x30) : A".(4.42 χ 32 + 2 . 08 χ 20) =
29.6 : 42.2 : 28.16, während das Mo!.verhältnis von Phenol zu
m-Kresol zu p-Kresol, die in. dem einen Novolakharz (SK-103) , das im Vergleichsbeispiel 1 verwendet wurde, enthalten
waren, 30 : 42 : 28 betrug, das nahezu das gleiche wie das obige Verhältnis war. Daher war der einzige Unterschied
zwischen der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vom positiven Typ des Beispiels 1 und der lichtempfindlichen
lithographischen Druckplatte vom positiven Typ des Vergleichsbeispiels 1 der, daß das Bindemittel im einen
Falle aus dem doppelten Novolakharz und im anderen Falle ^ aus dem-einzigen Novolakharz bestand, unter Berücksichtigung
der Tatsache, daß die jeweiligen Mengen an Phenol, m-Kresol und p-Kresol, die in den Novolakharzen als Bindemittel
enthalten waren, und das Mengenverhältnis der drei
„λ Bestandteile gleich waren.
Die in dem Vergleichsbeispiel 1 erhaltene lichtempfindliche
lithographische Druckplatte vom positiven Typ wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 bildmäßig belichgg
tet und entwickelt, wobei man eine lithographische Druckplatte erhielt. Wenn die Empfindlichkeit derselben auf
ähnliche Weise gemessen wurde, wurde gefunden, daß die
4 1/4 Stufe der obengenannten Stufenplatte vollständig entwickelt (klar) war, so daß die Empfindlichkeit nahezu
die gleiche war wie diejenige der in Beispiel 1 erhaltenen lithographischen Druckplatte.
5
Anschließend wurde die im Vergleichsbeispiel 1 erhaltene lichtempfindliche lithographische Druckplatte
vom positiven Typ auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 in bezug auf die Beständigkeit gegen Behandlungs- bzw.
Entwicklungschemikalien, die Sicherheit gegenüber Licht und die Drucklebensdauer getestet. Als Ergebnis wurde
gefunden, daß die wie oben hergestellte lichtempfindliche
lithographische Druckplatte vom positiven Typ nach 4 5 min langem Eintauchen in die Ultraplate cleaner Flüssigkeit
eine Korrosion der Bildfläche und nur die halbe Wiedergabe der 4 %-Flächen-Halbtonpunkte aufwies
und daß sie bezüglich der Sicherheit-gegenüber-Licht-Eigenschaften
einen Verlust der Schicht, zurückzuführen auf die Verschleierung durch Licht, von nicht weniger als
15 % aufwies, was zu einer Beeinträchtigung (Verschlechterung) der Drucklebensdauer von nicht weniger als 35 %
führte, so daß die Sicherheit-gegenüber-Licht-Eigenschaften nicht akzeptabel waren.
Bezüglich des Novolakharzes als Bindemittel der lichtempfindlichen
lithographischen Druckplatte vom positiven Typ ergibt sich somit daraus, daß das eine, bestehend aus
zwei verschiedenen Novolakharzen, in bezug auf die Sicherheit-gegenüber-Licht-Eigenschaften und auch in
bezug auf die Beständigkeit gegenüber Behandlungs- bzw. Entwicklungschemikalien dem andern aus einem einzigen
Novolakharz überlegen war, obgleich sie die gleiche Empfindlichkeit hatten, selbst wenn sie in den jeweiligen
Gesamtmengen an Phenol, m-Kresol und p-Kresol und in dem
jeweiligen Mengenverhältnis der drei Bestandteile übereinstimmten -und selbst wenn sie insofern gleich waren, als
das Mengenverhältnis der drei Bestandteile unter den
Mengenverhältnisbereich der drei Bestandteile (den durch die Punkte A, B, C und D umgebenen Bereich), wie er in
der Fig. T angegeben ist, fiel«
Vergleichsbeispie-1 2
Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte vom '
positiven Typ wurde auf die gleiche Weise und unter Anwendung der gleichen Vorschrift wie in Beispiel 1 herge-
jQ stellt, wobei diesmal jedoch die beiden Novolakharze
(SK-102 und SK-105, Gesamtmenge 6,5 g), die als Bindemittel
für die lichtempfindliche lithographische Druckplatte vom positiven Typ des Beispiels 1 verwendet worden waren,
durch die beiden folgenden Novolakharze (Gesamtmen-
- p. ge 6,5 g) als Bindemittel ersetzt wurden:
- Phenol-m-Kresol-p-Kresol-Copolykondensatharz (Molverhältnis
Phenol : m-Kresol : p-Kresol = 40 : 36 : 24, zahlendurchschnittliches Molekulargewicht Mn = 1300,
_ gewichtsdurchschnittliches Molekulargewicht Mw = 9900,
Produktname: SK-2, hergestellt von der Firma Sumitomo Durez) 2 g
- Phenol-Formaldehyd-Kondensatharz (Mn = 1250, Mw = 9200,
Produktname: SK-3, hergestellt, von dor Firma Sumitomo
Durez) 4,5 g
Die obigen Molekulargewichte wurden auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 bestimmt.
· Das überzugsgewicht nach dem Trocknen der resultierenden
lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vom positiven Typ betrug etwa 22 mg/dm2.
Wenn die Mengen an Phenol, m-Kresol und p-Kresol, die
bei der Synthese verwendet wurden und in den obigen beiden Novolakharzen (SK-2 und SK-3, Gesamtmenge 6,5 g)
enthalten waren, zusammengezählt wurden und das Mengenver-
hältnis der drei Bestandteile ausgedrückt wurde durch das Molverhältnis, betrug das Verhältnis Phenol : m- ' [
Kresol : p-Kresol = i
i(2x 40 + 4.5 χ 100) : ^r(2x 36) : ^V(2x 24) =81.5 : 11.1 : 7.4,
ein "Verhältnis, das außerhalb des Mengenverhältnisbereiches der drei Bestandteile (des durch die Punkte A,
B, "C und D umgebenen Bereiches) , wie er in Fig. 1 gemäß jf
der vorliegenden Erfindung gezeigt wird, lag.
Die lichtempfindliche lithographische Druckplatte vom positiven Typ, die im Vergleichsbeispiel 2 erhalten wurde,
wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 belichtet und entwickelt, wobei man eine lithographische Druckplatte
erhielt, und ihre Empfindlichkeit wurde auf die gleiche
Weise gemessen. Als Ergebnis wurde gefunden, daß in der obengenannten Stufenplatte 4 3/4 Stufen vollständig
entwickelt (klar) waren und daß somit die Empfindlichkeit
nahezu die gleiche war wie diejenige der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vom positiven Typ des
' Beispiels 1.
Die im Vergleichsbeispiel 2 erhaltene lichtempfindliche
lithogreiphische Druckplatte vom positiven Typ wurde anschließend
auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 getestet in bezug auf die Beständigkeit gegenüber Behändlungs-
bzw. Entwicklungschemikalien und in bezug auf die Sicherheit gegenüber Licht unter praktischen Druckbedingungen.
Als Ergebnis wurde gefunden, daß die lithographische Druckplatte, die aus der obigen lichtempfind-'
liehen lithographischen Druckplatte vom positiven Typ erhalten wurde, nach 45-minütigem Eintauchen in die Ultraplate
Cleaner-Flüssigkeit in ihrem Bildbereich deutlich korrodiert·war, so daß die aufgerauhte Oberfläche unterhalb
der lichtempfindlichen Schicht hervortrat, ohne Reproduktion der 5 %-Flächen-Halbtonpunkte. Bezüglich
der Sicherheit-gegenüber-Licht-Eigenschaften ergab die Druckplatte einen Verlust der Schicht als Folge der Ver-
schleierung durch Licht von nicht weniger als 50 %, was zu einer Beeinträchtigung (Verschlechterung) der Drucklebensdauer
von bis zu 75 % führte, so daß die Sicherheitgegenüber-Licht-Eigenschaften nicht akzeptabel waren.
Auch das Druckfarbenaufnahmevermögen.=. war so schlecht,
daß ein Ausschuß von bis zu 20 Abzügen auftrat.
