DE69118614T2

DE69118614T2 - Substrat für lithographische Druckplatten

Info

Publication number: DE69118614T2
Application number: DE1991618614
Authority: DE
Inventors: Kei Okuno; Hirokazu Sakaki
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1990-08-07
Filing date: 1991-08-02
Publication date: 1996-09-19
Anticipated expiration: 2011-08-03
Also published as: JPH0491992A; EP0470529B1; DE69118614D1; EP0470529A1; EP0470529B2; JP2668596B2; DE69118614T3

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Substrat für eine vorsensibilisierte Platte zur Verwendung beim Herstellen einer lithographischen Druckplatte (nachstehend als "PS-Platte" bezeichnet) und somit auf eine lithographische Druckplatte und insbesondere auf ein Substrat für eine PS-Platte oder eine lithographische Druckplatte, die eine verbesserte Eignung für einen Plattenscanner eines Farbvoreinstellungssystems zeigen kann.
Eine ein Aluminiumsubstrat umfassende PS-Platte wird im allgemeinen bildweise Licht ausgesetzt, mit einem Entwickler belichtet und anschließend der Retusche unter Ergeben einer lithographischen Druckplatte unterzogen. Die sich daraus ergebende Druckplatte wird zum Ausführen von Druckvorgängen auf eine Druckerpresse verbracht.
Das grundlegende Prinzip des Offsetdrucks ist das Darstellen von Licht- und Schattenmustern als Unterschied zwischen der Zahl an Halbtonpunkten und es ist daher ideal, daß der Halbtonpunktanteil einen Betrag der durch die Halbtonpunkte belegten Fläche von 10% hat und der auf Papier gedruckte, ausgefüllte Teil dieselbe Farbdicke hat. Weiterhin hängt die während des Offsetdrucks verbrauchte Farbmenge von der von den Mustern belegten Fläche ab und es ist entsprechend notwendig, den Betrag der durch die Muster belegten Fläche für jede Verschlußstellung einer Druckfarbenflasche abzulesen und das Schalten (oder Öffnen und Schließen) des Druckfarbenverschlusses in Abhängigkeit von dem Ausgabewert des Betrags zu kontrollieren. Aus diesem Grund wird zum Kontrollieren des Schaltens des Druckfarbenverschlusses im allgemeinen ein Farbvoreinstellungssystem verwendet. Das "Farbvoreinstellungssystem" bedeutet hierin ein System zum Ablesen des Betrags der durch Muster belegten Fläche einer lithographischen Druckplatte für jede Verschlußstellung durch einen Plattenscanner vor dem Einpassen der Druckplatte in eine Druckerpresse und zum automatischen Kontrollieren des Schaltens des Druckfarbenverschlusses in Abhängigkeit vom beobachteten Wert. Die Anwendung eines derartigen Systems ermöglicht es, die zum Einstellen der Menge oder Dicke der Druckfarbe erforderliche Zeit zu verringern und die Produktivität zu verbessern.
Das Ablesen des Betrags der durch Muster belegten Fläche einer lithographischen Druckplatte wird im allgemeinen durch das folgende Verfahren mittels eines Plattenscanners ausgeführt. Das Verfahren umfaßt die Schritte des Bestrahlens der Plattenoberfläche mit Licht aus einer Lichtquelle, die zur Scanrichtung senkrecht angeordnet ist, Nachweisen oder Bestimmen der von der Oberfläche einer Aluminiumplatte auf der Nichtbildfläche reflektierten Lichtmenge durch Photosensoren, die auf einer geraden Linie parallel zur Lichtquelle angeordnet sind, und Berechnen der durch die lichtabsorbierende Bildfläche belegten Fläche, um so den Betrag der durch die Muster belegten Fläche zu bestimmen.
Im Fall einer lithographischen Druckplatte, die eine Aluminiumplatte als Substrat umfaßt, werden jedoch die folgenden Nachteile beobachtet, wenn der Betrag der durch Muster belegten Fläche abgelesen wird. Die Aluminiumplatte besitzt Streifen (Walzzeichen) auf der Oberfläche entlang der Walzrichtung und demzufolge wird der Lichteinfall auf die Oberfläche innerhalb der Ebenen senkrecht zu den Walzzeichen gestreut. Auf diese Weise wird das Licht, das man auf die Aluminiumplatte senkrecht zu deren Walzrichtung einfallen läßt, in Bezug auf die Richtung der Lichtfortpflanzung hin- und hergestreut (parallele Richtung). Deshalb ist die Lichtmenge, die durch ein Verfahren nachgewiesen wird, welches nur das Licht innerhalb eines begrenzten Reflexionswinkels nachweisen kann, kleiner als diejenige, welche beobachtet wird, wenn durch die Walzzeichen kein Streuen verursacht wird. Andererseits wird das Licht, das man auf die Aluminiumplatte parallel zu deren Walzrichtung einfallen läßt, aufgrund der Anwesenheit von Walzzeichen gestreut und breitet sich in die Richtungen senkrecht zur Richtung der Lichtfortpflanzung aus, aber die sich daraus ergebende beobachtete Lichtmenge ist fast dieselbe wie diejenige, welche für eine von Walzzeichen freie Aluminiumplatte nachgewiesen wird, falls die durch alle Photosensoren nachgewiesenen Lichtmengen aufsummiert werden, da viele Lichtquellen in dieser Richtung angeordnet sind.
Wenn das Ablesen des Betrags der von Mustern belegten Fläche einer lithographischen Druckplatte mittels eines Plattenscanners und Legen der Druckplatte auf eine Druckerpresse in der Weise, daß die Walzrichtung der Aluminiumplatte der Druckplatte senkrecht zu der Richtung der Vektorkomponenten, parallel zu der Substratoberfläche, des aus der Lichtquelle eines Plattenscanners einfallenden Lichtes abgelesen wird, erniedrigt sich wie vorstehend erläutert die Menge des reflektierten Lichtes und deshalb wird eine größerer Betrag, als es der wahre Wert wäre, für die durch die Muster belegte Fläche vom Scanner ausgegeben.
Um dieses Problem zu lösen sind verschiedene Verfahren zum Entfernen der auf der Oberfläche eines Aluminiumsubstrates verbleibenden Walzzeichen vorgeschlagen worden. Beispiele derartiger Verfahren schließen diejenigen ein, die Oberflächenaufrauhbehandlungen, zum Beispiel mechanische Verfahren wie etwa Bürstenkörnen und Kugelkörnen, und elektrochemische Verfahren wie etwa elektrolytisches Körnen und eine Kombination dieser beiden Verfahren umfassen. Diese Behandlungen komplizieren jedoch das Herstellverfahren und führen zu einer Erhöhung der Herstellkosten.
Weiter werden die Walzzeichen durch zum Beispiel eine Dispersion von Titanoxidpulver in einer lichtempfindlichen Schicht und/oder einer Grundierungsschicht für eine kein Befeuchtungswasser benötigende lithographische Druckplatte abgedeckt, aber eine große Menge Titanoxid muß zum Abdecken der Walzzeichen in den Schichten dispergiert werden und dies macht die Einrichtung zu seiner Dispergierung kompliziert und teuer.
Die WO-A-81 02547 offenbart ein Verfahren zum Herstellen eines Grundmaterials für eine Offsetdruckplatte, wobei ein Aluminiumstreifen auf wenigstens einer Oberfläche mit einer definierten Oberflächenrauhigkeit mittels Walzen mit einer definierten Oberflächenstruktur und anschliessend durch Anodisierung mit einer Aluminiumoxidschicht versehen wird.
Die EP-A-0 257 957 offenbart einen Aluminiumlegierungsträger für eine lithographische Druckplatte, welche 0,30 Gew.-% bis weniger als 1,0 Gew.-% Mg, mehr als 0,3 Gew.-% bis zu 1,3 Gew.-% Si, 0,003 Gew.-% bis 0,10 Gew.-% Cu und als Rest Aluminium und Verunreinigungen umfaßt.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist das Bereitstellen eines Substrates für PS-Platten oder lithographische Druckplatten, das eine lithographische Druckplatte lie fern kann, welche den Betrag an mit Mustern belegter Fläche der Platte ausgeben kann, der nahezu gleich der wahren, durch die Muster belegten Fläche ist, sogar falls, wenn der Betrag der durch Muster belegten Fläche mittels eines Plattenscanners eines Farbvoreinstellungssystems bestimmt wird, die lithographische Druckplatte in der Weise auf eine Druckerpresse gelegt wird, daß die Walzrichtung des Aluminiumsubstrates der Druckplatte senkrecht zur Richtung der Vektorkomponenten, parallel zur Substratoberfläche, des aus den Lichtquellen des Plattenscanners einfallenden Lichts ist.
Der Gegenstand wird durch ein Substrat für lithographische Druckplatten erreicht, umfassend eine gewalzte Aluminiumplatte, deren Spiegelglanz, der durch Lichteinfall auf die Aluminiumplatte senkrecht zu der Walzrichtung der gewalzten Platte bestimmt wird, mindestens 70% desjenigen beträgt, der durch Lichteinfall auf die gewalzte Platte parallel zu der Walzrichtung der gewalzten Platte bestimmt wird.
Die vorliegende Erfindung wird nun auf der Grundlage der bevorzugten Ausführungsformen genauer erläutert.

