DE2944237C2 - Lichtempfindliches Gemisch und es enthaltendes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial - Google Patents

Lichtempfindliches Gemisch und es enthaltendes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial

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DE2944237C2
DE2944237C2 DE2944237A DE2944237A DE2944237C2 DE 2944237 C2 DE2944237 C2 DE 2944237C2 DE 2944237 A DE2944237 A DE 2944237A DE 2944237 A DE2944237 A DE 2944237A DE 2944237 C2 DE2944237 C2 DE 2944237C2
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Description

enthält, worin bedeuten:
X eine Oxy-oder Iminogruppe, Y eine Nitro- oder Cyanogruppe und
π eine ganze Zahl von 1 bis 3.
2. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in der allgemeinen Formel η die Zahl 2 bedeutet.
3. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem Triphenylmethanfarbstoff um einen basischen TYiphenylmethanfarbstoff handelt.
4. Lichtempfindliches Gemisch nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß es als o-Naphthochinondiazid-Verbindung eine solche der allgemeinen Formel
oder
NO5
NO2
enthält.
5. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit einem Schichtträger und einer darauf aufgebrachten Schicht aus einem lichtempfindlichen Gemisch, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem lichtempfindlichen Gemisch um ein solches nach einem der Ansprüche 1 bis 4 handelt.
Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Gemisch, das als lichtempfindliche Substanz mindestens eine o-Naphthochinondiazid-Verbindung sowie einen Triphenylmethanfarbstoff enthält, sowie ein lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit einem Schichtträger und einer darauf aufgebrachten Schicht aus diesem lichtempfindlichen Gemisch, das unmittelbar nach der Belichtung sichtbare Farbbilder liefert
Es ist bekannt, für die Herstellung von Photoresistmaterialien lichtempfindliche Gemische zu verwenden, die Ester- oder Amidverbindungen der o-Naphthochinondiazodisulfonsäure enthalten. Wegen ihrer guten Wirksamkeit werden diese Verbindungen auch in großem Umfange für die Herstellung von lithographisehen Druckplatten, insbesondere sogenannten vorsen- sibilisierten Platten (»PS-Platten«) verwener i, die aus einem Schichtträger und einer Schicht aus einem lichtempfindlichen Gemisch bestehen, oder sie werden in großem Umfange in der Industrie als Photoresistmaterial für Buchstabendruckplatten (Buchdruckplatten), IC-Schaltungen, Photomasken oder gedruckte Schaltungen verwendet
Die diese Verbindungen enthaltenden lichtempfindlichen Gemische weisen jedoch die folgenden Nachteile auf: die gelb gefärbten Verbindungen bleichen beim Belichten aus und es entsteht eine nahezu farblose, blaßgelbe Photolysekomponente. Beim Belichten unter einer gelben Sicherheitslampe kann der Operator nach dem Belichten nicht mehr zwischen belichteten Bereichen und unbelichteten Bereichen unterscheiden. Die Folge davon ist, daß im Verlaufe der Belichtung Fehlbehandlungen, wie z. B. eine Mehrfachbelichtung, auftreten können, bei der ein Original auf einen Teil der Platte gelegt und belichtet und danach wieder auf einen anderen Teil der Platte gelegt wird, oder ein unerwünschtes Bild wird durch Belichtung entfernt.
In dem Bestreben, die erwähnten Nachteile zu beseitigen, wurde bereits versucht, unmittelbar nach der Belichtung des lichtempfindlichen Gemisches sichtbare Bilder zu erzeugen, beispielsweise durch Verwendung von reduzierbaren Salzen verschiedener Typen im Gemisch mit Diazoverbindungen (US-PS 20 66 913 und 26 18 555), durch Verwendung von lichtempfindlichen Diazosubstanzen in Kombination mit Säure-Base-Indikatorcn (japanische Patentpublikation 2 203/1965), durch Verwendung von Kombinationen aus Diazoharzen und Merocyaninfarbstoffen (japanische Patentpublikation 3 041/1974), durch Verwendung von homogen pulverisierten organischen Färbemitteln, die bei einem so pH-Wert von 2,5 bis 6,6 ihre Farbe ändern können (japanische Paientpublikation 21 093/1965), durch Verwendung von Estern oder Amiden von o-Naphthochinondiazidosulfonsäure, o-Naphthochinondiazido-4-sulfonsäurehalogenid und einer salzbildenden organischen Verbindung als Farbstoff (japanische Offenlegungsschrift 36 209/1975) und durch Verwendung von photolöslichen Gemischen aus o-Naphthochinondiazidverbindungen, Novolakharzen und cyclischen Säureanhydriden, o-NaphthoGhinondiazido^-sulfonsäurehalogenid und einem organischen Farbstoff, der bei der Wechselwirkung mit einem Photolyseprodukt des o-Naphthochinondiazido-4-sulfonsäurehalogenids seine Farbe ändern kann (DE-OS 15 22 496 und 23 31 377 sowie DE-AS 1195 166). Aus der zuletzt genannten t>5 DE-AS 1195 166 sind lichtempfindliche Gemische bekannt, die als lichtempfindliche Substanz o-Naphthochinondiazide in Kombination mit Triphenylmethanfarbstoffen enthalten.