Daraus geht hervor, daß selbst dann, wenn das Bindemittel der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vom
positiven Typ aus zwei verschiedenen Novolakharzen besteht, dann, wenn das Mengenverhältnis der drei Bestandteile
Phenol, m-Kresol und p-Kresol außerhalb des für die drei Bestandteile angegebenen Mengenverhältnisbereiches
der Fig. 1 liegt, die Platte, obgleich sie die gleiche Empfindlichkeit aufwies, in bezug auf ihre Beständigkeit
gegenüber Behandlungs- oder Entwicklungschcanikalien und in bezug auf ihre Sicherheit gegenüber Licht schlechter
war.
Vergleichsbeispiel 3
Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte vom positiven Typ wurde auf die gleiche Weise unter Anwendung
der gleichen Vorschrift wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei diesmal die als Bindemittel der lichtempfindlichen
lithographischen Druckplatte vom positiven Typ des Beispiels 1 verwendeten beiden Nov.olakharze (SK-102 und
SK-105, Gesamtmenge 6,5 g) durch die nachstehend angegebenen
beiden Novolakharze (Gesamtmenge 6,5 g) er.setzt wurden:
- m-Kresol-Formaldehyd-Novolakharz (im wesentlichen in
einer alkalischen Lösung mit einem pH-Wert von nicht mehr als 12 unlöslich und mit einem Trübungspunkt bei
pH 11,3,"gemessen nach dem Verfahren, wie es in der geprüften japanischen Patentpublikation 23570/1979
beschrieben ist) 5,4 g
- m-Kresol-Formaldehyd~Novolakharz (mit einem Trübungspunkt
bei pH 10,5, gemessen nach dem Verfahren,
wie es in der geprüften japanischen Patentpublikation 23 570/1979 beschrieben ist, d.h. das in einer
alkalischen Lösung mit einem pH-Wert von nicht mehr als 12 löslich ist) 1,1g
Das Oberzugsgewicht nach dem Trocknen der resultierenden lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vom
positiven Typ betrug etwa 22 mg/dm2..
Die im Vergleichsbeispiel 3 erhaltene lichtempfindliche
lithographische Druckplatte vom positiven Typ wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 belichtet und
entwickelt, wobei man eine lithographische Druckplatte erhielt, und die Empfindlichkeit derselben wurde auf die
gleiche Weise gemessen. Als Ergebnis wurde gefunden, daß in der obengenannten Stufenplatten-Grauskala die
Stufe 4 3/4 vollständig entwickelt (klar) war und sie. somit fast die gleiche Empfindlichkeit hatte wie die
1-ichtempfindliche lithographische Druckplatte vom positi-
ven Typ des Beispiels 1.
Die in Beispiel.3 erhaltene lichtempfindliche lithographische
Druckplatte vom positiven Typ wurde dann auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 getestet in bezug auf
die Beständigkeit gegen Behandlungs ~- oder Entwicklungschemikaiien,
in bezug auf die Sicherheit gegenüber Licht und die Drucklebensdauer. Als Ergebnis wurde gefunden,
daß die aus der obigen lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vom positiven Typ erhaltene
lithographische Druckplatte nach 45-minütigem Eintauchen in die Ultraplate Cleaner-Flüssigkeit so signifikant in
ihrem Bildbereich korrodiert wurde, daß die lichtempfindliche Schicht in dem Bildbereich vollständig herausgelöst
wurde, so daß die aufgerauhte Oberfläche des Trägers freilag, so daß keine Halbtonpunkte wiedergegeben wurden,
d.h. die "Beständigkeit gegen Behandlungs- bzw. Entwicklungschemikalien
war sehr schlecht. Außerdem wies die
Druckplatte in dem Sicherheit-gegenüber Licht-Test nach dem Verschleiern durch Licht einen Schichtverlust von
bis zu 70 % auf, was zu einer Beeinträchtigung (Verschlechterung) der Drucklebensdauer von bis zu 90 %
führte, was sehr schlechte Sicherheit-gegenüber Licht-Eigenschaften
anzeigt. Auch das Druckerfarbenaufnahmevermögen war so schlecht, daß ein Ausschuß von bis zu
30* Abzügen auftrat.
Vergleichsbeispiel· 4
Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte vom
positiven Typ wurde nach der gleichen Vorschrift wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei diesmal jedoch anstelle der
beiden Novolakharze (SK-102 und SK-105, Gesamtmenge
6,5 g) , die als Bindemittel der lichtempfindlichen ■ lithographischen Druckplatte vom positiven Typ, wie sie
in Beispiel 1 hergestellt worden war, verwendet wurden, die folgenden beiden Novolakharze (Gesamtmenge 6,5 g)
verwendet wurden:
' - Phenol-p-tert.-Butylphenol-Formaldehyd-Copolykondensatharz
(Molverhältnis Phenol : p-tert .-Butylphenol = 50 : 50, synthetisiert nach dem in Beispiel 1 der
japanischen OPI-Patentpublikation 127 553/1980 beschriebenen Verfahren) 3,25 g
- Phenol-Formaldehyd-Novolakharz (MP-120, hergestellt
von der Firma Gunei Chemical Co., Ltd.) 3,25 g
Das Überzugsgewicht nach dem Trocknen der resultierenden
lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vom positiven Typ betrug etwa 22 mg/dm2.
Die im Vergleichsbeispiel 4 erhaltene lichtempfindliche
lithographische Druckplatte vom positiven Typ wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 belichtet und entwickelt,
wobei man eine lithographische Druckplatte erhielt, und die Empfindlichkeit derselben wurde auf die
_^_ 3l
gleiche Weise bestimmt. Als Ergebnis wurde erhalten,
daß die obengenannte Stufenplatten-Grauskala nur bis zur Stufe 2 1/2 klar entwickelt wurde oder zwei klare Stufen
niedriger in der Empfindlichkeit lag als die lichtempfindliehe lithographische Druckplatte vom positiven Typ des
Beispiels 1.
Die in dem Vergleichsbeispiel 4 erhaltene lichtempfindliche
lithographische Druckplatte vom positiven Typ wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 getestet in bezug
auf ihre Beständigkeit gegen Behandlungs- bzw. Entwicklungschemikalien, ihre Sicherheit-gegenübcr-Licht-Eigenschaften
und ihre Drucklebensdauer. Als Ergebnis wurde gefunden, daß die obengenannte lichtempfindliche lithographisehe
Druckplatte vom positiven Typ nach 45-minütigem Eintauchen in die Ultraplate Cleaner-Flüssigkeit keine
Korrosion ihres Bildbereiches aufwies und eine gute Beständigkeit gegen Entwicklungschemikalien bei einer Reproduktion
von bis zu 3 % Flächen-Halbtonpunkten aufwies.' Außerdem wies die Druckplatte in dem Sicherheit-gegenüber-Licht-Test
einen 5 %igen Schichtverlust als Folge der Verschleierung durch Licht auf, was zu einer 10 %igen Beeinträchtigung
(Verschlechterung) der Drucklebensdauer führte, was gute Sicherheit-gegenüber-Licht-Eigenschaften
anzeigt. Auch der Ausschuß betrug nur 10 Abzüge. ■& ■
Diese lichtempfindliche lithographische Druckplatte vom positiven Typ wies jedoch eine schlechte Alkalilöslichkeit
auf; die lichtempfindliche Schicht in dem bildfreien Bereich wurde nicht vollständig herausgelöst, was dazu
führte, daß die lichtempfindliche Schicht teilweise in
dem bildfreien Bereich zurückblieb, so daß Schaum (Schlamm) auf dem bildfreien Hintergrund der Druckplatte entstand,
so daß keine zufriedenstellenden Abzüge erhalten wurden.
Der Grund ist der, daß dort, wo ein solches Copolykondensat-Novola-kharz
mit einem durch eine Alkylgruppe mit nicht weniger als 3 Kohlenstoffatomen substituierten
Phenol als Teil des Bindemittels der Druckplatte verwendet
wird, die Beständigkeit gegen Entwicklungscheitiikalien und die Sicherheit gegenüber Licht derselben zwar zufriedenstellend
sind, die Empfindlichkeit desselben aber beeinträchtigt (verschlechtert) ist und auch die Alkalilöslichkelt
derselben gering ist. Infolgedessen treten während des Durckvorganges Schaum- bzw. Schlammprobleme auf.