Substrat

Der Spiegelglanz der in der vorliegenden Erfindung als Material zum Herstellen des Substrates für lithographische Druckplatten verwendeten Aluminiumplatte, welcher dadurch bestimmt wird, daß man Licht senkrecht zur Walzrichtung der Platte auf die Aluminiumplatte einfallen läßt, beträgt mindestens 70% desjenigen, welcher dadurch bestimmt wird, daß man Licht senkrecht zur Walzrichtung auf die Platte einfallen läßt.
Der Ausdruck "Spiegelglanz" bedeutet hierin den Wert Gs (θ), der durch die folgende Gleichung (I) dargestellt wird und durch zum Beispiel das von Nippon Denshoku Kogyo K. K. erhältliche Glossmeter VG-1D bestimmt werden kann.
Gs (θ) (%) =(φs/φos) x (Glanz der verwendeten Bezugsoberfläche) .... (I)
θ :Winkel des einfallenden Lichts (in der Erfindung wurde die Messung bei 60º durchgeführt)
φs :Spiegelreflexlichtfluß von der Probenoberfläche
φos :Spiegelreflexlichtfluß von der Bezugsoberfläche
Gs (θ) : Spiegelglanz
Die in der Erfindung als Material für das für lithographische Druckplatten verwendete Substrat verwendete Aluminiumplatte ist ein plattenähnliches Material, das hauptsächlich Aluminium umfaßt, wie etwa diejenigen, die reines Aluminium umfassen, oder diejenigen, welche eine Aluminiumlegierung umfassen, die eine geringe Menge Fremdatome enthält. Beispiele von Fremdatomen sind Silizium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Bismut, Nickel und Titan. Der Gehalt dieser Fremdatome in den Aluminiumlegierungen liegt in der Größenordnung bis zu etwa 10 Gew.-%. Das in der vorliegenden Erfindung vorzugsweise verwendete Aluminium ist reines Aluminium, aber es ist unter dem Gesichtspunkt der Aufreinigungstechnik sehr schwierig, vollständig reines Aluminium herzustellen. Deshalb werden vorzugsweise diejenigen verwendet, die so wenig wie möglich Fremdatome enthalten, und die Aluminiumlegierungen mit dem vorstehend definierten Fremdatomgehalt können in der vorliegenden Erfindung als Materialien zum Herstellen des Substrates ohne irgendein Problem verwendet werden. Wie vorstehend erläutert, ist die Zusammensetzung der in der vorliegenden Erfindung verwendbaren Aluminiumplatten nicht auf eine bestimmte eingeschränkt und somit können die aus herkömmlich bekannten oder gegenwärtig verwendeten Materialien erhaltenen beliebig eingesetzt werden.
Die in der Erfindung verwendete Aluminiumplatte wird üblicherweise durch eine Walztechnik hergestellt und besitzt im allgemeinen eine von 0,1 bis 0,5 mm reichende Dicke. Der Spiegelglanz der Aluminiumplatte hängt stark von den im Walzverfahren verwendeten Rollwalzen ab und die Rollwalzen sind somit in der vorliegenden Erfindung sehr wichtig. Insbesondere ist die Oberflächenrauhigkeit der Rollwalzen am wichtigsten und vorzugsweise werden diejenigen mit einer durchschnittlichen Oberflächenrauhigkeit (Ra) der Mittellinie von nicht mehr als 0,1 µm, bevorzugter nicht mehr als 0,05 µm verwendet. Die durch Walzen mit Walzen mit einer derartigen Oberflächenrauhigkeit erhaltene Aluminiumplatte besitzt eine von 0,1 bis 0,01 µm reichende Oberflächenrauhigkeit (Ra).
Falls Rollwalzen mit einer Oberflächenrauhigkeit von mehr als 0,1 µm verwendet werden, ist der Spiegelglanz, der dadurch bestimmt wurde, daß man Licht senkrecht zur Walzrichtung der Platte auf die Aluminiumplatte einfallen ließ, weniger als 70% desjenigen, der dadurch bestimmt wurde, daß man Licht parallel zur Walzrichtung auf die Platte einfallen ließ. Wenn demgemäß der Betrag der durch Muster belegten Fläche durch einen Plattenscanner bestimmt wird, gibt der Plattenscanner einen größeren Wert als der wahre Wert aus und deshalb kann die sich daraus ergebende Aluminiumplatte nicht in der vorliegenden Erfindung verwendet werden.
Die auf diese Weise erhaltene Aluminiumplatte wird entfettet und anschließend können die gewünschten Überzugsschichten direkt darauf aufgebracht werden, aber die Oberfläche der Platte kann vor dem Aufbringen der Überzugsschichten weiter behandelt werden.

