JPH01302349A - 感光性平版印刷版 - Google Patents

感光性平版印刷版

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JPH01302349A
JPH01302349A JP13350888A JP13350888A JPH01302349A JP H01302349 A JPH01302349 A JP H01302349A JP 13350888 A JP13350888 A JP 13350888A JP 13350888 A JP13350888 A JP 13350888A JP H01302349 A JPH01302349 A JP H01302349A
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聖 後藤
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英之 中井
Hiroshi Tomiyasu
富安 寛
Yoshiko Kobayashi
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、0−キノンジ7ジドを;〕むポジ型感光性平
版印刷版に関づ−るものである。
(発明の背a) 通常、ポジ型の感光P1平版印riil1版の感光(’
L h’7には、感光成分として0−4=ノンジアジド
化合物、及び皮膜・九度とアルカリ)■解性とをA!−
めるたν)の成分としてアルカリ可溶性樹脂が含有され
ている。
従来、このJ、うなボジシ(°!の感光性平版印刷版の
現像処理は通常アル/Jり水溶a& ti)視像液中U
liイ「ねれるが、現像液の現像能力は種々の条件で変
動を受けやすく、多母処理による疲労や空気酸化による
劣化で現像能力が低下し、処理しても印刷版の非画像部
の感光層が完全に溶解されなくなる場合がある。又、こ
れと反対に現像液の補充mの過剰や気温の上昇に伴う浴
温度の上昇等により現像能力が規定以上になり、印刷版
の画像部が侵されたり、網点が消失したりする場合があ
る。このため、感光性平版印刷版は、処理能力が低下し
た現像液でも、また処理能力が標準より増強された現株
液でも、標準現像液で処理した場合と同様の現像性を示
す幅広い現像許容性を有することが望まれている。(以
下、適正な現@結果が得られる現像能力低下の許容範囲
をアンダー現像性といい、適正な現a結果が得られる現
像能力上昇の許容範囲をオーバー現像性という。) 又、上記感光性平版印刷版は、製版作業を白色蛍光燈の
下で行なうと、光力プリを被って、次に現像処理される
際、画像部の感光層が侵食されて膜減りし、印刷時の耐
刷力が低下する故障を度々引き起している。このため白
色蛍光燈の光力7りに対する抵抗性(以下「セーフライ
ト性」と呼ぶ)をも改善された感光層を有する感光性平
版印刷版が望まれている。
上記問題点を改善するために種々の方法が提案されてい
るが、特に特開昭62−251740号公報においては
従来塗布性向上のために用いられていた非イオン界面活
性剤を上記現像評容性向上を目的として添加する技術が
開示されている。しかしながら、上記技術を適用した感
光性平版印刷版は現像許容性は改良されるものの、感度
及びアンダー現像性が低下し、かつセーフライト性は改
良されない。
したがって、感度及びアンダー現性性を低下させること
なく現像許容性及びセーフライト性を向上させる技術が
望まれていた。
(発明の目的) 本発明の目的は感度及びアンダー現像性が低下すること
なく、現像許容性及びセーフライト性の向上した感光性
平版印刷版を提供することにある。
(発明の構成) 本発明の上記目的は、支持体上に(a)0−キノンジア
ジド化合物、(b)アルカリ可溶性樹脂及び(c)ポリ
オキシアルキレンソルビット脂肪酸のエステル化合物及
び/又は該脂肪酸のエーテル化合物、を含有する感光層
を有する感光性平版印刷版によって達成された°。
(発明の具体的構成) 以下に本発明を更に具体的に説明する。
本発明に使用するポリオキシアルキレンツルピッ1〜脂
肪酸エステル化合物又は該脂肪酸のエーテル化合物(以
下、「本発明の化合物」と称す)としては、ポリオキシ
エチレンツルビツI・脂肪酸エステル化合物又は該脂肪
酸のエーテル化合物、ポリオキシエチレンツルビツ!・
脂肪酸エステル化合物又は該脂肪酸のエーテル化合物、
ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンソルビット
脂肪酸エステル化合物又は該脂肪酸のニーデル化合物等
が挙げられる。
具体例としては、ポリオキシエチレンソルビットヘキサ
ステアレート、ポリオキシエチレンソルビットテトラス
テアレート、ポリオキシエチレンソルビットテトラオレ
エート、ポリオキシエチレンソルビットヘキサオレエー
ト、ポリオキシエチレンソルビットモノオレエ−1・、
ポリオキシエチレンソルビットモノラウレート、ポリオ
キシエチ6 レンソルビットテ1〜ララウレー]・、ポ
リオキシエチレンソルビットへキサラウレ−1−、ポリ
オキシプロピレンソルビットlベキナステアレート、ポ
リオキシプロピレンソルビットテトラオレエート、ポリ
オキシプロピレンソルビットへキナオレエ−1−、ポリ
オキシブロビレンソルビツ1〜モノラウレート、ポリオ
キシエチレン・ボリオギシブロビレンソルビットヘキサ
ステアレート、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピ
レンソルビットテトラステアレート、ポリオキシエチレ
ン・ポリオキシプロピレンソルビットモノオレエート、
ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンソルビット
テトラオレエート、ポリオキシエチレンツルごットヘキ
サステアリルエーテル、ポリオキシエチレンソルビット
テトラステアリルエーテル、ポリオキシエチレンソルビ
ットテトラオレイルエーテル、ポリオキシエチレンソル
ビットモノラウリルエーテル、ポリオキシエチレンソル
ビットモノオレイルエーテル等が挙げられる。上記本発
明の化合物における1分子あたりのポリオキシアルキレ
ン鎖の繰り返し数は5〜200が好ましく、より好まし
くは10〜100である。又、好ましいポリオキシアル
キレン基としてはポリオキシエチレン基が挙げられる。
上記本発明の化合物は、感光層中に0.2〜20重量%
含有されることが好ましく、更に好ましくは0.5〜1
0重量%含有される。
また上記本発明の化合物は単独で用いても、エステル化
合物を2種以上、エーテル化合物を2種以上又はエステ
ル化合物及びエーテル化合物を各々1種以上組合わせて
用いてもよい。
本1発明に用いられるO−キノンジアジド化合物として
は、例えばO−ナフトキノンジアジドスルホン酸と、フ
ェノール類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂との
エステル化合物が挙げられる。
前記フェノール類としては、例えば、フェノール、0−
クレゾール、■−クレゾール、p−クレゾール、3,5
−キシレノール、カルバクロール、チモール等の一価フ
エノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等の
二価フェノール、ピロガロール、フロログルシン等の三
価フェノール等が挙げられる。前記アルデヒドとしては
ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセ1〜アルデ
ヒド、クロトンアルデヒド、フルフラール等が挙げられ
る。これらのうら好ましいものはホルムアルデヒド及び
ベンズアルデヒドである。また、前記ケトンとしてはア
セトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、l−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、ffl  、D  n合りレゾール・ホルムア
ルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピ
ロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。
前記0−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類の
OHMに対する0−ナフ]〜キノンジアジドスルホン酸
の縮合率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80
%が好ましく、より好ましくは20〜45%である。
更に本発明に用いられる0−キノンジアジド化合物とし
ては特開昭58−43451号公報に記載のある以下の
化合物も使用できる。すなわち例えば1゜2−ベンゾキ
ノンジアジドスルホン酸エステル、1.2−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸エステル、1.2−ベンゾキノン
ジアジドスルホン酸アミド、1,2−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸アミドなどの公知の1.2−キノンジア
ジド化合物、さらに具体的にはジェイ・コサール(J。
K osar) @ rライト・センシティブ システ
ム」(” L ight−5ensitive Sys
tems” )第339〜352頁(1965年)、ジ
ョン・ウィリー アンドサンズ(John Wiley
  &  5ons )社にューヨーク)やダブリュー
・ニス・デイ−・フォμス!・(W、 S、 De F
orest ) 茗r7オt−LzシストJ(” P 
hotoresist” )第50巻、  (1975
年)、マグロ−ヒル(Mc Graw −Hlll )
社にューヨーク)に記載されている1、2−ベンゾキノ
ンジアジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1゜2
.1’ 、2’−ジー(ベンゾキノンジアジド−4−ス
ルホニル)−ジヒドロキシピフIニル、1゜2−ベンゾ
キノンジアジド−4−(N−エチル−N−β−ナフチル
)−スルホンアミド、1.2−ナノ1〜キノンジアジド
ー5−スルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,
2−犬)I・キノンジアジド−5−スルホニル)−3,
5−ジメチルピラゾール、1.2−ナフトキノンジアジ
ド−5−スルホン酸−4“−ヒドロキシジフェニル−4
“−アゾ−β−ナフトールエステル、N、N−ジー(1
,2−ナフトキノンジアジド−5−スルボニル)−アニ
リン、2’−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,
4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、1.2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホンM−22,3.4−
t−リヒドロキシベンゾフエノンエステル、1.2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと
4.4′−ジアミノベンゾフェノン1モルの縮合物、1
.2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド
2モルと4.4′ −ジヒドロキシ−1,1′−ジフェ
ニルスルホン1モルの縮合物、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプルプロガラ
21モルの縮合物、1.2−ナフトキノンジアジド−5
−(N−ジヒドロアビエチル)−スルボンアミドなどの
1.2−キノンジアジド化合物を例示することができる
。また特公昭37−1953号、同37−3627号、
同37−13109号、同40−26126号、同40
−3801号、同45−5604号、同45−2734
5号、同51−13013号、特開昭48−96575
号、同48−63802号、同48−63802号各公
報に記載された1、2−キノンジアジド化合物をも挙げ
ることができる。
本発明の0−キノンジアジド化合物どしては上記化合物
を各々単独で用いてもよいし、2種以上組合わせて用い
てもよい。
本発明に用いられるO〜キノンジアジド化合物の感光層
中に占める割合は、5〜60重市%が好ましく、特に好
ましくは、10〜50重G%である。
本発明にお【ノるアルカリ可溶性樹脂としては、当分野
において公知の種々の樹脂が用いられるが、特にノボラ
ック樹脂及びフェノール性水酸基を行する(14造単立
を分子構造中に有するビニル系重合体が好ましい。
本発明に好ましく用いられるノボラック樹脂としては、
フェノール類とホルムアルデヒドを酸触媒の存在下で縮
合して得られる樹脂が挙げられ、該フェノール類として
は、例えばフェノール、0−クレゾール、m−クレゾー
ル、p−クレゾール、3.5−キシレノール、2.4−
キシレノール、2.5−キシレノール、カルバクロール
、チモール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、
ピロガロール、フロログルシン等が挙げられる。
上記フェノール類化合物は単独で又は2種以上組み合わ
せてホルムアルデヒドと縮合し樹脂を(qることができ
る。これらのうち好ましいノボラック樹脂は、フェノー
ル、m−クレゾール(又は0−クレゾール)及びp−ク
レゾールから選ばれる少なくとも1p!とホルムアルデ
ヒドとを共止縮合して1qられる樹脂である。例えば、
フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・
ホルムアルデヒド樹脂、0−クレゾール・ホルムアルデ
ヒド樹脂、フェノール・p−クレゾール・ホルムアルデ
ヒド共重合体樹脂、m−クレゾール・p−クレゾール・
ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、0−クレゾール・p
−クレゾール・ホルムアルデヒド共和縮合体樹脂、フェ
ノール・m−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアル
デヒド共重縮合体樹脂、フェノール・O−クレゾール・
p−クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂が挙
げられる。更に上記のノボラック樹脂のうち、フェノー
ル・m−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂が好ましい。
本発明においては、上記ノボラック樹脂は単独で用いて
もよいし、また2種以上組合わせて用いてもよい。
上記ノボラック樹脂の分子1(ポリスチレン標準)は、
■量平均分子口MWが2.Ox 103〜2、Ox 1
Q 4で、数平均分子mMnが7.0×102〜5.0
X103の範囲内の値であることが好ましく、更に、好
ましくは、Mwが3.OX103−G、OX 103 
、Mnが77×102〜1.2x 1Q 3の′4ヲ囲
内の値である。本発明におけるノボラック樹脂の分子覆
の測定は、前)ホのGPCによって行う。
本発明の感光層中に占めるノボラック樹脂の湯は、0.
01〜50重岱%が好ましく、より好ましくは1〜14
重量%である。
また、アルカリ可溶性樹脂として本発明に好ましく用い
られるフェノール注水M基を有するfM a単位を分子
構造中に有するビニル系重合体とは、炭素−炭素二重結
合が開裂して、重合してできた重合体のことであり下記
一般式[I]〜[VI]の少なくとも1つの構造単位を
含む重合体が好ましい。
一般式[I] −4: CR1R2−C,R3+ 0−GO−B−OH 一般式[II] +CR+  R2−CRa + C0NR4→A+fB−OH 一般式[1[[] %式% 一般式[IV ’] −I−CR+  R2−CR3→− −0H 一般式[Vコ 奢 H B δH 式中、R1およびR2はそれぞれ水素原子、アルキル基
、またはカルボキシル基を表し、好ましくは水素原子で
ある。R3は水素原子、l\ロゲン原子またはアルキル
基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基、エチル
基等のアルキル基である。R+は水素原子、アルキル基
、アリール基またはアラルキル基を表し、好ましくは水
素原子である。Aは窒素原子または酸素原子と芳香族炭
素原子とを連結する置換基を有してもよいアJレキレン
基を表し、mはO〜10の整数を表し、Bは置換基を有
してもよいフェニレン基または置換基を有してもよいナ
フチレン基を表す。本発明にt31r’では、これらの
うち一般式[II]で示される[4 a単位を少なくと
も1つ含む共重合体が好ましい。
前記ビニル系重合体は共重合体型の構造を有しており、
このような共重合体において、前記一般式[I]〜[V
I]の各々で示される構造単位の少なくとも1種と組み
合わせて用いることができる¥1量体単位としては、例
えばエチレン、ブOピレン、イソブチレン、ブタジェン
、イソプレン等のエチレン系不飽和オレフィン類、例え
ばスチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン
、p−クロロスチレン等のスチレン類、例えばアクリル
酸、メタクリル酸等のアクリル酸類、例えばイタコン酸
、マレイン酸、無水マレイン酸等の不飽和脂肪族ジカル
ボンv1類、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリルln−ブチル、アクリル酸イソブチル、ア
クリル酸ドデシル、アクリル酸2−クロロエチル、アク
リル酸フェニル、α−クロロアクリル酸メチル、メタク
リル酸メチル、メタクリル酸エチル、エタクリル酸エチ
ル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸のエステル類
、例えばアクリロニトリル、メタアクリロニl−リル等
のニトリル類、例えばアクリルアミド等のアミド類、例
えばアクリルアニリド、p−クロロアクリルアニリド、
m−二1〜ロアクリルアニリド、m−メトキシアクリル
アニリド等のアニリド類、例えば酢酸ビニル、プロピオ
ン酸ビニル、ベンジェ酸ビニル、mlビニル等のビニル
エステル類、例えばメチルビニルエーテル、エチルビニ
ルエーテル、イソブチルビニルエーテル、β−クロロエ
チルビニルエーテル等のビニルエーテル類、塩化ビニル
、ビニリデンクロライド、ごニリデンシアナイド、例え
ば1−メチル−1−メトキシエチレン、1.1−ジメト
キシエチレン、1.2−ジメトキシエチレン、1,1−
ジメトキシカルボニルエチレン エチレン誘尋体類、例えばN−ビニルピロール、N−ビ
ニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−ビニル
ピロリドン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニル化合
物、等のビニル系単層体がある。
これらのビニル系単2体は不飽和二重結合が開裂した構
造で高分子化合物中に存在する。
上記の単但体のうち、一般式[I]〜[VI]で示され
る構造単位の少なくとも1種と組み合わせて用いるもの
として、(メタ)アクリル酸類、脂UJTiモノカルボ
ン酸のエステル類、二1〜リル類が総合的に優れた性能
を示し、好ましい。より好ましくは、メタクリル酸、メ
タクリル酸メチル、アクリロニトリル、アクリル酸エチ
ル等である。
これらの単四体は前記ビニル系手合体中にブロック又は
ランダムのいずれの状態で結合していてもよい。
前記ビニル系重合体中における、一般式[I]〜[V[
]のそれぞれで示される構造単位の含f3率は、5〜7
0モル%が好ましく、特に、10〜40モル%が好まし
い。
また、感光性層中における前記ビニル系重合体の占める
割合は50〜95重量%であり、好ましくtま60〜9
0重量%である。
前記重合体は上記組合せのもの1種のみで用いてもよい
が、2種以上併用して感光性組成物中に含んでいてもよ
い。
1ス下に本発明に用いられるビニル系重合体の代表的な
具体例をあげる。なお下記に例示の化合物において、M
Yは重量平均分子量、Mnは故平均分子1、s、に、i
、o、iおよびnは、それぞれ構造単位のモル%を表す
以ぜ陰「a 石−:々 例示化合物 CH。
CM>     CH3 (1)     CH,CH。
ζ′1゛、・1 本発明の感光性平版印刷版は上記のような素材を組合わ
せ、含有することにより、本発明の目的を達成し得るも
のであるが、このような各々の素材の他、必要に応じて
更に染料、顔料等の色素、可塑剤、界面活性剤、有機酸
、酸無水物、露光により酸を発生し得る化合物などを添
加することができる。
更に、本発明の感光性平版印刷版には、該感光性平版印
刷版の感脂性を向上するために例えば、p −tert
−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂や、p−n−
オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂や、これらが
O−キノンジアジド化合物で部分的にエステル化された
樹脂などを含有させることもできる。これらの各成分を
下記の溶媒に溶解させ、更にこれを適当な支持体表面に
塗布乾燥させることにより、感光層を設けて、本発明の
感光性平版印刷版を形成することができる。
上記の各成分を溶解する際に使用し得る溶媒としては、
メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチ
ルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート等のセロソ
ルブ類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、ジオキサン、アセトン、シフ0ヘキサノン、トリクロ
ロエチレン、メチルエチルケトン等が挙げられる。これ
ら溶媒は、単独であるいは2種以上混合して使用する。
本発明の感光性平版印刷版の製造に適用されうる塗布方
法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイ
ヤーバー塗布、デイツプ塗布、エアーナイフ塗布、ロー
ル塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可能である
。この際塗布退は用途により異なるが、例えば固形分と
して0.5〜5、OQ/fが好ましい。
本発明の感光性平版印刷版に用いられる支持体としては
、アルミニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並びにクロ
ム、亜鉛、銅、ニラクル、アルミニウム、鉄等がメツキ
又は蒸着された金属板、紙、プラスチックフィルム及び
ガラス板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等の金属
箔が張られた紙、親水化処理したプラスチックフィルム
等が挙げられる。このうち好ましいのはアルミニウム板
である。本発明の感光性平版叩頭4版の支持体として砂
目立て処理、陽極酸化処理および必要に応じて封孔処理
等の表面処理が浦されているアルミニウム板を用いるこ
とがより好ましい。
これらの処理には公知の方法を適用することができる。
一般に、感光性平版印刷版は、露光焼き付は装置を用い
て露光焼付され、次いで現像液にて現像される。この結
果、未露光部分のみが支持体表面に残り、ポジーポジ型
レリーフ像ができる。
本発明の感光性平版印刷版の川魚に用いられる現像液と
しては、水系アルカリ現像液が好適である。前記の水系
アルカリ現像液としては例えば、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、メタケ
イ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、第三リン酸ナト
リウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属塩の水
溶液が挙げられる。
以下、本発明の感光性平版印刷版の実施例について詳し
く述べるが、本発明はこれら実施例に何等制限されるも
のではない。
(実施例) 実施例1 厚さ0.24mn+のアルミニウム板を脱脂処理した後
、硝酸水溶液中で電解研磨処理し、カセイソーダデスマ
ット処理した。次に硫酸水溶液中での陽極酸化処理及び
熱水封孔処理を行ない、平版印刷版用アルミニウム板を
得た。
次にこのアルミニウム板に下記の感光液をロールコータ
−によって塗布し、90℃で4分間乾燥し、感光性平版
印刷版試料を得た。
感光液 ・トリヒト、ロキシベンゾフェノンと ナフトキノン(1,2)−ジアジド− 5−スルホニルクロライドとの縮合物 2重量部 ・混合クレゾール(フェノール二m− クレゾール:p−クレゾール≠2: 5:3)ホルマリンノボラック樹脂 (重囲平均分子量= 10,000)     8重量
部・2−トリクロロメチル−β(2’− ベンゾフリル)ビニル1,3.4− オキサジアゾール       0.06重M部・p−
オクチルフェノールとナフト キノン(1,2)−ジアジド−5− スルホニルクロライドとの縮合物 (水酸基の縮合率50モル%)0.1重湯部・ビクトリ
アピュアブルーBOH (保土ケ谷化学1tIl製>      0.08重Q
部・表1に示した本発明の化合物−1 0,3重り部 ・メチルセロソルブ/エチルセロソルブ=(4/6) 
          53重量部かくして1qられた感
光性平版印刷版を、下記フィルム原稿を使用し下記の露
光条件、製版条件、印刷条件にてf¥勤評価を行った。
フィルム原稿ニ ステップタブレットN0.2(ゴース1〜マンコダツク
■@1)および絵柄を複数枚貼り込んだ原稿露光条件: 現像条件1: 印刷条件: 現像条件−2 全面露光した感光性平版印刷版をくり返し現像し母液1
Ll当り2.0.2処理した疲労液を現像液として使用
した池は現象条件−1と同様の条件で処理した。
また、感光性平版印刷版の一部を黒紙でおおった後、白
色けい光!(40W2本)下、2mの位置に一定時間静
置し、続いて前記現象′j、注−1で現像処理を行なっ
た。黒紙でおおった部分と露出した部分の差がはっきり
観察できる時間を測定した。
以上の評価方法にて、現懺後の印刷版からクリヤー感度
およびベタ感度、そしてセーフライト時間を、更に得ら
れた印刷物から地汚れの有無を判読し、結果を表3に示
した。
実施例2〜8 実施例1で使用した本発明の化合物−1の代りに表−1
に示すような化合物2〜8をそれぞれ使用した他は、実
施例1と同様にして感光性平版印刷版を得、それぞれに
ついて実施例1と同様にして実験を行なった。結果を表
3に示した。
実施例9〜13 実施例1で使用した本発明の化合物−1の添加量を下記
表2のように変更した他は、実施例1と同様にして感光
性平版印刷版を得、それぞれについて実施例1と同様に
実験を行なった。結果を表3に示した。
表  2 比較例1 実施例1で使用した本発明の化合物−1の代りに、トウ
イーン80(花王アトラス■製)〈ポリオキシエチレン
ソルビタンモノオレエート〉を使用した他は、実施例1
と同様にして感光性平版印刷版を作製し、実験を行なっ
た。結果を表3に示した。
比較例2 実施例1の感光液処方から本発明の化合物−1を除いた
池は、実施例1と同様にして感光性平版印刷版を作製し
実験を行なった。結果を表3に示した。
実!@14 実施例1で決用した感光液の代りに下記の感光液を使用
したIt!!Gよ、実M例1と同様にして感光性平版印
刷版を作製し、実験を行なった。結果を表3に示した。
感光液 ・ピロガロール・アセトン樹脂どナノ1−キノン(1,
2)−ジアジド−5〜 スルホニルクロライドとの縮合物 0.90重量部 ・クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂 1.70重9部 ・t−ブチルフェノール・ホルム アルデヒド樹脂       0.05重1部・ナフト
キノン−1,2−ジアジド −4−スルホニルクロライド 0,03重量部・テトラ
ヒドロフタル酸    0.20重付部・オイルブルー
#603 (オリエント化学工業側)    0.05fA近部・
表1に示す本発明の化合物−1 0,07重り部 ・メチルセロソルブ        15重1部表3よ
り明らかなように、本発明の感光性平版印刷版(実施例
1〜14)は本発明外の感光性平版印刷版、特に従来の
印刷版比較例1に比較して感度、アンダー現象性、現象
許容性及びセーフライト性のすべてにおいて優れている
ことがわかる。
(発明の効果) 以上詳細に説明したように、本発明の感光性平版印刷版
により感度及びアンダー現像性を低下させることなく、
現像許容性及びセーフライト性を向上させることができ
る。
特許出願人 コニカ株式会社(他1名)七−=−一=二
一一−二二ノ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 支持体上に(a)0−キノンジアジド化合物、(b)ア
    ルカリ可溶性樹脂及び(c)ポリオキシアルキレンソル
    ビット脂肪酸のエステル化合物及び/又は該脂肪酸のエ
    ーテル化合物、を含有する感光層を有する感光性平版印
    刷版。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2005036268A1 (ja) * 2003-10-14 2005-04-21 Asahi Denka Co., Ltd. フォトレジスト組成物

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62251740A (ja) * 1986-04-24 1987-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感光性組成物

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62251740A (ja) * 1986-04-24 1987-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感光性組成物

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0774692A2 (en) 1995-11-17 1997-05-21 Hoechst Aktiengesellschaft Radiation-sensitive recording material for the production of planographic printing plates
WO2005036268A1 (ja) * 2003-10-14 2005-04-21 Asahi Denka Co., Ltd. フォトレジスト組成物
JPWO2005036268A1 (ja) * 2003-10-14 2007-11-22 株式会社Adeka フォトレジスト組成物

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