Eine lichtempfindliche' lithographische Druckplatte vom
positiven Typ wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel
1 hergestellt, wobei diesmal als Bindemittel anstelle der beiden Novolakharze (SK-102 und SK-105, Gesamtmenge
6,5 g), die als Bindemittel der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vom positiven Typ des Beispiels
1 verwendet worden waren, das folgende einzige Novolakharz (6,5 g) verwendet wurde:
- m-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Copolykondensatharz
2Ό (Molverhältnis m-Kresol : p-Kresol =50 : 50, wie
im Synthesebeispiel 1 der DK-OS 26 16 992 angegeben, zahlendurchsclmittlichcs Molekulargewicht Mn ~ 1200) 6,5g
Das Überzugsgewicht nach dem Trocknen der resultierenden lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vom positiven
Typ betrug etwa 22 mg/dm2.
Die im Vergleichsbeispiel 5 erhaltene lichtempfindliche
lithographische Druckplatte vom positiven Typ wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 belichtet und ent-'
wickelt, wobei man eine lithographische Druckplatte erhielt, und die Empfindlichkeit derselben wurde auf die
gleiche Weise bestimmt. Als Ergebnis wurde gefunden, daß die obengenannte Stufenplatten-Grauskala nur bis zur
Stufe 3 oder um 1 1/2 Stufen weniger klar war als im Falle der ,lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte
vom positiven Typ des Beispiels 1.
Diese im Vergleichsbeispiel 5 erhaltene lichtempfindliche
lithographische Druckplatte vom positiven Typ wurde anschließend auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 getestet
in bezug auf ihre Beständigkeit gegen Entwicklungs-Chemikalien, ihre Sicherheit gegenüber Licht und ihre
Drucklebensdauer. Als Ergebnis wurde gefunden, daß die aus der obigen lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte
vom positiven Typ erhaltene 'lithographische Druckplatte nach 45-minütigem Eintauchen in die Ultraplate
Cleaner-Flüssigkeit keine Korrosion ihres Bildbereiches sowie eine gute Beständigkeit gegen Entwicklungschemikalien
bei einer Reproduktion von bis zu 3 % Flächen-Halbtonpunkten aufwies. Im Sicherheit-gegenüber-Licht-Test wies die
Druckplatte ferner einen 7 %igen Schichtverlust als Folge der Verschleierung durch Licht auf, was zu einer 14 %igen
Beeinträchtigung (Verschlechterung) der Drucklebensdauer führte, so daß die Eigenschaften in bezug auf die Sicherheit
gegenüber Licht gut waren. Auch war das Druckerfarbenaufnahmevermögen
gut und der Ausschuß betrug 16 Abzüge. Diese lichtempfindliche lithographische Druckplatte
• vom positiven Typ wies jedoch eine geringe Alkalilöslichkeit
auf wie im Falle des Vergleichsbeispiels 4; da der bildfreie Bereich nicht genügend entwickelt werden konnte,
trat in dem bildfreien Bereich während des Druckvorganges eine Schaumbildung (Schlammbildung) auf, so daß keine
zufriedenstellenden Abzüge erhalten wurden.
Wenn das obengenannte m-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Novolakharz
als Bindemittel verwendet wird, sind zwar die Beständigkeit gegenüber Behandlungschemikalien und
" die Sicherheit gegenüber Licht gut, die Empfindlichkeit ist jedoch beeinträchtigt (schlechter) und die Alkalilöslichkeit
ist gering, so daß während des Druckvorganges Störungen
durch Schaumbildung auftreten.
Die bei der Untersuchung der Eigenschaften in bezug auf die
Beständigkeit gegenüber Entwicklungschemikalien, in bezug
-χ- SS
auf Sicherheit gegenüber Licht und die Drucklebensdauer
erzielten Ergebnisse, die in Beispiel 1 und in den Vergleichsbeispielen
1 bis 5 durchgeführt wurden, sind in der folgenden Tabelle I angegeben, in der bedeuten:
"A" fast keine Korrosion des Bildbereiches, "B"1 eine geringfügige Korrosion des Bildbereiches und
"C" eine deutliche Korrosion des Bildbereiches.
sicherheit gegenüber Licht
Empfindlich ceit (Anzahl 3er klaren Stufen)
Schicht
verlust
verlust
Verschlechterung d.
Druckle-Ibensdauer
Beständigkeit
gegen Ent
wicklungschemikalKi
wicklungschemikalKi
■Druckerfarben- •aufnahma •vermögen
Störungen durch
Schaumbildung
Beispiel 1 (Erfindung)
4 1/2
10
nein
Vergleichsbeisp. 1
Vergleichsbeisp. 2
4 1/4
15
4 3/4
50
75
nein
nein
Vergleichsbeisp. 3
Vergleichsbeisp. 4
25-
Vergleichsbeisp. 5
4 3/4
70
2 1/2
10
14
30-
10
16
nein
Beispiel 2
'
'
Auf einen Aluminiumplattenträger ähnlich dem in Beispiel 1 verwendeten wurde die nachstehend angegebene lichtempfindliche
Zusammensetzung in Form einer Schicht aufgebracht und getrocknet zur Herstellung einer lichtempfindlichem
35lithographischen Druckplatte vom positiven Typ.
-η- 36 .
Zusammensetzung der lichtempfindlichen Beschichtungsflüssigkeit
- Esterverbindung von Naphthochinon-(1,2)-diazido-(2)-5-sulfonsäurechlorid
mit Resorcin-Benzaldehyd-Harz (synthetisiert nach dem in Beispiel 1 der japanischen
OPI-Patentpublikation 1 044/1981 beschriebenen Verfahren,
Kondensationsgrad 50 Mol-%) 1,82 g
- Phenol-m-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Copolykondensatharz
(Molverhältnis Phenol : m-Kresol : p-Kresol = 50 : 30 : 20, gewichtsdurchschnittliches Molekulargewicht
Mw = 9410, Produktname: SK-105, hergestellt von der Firma Sumitomo Durez) 3,83 g
- p. - m-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Copolykondensatharz
(Molverhältnis m-Kresol : p-Kresol =60 : 40, Produktname: PSF 2803, hergestellt von der Firma Gunei Chemical
Co., Ltd.) 2,55 g
-_Esterverbindung von Naphthochinon-(1,2)-diazido-(2)-5-sulfonsäurechlorid
mit einem Novolakharz, synthetisiert auf p-t-Butylphenol und p-Octylphenol und
Formaldehyd (Kondensationsgrad 50 Mol-%) 0,16 g
- Victoria Pure Blue BOH (Hodogaya Chemical Co.,
Ltd.) 0,08 g
- Methylcellosolve 100 g
Das Überzugsgewicht nach dem Trocknen betrug etwa 22 mg/dm2.
Die Mengen an Phenol, m-Kresol und p-Kresol, die bei der 30
Synthese verwendet wurden und in den beiden Novolakharzen (SK-105 und PSF2083, Gesamtmenge 6,38 g) enthalten waren,
wurden zusammengerechnet und das, Mengenverhältnis der drei Bestandteile wurde ausgedrückt als das Molverhältnis.
Das Molverhältnis von'Phenol : m-Kresol : p-Kresol =
30:"42 : 28, das unter den Mengenverhältnisbereich für die drei Bestandteile, wie er in Fig. 1 der Erfindung angegeben
ist, fällt.
Die lichtempfindliche lithographische Druckplatte vom
positiven Typ des Beispiels 2 wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 belichtet und entwickelt, wobei man eine lithographische Druckplatte erhielt, und
die Empfindlichkeit derselben wurde auf die gleiche Weise gemessen. Als Ergebnis wurde die obengenannte
Stufentafel-Grauskala bis zur Stufe 5 entwickelt (klar).
A ι.