Oberflächenbehandlungen

Ein Walzöl haftet an der Oberfläche der gewalzten Aluminiumplatte und demzufolge muß die Platte entfettet werden. Die Entfettungsbehandlung wird durch Verwenden einer Alkalie wie etwa Ätznatron, Ätzkali, Natriumcarbonat, Natriumphosphat und Natriumsilikat ausgeführt. Bevorzugte Bedingungen für das Entfetten sind von 30 bis 100ºC reichende Temperaturen, eine von 1 bis 50% reichende Alkalikonzentration und eine von 1 bis 100 Sekunden reichende Behandlungszeit.
Nach einer derartigen Entfettungsbehandlung können Überzugsschichten wie etwa eine lichtempfindliche Schicht direkt auf die Aluminiumplatte aufgebracht werden, aber die Platte kann vor dem Aufbringen der Überzugsschichten anderen Oberflächenbehandlungen wie etwa Körnungs-, Anodisierungs- und/oder Hydrophilisierungsbehandlungen unterzogen werden. Bevorzugte Körnungsbehandlungen sind zum Beispiel Sandstrahlen oder Strahlhonverfahren, bei denen ein Schleifmittel auf die Plattenoberfläche geblasen wird, ein Bürstenkörnverfahren, bei dem die Aluminiumoberfläche mit einer Bürste und nassen Schleifteilchen gerieben wird, und ein in einem Elektrolyten, wie etwa Salpetersäure oder Salzsäure, durchgeführtes elektrolytisches Körnen, welche nötigenfalls in Kombination verwendet werden können. Die gekörnte Plattenoberfläche wird mit einer Säure oder Alkalie gereinigt und anschließend anodisiert. Die Anodisierungsbehandlung wird im allgemeinen in einem Schwefelsäure umfassenden Elektrolyten ausgeführt, sie kann aber auch in einem Elektrolyten wie etwa denjenigen, die Phosphorsäure oder eine Mischsäure aus Schwefelsäure und Phosphorsäure umfassen, ausgeführt werden. Bevorzugte Bedingungen für die Anodisierung werden nicht immer besonders angegeben, sind aber im allgemeinen eine von 1 bis 30 Gew.-% reichende Elektrolytkonzentration, eine von 20 bis 50ºC reichende Temperatur, eine von 5 bis 100 Sekunden reichende Anodisierungszeit und eine von 5 bis 100 A/dm² reichende Stromdichte.
Nach dem Bilden der gewünschten anodisierten Schicht kann die Aluminiumplatte durch ihr Eintauchen in eine Natriumsilikatlösung hydrophilisiert werden. Andere Hydrophilisierungsbehandlungen können ebenfalls verwendet werden und Beispiele davon sind das Eintauchen in eine Fluorzirkonatlösung, eine Polyacrylatlösung und eine Polyvinylphosphonatlösung. Bevorzugte Bedingungen für die Hydrophilisierungsbehandlung sind eine von 1 bis 20 Gew.-% reichende Konzentration, eine von 20 bis 80ºC reichende Temperatur und eine von 5 bis 30 Sekunden reichende Behandlungs zeit.
Verschiedene Arten lithographischer Druckplatten können durch Aufbringen einer Vielfalt von Schichten auf die Oberfläche des auf diese Weise behandelten Aluminiumsubstrates der vorliegenden Erfindung zur Verwendung beim Herstellen lithographischer Druckplatten hergestellt werden.
Spezielle Beispiele derartiger lithographischer Druckplatten werden nachstehend beschrieben.