In der Praxis hat sich jedoch gezeigt, daß mit solchen lichtempfindlichen Gemischen erzeugte Bilder immer noch keinen ausreichenden Kontrast für die weitere praktische Handhabung unter einer gelben Sicherheitslampe aufweisen und daß die- damit erzielbaren Verbesserungen nicht ausreichen, um den Belichtungsvorgang ohne Störungen durchführen zu können. Selbst dort, wo ein ausreichender Kontrast erzielt wird, wird die Empfindlichkeit oder Entwickelbarkeit dadurch beeinträchtigt oder aus den lichtempfindlichen Gemischen können nach längerer Lagerung keine Bilder mit einem ausreichenden Kontrast mehr erzeugt werden.
Aufgabe der Erfindung war es daher, lichtempfindliche Gemische und sie enthaltende lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterialien zu entwickeln, mit deren Hilfe es möglich ist, unmittelbar nach der Belichtung sichtbare Bilder zu erzeugen, die einen ausreichenden Kontrast aufweisen und deren Eigenschaften sich auch nach längerer Lagerung nicht ändern.
Es wurde nun gefunden, daß diese Aufgabe erfindungsgemäß dadurch gelöst werden kann, daß als o-Naphthocbinondiazid-Verbindung eine solche der nachstehend angegebenen allgemeinen Formel verwendet wird.
Gegenstand der Erfindung ist ein lichtempfindliches Gemisch, das als lichtempfindliche Substanz mindestens eine o-Naphthochinondiazid-Verbindung sowie einen Triphenylmethanfarbstoff enthält, das dadurch gekennzeichnet ist, daß es als o-Naphthochinondiazid-Verbindung eine solche dcT allgemeinen Formel enthält
Cyan-Substituenten in die als lichtempfindliche Substanz verwendeten o-Naphthochinondiazide zurückzuführen.
Die Nitro- oder Cyanogruppen können in irgendeiner der o-, m- und p-Positionen angeordnet sein. Bei Verwendung einer Verbindung, welche die Substituenten in der o- oder p-Position aufweist, ist jedoch der erzielbare Effekt im allgemeinen größer als bei Verwendung einer Verbindung, welche die Substituen-
ici ten in der m-Position aufweist Die Anzahl der Substituenten beträgt 1 bis 3, wobei durch Verwendung einer disubstituierten oder trisubstituierten Verbindung jedoch ein größerer Effekt erzielbar ist als bei Verwendung einer monosubstituierten Verbindung. Ein besonders guter Effekt wird erzielt bei Verwendung einer disubstituierten Verbindung. Bevorzugt verwendet werden insbesondere die nachstehend angegebenen Verbindungen (4) und (6).
Die Naphthochinon-Ringe der erfindungsgemäß verwendeten o-Naphtochinondiazid-Verbindungen können einen Substituenten aufweisen.
Gegenstand der Erfindung ist ferner ein lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit einem Schichtträger und einer darauf aufgebrachten Schicht aus einem lichtempfindlichen Gemisch, das dadurch gekennzeichnet ist, daß es sich bei dem lichtempfindlichen Gemisch um ein solches der vorstehend angegebenen Zusammensetzung handelt.
Nachstehend werden einige typische Beispiele für
jo erfindungsgemäß verwendbare o-Naphthochinondiazid-Verbindungen angegeben, auf welche die Erfindung jedoch nicht beschränkt ist
40
45
worin bedeuten:
X eine Oxygruppe (—0—) oder Iminogruppe
Y eine Nitrogruppe oder Cyangruppe und
π eine ganze Zahl von 1 bis 3, vorzugsweise die (3) Zahl 2.
(1) O
(2)
Das erfindungsgemäße lichtempfindliche Gemisch weist eine bessere Lagerfähigkeit und Empfindlichkeit als die aus der DE-OS 23 31 377 bekannten !ichempfindlichen Gemischen auf (vgl. das weiter unten beschriebene Vergleichsbeispiel 3) und es liefert Bilder mit einem besseren Kontrast nach der Belichtung bei gleichzeitig guter Lagerfähigkeit ohne Beeinträchtigung der übrigen photographischen Empfindlichkeiten, als die aus der DE-AS U 95 166 bekannten lichtempfindlichen Gemische (vgl. das weiter unten beschriebene Vergleichsbeispiel 4). Dieser erfindungsgemäß erzielte technische Effekt, der auch für den Fachmann nicht vorhersehbar war, ist offensichtlich auf die Einführung von Nitro- oder
55
60
63
(4)
CN
NO2
(6)
O2N
NO2
Die erfindungsgemaß verwendeten o-Naphthochinondiazid-Verbindungen können nach einem ähnlichen Verfahren hergestellt werden wie das nachfolgend beschriebene, an sich bekannte allgemein! Verfahren der Synthese der bekannten o-Naphthochraondiazid-Verbindungen.