Anschließend wurden die Eigenschaften der Druckplatte in bezug auf die Beständigkeit gegen Behandlungschemikalien,
die Sicherheit gegenüber Licht und die Drucklebensdauer auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 getestet.
Als Ergebnis wurde gefunden, daß keine Korrosion des Bildes der Druckplatte durch die Ultraplate Cleaner-Flüssigkeit
auftrat und daß eine Reproduktion erfolgte bis zu 3 % Flächen-Halbtonpunkten, so daß sie eine gute
Beständigkeit gegen Chemikalien aufwies. Außerdem wies die Druckplatte im Sicherheit-gegenüber-Lieht-Test einen
_6 %igen Schichtverlust als Folge der Verschleierung durch Licht auf, was zu einer 12 %igen Verschlechterung der
Drucklebensdauer führte, so daß sie zufriedenstellende Sicherheit-gegenüber-Licht-Eigenschaften aufwies. Auch
war das Druckerfarbenaufnahmevermögen während des Druckvorganges gut und der Ausschuß betrug nur 10 Abzüge.
Außerdem traten keine Störungen durch Schaumbildung auf und es· wurden zufridenstellende Abzüge erhalten.
Auf einen Aluminiumplattenträger ähnlich demjenigen des Beispiels 1' wurde die nachstehend angegebene lichtempfindliche
Beschichtungsflüssigkeit in Form einer
Schicht aufgebracht und getrocknet zur Herstellung einer lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vom
positiven Typ.
3521556
Zusammensetzung der lichtempfindlichen Beschichtungsflüssigkeit
, '
- Esterverbindung von Naphthochinon-(1,2)-diazido-
(2)-5-sulfonsäurechlorid mit m-Kresol-Formaldehyd-Novolakharz
(Kondensationsgrad 25 Mol-%) 3,5 g
- Phenol-p-Kresol-Formaldehyd-Copolykondensatharz
(Molverhältnis Phenol : p-Kresol =· 33 : 67, gewichtsdurchschnittliches Molekulargewicht Mw =
12 000) 4,8 g
- m-Kresol-Formaldehyd-Novolakharz (Mw = 2000, SK-4,
hergestellt von der Firma Sumitomo Durez) 3,2 g
- Victoria Pure Blue BOH (hergestellt von der Firma
Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0,2 g
- Ethylcellosolve 100 g Das Überzugsgewicht nach dem Trocknen betrug etwa 22 mg/dm2
Die Bestimmung der obigen Molekulargewichte wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt.
Die Mengen an Phenol, m-Kresol und p-Kresol, die in der
Synthese verwendet wurden und in den obigen beiden Harzen
(Phenol-p-Kresol-Formaldehyd-Harz und SK-4, Gesamtmenge
8 g) enthalten waren, wurden zusammengerechnet und das Mengenverhältnis der drei Bestandteile wurde als Molverhältnis
ausgedrückt. Das Molverhältnis von Phenol : m-Kresol : p-Kresol betrug 19,8 : 40 : 40,2, so daß das
Verhältnis unter den Mengenverhältnisbereich für die drei Bestandteile, wie er in Fig. 1 der Erfindung angegeben ist,
fiel.
Die lichtempfindliche .lithographische Druckplatte vom
positiven Typ des Beispiels 3 wurde auf die gleiche Weise wiegln Beispiel 1 belichtet und entwickelt, wobei
man eine lithographische Druckplatte erhielt, und ihre
Empfindlichkeit wurde auf die gleiche Weise, gemessen.
Als Ergebnis wurde erhalten, daß die Grauskala bis zur Stufe 4 1/4 klar. war. Außerdem wurden die Eigenschaften
in bezug auf die Beständigkeit gegen Entwicklungschemikalien, die Sicherheit gegenüber Licht und die Drucklebensdauer
der Druckplatte auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 getestet. Als Ergebnis wies die Druckplatte
einen 3 %igen Schichtverlust als Folge der Verschleierung
durch Licht auf, was zu einer 8 %igen Verschlechterung der Drucklebensdauer führte, so daß sie gute Sicherheitgegenüber-Licht-Eigenschaften
aufwies. Die Druckplatte ergab auch zufriedenstellende Ergebnisse bei Tests zur Bestimmung der Beständigkeit gegen Entwicklungschemikalien
und des Druckerfarbenaufnahmevermögens.
Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte vom positiven Typ wurde .hergestellt durch Aufbringen in
Form einer Schicht und Trocknen der nachstehend angegebenen lichtempfindlichen Beschichtungsflussigkext
auf einen Aluminaumplattenträger ähnlich demjenigen des
Beispiels 1.
Zusammensetzung der lichtempfindlichen Beschichtungsf lüssigkeit
- Esterverbindung von Naphthochinon-(1,2)-diazido-(2)-5-sulfonsäurechlorid
mit Pyrogallol-Aceton-Harz (synthetisiert nach dem in Beispiel 1 der
US-PS 3 635 709 beschriebenen Verfahren, Kondensationsgrad 50 Mol-%) 1,39 g
- Phenol-Formaldehyd-Novolakharz (SK-9, hergestellt
von der Firma Sumitomo Durez) 1,36 g
- m-Kresol-Formaldehyd-Novolakharz (SK-4, hergestellt
von der Firma Sumitomo Durez) 2,72 g
- Phenol-p-Kresol-Formaldehyd-Copolykondensatharz
(Molverhältnis Phenol : p-Kresol = 50 : 50, j.
• . ι
SK-137, hergestellt von der Firma Sumitomo j
Durez) 2,77 g
- Oil Blue #603 (hergestellt von der Firma Oriental) 0,2 g
- Methylcellosolve 100 g
Das Überzugsgewicht nach dem Trocknen betrug etwa 22 mg/dm2.
Die Mengen an Phenol, m-Kresol und p-Kresol, die bei der
Synthese verwendet wurden und in den drei Novolakharzen (SK-9, SK-4 und SK-137, Gesamtmenge 6,31 g) enthalten
waren, wurden zusammengerechnet und das Mengenverhältnis • der drei Bestandteile wurde als Molverhältnis ausgedrückt.
Das Molverhältnis Phenol : m-Kresol : p-Kresol ist gleich
ri-oT(1.36x 100 + 2.73 χ 50) : ^~-x2.72xl00 : ττΑτ* 2.73 χ 50= 40 : 40 : 20,
D.OX D.öl D.öl
d.h; es fällt unter den Mengenverhältnisbereich für die "drei Bestandteile, wie er in Fig. 1 der Erfindung angegeben
ist.
Die lichtempfindliche lithographische Druckplatte vom
positiven Typ des Beispiels 4 wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 belichtet und entwickelt, wobei
man eine lithographische Druckplatte erhielt, und die *
Empf indlichkeit^ derselben wurde auf die gleiche Weise
bestimmt. Als Ergebnis wurde gefunden, daß die Grauskala bis zur Stufe 4 3/4 klar war. Außerdem wurdeiauf die
gleiche Weise wie in Beispiel 1 die Beständigkeit gegenüber Entwicklungschemikalien, die Sicherheit gegenüber
Licht und die Drucklebensdauer der Druckplatte getestet. Dabei wurde gefunden, daß die Druckplatte einen 7 %igen
Schichtverlust aufwies, der zu einer 15 %igen Verschlechterung
der Drucklebensdauer führte, so daß sie gute 35
Sicherheit-gegenüber-Licht-Eigenschaften besaß. Sie wies
auch eine zufriedenstellende Beständigkeit gegenüber
352155g -**-
Entwicklungschemikalien und ein zufriedenstellendes Druckerfarbenaufnahmevermögen auf.
Wie aus den Ergebnissen der obigen Beispiele hervorgeht, weist die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung
für lichtempfindliche lithographiche Druckplatten vom positiven Typ bei ihrer Verwendung in einer lithographischen
Druckplatte stark verbesserte Sicherheitgegenüber-Licht-Eigenschaften auf, verglichen mit denjenigen
konventioneller lichtempfindlicher Zusammensetzungen, die auf lithographische Druckplatten mit einer ähnlichen
Empfindlichkeit und Entwickelbarkeit aufgebracht wurden,
und sie weist auch eine stark verbesserte Haltbarkeit
der Bildfläche gegen Entwicklungschemikalien für die Verwendung beim Drucken auf. Sie war außerdem so ausgezeichnet
in bezug auf das Druckerfarbenaufnahmevermögen, daß der Ausschuß verringert werden kann.
Auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 wurde eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte vom positiven Typ hergestellt, wobei diesmal jedoch die folgenden
beiden Arten von Novolakharzen in einer Gesamtmenge von 6,5 g als Bindemittel anstelle der beiden Novolakharze
(SK-102 und SK-105, Gesamtmenge 6,5 g) ,' die als Bindemittel
der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vom
positiven Typ, wie sie in Beispiel 1 hergestellt wurde, verwendet worden waren, verwendet wurden:
- Phenol-Formaldehyd-Kondensationsharz (zahlendurchschnittliches Molekulargewicht Mn = 450 und gewichtsdurchschnittliches
Molekulargewicht Mw = 1680) 2,4 g
- m-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Copolykondensathärz
(Molverhältnis m-Kresol : p-Kresol = 60 : 40, das zahlendurchschnittliche Molekular-
gewicht Mn betrug 380 und das gewichtsdurchschnittliche Molekulargewicht Mw betrug 1450) 4,1 g
Jedes der obengenannten Molekulargewichte wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 bestimmt.
Das Überzugsgewicht der resultierenden lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vom positiven Typ betrug
nach dem Trocknen etwa 22 mg/dm2.
Die Mengen an Phenol, m-Kresol und p-Kresol, die bei der
Synthese verwendet worden waren und in den obengenannten beiden Novolakharzen enthalten waren, wurden zusammengerechnet
und das Mengenverhältnis der drei Bestandteile wurde durch das Molverhältnis ausgedrückt. Das Molverhältnis
Phenol : m-Kresol : p-Kresol betrug 36,9 : 37,9 : 25,2, was in den Bereich für das Mengenverhältnis der
drei Bestandteile, wie es in Fig. 1 der Erfindung
angegeben ist, fiel.·
20
20
Die Empfindlichkeit, die Beständigkeit gegen Entwicklungschemikalien/ die Sicherheit gegenüber Licht und die
Drucklebensdauer der in Beispiel 5 hergestellten lichtempfindlichen
lithographischen Druckplatte vom positiven Typ wurden auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1
geteste't. Als Ergebnis wurde gefunden, daß die Empfindlichkeit so hoch war, daß die obengenannte Stufentafel-Grauskala
vollständig entwickelt wurde (klar war) bis zur Stufe 5 und daß nur wenig Korrosion der Bildberei-
ow ehe der Druckplatte der Bewertung B in der Tabelle I
auftrat, wenn ein Ultraplate Cleaner aufgebracht wurde,
und daß im Sicherheit-gegenüber—Licht-Test die Druckplatte
einen 10 % Schicht-Verlust als Folge der Verschleierung durch Licht aufwies, was zu einer Verschlech-
^° terung von 25 % der Drucklebensdauer führte, was verhältnismäßig
zufriedenstellende Eigenschaften in bezug auf die .Sicherheit gegenüber Licht anzeigt. Auch das Drucker-
farbenaufnahmevermögen beim Druckvorgang war gut und der
Papierausschuß betrug nur 12 Abzüge. Außerdem traten beim. Drucken keine Störungen durch Schaumbildung auf und es
wurden zufriedenstellende bedruckte Materialien erhalten.
Be'ispiel 6
Eine 0,24 mm dicke Aluminiumplatte der Materialqualität
1050 und der konditionierten Qualität H16 wurde eine
IQ Minute lang in einer '5 %igen wäßrigen Natriumhydroxidlöang
bei 6O0C entfettet und dann einer elektrolytischen Ätzbehandlung in 1 1 einer wäßrigen Lösung von 0,5 Mol
Chlorwasserstoffsäure bei einer Temperatur von 25°C,
einer Stromdichte von 60 A/dm2 und einer Behandlungszeit
von 30 s unterworfen. Danach wurde eine Reinigungsbehandlung in einer wäßrigen Lösung von 5 % Natriumhydroxid
bei 600C 10 s lang durchgeführt und dann wurde eine anodische
Oxidationsbehandlung in einer Schwefelsäurelösung bei einer Temperatur von 400C, einer Spannung von 20 V,
einer Stromdichte von 3 A/dm2 und einer Behandlungszeit
von 15 min durchgeführt. Zur Bestimmung der Menge des
anodischen Oxidationsüberzugs wurde die resultierende Platte in eine Chromphosphatlösung eingetaucht, die durch
Auflösen von 35 ml einer 85 %igen Phosphorsäurelösung
und 20 g Chromdioxid in 1 1 Wasser hergestellt worden war, um den zu entfernenden anodischen Oxidationsüberzug aufzulösen,
und es wurde die Differenz des Gewichtes der Druckplatte vor und nach der Auflösung des anodischen
Oxidationsüberzugs gemessen. Die. resultierende Differenz betrug 40 mg/dm2.
Danach wurde die Druckplatte 5 min lang in heißes Wasser von 9O0C eingetaucht und dann wurde eine Versiegelungsbehandlung durchgeführt.
Darin wurde eine lichtempfindliche Beschichtungsflüssigkeit
mit der nachstehend angegebenen Zusammensetzung in Form
einer Schicht auf die resultierende Aluminiumplatte [X] mittels einer Rotationsbeschichtungsvorrichtung aufgebracht
und 4 min lang bei 1000C getrocknet. Dabei erhielt
man eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte iA).
Zusammensetzung der lichtempfindlichen Beschichtungsflüssigkeit
■jQ - Veresterte Verbindung von Naphthochinon-(1 ,2) diazid-(2)-5-sulfochlorid
und Pyrogallol-Aceton-Harg (zahlendurchschnittliches Molekulargewicht
Mn = 1500, gewiehtsdurchschnittliches Molekulargewicht Mw = 2300 und Kondensationsgrad =
50 Mol-%) 1,7 g
- Copolykondensationsharz von Phenol-m- und p-Mischkresol-Formaldehyd
(Molprozentsatz Phenol : m-Kresol : p-Kresol =30 : 42 : 28, zahlendurch-
._ schnitt liehe s Molekulargewicht Mn = 1400 und gewichtsdurchschnittliches
Molekulargewicht Mw = 9200, Produktname: SK-103, hergestellt von der
Firma Sumitomo-Durez Co.) 6,50 g
- veresterte Verbindung von Naphthoch.inon-/1 ,2) diazid-(2)-5-sulfochlorid
und Novolakharz, syn-
° thetisiert aus p~tert.-Octylphe.riol und Formaldehyd
(Kondensationsgrad 50 Mol-% und gewichtsdurchschnittliches Molekulargewicht Mw = 1800) 1,6 g
- Victoria Pure Blue BOH (hergestellt von der F-irma
ΟΛ - Hodogaya Chemical Co., Ltd.) . 0,08 g
- Ethylcellosolve ■ 68 g
- Methylcellosolve 33 g
Das Beschichtungsgewieht nach dem Trocknen betrug etwa mg/dm2.
Es wurde das jeweilige Molekulargewicht der obengenannten
veresterten Verbindung der o-Chinondiazidverbindung und des Pyrogallol-Aceton-Harzes und des Novolakharzes
gemessen durch Anwendung der GPC ( Gelpermeationschromatographie).
Die GPC-Meßbedingungen waren wie folgt: Instrument: Modell 635, hergestellt von der Firma
Hitachi Ltd.;
Separatorkolonnen: Shodex A802, A803 und.A804, hergestellt
von der Firma Showa Denko Co.., die drei Kolonnen wurden in Reihe miteinander verbunden;
Temperatur: Raumtemperatur;
Lösungsmittel: Tetrahydrofuran;
Strömungsrate: 1,5 ml/min; und
Arbeitskurve: hergestellt mit Polystyrol als Standard.