[I] PS-Platte

PS-Platten umfassen ein darauf bereitgestelltes Substrat mit einer lichtempfindlichen Schicht. Die lichtempfindliche Schicht wird direkt durch ein Original oder durch einen Film durch das übliche photomechanische Verfahren bildweise Licht ausgesetzt. Danach wird die bildweise belichtete lichtempfindliche Schicht mit einem Entwickler wie etwa einem organischen Lösungsmittel oder einer Alkalilösung entwickelt, um so Druckfarbe aufnehmende Bildteile und hydrophile Nichtbildteile und somit eine lithographische Druckplatte zu ergeben.
Die lichtempfindliche Schicht kann aus verschiedenen Arten lichtempfindliche Zusammensetzung erhalten werden. Spezielle Beispiele derselben werden nachstehend beschrieben.
(1) Diazoharz und Bindemittel umfassende lichtempfindliche Schicht
Bevorzugte Beispiele negativ arbeitender, lichtempfindlicher Diazoverbindungen, die in der Erfindung nützlich sind, sind ein Reaktionsprodukt eines Diazoniumsalzes mit einem organischen Kondensationsmittel mit einer reaktionsfähigen Carbonylgruppe, z.B. ein in den US-Patenten Nr. 2 063 631 und 2 667 415 offenbartes Aldol oder Acetal als Kondensationsprodukt eines Diphenylarnin-p-diazoniumsalzes und Formaldehyd (sogenannte lichtempfindliche Diazoharze). Beispiele anderer nützlicher kondensierter Diazoverbindungen sind die im US-Patent Nr. 3 679 419 und GB-Patent Nr. 1 312 925 und 1 312 926 offenbarten. Die lichtempfindlichen Diazoverbindungen dieses Typs sind im allgemeinen in Form wasserlöslicher anorganischer Salze verfügbar und sie können daher als wäßrige Lösung angewandt werden. Wahlweise ist es auch möglich, im wesentlichen wasserunlösliche, lichtempfindliche Diazoharze zu verwenden, die durch Umsetzen dieser wasserlöslichen Diazoverbindungen mit aromatischen oder aliphatischen Verbindungen mit entweder einer oder beiden aus wenigstens einer phenolischen Hydroxylgruppe und Sulfonsäuregruppe in der im GB-Patent Nr. 1 280 885 offenbarten Weise erhalten wurden.
Außerdem können sie als Reaktionsprodukt mit in der JP- KOKAI Nr. 56-121031 offenbarten Hexafluorphosphaten oder Tetrafluorboraten verwendet werden. Daneben sind in der vorliegenden Erfindung im GB-Patent Nr. 1 312 925 offenbarte Diazoharze ebenfalls bevorzugt.
Beispiele der Verbindungen mit einer phenolischen Hydro xylgruppe sind Hydroxybenzophenon, 4,4-Bis(4'-Hydroxyphenyl)pentansäure, Resorcin und Diphenolsäuren wie etwa Diresorcin, welche andere Substituenten als die phenolische Hydroxylgruppe haben können. Der Ausdruck "Hydroxybenzophenon" ist hierin so definiert, daß er 2,4-Dihydroxybenzophenon, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon, 2,2'- Dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenon und 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon einschließt. Beispiele bevorzugter Sulfonsäuren schließen aromatische Sulfonsäuren wie etwa Sulfonsäuren von Benzol, Toluol, Xylol, Naphthalin, Phe nol, Naphthol und Benzophenon oder lösliche Salze derselben wie etwa Ammoniumsalze und Alkalimetallsalze ein. Die Verbindungen mit einer Sulfonatgruppe können im allgemeinen mit einer Niederalkylgruppe, einer Nitrogruppe, einer Halogengruppe und/oder anderen Sulfonatgruppen substituiert sein. Bevorzugte Beispiele davon sind Benzolsulfonsäure, Toluolsulfonsäure, Naphthalinsulfonsäure, 2,5- Dimethylbenzolsulfonsäure, Natriumbenzolsulfonat, Naphthalin-2-sulfonsäure, 1-Naphthol-2- (oder -4-) sulfonsäure, 2,4-Dinitro-1-naphthol-7-sulfonsäure, 2-Hydroxy-4methoxybenzophenon-5-sulfonsäure, Natrium-m- (p'-anilinophenylazo)benzolsulfonat, Alizarinsulfonsäure, o-Toluidin-m-sulfonsäure und Ethansulfonsäure. Schwefelsäureester von Alkoholen oder aromatischen Hydroxyverbindungen oder Salze derselben werden ebenfalls bevorzugt verwendet. Diese Verbindungen stehen üblicherweise als anionische Tenside zur Verfügung. Spezielle Beispiele davon sind Ammoniumsalze oder Alkalimetallsalze von Laurylsulfat, Alkylarylsulfate, p-Nonylphenylsulfat, 2-Phenylethylsulfat und Isooctylphenoxydiethoxyethylsulfat.
Diese im wesentlichen wasserunlöslichen lichtempfindlichen Diazoharze können durch Mischen einer wäßrigen Lösung eines wasserlöslichen lichtempfindlichen Diazoharzes und ungefähr derselben Menge einer wäßrigen Lösung der vorstehenden aromatischen oder aliphatischen Verbindung als Niederschläge isoliert werden.
Außerdem sind auch im GB-Patent Nr. 1 312 925 offenbarte Diazoharze bevorzugt.
Das bevorzugteste Diazoharz ist 2-Methoxy-4-hydroxy-5benzoylbenzolsulfonat aus einem Kondensat von p-Diazodiphenylamin und Formaldehyd.
Der Gehalt des Diazoharzes in der lichtempfindlichen Schicht reicht vorzugsweise von 5 bis 50 Gew.-%. Wenn dessen Gehalt erniedrigt wird, wird die Lichtempfindlichkeit der sich daraus ergebenden lichtempfindlichen Schicht entsprechend erhöht&sub1; aber im Gegensatz dazu wird die Stabilität derselben mit der Zeit erniedrigt. Der optimale Gehalt des Diazoharzes reicht von etwa 8 bis 20 Gew. -%.
Andererseits können verschiedene polymere Verbindungen als Bindemittel der lichtempfindlichen Zusammenstzung verwendet werden, aber in der vorliegenden Erfindung werden vorzugsweise die Hydroxyl-, Amino-, Carboxyl-, Amido-, Sulfonamido-, aktive Methylen-, Thioalkoholund/oder Epoxygruppen tragenden verwendet. Spezielle Beispiele der Bindemittel schließen im GB-Patent Nr. 1 350 521 offenbarten Schellack, hauptsächlich Hydroxyethylacrylateinheiten oder Hydroxyethylmethacrylateinheiten umfassende, im GB-Patent Nr. 1 460 978 und US-Patent Nr. 4 123 276 offenbarte Polymere, im US-Patent Nr. 3 751 257 offenbarte Polyamidharze, Phenolharze und Polyvinylacetalharze wie etwa im GB-Patent Nr. 1 074 392 offenbarte Polyvinylformalharze und Polyvinylbutyralharze, im US- Patent Nr. 3 660 097 offenbarte lineare Polyurethanharze, Polyvinylalkoholharze, die in Phthalate überführt werden, durch die Kondensation von Bisphenol A und Epichlorhydrin erhaltene Epoxyharze, Polymere mit Aminogruppen, wie etwa Polyaminostyrol und Polyalkylamino(meth)acrylat, und Cellulosederivate, wie etwa Celluloseacetat, Cellulosealkylether und Celluloseacetatphthalat ein.
Die ein Diazoharz und ein Bindemittel umfassende lichtempfindliche Zusammensetzung kann ferner andere Additive, wie etwa ein im GB-Patent Nr. 1 041 463 offenbarter pH- Indikator und im US-Patent Nr. 3 236 646 offenbarte Phosphorsäure und Farbstoffe, umfassen.
(2) eine o-Chinondiazidverbindung umfassende lichtempfindliche Zusammensetzung
Besonders bevorzugte o-Chinondiazidverbindungen sind zum Beispiel o-Naphthochinondiazidverbindungen, die in einer Vielfalt von Veröffentlichungen offenbart werden, zum Beispiel US-Patent Nr. 2 766 118, 2 767 092, 2 772 972, 2 859 112, 2 907 665, 3 046 110, 3 046 111, 3 046 115, 3 046 118, 3 046 119, 3 046 120, 3 046 121, 3 046 122, 3 046 123, 3 061 430, 3 102 809, 3 106 465, 3 635 709 und 3 647 443, und welche vorzugsweise in der Zusammensetzung verwendet werden. Darunter sind o-Naphthochinondiazidosulfonsäureester oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäureester aromatischer Hydroxyverbindungen, o-Naphthochinondiazidosulfonsäureamide oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäureamide aromatischer Aminoverbindungen und insbesondere im US-Patent Nr. 3 635 709 offenbarte Veresterungsreaktionsprodukte von Kondensaten aus Pyrogallol und Aceton mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure, im US- Patent Nr. 4 028 111 offenbarte Veresterungsreaktionsprodukte von Polyestern mit Hydroxylgruppen an den Enden mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinon diazidocarbonsäure, im GB-Patent Nr. 1 494 043 offenbarte Veresterungsreaktionsprodukte von p-Hydroxystyrol-Homopolymeren oder p-Hydroxystyrol-Copolymeren und damit copolymerisierbaren Monomeren mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure, im GB- Patent Nr. 3 759 711 offenbarte Amidierungsreaktionsprodukte von p-Aminostyrol-Copolymeren und damit copolymerisierbaren Monomeren mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure sehr bevorzugt.
Diese o-Chinondiazidverbindungen können allein verwendet werden, werden aber vorzugsweise in Kombination mit alkalilöslichen Harzen verwendet. Bevorzugte alkalilösliche Harze schließen Phenolharze vom Novolac-Typ ein und spezielle Beispiele davon sind Phenol-Formaldehyd-Harze, o- Kresol-Formaldehyd-Harze und m-Kresol-Formaldehyd-Harze. Weiterhin ist es bevorzugter, im US-Patent Nr. 4 123 279 offenbarte Kondensate aus mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen substituierten Phenolen oder Kresolen mit Formaldehyd wie etwa t-Butylphenol-Formaldehyd-Harze gleichzeitig mit den voranstehenden Phenolharzen zu verwenden. Die Zusammensetzung zum Bilden der lichtempfindlichen Schicht kann diese alkalilöslichen Harze in einer von etwa 50 bis etwa 85 Gew.-%, vorzugsweise 60 bis 80 Gew.-% bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung reichenden Menge umfassen.
Die o-Chinondiazidverbindungen umfassende lichtempfindliche Zusammensetzung kann nötigenfalls andere, im GB- patent Nr. 1 401 463 und 1 039 475 und US-Patent 3 969 118 offenbarte Bestandteile, wie etwa Farbstoffe, Weichmacher und Verbindungen, welche der sich daraus ergebenden lichtempfindlichen Schicht Druckeigenschaften verleihen, umfassen.
(3) aus einer ein Polymer mit Carbonsäure- oder Carbonsäureanhydridresten, eine additionspolymerisierbare ungesättigte Verbindung und einen Photopolymerisationsinitiator umfassenden Zusammensetzung erhaltene lichtempfindliche Schicht
Die lithographische Druckplatte, welche ein Substrat umfaßt, das mit einer Schicht aus der Zusammensetzung versehen ist, welche ein Polymer mit Carbonsäureresten oder Carbonsäureanhydridresten, eine additionspolymerisierbare ungesättigte Verbindung und einen Photopolymerisationsinitiator umfaßt, ist von ausgezeichneter Lagerfähigkeit, die belichtete Aluminiumplattenoberfläche auf der Nichtbildfläche ist kaum mit Druckfarbe verunreinigt, besitzt eine gute Hydrophilie, welche Farbflecken auf der Nichtbildfläche rasch entfernt, und die Aluminiumplatte besitzt eine hohe Haftung an der lichtempfindlichen Schicht.
Als Polymer mit Carbonsäureresten oder Carbonsäureanhydridresten sind diejenigen bevorzugt, welche die Struktureinheiten besitzen, die aus der Gruppe ausgewählt sind, die aus den durch die folgenden allgemeinen Formeln (A) bis (D) dargestellten besteht:
In den allgemeinen Formeln (A) bis (D) stellen R¹ und R&sup4; jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe dar, R³ stellt eine Phenylengruppe oder eine Alkylengruppe mit gegebenenfalls einer Hydroxylgruppe dar, R&sup5; stellt ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe gegebenenfalls mit Substituenten dar, R&sup6; stellt eine Alkyl-, Allyl-, Aryloder Cycloalkylgruppe dar, die Substituenten besitzen kann, und n ist eine ganze Zahl 0 oder 1.
Genauer sind Beispiele der durch Formel (A) dargestellten Wiederholungseinheiten die aus Acrylsäure, Methacrylsäure, Crotonsäure und Vinylbenzoesäure abgeleiteten, Beispiele der durch Formel (B) dargestellten Wiederholungseinheiten sind die von Maleinsäure, Maleinsäuremonohydroxyalkylester und Maleinsäuremonocyclohexylester, Beispiele der durch Formel (C) dargestellten Wiederholungseinheiten sind die von Maleinsäuremonoalkylamid und Maleinsäuremonohydroxyalkylamid abgeleiteten und Beispiele der durch Formel (D) dargestellten Wiederholungseinheiten sind die von Maleinanhydrid und Itaconanhydrid abgeleiteten. Als Polymere werden in der Erfindung im allgemeinen diejenigen mit einem von 1000 bis 100000 reichenden durchschnittlichen Molekulargewicht verwendet.
Die additionspolymerisierbaren ungesättigten Verbindungen hierin bedeuten Monomere mit ethylenisch ungesättigten Doppelbindungen, welche zwischen ihnen eine Additionspolymerisation in dreidimensionaler Richtung hervorrufen können, wenn die photopolymerisierbare, lichtempfindliche Zusammensetzung mit aktinischen Strahlen bestrahlt wird. Beispiele davon sind ungesättigte Carbonsäuren, Ester ungesättigter Carbonsäuren und aliphatische Polyhydroxyverbindungen und Ester ungesättigter Carbonsäuren und aromatische Polyhydroxyverbindungen.
Als Photopolymerisationsinitiatoren können zum Beispiel Benzoin, Benzoinalkylether, Benzophenon, Anthrachinon und Michlers Keton angeführt werden, welche allein oder in Kombination in einer von 1 bis 3 g/m² (nach dem Trocknen gewogen) reichenden Menge verwendet werden können.

[II] Vorsensibilisierte Platte zur Verwendung beim Herstellen einer lithographischen Druckplatte. welche kein Befeuchtungswasser erfordert (nachstehend als "PS-Platte welche kein Befeuchtungswasser erfordert" bezeichnet)

Es sind bereits verschiedene PS-Platten vorgeschlagen worden, welche kein Befeuchtungswasser erfordern, bei denen eine Silikonkautschukschicht als Nichtbildfläche dient (siehe zum Beispiel die geprüfte japanische Patentveröffentlichung (nachstehend als "JP-KOKOKU" bezeichnet) Nr. Sho 44-23042, Sho 46-16044, Sho 54-26923 und Sho 61-54222 und die japanische ungeprüfte Patentveröffentlichung (nachstehend als "JP-KOKAI" bezeichnet) Nr. Sho 63-265247).
Es gibt zwei Arten Verfahren zum Herstellen einer PS- Platte dieses Typs, welche kein Befeuchtungswasser erfordert. Eines davon wird zum Beispiel in der JP-KOKOKU Nr. Sho 46-16044 offenbart, bei der Bildflächen durch Auflösen der lichtempfindlichen Schicht auf den Bildflächen mit einem Entwickler gebildet werden, um auf diese Weise die Silikonkautschukschicht auf den Bildflächen zu entfernen, und die andere wird zum Beispiel in der JP-KOKOKU Nr. Sho 54-26923 und der JP-KOKAI Nr. 56-80046 offenbart, in welchen eine PS-Platte eingesetzt wird, welche kein Befeuchtungswasser erfordert und eine lichthaftende oder lichtabziehbare lichtempfindliche Schicht und eine Silikonkautschukschicht umfaßt, und die Silikonkautschukschicht auf Bildflächen selektiv entfernt wird.
Bei dem ersten, d.h. dem Verfahren, bei dem Bildflächen durch Auflösen der lichtempfindlichen Schicht auf den Bildflächen mit einem Entwickler gebildet werden, ist es bevorzugt, eine Silikonkautschukschicht mit einer von 0,5 bis 5 µm reichenden Dicke auf der photopolymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht auf dem vorangehenden Polymer mit Carbonsäureresten oder Carbonsäureanhydridresten, eine additionspolymerisierbare ungesättigte Verbindung und einen Photopolymerisationsinitiator anzuwenden.
Falls letztere und insbesondere eine PS-Platte, welche kein Befeuchtungswasser erfordert und welche eine lichthaftende lichtempfindliche Schicht und eine Silikonkautschukschicht umfaßt, Licht ausgesetzt wird, haftet die lichthaftende lichtempfindliche Schicht photolytisch fest an der Silikonkautschukschicht. So wird dieses Phänomen am besten ausgenützt, indem nur die Silikonkautschukschicht auf den unbelichteten Flächen mit einem Entwickler selektiv abgezogen und entfernt werden kann, welcher die lichthaftende lichtempfindliche Schicht im wesentlichen nicht auflöst (löst die Schicht nur wenig) und die lichtempfindliche Schicht und/oder die Silikonkautschukschicht quellen lassen kann. Die belichtete lichtempfindliche Schicht dient auf diese Weise als farbaufnehmender Teil der Druckplatte. In diesem Fall wird die Silikonkautschukschicht vorzugsweise auf die lichtempfindliche Schicht aufgebracht, welche einen in einem Entwickler im wesentlichen unlöslichen Bestandteil, eine additionspolymerisierbare, ungesättigte Verbindung und einen Photopolymerisationsinitiator in einer von 0,5 bis 5 µm reichenden Dicke umfaßt.
Die Wirkung der vorliegenden Erfindung ist bei dieser Ausführungsform besonders deutlich, d.h. bei der PS-Platte, die kein Befeuchtungswasser benötigt, da die Oberfläche des Aluminiumsubstrats im allgemeinen keiner Oberflächenaufrauhungsbehandlung unterzogen wird (die Walzzeichen sind durch die Oberflächenaufrauhungsbehandlung verringert oder verschwunden)

[III] PS-Platte für das Herstellungsverfahren für eine elektrophotographische Platte

Das Herstellungsverfahren für eine elektrophotographische Platte ist bekannt und wird in "DENSHI SHASHIN GIJUTSU NO KISO TO OYO (Grundlagen und Anwendungen elektrophotographischer Techniken), herausgegeben von der Gesellschaft für Elektrophotographie, verlegt von Corona Publishing Company (1988), oder "KIROKU ZAIRYO MANUAL (Ein Handbuch der Aufzeichnungsmaterialien)", Trykepus Publishing Company (1981), welche in der Erfindung verwendet werden können, im einzelnen erläutert.
Es ist zum Beispiel ein Verfahren bekannt, welches das Aufbringen einer photoleitfähigen Schicht auf ein Aluminiumsubstrat, welche wenigstens ein photoleitfähiges Material und ein alkalilösliches Harz umfaßt, das Entwickeln mit einem Toner, Fixieren des Toners und anschließend Entfernen der photoleitfähigen Schicht auf der tonerfreien Nichtbildfläche mit einer alkalischen Lösung in üblicher Weise unter Ergeben einer lithographischen Druckplatte umfaßt.
Spezielle Beispiele davon sind die in der JP-KOKOKU Nr. Sho 37-17162, Sho 38-6961, Sho 38-7758, Sho 41-2426 und Sho 46-39405 und der JP-KOKAI Nr. Sho 50-19509, Sho 50-19510, Sho 52-2437, Sho 54-145538, Sho 54-134632, Sho 55-105254, Sho 55-153948, Sho 55-161250, Sho 57-147656 und Sho 57-161863 offenbarten.
Weiterhin ist es auch möglich, ein Verfahren zu verwenden, welches das Überführen des auf einem elektrographischen, lichtempfindlichen Material gebildeten Tonerbildes auf ein sauberes Substrat unter Ergeben einer lithographischen Druckplatte umfaßt.
Zum Beispiel werden Tonerbilder auf einem organischen oder anorganischen elektrophotographischen Material in der üblichen Weise gebildet. Die sich daraus ergebenden Tonerbilder werden mit dem üblichen bekannten Transferverfahren, wie etwa Coronatransfer-, Schrägwalzentransfer- oder Drucktransferverfahren, unter Ergeben einer lithographischen Druckplatte auf ein Aluminiumsubstrat überführt. Außerdem können die Tonerbilder nötigenfalls nach einer Mehrzahl Transferverfahren durch ein Transfermaterial wie etwa eine Gummiwalze auf ein Aluminiumsubstrat überführt werden.
Weiter kann eine lithographische Druckplatte auch durch vorheriges Aufbringen einer Isolierschicht auf ein Alumiumsubstrat, anschließend Überführen der Tonerbilder auf die Isolierschicht in üblicher Weise und Entfernen der tonerfreien Nichtbildfläche hergestellt werden.
Dieses Verfahren wird zum Beispiel in der JP-KOKAI Sho 59-36272, Sho 60-107042, Sho 61-118778, Hei 1-225975 und Hei 1-216367 und JP-KOKOKU Nr. Sho 55-42752 im einzelnen erläutert.
Die lithographische Druckplatte, die aus dem Substrat dafür der vorliegenden Erfindung erhalten wurde, kann den Betrag an mit Mustern belegter Fläche der Druckplatte ausgeben, der nahezu gleich der wahren Fläche der darauf gebildeten Muster ist, sogar falls, wenn der Betrag an mit Mustern belegter Fläche mittels eines Plattenscanners eines Farbvoreinstellungssystems bestimmt wird, die lithographische Druckplatte in der Weise auf eine Druckerpresse gelegt wird, daß die Walzrichtung des Aluminiumsubstrates der Druckplatte senkrecht zur Richtung der Vektorkomponenten, parallel zur Substratober fläche des aus Lichtquellen des Plattenscanners einfallenden Lichts ist.
Die vorliegende Erfindung wird unter Bezug auf die folgenden Ausführungsbeispiele genauer erläutert und die durch die vorliegende Erfindung praktisch erreichte Wirkung wird im Vergleich mit Vergleichsbeispielen ebenfalls erörtert.

Beispiel 1

Eine Aluminiumplatte (JIS A1050; Oberflächenrauhigkeit = 0,04 µm), die mit Walzen mit einer durchschnittlichen Oberflächenrauhigkeit (Ra) der Mittellinie von 0,03 µm gewalzt worden war, wurde zum Entfernen des Walzöls von deren Oberfläche 20 Sekunden bei 50ºC in eine 10%ige wäßrige NaOH-Lösung getaucht und anschließend unter Ergeben eines Aluminiumsubstrats 10 Sekunden bei 70ºC in eine 2,5%ige Lösung von Nr. 3 Natriumsilikat getaucht.
Der Wert des Spiegelglanzes der vorangehenden gewalzten Aluminiumplatte (JIS A1050) wurde durch ein von Nippon Denshoku Kogyo K. K. erhältliches VG-1D-Glanzmeßgerät bestimmt. Die auf diese Weise erhaltenen Ergebnisse werden in der folgenden Tabelle 1 zusammengefaßt. Der Wert des Spiegelglanzes ist wie folgt definiert:
Wert des Spiegelglanzes (%) = (S.G.) x 100/(S.G.)
(S.G.)v: Spiegelglanz, der dadurch bestimmt wurde, daß man Licht senkrecht zur walzrichtung auf die Oberfläche einfallen ließ.
(S.G.) p: Spiegelglanz, der dadurch bestimmt wurde, daß man Licht parallel zur Walzrichtung auf die Oberfläche einfallen ließ.
Eine lichtempfindliche Schicht wurde auf der Oberfläche des auf diese Weise erhaltenen Aluminiumsubstrats durch Aufbringen einer lichtempfindlichen Lösung mit der folgenden Zusammensetzung in einer Menge von 2,0 g/m² (nach dem Trocknen gewogen) und anschließend Trocknen gebildet.

Lichtempfindliche Lösung

Bestandteil Menge (Gewichtsteile) N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid/2-- 5,0 Hydroxyethylmethacrylat/Acrylnitril/Methylmethacrylat/Methacrylsäure-Copolymer (Molverhältnis = 15/10/30/38/7) (durchschnittliches Molgewicht = 60000)
Hexafluorphosphat des Kondensats von 0,5 4-Diazodiphenylamin und Formaldehyd
Phosphorsäure 0,05
Victoria Pure Blue BOH (von 0,1 Hodogaya Chemical Co., Ltd.)
2-Methoxyethanol 100
Die auf diese Weise hergestellte PS-Platte wurde in einem Vakuumdruckrahmen bildweise Licht ausgesetzt, indem man die Oberfläche der Platte und ein Original einen Wert von 50% für die von Halbtonpunkten belegte Fläche bei einer Dichte von 133 Linien/2,54 cm (Zoll) aufweisen ließ und die Anordnung mit Licht aus einer 3 kW-Metallhalogenidlampe in einer Entfernung von 1 m 50 Sekunden bestrahlte, anschließend mit einem Entwickler mit der folgenden Zusammensetzung entwickelte und mit einer wäßrigen Gummi arabicum-Lösung unter Ergeben einer lithographischen Druckplatte gummierte.