Das heißt, die erfindungsgemaß verwendeten o-Naphthochinondiazid-Verbindungen können leicht hergestellt werden durch Auflösen von Naphthochinon-(l,2)diazido(2)-4-sulfonyIchlorid und Phenolen oder Anilinen mit den obengenannten Substituenten in Dioxan oder Tetrahydrofuran und anschließendes Zutropfen einer wäßrigen Lösung eines Alkali, wie Natriumcarbonat oder Kaliumcarbonat.
Die auf diese Weise hergestellten und erfindungsgemaß verwendeten o-Naphthochinondiazid-Verbindungen sind gegen Lagerung über einen längeren Zeitraum hinweg beständig und sie weisen keine unerwünschten Eigenschaften für lichtempfindliche Substanzen, beispielsweise keine Hygroskopizität auf und sie neigen nicht zur Zersetzung, wenn sie im dunkeln aufbewahrt werden.
Zur Herstellung eines lichtempfindlichen Gemisches der Erfindung wird die o-Naphthochinondiazid-Verbindung erfindungsgemaß in Kombination mit einem Triphenylmethan-Farbstoff verwendet, der seine Farbe ändern kann, wenn das lichtempfindliche Gemisch belichtet wird. Die Farbänderung umfaßt ein Ausbleichen der Farbe oder eine Änderung der Farbtönung. Man nimmt an, daß der Triphenylmethan-Farbstoff seine Farbe durch eine Wechselwirkung (z. B. eine schwache chemische Reaktion) mit einem Photolyseprodukt der o-Naphthochinondiazid-Verbindung, das bei der Belichtung entsteht, ändert.
Zu erfindungsgemaß verwendbaren Triphenylmethan-Farbstoffen gehören beispielsweise basische Triphenylmethanfarbstoffe, wie Victoria Pure Blue BOH (CI. Nr. 42 595), Patent Pure Blue (Cl. Nr. 42 045), Sudan Blue II (SoIv. Blue 35), Kristallviolett, Malachitgrün und Fuchsin, sowie saure Triphenylmethanfarbstoffe, wie Cresol Red, und Thymol Blue.
Unter den obengenannten Triphenylmethan-Farbstoffen sind die basischen Triphenylmethanfarbstoffe besonders bevorzugt. Einige dieser Farbstoffe sind aus den obengenannten Literaturstellen bereits bekannt. Die obengenannten Farbstoffe können entweder einzeln oder, faüs erforderlich, in Form einer Mischung davon verwendet werden.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf lichtempfindliche Gemische, die mindestens eine der erfindungsgemäß verwendeten o-Naphthochinondiazid-Verbindungen und mindestens einen der obengenannten Triphenylmethan-Farbstoffe enthalten. In die erfhidungsgemäßen lichtempfindlichen Gemische können jedoch auch andere Substanzen verschiedener Arten zum Zwecke der Verbesserung der Filmbildungseigeaschaften, der mechanischen Festigkeit und der photographischen Eigenschaften eingearbeitet werden. Die erfmdungsgemäßen lichtempfindlichen Gemische können beispielsweise als lichtempfindliche Substanz
ίο zusätzlich die an sich bekannten o-Naphthochinondiazid-Verbindungen enthalten. Für den oben angegebenen Zweck bevorzugt verwendete bekannte o-Naphthochinondiazid-Verbindungen sind Ester von Naphthochinon-(l,2)diazido(2)sulfonsäurechlorid mit Phenol- oder Kresolformaldehydharzea Zu anderen brauchbaren, an sich bekannten o-Naphthochinonriiazid-Verbindungen gehören diejenigen, wie sie beispielsweise in den japanischen Patentpublikationen 5 083/1975, 5 084/ 1975, 483/1976, 24 641/1975, .34 934/1977, 34 932/1977 und 36 008/1977 beschrieben sind, i.i die lichtempfindli-
. chen Gemische können außerdem nicntlichtempfindliche Harze eingearbeitet werden zur Verbesserung der Filmbildungseigenschaften, der mechanischen Festigkeit und der Beständigkeit gegenüber Chemikalien.
Zu Beispielen für nicht-lichtempfindliche Harze, die mit Erfolg für diesen Zweck entweder einzeln oder in Form einer Kombination verwendet werden können, gehören alkaliiösliche Harze, wie Fhenol- oder Formaldehydnovolakharze, m-KresoIformaldehydnovolakharze, m-Xylenolformaldehydnovolakharze, Schellack, Kolophonium (Rosin), Polyacrylsäure, Polymethacrylsäure, Methacryisäure/Methylmethacrylat-Copolymere.Methacrylsäure/StyroI-Copolymere, Poly-p-hydroxystyrol, Copolymere, die p-Hydroxymethacrylanilidderivate enthalten, wie in der japanischen Patentpublikation 34 931/1977 beschrieben, und Copolymere, die p-Hydroxymethacrylatderivate enthalten, wie in der japanischen Patentpublikation 41 052/1977 beschrieben.
Außer den obengenannten Zusätzen können in die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Gemische auch noch verschiedene andere Zusätze für verschiedene Zwecke eingearbeitet werden. So können die lichtempfindlichen Gemische beispielsweise zur Verbesserung ihrer Beschichtungseigenschaften Zusätze enthalten, wie z. B. Cellulosealkylester, oberflächenaktive Mittel vom Äthylenoxid-Typ und oberflächenaktive Mittel vom Fluor enthaltenden Typ, und außerdem können sie zur Verbesserung der physikalischen Eigenschaften der resultierenden Überzüge aus dem lichtempfindlichen Gemisch beispielsweise Weichmacher, wie Dibutylphthalat, Butylglykolat, Trikresylphosphat und Dioctyladinat, enthalten.
In dem erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Gemisch, welches die obengenannten Komponenten enthält, bestehen keine speziellen Beschränkungen in bezug auf das Mischungsverhältnis dieser Komponenten.
Die erfindungsgemaß verwendete o-Naphthochinondiazid-Verbindung der oben angegebenen allgemeinen Formel wird jedoch in einer Menge von 0,1 bis 70, vorzugsweise von 1 bis 40 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des lichtempfindlichen Gemisches, verwendet, der Triphenylmethan-Farbstoff, der durch Wechselwirkung mit einem Photolyseprodukt der o-Naphthochinondiazid-Verbindung seine Farbtönung ändern kann, wird in einer Menge von 0,1 bis 20, vorzugsweise von 0,5 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des lichtempfindlichen Gemisches,
verwendet, und die Zusätze werden in einer Menge von 0,01 bis 20. vorzugsweise von 0,05 bis IOGew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des lichtempfindlichen Gemisches, verwendet, wobei die Menge dieser Zusätze in Abhängigkeit von der Art der verwendeten Zusätze im allgemeinen variieren kann.
Die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Gemische werden nach dem Aufbringen in Form einer Schicht auf einen geeigneten Schichtträger, z. B. eine Alurniniumplatte, eine Zinkplatte, eine Kupferplatte, einen Kunststoffilm, auf Papier und auf laminierte Platten, wie z. B. Bimetalle. Trimetalle, Kupferfolien für gedruckte Schaltungen, Kunststoffolien und mit Chromoxid bedampfte Glasplatten, für die verschiedensten Zwecke verwendet. In einer Beschichtungsflüssigkcit. die zum Aufbringen des erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Gemisches in Form einer Schicht auf einen Schichtträger verwendet wird, beträgt die Konzentralion der Gesamtfeststoffe des Beschichtungsgemisches zweckmäßig 1 bis 50 Gew.-%, bezogen auf ein organisches Lösungsmittel in der Beschichtungsflüssigkeit. Bei den organischen Lösungsmitteln, die zweckmäßig einzeln oder in Form einer Mischung in der Beschichtungsflüssigkeit verwendet werden, handelt es sich beispielsweise um Methylcellosolve, Äthylcellosolve, Dioxan, Aceton y-Butyrolacton. Tetrachloräthan, Tetrahydrofuran, Dimethylsulfoxid. Dimethylformamid, Methylcellosolveacetat und Äthylcellosolveacetat.
Bei der Verwendung der auf diese Weise erhaltenen lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien kann jedes beliebige Verfahren, das üblicherweise für Aufzeichnungsmaterialien dieser Art angewendet wird, angewendet werden. So wird beispielsweise ein transparentes Original, das ein Strichbild oder ein Punktbild trägt, mit einer lichtempfindlichen Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials in innigen Kontakt gebracht, danach belichtet und mit einer wäßrigen Alkalilösung entwikkelt, wobei man ein Reliclfbild vom positiven Typ, bezogen auf das Original, erhlilt.
Zu bevorzugt verwendeten Lichtquellen für die Belichtung gehören eine Quecksilberlampe, eine Metallhalogenidlampe, eine Xenonlnmpe und eine Kohlelichtbogenlampe. Zu für die Entwicklung verwendbaren wäßrigen Alkalilösungen gehiären eine wäßrige Lösung von Natriumhydroxid, Kaliunnhydroxid, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Natriumsilikat, Natriummetasilikat, Dinatriumhydrogenphospihat und Trinatriumhydrogenphosphat.
Die Konzentration der wäßrigen Alkalilösung, die in diesem Falle verwendet wirdvbeträgt im allgemeinen 0,1 bis 10Gew.-%, wobei jedoteh die Konzentration in Abhängigkeit von der Art dia verwendeten lichtempfindlichen Gemisches und des verwendeten Alkali variieren kann. Um die Entwicklung zu beschleunigen und eine ungleichmäßige Entwickhing zu verhindern, kann in die wäßrige Alkalilösung eine geringe Menge eines oberflächenaktiven Mittels, eines mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittels und ähnlicher Zusätze, die für diese Zwecke geeignet sind, eingearbeitet werden.
Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele und Vergleichsbeispiele näher erläutert
Beispiel 1
Auf eine 0,24 mm dicke Aluminiumfolie, die unter Anwendung eines Bürstenpolierverfahrens aufgerauht worden war, wurde mittels einer Rotationsbeschichtungsvorrichtung eine lichtempfindliche Flüssigkeit mit der nachfolgend angegebenen Zusammensetzung in Form einer Schicht aufgebracht und dann 3 Minuten lang bei 1100C getrocknet zur Herstellung einer Druckplatte für die Lithographie.
Zusammensetzung der lichtempfindlichen Flüssigkeit:
Naphthochinone 1,2)diazido(2)-4-sulfonsäure-2,4-dinitrophenylester
ίο (beispielhafte Verbindung 4) 1.4 g
m-Kresolformaldehydnovolakharz 7,6 g
Kondensat von Naphthochinon-(l.2)diazido(2)-5-sulfonsäurechloridmit m-Kresolformaldehydnovolakharz
(Kondensationsrate 25 Mol-%) 5.0g
Victoria Pure Blue BOH (C.I. Nr. 42 595) 0.1 g Trikrcsylphosphat 0,14 g
Äthvloellosolv»· IOO σ
Nach dem Trocknen hatte die auf diese Weise auf die Aluminiumfolie aufgebrachte lichtempfindliche Schicht ein Gewicht von 2.78 g/m-'.
Die auf diese Weise erhaltene lichtempfindliche Druckplatte für die Lithographie wurde in innigen Kontakt gebracht mit der lichtempfindlichen Schicht einer positiven Kopie einer Halbtonphotographie und einem Srtfenkeil für die Bestimmung der Empfindlichkeit und danach 70 Sekunden lang in einem Abstand von I m mittels einer 2 K W-Metallhalogenidlampe belichtet.
Unmittelbar nach der Belichtung blich der Farbstoff in dem belichteten Abschnitt der lichtempfindlichen Schicht aus und es war ein deutlicher Unterschied der Farbtönung zwischen den belichteten und unbelichteten Abschnitten festzustellen. Das dabei erhaltene sichtbare Bild war so, daß selbst Registermarkierungen der Kopie festgestellt werden konnten.
Danach wurde die belichtete Druckplatte 45 Sekunden lang bei 25°C mit einer 4%igen wäßrigen Natriummetasilikatlösung einer Schalenentwicklung unterworfen, danach wurde der durch die Belichtung ausgebleichte Abschnitt entfernt, nachdem er aufgelöst worden war, und man erhielt ein blaues positives Reliefbild mit einer ausgezeichneten Affinität gegenüber Druckerfarbe. Nachdem eine Offsetpresse, auf der die so hergestellte Druckplatte befestigt worden war, in Bewegung gesetzt worden war, erhielt man Druckkopien, die ein vorteilhaftes Bild darauf trugen.
Außerdem wurde das erfindungsgemäße Beispiel in bezug auf die Qualität des unmittelbar nach der
so Belichtung erhaltenen sichtbaren Bildes und Jes sichtbaren Bildes, das nach dem Ablauf einer bestimmten Zeitspanne nach der Belichtung erhalten worden war, und in bezug auf die Stabilität der Empfindlichkeit der lichtempfindlichen Druckplatte zum Zeitpunkt der Herstellung und nach der Lagerung unter bestimmten Bedingungen verglichen mit Vergleichsbeispielen, die von dem System des erfindungsgemäßen Beispiels verschiedene Systeme aufwiesen, wobei die in den folgenden Tabellen I und II angegebenen Ergebnisse erhalten wurden, und mit Vergleichsbeispielen, die
1. das gleiche System wie in dem erfindungsgemäßen Beispiel, jedoch ohne Zugabe der erfindungsgemäß verwendeten o-Naphthochinondiazid-Verbindung (Vergleichsbeispie! 1),
2. das gleiche System wie in dem erfindungsgemäßen Beispiel, jedoch unter Verwendung einer o-Naphthochinondiazid-Verbindung mit einer Elektronen
abgebenden Gruppe anstelle der erfindungsgemäß verwendete.: o-Naphthochinondiazid-Verbindung (Vergleichsbeispiel 2), und
3. das gleiche System wie in dem erfindungsgemäßen Beispiel, jedoch unter Verwendung von Naphthoi:iinon-( 1,2)diazido(2)-4-sulfon$äurechlorid anstelle dtr erfindungsgemäß verwendeten o-Naphthochinondiazid· Verbindung,
aufwiesen.
Die Qualitäten der nach der Belichtung erhaltenen sichtbaren Bilder wurden miteinander verglichen durch Messung der Reflexionsdichten (unter Verwendung eines Gelbfilters) der belichteten und unbelichteten Abschnitte und durch visuelle Betrachtung der Bilder unter einer gelben Lampe, und die Empfindlichkeiten der !ichtempfinfilichen Platten wurden miteinander verglichen durch Messung der Belichtungszeit, die erforderlich war. um die dritte Stufe eines handelsüblichen Stufenkeils Nr. 2 unter den gleichen Belichtungsbedingungen wie in dem erfindungsgemäßen Beispiel vollständig klar zu machen.
Vergleichsbeispiel t
Das Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei diesmal jedoch der lichtempfindlichen Flüssigkeit die erfindungsgemäß verwendete Verbindung 4 nicht zugesetzt wurde.
Vergleichsbeispiel 2
Das Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei diesmal jedoch der Naphthochinon(1,2)diazido(2)-4-sulfonsäure- 2,4-dimethylphenylester der nachfolgend angegebenen Formel anstelle der erfindungsgemäß verwendeten Verbindung 4 in der gleichen Menge in der lichtempfindlichen Flüssigkeit verwendet wurde.
CH3
Vergleichsbeispiel 3 Das Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei diesmal
Naphthochinone ,2)-diazido(2)-4-sulfonsäurechlorid (beschrieben in der DE-OS 23 31 377 und der japanischen Offenlegungsschrift 36 209/1975) anstelle der erfindungsgemäß verwendeten Verbindung 4 in der gleichen Menge in der lichtempfindlichen Flüssigkeit verwendet wurde.
Tabelle I
Qualitätsvergleich zwischen den nach der Belichtung erhaltenen sichtbaren Bildern und Vergleich der Lagerungsbeständigkeit zwischen den lichtempflndlichen Gemischen nach der Lagerung
vorgeschriebene unmittelbar nach der Herstellung durch visuelle 6 Tage lang :in einem trockenen Thermostaten bei durch visuelle 6 Tage lang i unbelich- durch visuelle KJ
Crt
Zusammensetzung Betrachtung 55 °C und 2% RH gelagert Betrachtung in einem Hydrothermostaten bei teter Teil Betrachtung
Dichte festgestellter Dichte festgestellter 4O0C und 80 % RH gelagert festgestellter -^·
belichteter unbelich- Unterschied belichteter unbelich- Unterschied Dichte 0,74 Unterschied N)
U)
Teil teter Teil O Teil teter Teil O belichteter 0,74 O
X X Teil X
Beispiel 1 0,50 0,75 0,55 0,74 0,74
Vergleichs 0,74 0,75 X 0,71 0,73 X 0,58 X
beispiel 1 0,73 0,69
Vergleio^s- 0,75 0,77 O 0,74 0,75 Δ X
beispiel 2 0,74
Vergleichs 0,47 0,74 0,57 0,65
beispiel 3 0,67
Bemerkungen:
Das Ergebnis der visuellen Feststtillung eines Unterschieds in bezug auf die Dichte zwischen den belichteten und unbelichteten Teilen des mich der Belichtung gebildeten Bildes wird dargestellt durch das Zeichen O, wobei ein klarer Unterschied festgestellt wurde, durch das Zeichen Δ, wobei ein nicht so klarer Unterschied festgestellt wurde, und das Zeichen x, wobei — der Unterschied nicht deutlich war. ^
RH - relative Luftfeuchtigkeit Tabelle II
Empfindlichkeitsvergleich zwischen den lichtempfindlichen Gemischen nach der Lagerung
vorgeschriebene
Zusammensetzung
unmittelbar
nach der
Herstellung
Tage lang bei 55 0C und 2 % RH
in einem trockenen Thermostaten
gelagert
6 Tage lang be« 4U °C und
80 % RH in einem
Hydrothermostaten gelagert
Beispiel 1 70 s
Vergleichsbeispiel 1 59 s
Vergleichsbeispiel 2 70 s
Vergleichsbeispiel 3 91 s
76 s
64s
76 s
128 s
Die in der Tabelle angegebene Zeit stellt die Belichtungszeit dar, die erforderlich war zur Klärung der dritten Stufe des Stufenkeils beim Bestrahlen mit Licht aus einer 2 KW-Metallhalogenidlampe in einem Abstand von 1 m.
Wie aus der vorstehenden Tabelle I hervorgeht, wurde ii dem Vergleichsbeispiel 1, 'n dem keine erfindungsgemäß verwendete o-Naphthochinondiazid-Verbindung verwendet wurde, sowie in dem Vergleichsbeispiel 2, in dem statt dessen eine o-Naphthochinondiazid-Verbindung mit Elektronen abgebenden Substituenten verwendet wurde, kein Unterschied in bezug auf die Dichte zwischen den belichteten und unbelichteten Teilen des erhaltenen Bildes beobachtet oder dieser war, wenn überhaupt ein Unterschied vorlag, sehr gering und der Unterschied Konnte unter einer gelben Lampe praktisch nicht festgestellt werden. Bei einem anderen sichtbaren Bildsystem (Vergleichsbeispiel 3), in dem statt dessen die Naphthochinone ,2)diazido(2)-4-sulfonsäure verwendet wurde, wurde einerseits mindestens bei der lichtempfindlichen Platte vor der Lagerung ein sichtbares Bild erhalten, nach der Lagerung der Platte bei hoher Temperatur und hoher Feuchtigkeit wurde jedoch kein praktisch brauchbares sichtbares Bild erhalten, da die Qualität der gelagerten Platte deutlich verschlechtert war, und darüber hinaus trat auch eine Verschlechterung der Empfindlichkeit auf, was aus der Tabelle II zu ersehen ist.
Im Gegensatz dazu konnte in dem Beispiel 1, in dem das erfindungsgemäße lichtempfindliche Gemisch verwendet wurde, sowohl vor als auch nach der Lagerung ein sichtbares Bild mit einer ausreichenden Dichtedifferenz und einem ausreichenden Kontrast erhalten werden und es trat praktisch keine Verschlechterung der Empfindlichkeit auf.
Beispiel 2
Zusammensetzung der lichtempfindlichen Flüssigkeit:
Naphthochincn(1.2)diazido(2)-
4-sulfonsäure-p-cyanophenylester
(erfindungsgemäß verwendete
Verbindung 3) 0,5 g
m- und p-Kresolgemischformaldehyd-
novolakharz 11,8 g
Kondensat (Kondensationsrate:
33 Mol-% von Naphthochinon-
(l,2)diazido(2)-5-suIfonsäurechlorid
mit Phenolformaldehydnovolakharz 7,7 g
Patent Pure Blue (C.I. Nr. 42 045) Ö.2« g
Dibutylphthalat 0,2 g
Äthylcellosolveacetat 100 g
Beispiel 3
Zusammensetzung der lichtempfindlichen Flüssigkeit
Naphthochinon( 1,2)diazido(2)-
4-suifonsäure-p-nitroanilid
(erfindungsgemäß verwendete
Verbindung 5) 0,2 g
Kondensat von Naphthochinon-
(1.2)diazido(2)-5-sulfonsäurechlorid
mit Polyhydrochinonmono-
methylacrylatharz
(Kondensationsrate 80 Mol-%,
beschrieben in der japanischen
Paienipüblikation 34 934/1977) 9,8 g
Thymolblau 0.1 g
Cyclohexanon 50 g
Methylcellosolve 50 g
In den vorstehend beschriebenen Beispielen 2 und 3 erhielt man scharfe auskopierte Bilder, wc·.η man die auf ähnliche Weise wie in Beispiel 1 hergestellten lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien belichtete, und die lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien wiesen, wie gefunden wurde, im Vergleich zu demjenigen des Beispiels 1 eine vorteilhafte Lagerbeständigkeit auf.
50
Vergleichsbeispiel 4
Es wurde das Beispiel 1 nachgearbeitet, wobei als
lichtempfindliche Substanzen einerseits die erfindungsgemäß verwendete o-Naphthochinondiazid-Verbindung Nr. 4 (Beispiel 1) und andererseits die Verbindung der Formel 2 der DE-AS 11 95 166 verwendet wurden.
Die dabei erhaltenen Proben wurden auf die gleiche
Weise wie in Beispiel 1 untersucht, wobei die in der folgenden Tabelle III zusammengestellten Ergebnisse erhalten wurden.
Tabelle III
Qualitätsvergleich zwischen den nach der Belichtung erhaltenen sichtbaren Bildern und Vergleich der Lagerungsbeständigkeit der lichtempfindlichen Gemische nach der Lagerung
vorgeschriebene Zusammensetzung
unmittelbar nach der Herstellung
6 Tage lang in einem trockenen Thermostaten bei 6 Tage lang in einem Hydrothermostaten bei SS 0C und 2 Vo RH gelagert 40 0C und 80 % RI-I gelagert
Dichte unbeliciv durch visuelle Dichte unbelich- durch visuelle Dichte unbelich- durch visuelle hO
belichteter teter Teil Betrachtung belichteter teter Teil Betrachtung belichteter teter Teil Betrachtung
Teil festgestellter Teil festgestellter Teil festgestellter
Unterschied Unterschied Unterschied
Beispiel 1 0,50 0,75
(erfindungsgemäß
verwendete Verbindung 4)
Vergleichsbeispiel 4 0,69 0,74
0,70
0,74
0,74
0,58
0,69
0,74
0,73
Fußnote:
O = deutlich sichtbarer Unterschied zwischen belichteten und unbelichteten Teilen des Bildes
Δ - kein klarer Unterschied zwischen belichteten und unbelichteten Teilen des Bildes

Claims (1)

Patentansprüche:
1. lichtempfindliches Gemisch, das als lichtempfindliche Substanz mindestens eine o-Naphthochinondiazid-Verbindung sowie einen Triphenylmethanfarbstoffenthält, dadurch gekennzeichnet, daß es als o-Naphthochinondiazid-Verbindung eine solche der allgemeinen Formel
DE2944237A 1978-11-02 1979-11-02 Lichtempfindliches Gemisch und es enthaltendes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial Expired DE2944237C2 (de)

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Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57163234A (en) * 1981-04-01 1982-10-07 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
DE3144499A1 (de) * 1981-11-09 1983-05-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
DE3144480A1 (de) * 1981-11-09 1983-05-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
US4596763A (en) * 1984-10-01 1986-06-24 American Hoechst Corporation Positive photoresist processing with mid U-V range exposure
US4672021A (en) * 1985-06-03 1987-06-09 Fairmount Chemical Company Contrast enhancement layer composition with naphthoquinone diazide, indicator dye and polymeric binder
JPS62123444A (ja) * 1985-08-07 1987-06-04 Japan Synthetic Rubber Co Ltd ポジ型感放射線性樹脂組成物
US4758497A (en) * 1985-08-22 1988-07-19 Polychrome Corporation Photosensitive naphthoquinone diazide sulfonyl ester compounds for the fabrication of lithographic plates and photosensitive sheet construction with the compounds
JPS63161449A (ja) * 1986-12-24 1988-07-05 Sumitomo Chem Co Ltd 高コントラストなフオトレジスト組成物
US5182183A (en) * 1987-03-12 1993-01-26 Mitsubishi Kasei Corporation Positive photosensitive planographic printing plates containing specific high-molecular weight compound and photosensitive ester of O-napthoquinonediazidosulfonic acid with polyhydroxybenzophenone
US4811735A (en) * 1987-07-30 1989-03-14 Kensey Nash Corporation Stone destroying catheter and method of use
JP2623309B2 (ja) * 1988-02-22 1997-06-25 ユーシービー ソシエテ アノニム レジストパターンを得る方法
JPH0816779B2 (ja) * 1988-12-02 1996-02-21 富士写真フイルム株式会社 新規な感光性化合物及びそれを用いたフオトレジストの形成方法
JP2567282B2 (ja) * 1989-10-02 1996-12-25 日本ゼオン株式会社 ポジ型レジスト組成物
JPH03242650A (ja) * 1990-02-20 1991-10-29 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型フオトレジスト組成物
EP0468531B2 (de) * 1990-07-27 1997-11-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. 2-Diazo-1,2-chinonverbindungen und Reproduktionsmaterialien, die diese Verbindungen enthalten
US5250392A (en) * 1991-02-04 1993-10-05 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Process of developing a negative-working radiation-sensitive photoresist containing cyclized rubber polymer and contrast enhancing azo dye
US5206110A (en) * 1991-02-04 1993-04-27 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Negative-working radiation-sensitive mixtures containing cyclized rubber polymer and contrast enhancing azo dye
US5308744A (en) * 1993-03-05 1994-05-03 Morton International, Inc. Source of photochemically generated acids from diazonaphthoquinone sulfonates of nitrobenzyl derivatives
US5314782A (en) * 1993-03-05 1994-05-24 Morton International, Inc. Deep UV sensitive resistant to latent image decay comprising a diazonaphthoquinone sulfonate of a nitrobenzyl derivative
JP3290316B2 (ja) 1994-11-18 2002-06-10 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
US5665522A (en) * 1995-05-02 1997-09-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Visible image dyes for positive-acting no-process printing plates
EP1225478B1 (de) 1998-04-06 2012-12-19 FUJIFILM Corporation Lichtempfindliche Harzzusammensetzung
ATE398298T1 (de) 2004-07-20 2008-07-15 Fujifilm Corp Bilderzeugendes material
JP2009085984A (ja) 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
JP4890403B2 (ja) 2007-09-27 2012-03-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5164640B2 (ja) 2008-04-02 2013-03-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2010237435A (ja) 2009-03-31 2010-10-21 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
US8883401B2 (en) 2009-09-24 2014-11-11 Fujifilm Corporation Lithographic printing original plate
JP5490168B2 (ja) 2012-03-23 2014-05-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5512730B2 (ja) 2012-03-30 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
RU2552461C1 (ru) * 2014-04-24 2015-06-10 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского" Способ формирования фоторезистной маски позитивного типа (варианты)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3046121A (en) * 1949-07-23 1962-07-24 Azoplate Corp Process for the manufacture of printing plates and light-sensitive material suttablefor use therein
NL255517A (de) * 1959-09-04
DE1522496A1 (de) * 1966-02-12 1969-09-11 Kalle Ag Lichtreprographische Kopiermasse und damit beschichtetes Kopiermaterial
DE2331377C2 (de) * 1973-06-20 1982-10-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Kopiermaterial

Also Published As

Publication number Publication date
GB2038801B (en) 1983-04-13
JPS5562444A (en) 1980-05-10
DE2944237A1 (de) 1980-05-14
US4467025A (en) 1984-08-21
JPS576572B2 (de) 1982-02-05
GB2038801A (en) 1980-07-30

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