Die auf diese Weise erhaltenen lichtempfindlichen
lithographischen Druckplatten wurden 35 s, 50 s, 70 s bzw. 100 s lang jeweils durch eine Lichtempfindlichkeitstest-Stufenplatte
(Nr. 2, .hergestellt von der Firma
Eastman Kodak Co.) mit einer 21-Stufen-Grauskala, geeicht auf einen Dichtegradienten von jeweils 0,15/und
ein Punktbild mit 150 Linien pro 2,54 cm (inch) (Sakura Step Tablet, Type TPS-B, hergestellt von der
Firma Konishiroku Photo Ind. Co., Ltd.), die beide in engen Kontakt mit der oberen Oberfläche der Druckplatte
gebracht wurden, mit dem Licht aus einer 2 KW-Metallhalogenidlampe
(Idolfin 2000, hergestellt von der Firma Iwasaki Electric Co., Ltd.) als Lichtquelle bei der
Bedingung 8,0 mW/cm2 belichtet. Auf diese Weise wurden Proben erhalten. Danach wurde jede dieser vier Proben
4 5 s lang in einer wäßrigen Lösung von 4 % Kaliummetasilicat
bei 250C behandelt bzw. entwickelt/wodurch
lithographische Druckplatten erhalten wurden, aus denen die bildfreien Bereiche vollständig entfernt worden waren.
Nach der Entwicklung wurde Druckerfarbe auf jede Druckpaltte aufgebracht, es wurde die Rcproduzierbarkeit ihrer
Punktfläche gemessen, um den Punktverlusteffekt zu untersuchen. Der Grad des Punktverlustes, bezogen auf ein
Originaldokument, wurde ausgedrückt durch einen Wert,
-43-
der in der Weise erhalten wurde, daß die Differenz zwischen den Punktflächenverhältnissen des Originaldokuments
und einer lithographischen Druckplatte erhalten wurde
durch Vergleich der Punktflächenverhältnisse, die jeweils
durch die jeweiligen Belichtungen für 35, 50, 70 und 100 s durch einen Punktanalysator (Sakura Areadue-1000, hergestellt
von der Firma Konishiroku Photo Ind. Co., Ltd.) erhalten wurden, mit dem Punktflächenverhältnis des Originaldokuments,
gemessen auf die gleiche Weise.
Auf diese Weise wurde die Beziehung zwischen der Belichtungszeit und dem Prozentsatz des PunktVerlustes
erhalten. Aus der Beziehung ergab sich für einen Punktverlust von 10 % als Standard, daß die für den Punktverluat
erforderliche Belichtungszeit 85 s betrug. Dies besagt, daß je kürzer die Belichtungszeit ist, um so größer
der Punktverlusteffekt ist.
•Wenn die Empfindlichkeit bei der Belichtungszeit von 70 s
mittels der Grauskala der obengenannten Stufentafel gemessen wurde, war die vierte Stufe derselben vollständig
entwickelt (klar).
Danach wurden zur Untersuchung des Entwicklungsspiclraums
zwei Entwickler hergestellt, einer mit einer niedrigeren Älkalinität und der andere mit einer höheren
Alkalinität als die wäßrige Standardlösung von 4 % Kaliummetasilicat,
und die obengenannten Proben, die 70 s lang belichtet worden waren, wurden zur Bestimmung der
30. Entwickelbarkeit der Proben mit einem Entwickler mit
herabgesetztem Entwicklungsvermögen (nachstehend als "ünterentwickelbarkeit" bezeichnet) und mit einem Entwickler
mit übermäßig hohem Entwicklungsvermögen (nachstehend als "Überentwickelbarkeit" bezeichnet) verwendet. In dem
Verfahren zur Bestimmung der Ünterentwickelbarkeit wurde die Löslichkeit der bildfreien Bereiche bewertet
durch Behandlung bzw. Entwicklung der jeweiligen Proben mit
wäßrigen Lösungen von 2,1, 1,9 und 1,7 % Kaliummetasilicat bei 25°C und für 45 s. Daraus ergab sich, daß eine
Unterentwickelbarkeit verbessert werden kann, wenn ein solcher bildfreier Bereich mit einem weiter/verdünnten
Entwickler aufgelöst werden kann. Im Verfahren zur Bestimmung der Überentwickelbarkeit wurden die Proben jeweils
mit einer wäßrigen Lösung von 6,0 % Kaliummetasilicat bei einer Temperatur von 25°C und für eine Zeitspanne
von 60 s behandelt bzw. entwickelt und andererseits
IQ wurden sie mit einer wäßrigen Lösung von 7,2 % Kaliummetasilicat
bei einer Temperatur von 250C und einer Behandlungszeit
von 90 s behandelt bzw. entwickelt und es wurde die Anzahl der festen Stufen (eine Minimalanzahl der Stufen
entsprechend der vollständig zurückbleibenden licht-
]_5 empfindlichen Schicht, in der Grauskala der obengenannten
Stufentafel) gemessen, wobei eine Differenz zwischen der gemessenen Anzahl der Stufen und derjenigen, die im Falle
des Standardentwicklungsverfahrens gemessen wurden, erhalten wurde.,Es wurde gefunden, daß eine überentwickelbarkeit
um so stärker verbessert werden kann, je geringer die Differenz ist.
Danach wurde zur Bestimmung der Kugelschreiberbeständigkeit auf der obengenannten lichtempfindlichen lithogra—
2g phischen·Druckplatte eine Linie gezocjen, die weder belichtet-noch
entwickelt wurde, durch Verwendung eines Kugelschreibers (Zebra Nr. 5100 in Schwarz, hergestellt
von der Firma Zebra Co.) und sie wurde 30 s lang stehengelassen. Danach wurde die Druckplatte in dem Standard-
OQ entwicklungsverfahren entwickelt, ohne belichtet zu werden.
Die Beurteilung der Beständigkeit gegen Kugelschreiber •erfolgte in vier Stufen auf der Basis des Korrosionsgrades
der lichtempfindlichen Schicht, der nach dem Ziehen der Linie hervorgerufen wurde.
-
Außerdem-wurde zur Messung der Beständigkeit gegen Entwicklungschemikalien
die Haltbarkeit der Druckplatte gegenüber einem Ultraplate Cleaner (hergestellt von der
352155
It
i.H-
Firma A.B.C. Chemical Co., LUl.), der als Reinigungsflüssigkeit
zur Entfernung des in den bildfreien Bereichen beim Drucken erzeugten Schaums verwendet wurde, getestet.
Die ein Bild mit einem Dichtedifferential auf den Stufen der. Grauskala tragende Druckplatte, das durch 70 s langes
Belichten und Anwendung des Standardentwicklungsverfahrens erhalten worden war, wurde 45 min lang bei Raumtemperatur
in den unverdünnten Ultraplate Cleaner eingetaucht und dann gewaschen und mit der Bildfläche vor dem Eintauchen verglichen
und auf diese Weise wurde der Grad der Korrosion, der in den Bildflächen durch die Entwicklungschemikalien
hervorgerufen wurde, bewertet. Die Bewertung desselben erfolgte auf ähnliche Weise wie die oben beschriebene
Bewertung der Beständigkeit gegen Kugelschreiber. Die resultierende Empfindlichkeit, der resultierende Punktverlusteffekt,
der Entwicklungsspielraum, die Beständigkeit gegen Kugelschreiber und die Beständigkeit gegen Entwicklungschemikalien
sind in der folgenden Tabelle II angegeben.
20
\ | Empfind lichkeit (Anzahl d klaren . " Stufen) |
jfelichtungs zeit, äie für ei- ien 10 % ?unktverlus ärforderlid |
Entwicklungsspielraum | 7. 2 $ 25"0/9O" |
Onterentwickelbarkeit | 1.9 iß | 1.7 0 | Bestän digkeit gegen iCugel- 3chrei ber |
Bestän digkeit ■-regen Bntwick lungs- chemika |
Beispiel (erfin- dungsgem, |
4 ) |
(8,0mW/cm2) 8 5 |
überentwickel- barkeit |
3.0 | 2. 1. S6 | Δ | X . | B · | lien A |
; 6. 0 * i25°C/60' |
O | ||||||||
2.0 |
35
χ In der vorstehenden Tabelle II bedeuten:
A daß nahezu keine Korrosion in den Bildbereichen festgestellt wurde,
B daß eine leichte Korrosion gefunden wurde,
B daß eine leichte Korrosion gefunden wurde,
C daß eine beträchtliche Korrosion gefunden wurde und die Rauhigkeit des Trägers unterhalb der lichtempfindlichen
* Schicht geringfügig freigelegt wurde, D daß eine bemerkenswerte Korrosion gefunden wurde und
die Rauhigkeit des Trägers unterhalb der lichtempfindlichen Schicht vollständig freigelegt wurde.