Entwickler

Bestandteil Menge (Gewichtsteile)
Natriumsulfit 5
Benzylalkohol 30
Natriumcarbonat 5
Natriumisopropylnaphthalinsulfonat 12
reines Wasser 1000
Die sich daraus ergebende lithographische Druckplatte wurde einem Test auf die Untersuchungseignung für einen Plattenscanner eines Farbvoreinstellungssystems unterzogen. Die erhaltenen Ergebnisse werden in Tabelle 1 zusammengefaßt.
Der Ausdruck "Eignung für einen Plattenscanner" bedeutet hierin die Eignung zum Ausgeben des Betrags an mit Mustern belegter Fläche einer lithographischen Druckplat te, die nahezu gleich der wahren Fläche der darauf gebildeten Muster ist, sogar falls die lithographische Druckplatte in der Weise auf eine Druckerpresse gelegt wird, daß die Walzrichtung des Aluminiumsubstrates der Druckplatte senkrecht zur Richtung der Vektorkomponenten, parallel zur Substratoberfläche, des aus der Lichtquelle des Plattenscanners einfallenden Lichts ist. Je kleiner der Unterschied zwischen den Beträgen der durch Muster belegten Fläche ist, die jeweils beobachtet werden, wenn die Walzrichtung senkrecht oder parallel zu der Richtung der Vektorkomponenten, parallel zu der Substratoberfläche, des einfallenden Lichts ist, desto höher ist deshalb die Eignung für einen Plattenscanner.

Vergleichsbeispiel 1

Eine Aluminiumplatte (JIS A1050; Oberflächenrauhigkeit = 0,20 µm), die mit herkömmlichen Walzen mit einer durchschnittlichen Oberflächenrauhigkeit der Mittellinie von 0,2 µm gewalzt worden war, wurde zum Entfernen des Walzöls von deren Oberfläche 20 Sekunden bei 50ºC in eine 10%ige wäßrige NaOH-Lösung getaucht und anschließend unter Ergeben eines Aluminiumsubstrates 10 Sekunden bei 70ºC in eine 2,5%igen wäßrigen Lösung von Nr. 3 Natriumsilikat getaucht.
Der Wert des Spiegelglanzes der vorangehenden gewalzten Aluminiumplatte (JIS A1050) wurde in derselben Weise wie in Beispiel 1 bestimmt. Die auf diese Weise erhaltenen Ergebnisse werden in Tabelle 1 zusammengefaßt.
Die Eignung für einen Plattenscanner der in derselben Weise wie in Beispiel 1 hergestellten Druckplatte wurde gleichermaßen bestimmt und die erhaltenen Ergebnisse werden in Tabelle 1 zusammengefaßt.

Beispiel 2

Auf ein in denselben Verfahren wie in Beispiel 1 hergestelltes Aluminiumsubstrat wurde der Reihe nach eine Grundierschicht, eine lichtempfindliche Schicht und eine Silikonkautschukschicht in der folgenden Weise unter Ergeben einer kein Befeuchtungswasser erfordernden Bezugs-PS-Platte aufgebracht.

o Grundierschicht

Die Grundierschicht wurde durch Aufbringen einer Zusammensetzung für eine Grundierschicht mit der folgenden Zusammensetzung auf die Oberfläche des sich daraus ergebenden Aluminiumsubstrates in einer Menge von 8,0 g/m² (nach dem Trocknen gewogen) und anschließend 3 Minuten Erhitzen auf 120ºC, um sie zu trocknen, gebildet.

Zusammensetzung für die Grundierschicht

Eine 450 Gewichtsteile reines Wasser und 2,6 Gewichtsteile wasserfreies Natriumcarbonat umfassende Lösung wurde auf 70ºC erhitzt und 50 Gewichtsteile Caseinpulver (Caseinlactat (in Neuseeland erzeugtes Produkt; von Murray Coulborn Cooperative Co., Ltd., erhältlich)) wurden hinzugefügt und in der Lösung unter Rühren gelöst und anschließend wurden die folgenden Bestandteile in die wäßrige Caseinlösung unter Ergeben einer Zusammensetzung für eine Grundierschicht eingearbeitet:
Bestandteil Menge (Gewichtsteile) SBR-Latex (Nipol LX110 (Feststoff- 50 gehalt: 40,5%; Tg = -60ºC; von (verringerter Nippon Zeon Co., Ltd., erhältlich) Feststoffgehalt)
Chinolingelb -WS (Gelbfarbstoff; er- 0,5 hältlich von Chugai Kasei Co., Ltd.)
Nikkol OTP-100S (anionisches Tensid; von 1,2 Nikko Chemicals Co., Ltd., erhältlich)
γ-Glycidoxypropyltrimethoxysilan 3,0 CH&sub2;=CHSO&sub2;CH&sub2;CH(OH)CH&sub2;SO&sub2;CH=CH&sub2; 3,0
reines Wasser 100

o Lichtempfindliche Schicht

Anschließend wurde eine lichtempfindliche Schicht auf der sich daraus ergebenden Grundierschicht durch Aufbringen einer lichtempfindlichen Zusammensetzung mit der folgenden Zusammensetzung in einer Menge von 3,0 g/m² (nach dem Trocknen gewogen) und eine Minute Trocknen bei 100ºC gebildet.

Lichtemdfindliche Zusammensetzung

Bestandteil Menge (Gewichtsteile)
2-Allyloxyethylmethacrylat/2-Meth- 2 acryloxyhydrogensuccinat-Copolymer (90/10 Mol%)
(CH&sub2;=CHCOOCH&sub2;CH(OH)CH&sub2;OCH&sub2;)&sub2;-CHOH 0,3
Verbindung der folgenden Formel: 0,2
Phenolkresolblau (pH-Indikator) 0,01
Diffencer MCF 323 (von Dainippon Ink & 0,02 Chemicals, Incorporated, erhältlich)
PF&sub6;-Salz des p-Diazodiphenylamin/Form- 0,02 aldehyd-Kondensats
Propylenglykolmonomethylether 15
Methylethylketon 10

o Silikonkautschukschicht

Eine Silikonkautschukschicht wurde auf der sich daraus ergebenden lichtempfindlichen Schicht durch Aufbringen einer Zusammensetung für eine Silikonkautschukschicht mit der folgenden Zusammensetzung in einer Menge von 2,0 g/m² (nach dem Trocknen gewogen) und anschließend 2 Minuten Trocknen bei 140ºC unter Härten der Schicht gebildet.

Zusammensetzung der Silikonkautschukschicht

Bestandteil Menge (Gewichtsteile)
Siloxan (Polymerisationsgrad = etwa 700) 9
Verbindung der folgenden Formel: 1
Verbindung der folgenden Formel: 0,2
Polydimethylsiloxan (Polymerisations- 0,5 grad = etwa 8000)
Olefin-Chlorplatinsäure 0,2
Polymerisationsinhibitor 0, 15
Isopar G (von ESSO Chemical Company erhältlich) 140
Ein einseitig matter Polypropylenfilm mit einer Dicke von 9 µm wurde mit der Oberfläche der auf diese Weise hergestellten Silikonkautschukschicht unter Ergeben einer Bezugs-PS-Platte laminiert, die kein Befeuchtungswasser erfordert.
Die auf diese Weise hergestellte, kein Befeuchtungswasser erfordernde Bezugs-PS-Platte wurde in einem Vakuumdruckrahmen bildweise Licht ausgesetzt, indem man die Oberfläche der Platte mit einem Bezugsstück mit einem Wert von 50% für die von Halbtonpunkten belegte Fläche bei einer Dichte von 133 Linien/2,54 cm (Zoll) in enge Berührung gelangen ließ und die Anordnung anschließend mit Licht aus einer 3 kW-Metallhalogenidlampe in einer Entfernung von 1 m 50 Sekunden bestrahlte, anschließend wurde der Laminatfilm abgezogen, die belichtete PS-Platte wurde durch eine Minute Eintauchen in einen Entwickler entwickelt, welcher 12 Gewichtsteile Benzylalkohol, 5 Gewichtsteile Natriumisopropylnaphthalinsulfonat, ein Gewichtsteil Triethanolamin und 82 Gewichtsteile Wasser enthielt, und anschließend zum Entfernen der lichtemp findlichen Schicht und der Silikonkautschukschicht auf den unbelichteten Flächen mit einem Entwicklungskissen gerieben, um auf diese Weise eine kein Befeuchtungswasser erfordernde lithographische Druckplatte zu ergeben.
Die Eignung der sich daraus ergebenden Druckplatte für einen Plattenscanner wurde bestimmt. Die so erhaltenen Ergebnisse werden nachstehend in Tabelle 1 aufgeführt.

Vergleichsbeispiel 2

Auf ein in derselben Weise wie in Vergleichsbeispiel 1 hergestelltes Aluminiumsubstrat wurde der Reihe nach eine Grundierschicht, eine lichtempfindliche Schicht und eine Silikonkautschukschicht aufgetragen und die sich daraus ergebende, kein Befeuchtungswasser erfordernde Bezugs-PS- Platte wurde in derselben Weise wie in Beispiel 2 unter Ergeben einer kein Befeuchtungswasser erfordenden lithographischen Druckplatte bildweise Licht ausgesetzt und entwickelt.
Die Eignung der sich daraus ergebenden Druckplatte für einen Plattenscanner wurde bestimmt. Die so erhaltenen Ergebnisse werden nachstehend in Tabelle 1 aufgeführt. Tabelle 1: Ergebnisse der Bewertung der Eignung für einen Plattenscanner Eignung für Plattenscanner 50% Flächenanteil Halbtonpunkte*¹ senkrecht zur Walzrichtung*² parallel zur Walzrichtung*³ Spiegelglanzwert*&sup4; Oberflächenrauhigkeit
: gut × : nicht gut
*: Vergleichsbeispiel
*¹: 50% Flächenanteil Halbtonpunkte
Dies ist ein durch bildweises Aussetzen einer PS-Platte gegenüber Licht durch ein Original mit einem Betrag der durch Halbtonpunkte belegten Fläche bei einer Dichte von 133 Linien/2,54 cm (Zoll) von 50% und Bestimmen des Betrags der auf der Platte durch die Halbtöne belegten Fläche mittels eines Plattenscanners (Demia 640; von Dai nippon Ink & Chemicals, Incorporated erhältlich) bestimmter Wert.
*²: Der beobachtete Betrag der durch die Halbtonpunkte belegten Fläche, wenn die lithographische Druckplatte in einer solchen Weise auf eine Druckpresse gelegt wurde, daß die Walzrichtung des Aluminiumsubstrats der Platte senkrecht zur Richtung der Vektorkomponenten, parallel zur Substratoberfläche, des aus der Lichtquelle des Plattenscanners einfallenden Lichts ist.
*³: Der beobachtete Betrag der durch die Halbtonpunkte belegten Fläche, wenn die lithographische Druckplatte in einer solchen Weise auf eine Druckpresse gelegt wurde, daß die Walzrichtung des Aluminiumsubstrats der Platte parallel zur Richtung der Vektorkomponenten, parallel zur Substratoberfläche, des aus der Lichtquelle des Plattenscanners einfallenden Lichts ist.
*&sup4;: Wert des Spiegelglanzes (%) = (S.G.)v x 100/(S.G.)p
(S.G.)v: Spiegelglanz, der dadurch bestimmt wurde, daß man Licht senkrecht zur Walzrichtung auf die Oberfläche einfallen ließ.
(S.G.)p: Spiegelglanz, der dadurch bestimmt wurde, daß man Licht parallel zur Walzrichtung auf die Oberfläche einfallen ließ.

Claims

1. Substrat für lithographische Druckplatten, umfassend eine gewalzte Aluminiumplatte, deren Spiegelglanz, der durch Lichteinfall auf die Aluminiumplatte senkrecht zu der Walzrichtung der gewalzten Platte bestimmt wird, mindestens 70% des Spiegelglanzes beträgt, der durch Lichteinfall auf die gewalzte Platte parallel zu der Walzrichtung der gewalzten Platte bestimmt wird.

2. Substrat nach Anspruch 1, worin die oberflächenrauhigkeit der gewalzten Aluminiumplatte, ausgedrückt als durchschnittliche oberflächenrauhigkeit Ra der Mittellinie, im Bereich von 0,1 bis 0,01 µm liegt.

3. Substrat nach Anspruch 1, worin die Aluminiumplatte reines Aluminium oder eine Aluminiumlegierung mit einem Fremdatomgehalt von nicht mehr als 10 Gew.-% umfaßt.

4. Substrat nach Anspruch 1, worin die Dicke der Aluminiumplatte im Bereich von 0,1 bis 0,5 mm liegt.

5. Substrat nach Anspruch 1, worin die Aluminiumplatte nach dem Walzen mit Alkali unter den Bedingungen einer Konzentration im Bereich von 1 bis 50%, einer Temperatur im Bereich von 30 bis 100ºC und einer Behandlungsdauer im Bereich von 1 bis 100 Sekunden entfettet wird.

6. Substrat nach Anspruch 5, worin die Aluminiumplatte nach der Entfettungsbehandlung gekörnt wird und dann unter den Bedingungen einer Elektrolytkonzentration im Bereich von 1 bis 30 Gew.-%, einer Temperatur im Bereich von 20 bis 50ºC, einer Behandlungsdauer im Bereich von 5 bis 100 Sekunden und einer Stromdichte im Bereich von 5 bis 100 A/dm² anodisiert wird.

7. Substrat nach Anspruch 6, worin die Aluminiumplatte weiterhin unter den Bedingungen einer Konzentration einer Behandlungslösung im Bereich von 1 bis 20 Gew.-%, einer Temperatur im Bereich von 20 bis 80ºC und einer Behandlungsdauer im Bereich von 5 bis 30 Sekunden hydrophil gemacht wird.

8. Substrat nach Anspruch 1, worin die lithographische Druckplatte eine lithographische Druckplatte ist, die kein Befeuchtungswasser erfordert.

9. Substrat nach Anspruch 1, worin die lithographische Druckplatte eine lithographische Druckplatte ist, die durch ein elektrophotographisches Plattenherstellungsverfahren hergestellt wird.