In der Unterentwickelbarkeitsspalte bedeuten: O daß die lichtempfindliche Schicht in den bildfreien
Bereichen vollständig aufgelöst und entfernt wurde /^ daß die lichtempfindliche Schicht in den bildfreien
Bereichen teilweise so wie sie war zurückblieb, und X daß die lichtempfindliche Schicht in den bildfreien
Bereichen fast nicht aufgelöst wurde.
. In der Überentwickelbarkeitsspalte geben die arabischen
Ziffern jeweils die Anzahl der festen Stufen an.
- Leerseite -
Claims (1)
1521555 T 55 069
Patentansprüche
1. Lichtempfindliche Zusammensetzung für lichtempfindliche
lithographische Druckplatten vom positiven-Typ, die eine o-Chinondiazid-Verbindung und ein Novolak-Harz
enthält, dadurch gekennzeichnet , daß
das Novolakharz enthält oder besteht aus mindestens zwei verschiedenen Novolakharzen, wobei die mindestens zwei
verschiedenen Novolakharze jeweils ein Harz darstellen,
das erhalten wurde durch Polykondensation oder Copolykondensation eines Aldehyds mit mindestens einer Verbindung,
ausgewählt aus der Gruppe., die besteht aus Phenol, m-Kresol, o-Kresol und p-Kresol, und wobei die Ver-.
hältnisse, ausgedrückt durch die Molprozentsätze,der jeweiligen Summen der Mengen des Phenols, der Mengen des
m-Kresols (und/oder des o-Kresols) und der Mengen des
P"Kresols, die Bestandteile für die Polykondensation oder Copolykondensation aller dieser in der lichtempfindlichen
Zusammensetzung enthaltenen Novolakharze sind, zur Gesamtmenge der Mengen aller dieser Bestandteile
5 bis 75 Mol-% für das Phenol, 20 bis 70 Mol-% für das
gO m-Kresol (und/oder für das o-Kresol) und 5 bis 75 Mol-%
für das p-Kresol betragen.
2. Lichtempfindliche Zusammensetzung für lichtempfindliche
lithographische Druckplatten vom positiven Typ or nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Verhältnisse,,,
ausgedrückt durch die Molprozentsätze,der jeweiligen Summen der Mengen des Phenols, der Mengen des
m-Kresols (und/oder des o-Kresols) und der Mengen des
p-Kresols in den Novolakharzen zur Gesamtmenge der Mengen aller dieser Bestandteile 10 bis 75 Mol-% für das
Phenol, 30 bis 55 Mol-% für das m-Kresol (und/oder das
5 o-Kresol) und 5 bis.40 Mol-% für das p-Kresol betragen.
3. Lichtempfindliche Zusammensetzung für lichtempfindliche
lithographische Druckplatten· vom positiven-Typ nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das
Novolakharz umfaßt in Kombination Phenol-m-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Co-Polykondensate,
die unterschiedliche Eigenschaften haben, oder in Kombination ein p-Phenol-m-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Co-Polykondensat
mit einem m-Kresol-p-Kresol-Formaldehyd-Co-Polykondensat.
4. Lichtempfindliche Zusammensetzung für lichtempfindliche lithographische Druckplatten vom positiven Typ nach
einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Novolakharz ein zahlendurchschnittliches Moleku-
2 3
• largewicht Mn von 3 χ 10 bis 5 χ 10 und ein gewichts-
durchschnittliches Molekulargewicht Mw von 1 χ 10 bis
2 χ 104 hat.
5. Lichtempfindliche Zusammensetzung für lichtempfindliche
lithographische Druckplatten vom positiven Typ nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß.das Novolakharz ein zahlendurchschnittliches Moleku-
3 3
largewicht Mn von 1 χ 10 bis 3x10 und ein gewichts-
OQ durchschnittliches Molekulargewicht Mw von 6 χ 10 bis
• 1,5 χ 104 hat.
6. Lichtempfindliche Zusammensetzung für lichtempfindliche lithographische Druckplatten vom positiven Typ
gg nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß der Novolakharz-Gehalt der lichtempfindlichen Zusammensetzung 30 bis 95 Gew.-% der lichtempfindlichen
Zusammensetzung ausmacht.
7. Lichtempfindliche Zusammensetzung für lichtempfindliche
lithographische Druckplatten vom positiven Typ nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet,
daß der Novolakharz-Gehalt der lichtempfindlichen Zusammensetzung 50 bis 85 Gew.-% der lichtempfindlichen
Zusammensetzung ausmacht.
8\ Lichtempfindliche Zusammensetzung für lichtempfindliche
lithographische Druckplatten vom positiven Typ nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet,
daß der Gehalt der lichtempfindlichen Zusammensetzung
an o-Chinondiazid-Verbindung 5 bis 60 Gew.-% des Gesamtfeststoffes der lichtempfindlichen Zusammensetzung
ausmacht.
.
9. Lichtempfindliche Zusammensetzung für lichtempfindliehe
lithographische Druckplatten vom positiven Typ nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeich- i„
net, daß der Gehalt der lichtempfindlichen Zusammensetzung
an o-Chinondiazid-Verbindung 10 bis 50 Gew.-% des
• Gesamtfeststoffes der lichtempfindlichen Zusammensetzung
ausmacht. '
10. Lichtempfindliche Zusammensetzung für lichtempfindliehe
lithographische Druckplatten vom positiven Typ nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet,
daß die lichtempfindliche Zusammensetzung außerdem ein
Mittel zur Verbesserung des Druckerfarbenaufnahmevermögens enthält, das 0,1 bis 2 Gew.-% der lichtempfindlichen
Zusammensetzung ausmacht.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59127187A JPS616647A (ja) | 1984-06-20 | 1984-06-20 | ポジ型感光性平版印刷版用感光性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3521555A1 true DE3521555A1 (de) | 1986-01-09 |
Family
ID=14953831
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19853521555 Withdrawn DE3521555A1 (de) | 1984-06-20 | 1985-06-15 | Lichtempfindliche zusammensetzung fuer lichtempfindliche lithographische druckplatten vom positiven typ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4797346A (de) |
JP (1) | JPS616647A (de) |
DE (1) | DE3521555A1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3733421A1 (de) * | 1986-10-02 | 1988-04-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Positiv arbeitende lichtempfindliche zusammensetzung |
WO1994007955A1 (en) * | 1992-09-28 | 1994-04-14 | Hoechst Celanese Corporation | Novolak resin mixtures |
EP0774692A2 (de) | 1995-11-17 | 1997-05-21 | Hoechst Aktiengesellschaft | Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Flachdruckplatten |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0650395B2 (ja) * | 1985-08-09 | 1994-06-29 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型ホトレジスト用組成物 |
JPH0654384B2 (ja) * | 1985-08-09 | 1994-07-20 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型ホトレジスト組成物 |
JPH0650396B2 (ja) * | 1985-08-09 | 1994-06-29 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型ホトレジスト組成物 |
CA1279430C (en) * | 1985-12-06 | 1991-01-22 | Takashi Kubota | High-molecular-weight soluble novolak resin and process for preparation thereof |
JPH0654388B2 (ja) * | 1986-05-02 | 1994-07-20 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型ホトレジスト組成物 |
US5571886A (en) * | 1986-12-23 | 1996-11-05 | Shipley Company, Inc. | Aromatic novolak resins |
US5266440A (en) * | 1986-12-23 | 1993-11-30 | Shipley Company Inc. | Photoresist composition with aromatic novolak binder having a weight-average molecular weight in excess of 1500 Daltons |
DE3729035A1 (de) * | 1987-08-31 | 1989-03-09 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes photolithographisches aufzeichnungsmaterial |
US5456996A (en) * | 1988-07-07 | 1995-10-10 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Radiation-sensitive positive resist composition |
JPH063544B2 (ja) * | 1988-07-07 | 1994-01-12 | 住友化学工業株式会社 | ポジ型感放射線性レジスト組成物 |
US5753406A (en) * | 1988-10-18 | 1998-05-19 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Radiation-sensitive resin composition |
CA2023791A1 (en) * | 1989-08-24 | 1991-02-25 | Ayako Ida | Radiation-sensitive positive resist composition |
US5288587A (en) * | 1989-09-05 | 1994-02-22 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Radiation-sensitive positive resist composition comprising an o-quinone diazide, an alkali-soluble resin and a polyphenol compound |
JP3063148B2 (ja) * | 1989-12-27 | 2000-07-12 | 住友化学工業株式会社 | ポジ型レジスト組成物 |
TW202504B (de) * | 1990-02-23 | 1993-03-21 | Sumitomo Chemical Co | |
DE4013575C2 (de) * | 1990-04-27 | 1994-08-11 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung negativer Reliefkopien |
JP2711590B2 (ja) * | 1990-09-13 | 1998-02-10 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型フオトレジスト組成物 |
US5302490A (en) * | 1991-10-21 | 1994-04-12 | Shipley Company Inc. | Radiation sensitive compositions comprising blends of an aliphatic novolak resin and an aromatic novolak resin |
KR100303911B1 (ko) * | 1992-09-28 | 2001-11-22 | 잰대머 | 포지티브포토레이지스트조성물 |
US5374693A (en) * | 1992-12-29 | 1994-12-20 | Hoechst Celanese Corporation | Novolak resin blends for photoresist applications |
KR100560492B1 (ko) * | 2004-02-25 | 2006-03-13 | 삼성에스디아이 주식회사 | 리튬 이차 전지용 양극 전류 집전체 및 이를 포함하는리튬 이차 전지 |
KR101363738B1 (ko) * | 2006-08-04 | 2014-02-18 | 동우 화인켐 주식회사 | 포토레지스트 조성물 및 이의 패턴 형성 방법 |
WO2012063635A1 (ja) * | 2010-11-10 | 2012-05-18 | Dic株式会社 | ポジ型フォトレジスト組成物 |
TWI678596B (zh) | 2018-09-13 | 2019-12-01 | 新應材股份有限公司 | 正型光阻組成物及圖案化聚醯亞胺層之形成方法 |
CN111505902B (zh) * | 2020-05-27 | 2024-02-20 | 北京北旭电子材料有限公司 | 光刻胶组合物及其制备方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2616992A1 (de) * | 1976-04-17 | 1977-11-03 | Agfa Gevaert Ag | Lichtempfindliches material zur herstellung von druckformen und aetzresistagen |
DE3322886A1 (de) * | 1982-06-25 | 1983-12-29 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Bilderzeugende harzmasse |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3666473A (en) * | 1970-10-06 | 1972-05-30 | Ibm | Positive photoresists for projection exposure |
US4123279A (en) * | 1974-03-25 | 1978-10-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive o-quinonediazide containing planographic printing plate |
US4377631A (en) * | 1981-06-22 | 1983-03-22 | Philip A. Hunt Chemical Corporation | Positive novolak photoresist compositions |
JPS5811932A (ja) * | 1981-07-15 | 1983-01-22 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光性組成物 |
US4404357A (en) * | 1982-05-03 | 1983-09-13 | Shipley Company Inc. | High temperature naphthol novolak resin |
US4424315A (en) * | 1982-09-20 | 1984-01-03 | Shipley Company Inc. | Naphthol novolak resin blend |
US4551409A (en) * | 1983-11-07 | 1985-11-05 | Shipley Company Inc. | Photoresist composition of cocondensed naphthol and phenol with formaldehyde in admixture with positive o-quinone diazide or negative azide |
-
1984
- 1984-06-20 JP JP59127187A patent/JPS616647A/ja active Granted
-
1985
- 1985-06-15 DE DE19853521555 patent/DE3521555A1/de not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-05-13 US US07/051,224 patent/US4797346A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2616992A1 (de) * | 1976-04-17 | 1977-11-03 | Agfa Gevaert Ag | Lichtempfindliches material zur herstellung von druckformen und aetzresistagen |
DE3322886A1 (de) * | 1982-06-25 | 1983-12-29 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Bilderzeugende harzmasse |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3733421A1 (de) * | 1986-10-02 | 1988-04-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Positiv arbeitende lichtempfindliche zusammensetzung |
WO1994007955A1 (en) * | 1992-09-28 | 1994-04-14 | Hoechst Celanese Corporation | Novolak resin mixtures |
EP0774692A2 (de) | 1995-11-17 | 1997-05-21 | Hoechst Aktiengesellschaft | Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Flachdruckplatten |
US5998084A (en) * | 1995-11-17 | 1999-12-07 | Agfa-Gevaert N.V. | Radiation-sensitive recording material for the production of planographic printing plates |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0256653B2 (de) | 1990-11-30 |
US4797346A (en) | 1989-01-10 |
JPS616647A (ja) | 1986-01-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3521555A1 (de) | Lichtempfindliche zusammensetzung fuer lichtempfindliche lithographische druckplatten vom positiven typ | |
DE2512933C2 (de) | Lichtempfindliche Flachdruckplatte | |
DE2944237C2 (de) | Lichtempfindliches Gemisch und es enthaltendes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial | |
DE2924294C2 (de) | Lichtempfindliche lithographische Druckplatte | |
DE2706633A1 (de) | Lichtempfindliche harzmasse und anwendung derselben als material zur ausbildung eines metallbildes | |
EP0135026B1 (de) | Lichthärtbares Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial | |
DE3009873A1 (de) | Photoempfindliche masse | |
DE1447021B2 (de) | Vorsensibilisierte, positiv arbeitende metallflachdruckplatte | |
EP0021428B1 (de) | Lichtempfindliches, positiv arbeitendes Kopiermaterial mit rauher Oberfläche | |
EP0004569A1 (de) | Verfahren zur anodischen Oxidation von Aluminium und dessen Verwendung als Druckplatten-Trägermaterial | |
DE3607598A1 (de) | Lichtempfindliche zusammensetzung | |
DE69604472T2 (de) | Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Flachdruckplatten | |
DE3201151A1 (de) | Positive lichtempfindliche masse und diese enthaltendes positives lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial | |
EP0200913B1 (de) | Entwicklergemisch, dessen Verwendung und ein Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten mit diesem Entwickler | |
DE4126836A1 (de) | Strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial aus schichttraeger und positiv arbeitender, strahlungsempfindlicher schicht mit rauher oberflaeche | |
DE69620556T2 (de) | Wässrig entwickelbare, negativ arbeitende, fotoempfindliche Zusammensetzung mit verbessertem Bildkontrast | |
DE3144657A1 (de) | Lichtempfindliche masse | |
DE3852559T2 (de) | Lichtempfindliche positive Flachdruckplatte. | |
DE3430712A1 (de) | Verfahren zur reduzierung von unterstrahlungen bei der bestrahlung von reproduktionsschichten | |
DE3424528A1 (de) | Verfahren zum gleichzeitigen aufrauhen und verchromen von stahlplatten als traeger fuer lithographische anwendungen | |
DE3144656A1 (de) | Lichtempfindliche masse | |
DE69118614T2 (de) | Substrat für lithographische Druckplatten | |
DE68917529T2 (de) | Lichtempfindliche Zusammensetzung und lichtempfindliche lithographische Druckplatte. | |
EP0088899B1 (de) | Trägermaterial für Offsetdruckplatten aus Aluminium, ein Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung zum rasterlosen Drucken | |
EP0212263A2 (de) | Entwicklergemisch zum Entwickeln von Flachdruckplatten |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: KONICA CORP., TOKIO/TOKYO, JP |
|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |