JPH09113704A - 防曇性反射防止膜、光学部品、及び防曇性反射防止膜の製造方法 - Google Patents
防曇性反射防止膜、光学部品、及び防曇性反射防止膜の製造方法Info
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- JPH09113704A JPH09113704A JP27299895A JP27299895A JPH09113704A JP H09113704 A JPH09113704 A JP H09113704A JP 27299895 A JP27299895 A JP 27299895A JP 27299895 A JP27299895 A JP 27299895A JP H09113704 A JPH09113704 A JP H09113704A
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- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、不溶性、耐摩耗性及び耐候性を持
ちつつ、防曇効果を有する反射防止膜、防曇性光学部品
及び防曇性反射防止膜の製造方法を提供することにあ
る。 【解決手段】 本発明による防曇性反射防止膜は、無機
アルコキシドの加水分解物の少なくとも重縮合反応をポ
リアクリル酸類の存在下で生ぜしめて得られる組成物で
形成されたものであることを特徴とするものである。
ちつつ、防曇効果を有する反射防止膜、防曇性光学部品
及び防曇性反射防止膜の製造方法を提供することにあ
る。 【解決手段】 本発明による防曇性反射防止膜は、無機
アルコキシドの加水分解物の少なくとも重縮合反応をポ
リアクリル酸類の存在下で生ぜしめて得られる組成物で
形成されたものであることを特徴とするものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、防曇性反射防止
膜、光学部品、及び防曇性反射防止膜の製造方法に関す
る。
膜、光学部品、及び防曇性反射防止膜の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】レンズ、ミラー、プリズム、などの光学
部品をはじめとして、反射防止処理が必要とされる場合
が多くある。反射防止処理としては、これらレンズなど
の基材の表面に反射防止膜を形成することが一般に行わ
れているが、良好な防曇効果を有する反射防止膜は見当
たらなかった。
部品をはじめとして、反射防止処理が必要とされる場合
が多くある。反射防止処理としては、これらレンズなど
の基材の表面に反射防止膜を形成することが一般に行わ
れているが、良好な防曇効果を有する反射防止膜は見当
たらなかった。
【０００３】光学用機器のレンズ・ミラーなどに代表さ
れる諸機材が曇るのは表面湿度が露点以下に下がったた
めに、空気中の水分が細かな水滴となって付着し、光が
乱反射するためである。従って、基材表面における水滴
の生成を防止することにより、曇りを防ぐことができる
と考えられる。しかしながら、反射防止膜の膜厚は、通
常１μｍ以下であり、従来、良好な防曇効果を併せ持つ
反射防止膜を形成することは困難であった。
れる諸機材が曇るのは表面湿度が露点以下に下がったた
めに、空気中の水分が細かな水滴となって付着し、光が
乱反射するためである。従って、基材表面における水滴
の生成を防止することにより、曇りを防ぐことができる
と考えられる。しかしながら、反射防止膜の膜厚は、通
常１μｍ以下であり、従来、良好な防曇効果を併せ持つ
反射防止膜を形成することは困難であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明が解決
しようとする課題は、不溶性、耐摩耗性及び耐候性を持
ちつつ、防曇効果を有する反射防止膜を提供することに
ある。
しようとする課題は、不溶性、耐摩耗性及び耐候性を持
ちつつ、防曇効果を有する反射防止膜を提供することに
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、基材の表面に
形成される防曇性反射防止膜において、該反射防止膜
が、無機アルコキシドの加水分解物の少なくとも重縮合
反応をポリアクリル酸類の存在下で生ぜしめて得られる
組成物で形成されたものであることを特徴とするもので
ある。
形成される防曇性反射防止膜において、該反射防止膜
が、無機アルコキシドの加水分解物の少なくとも重縮合
反応をポリアクリル酸類の存在下で生ぜしめて得られる
組成物で形成されたものであることを特徴とするもので
ある。
【０００６】本発明による反射防止膜は、防曇性に優れ
ており、また、反射防止膜として要求される、不溶性、
耐摩耗性および耐候性も兼ね備えている。本発明による
反射防止膜について防曇性が発現する現象は次のように
考えられる。ポリアクリル酸類は、水又はアルコール系
溶剤に一般に可溶であるが、本発明の反射防止膜に含ま
れるポリアクリル酸類等は、不溶性であることから、無
機アルコキシドの加水分解物が重縮合反応を生ずる際、
共存するポリアクリル酸類等とも反応して、無機アルコ
キシドに由来する無機部分とポリアクリル酸類等に由来
する親水性基を有する有機部を持つ複合ポリマーが生成
され、反射防止層中において、この親水性基が効果的に
配向し、外部からの水分を多く、且つ速やかに吸収する
ことができるものと考えられる。
ており、また、反射防止膜として要求される、不溶性、
耐摩耗性および耐候性も兼ね備えている。本発明による
反射防止膜について防曇性が発現する現象は次のように
考えられる。ポリアクリル酸類は、水又はアルコール系
溶剤に一般に可溶であるが、本発明の反射防止膜に含ま
れるポリアクリル酸類等は、不溶性であることから、無
機アルコキシドの加水分解物が重縮合反応を生ずる際、
共存するポリアクリル酸類等とも反応して、無機アルコ
キシドに由来する無機部分とポリアクリル酸類等に由来
する親水性基を有する有機部を持つ複合ポリマーが生成
され、反射防止層中において、この親水性基が効果的に
配向し、外部からの水分を多く、且つ速やかに吸収する
ことができるものと考えられる。
【０００７】無機アルコキシドの加水分解およびそれに
続く重縮合反応は、所謂、ゾル−ゲル法反応と呼ばれる
反応であり、無機アルコキシドを溶液中で加水分解・重
縮合反応させて溶液を無機酸化物又は無機水酸化物の微
粒子が溶解したゾルとし、さらに反応を進めてゲルとす
る反応である。本発明では、この反応をポリアクリル酸
類の存在下で行って得られる組成物で反射防止膜を形成
することで、防曇性にも優れた反射防止膜が得られたも
のである。
続く重縮合反応は、所謂、ゾル−ゲル法反応と呼ばれる
反応であり、無機アルコキシドを溶液中で加水分解・重
縮合反応させて溶液を無機酸化物又は無機水酸化物の微
粒子が溶解したゾルとし、さらに反応を進めてゲルとす
る反応である。本発明では、この反応をポリアクリル酸
類の存在下で行って得られる組成物で反射防止膜を形成
することで、防曇性にも優れた反射防止膜が得られたも
のである。
【０００８】
【発明の実施の形態】防曇性の反射防止膜を形成するに
用いられる無機アルコキシドの好適な化合物としては、
次式（Ｉ）および（II）で示される化合物が挙げられ
る。
用いられる無機アルコキシドの好適な化合物としては、
次式（Ｉ）および（II）で示される化合物が挙げられ
る。
【０００９】Ｍ（ＯＲ）a ……（Ｉ）およびＭ（ＯＲ）
n （Ｘ）a-n ……（II） ここでＭは、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃａ、Ｆｅ、
Ｖ、Ｓｎ、Ｌｉ、Ｂｅ、ＢおよびＰからなる群から選択
される原子であり、Ｒは、アルキル基であり、Ｘは、ア
ルキル基、官能基を有するアルキル基、またはハロゲン
であり、ａは、Ｍの原子価であり、そしてｎは、１から
ａまでの整数である。
n （Ｘ）a-n ……（II） ここでＭは、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃａ、Ｆｅ、
Ｖ、Ｓｎ、Ｌｉ、Ｂｅ、ＢおよびＰからなる群から選択
される原子であり、Ｒは、アルキル基であり、Ｘは、ア
ルキル基、官能基を有するアルキル基、またはハロゲン
であり、ａは、Ｍの原子価であり、そしてｎは、１から
ａまでの整数である。
【００１０】上記Ｘとしては、カルボニル基、カルボキ
シル基、アミノ基、ビニル基、またはエポキシ基を有す
るアルキル基が好適である。
シル基、アミノ基、ビニル基、またはエポキシ基を有す
るアルキル基が好適である。
【００１１】式（Ｉ）の化合物のうち汎用されるのは、
ｎ＝ａ、つまりＭにアルコキシ基のみが結合した化合物
である。
ｎ＝ａ、つまりＭにアルコキシ基のみが結合した化合物
である。
【００１２】上記ＭがＳｉの場合には、上記ａは４であ
り、このようなアルコキシドは、Ｓｉ（ＯＲ1 ）4 で表
される。ここでＲ1 は、好ましくは炭素数１〜４のアル
キル基（以下、低級アルキル基という）である。このよ
うなアルコキシシランとしては、Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）4 、
Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 などが挙げられる。
り、このようなアルコキシドは、Ｓｉ（ＯＲ1 ）4 で表
される。ここでＲ1 は、好ましくは炭素数１〜４のアル
キル基（以下、低級アルキル基という）である。このよ
うなアルコキシシランとしては、Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）4 、
Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 などが挙げられる。
【００１３】上記ＭがＡｌの場合には、上記ａは３であ
り、このようなアルコキシドは、Ａｌ（ＯＲ2 ）3 で表
される。ここでＲ2 は、好ましくは低級アルキル基であ
る。このようなアルミニウムアルコキシドとしては、Ａ
ｌ（ＯＣＨ3 ）3 、Ａｌ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 、Ａｌ（Ｏ−
ｎ−Ｃ3 Ｈ7 ）3 、Ａｌ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）3、
Ａｌ（ＯＣ4 Ｈ9 ）3 などが挙げられる。上記アルミニ
ウムアルコキシドは、上記アルコキシシランと混合して
用いられるのが好ましい。アルミニウムアルコキシドを
用いることによって、得られるコーティング膜の屈折率
や耐熱性が向上する。アルミニウムアルコキシドの使用
量は、生成されるポリマーがゲル化しないようにするこ
と、また、形成される反射防止膜に亀裂が生じないよう
にする点から、好ましくは上記アルコキシシラン１００
重量部に対して１０重量部以下の範囲であり、特には約
３重量部である。
り、このようなアルコキシドは、Ａｌ（ＯＲ2 ）3 で表
される。ここでＲ2 は、好ましくは低級アルキル基であ
る。このようなアルミニウムアルコキシドとしては、Ａ
ｌ（ＯＣＨ3 ）3 、Ａｌ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 、Ａｌ（Ｏ−
ｎ−Ｃ3 Ｈ7 ）3 、Ａｌ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）3、
Ａｌ（ＯＣ4 Ｈ9 ）3 などが挙げられる。上記アルミニ
ウムアルコキシドは、上記アルコキシシランと混合して
用いられるのが好ましい。アルミニウムアルコキシドを
用いることによって、得られるコーティング膜の屈折率
や耐熱性が向上する。アルミニウムアルコキシドの使用
量は、生成されるポリマーがゲル化しないようにするこ
と、また、形成される反射防止膜に亀裂が生じないよう
にする点から、好ましくは上記アルコキシシラン１００
重量部に対して１０重量部以下の範囲であり、特には約
３重量部である。
【００１４】上記ＭがＴｉの場合には、上記ａは４であ
り、このようなアルコキシドは、Ｔｉ（ＯＲ3 ）4 で表
される。ここでＲ3 は、好ましくは低級アルキル基であ
る。このようなチタニウムアルコキシドとしては、Ｔｉ
（Ｏ−ＣＨ3 ）4 、Ｔｉ（Ｏ−Ｃ2 Ｈ5 ）4 、Ｔｉ（Ｏ
−Ｃ3 Ｈ7 ）4 、Ｔｉ（Ｏ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 、Ｔｉ（Ｏ−
ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）4 、Ｔｉ（Ｏ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 などが
挙げられる。上記チタニウムアルコキシドは、単独でま
たは２種以上を混合して用いてもよい。このようなチタ
ニウムアルコキシドは、上記アルコキシシランと混合し
て用いられるのが好ましく、チタニウムアルコキシドを
用いることによって、得られるコーティング膜の屈折率
および耐紫外線性が向上し、基材の耐熱性も著しく向上
する。チタニウムアルコキシドの使用量は、形成される
反射防止膜の基材との密着性の点から、好ましくは、上
記アルコキシシラン１００重量部に対して３重量部以下
の範囲であり、特には、約１重量部である。
り、このようなアルコキシドは、Ｔｉ（ＯＲ3 ）4 で表
される。ここでＲ3 は、好ましくは低級アルキル基であ
る。このようなチタニウムアルコキシドとしては、Ｔｉ
（Ｏ−ＣＨ3 ）4 、Ｔｉ（Ｏ−Ｃ2 Ｈ5 ）4 、Ｔｉ（Ｏ
−Ｃ3 Ｈ7 ）4 、Ｔｉ（Ｏ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 、Ｔｉ（Ｏ−
ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）4 、Ｔｉ（Ｏ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 などが
挙げられる。上記チタニウムアルコキシドは、単独でま
たは２種以上を混合して用いてもよい。このようなチタ
ニウムアルコキシドは、上記アルコキシシランと混合し
て用いられるのが好ましく、チタニウムアルコキシドを
用いることによって、得られるコーティング膜の屈折率
および耐紫外線性が向上し、基材の耐熱性も著しく向上
する。チタニウムアルコキシドの使用量は、形成される
反射防止膜の基材との密着性の点から、好ましくは、上
記アルコキシシラン１００重量部に対して３重量部以下
の範囲であり、特には、約１重量部である。
【００１５】上記Ｍが、Ｚｒの場合には、上記ａは４で
あり、このようなアルコキシドは、Ｚｒ（ＯＲ4 ）4 で
表される。ここでＲ4 は、好ましくは低級アルキル基で
ある。このようなジルコニウムアルコキシドとしては、
Ｚｒ（ＯＣＨ3 ）4 、Ｚｒ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 、Ｚｒ（Ｏ
−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）4 、Ｚｒ（Ｏ−ｔ−Ｃ
4 Ｈ9 ） 4 、Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 などが挙げら
れる。上記ジルコニウムアルコキシドは、単独または２
種以上を混合して用いてもよい。このようなジルコニウ
ムアルコキシドは、上記アルコキシシランと混合して用
いるのが好ましくジルコニウムアルコキシドを用いるこ
とによってコーティング膜の屈折率および靱性や耐熱性
が向上する。ジルコニウムアルコキシドの使用量は、生
成されるポリマーのゲル化防止、および形成される反射
防止膜の基板との密着性の点から、好ましくは、上記ア
ルコキシシラン１００重量部に対して５重量部以下の範
囲であり、特には３重量部である。
あり、このようなアルコキシドは、Ｚｒ（ＯＲ4 ）4 で
表される。ここでＲ4 は、好ましくは低級アルキル基で
ある。このようなジルコニウムアルコキシドとしては、
Ｚｒ（ＯＣＨ3 ）4 、Ｚｒ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 、Ｚｒ（Ｏ
−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）4 、Ｚｒ（Ｏ−ｔ−Ｃ
4 Ｈ9 ） 4 、Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 などが挙げら
れる。上記ジルコニウムアルコキシドは、単独または２
種以上を混合して用いてもよい。このようなジルコニウ
ムアルコキシドは、上記アルコキシシランと混合して用
いるのが好ましくジルコニウムアルコキシドを用いるこ
とによってコーティング膜の屈折率および靱性や耐熱性
が向上する。ジルコニウムアルコキシドの使用量は、生
成されるポリマーのゲル化防止、および形成される反射
防止膜の基板との密着性の点から、好ましくは、上記ア
ルコキシシラン１００重量部に対して５重量部以下の範
囲であり、特には３重量部である。
【００１６】上記以外のアルコキシドとしては、例え
ば、Ｃａ（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 、Ｆｅ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 、Ｖ
（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）4 、Ｓｎ（Ｏ−ｔ−Ｃ
4 Ｈ9 ）4 、Ｌｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）、Ｂｅ（ＯＣ2 Ｈ5 ）
2 、Ｂ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 、Ｐ（ＯＣ2Ｈ5 ）2 、Ｐ（Ｏ
ＣＨ3 ）3 などが挙げられる。
ば、Ｃａ（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 、Ｆｅ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 、Ｖ
（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）4 、Ｓｎ（Ｏ−ｔ−Ｃ
4 Ｈ9 ）4 、Ｌｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）、Ｂｅ（ＯＣ2 Ｈ5 ）
2 、Ｂ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 、Ｐ（ＯＣ2Ｈ5 ）2 、Ｐ（Ｏ
ＣＨ3 ）3 などが挙げられる。
【００１７】式（Ｉ）で示される無機アルコキシドのう
ちｎ＝ａ−１以下の場合、つまりＭにアルコキシ以外の
基Ｘが結合している化合物としては、例えば、ＸがＣ
ｌ、Ｂｒのようなハロゲンである化合物がある。Ｘがハ
ロゲンである化合物には、後述のようにアルコキシ基と
同様に加水分解されてＯＨ基を生じ重縮合反応が起こ
る。Ｘはまた、アルキル基や官能基を有するアルキル基
であり得、このアルキル基の炭素数は通常１〜１５であ
る。このような基は、加水分解されずに得られるポリマ
ー中に有機部分として残留する。上記官能基としては、
カルボキシル基、カルボニル基、アミノ基、ビニル基、
エポキシ基などがある。このような基は、不溶性を高め
るうえで好適である。
ちｎ＝ａ−１以下の場合、つまりＭにアルコキシ以外の
基Ｘが結合している化合物としては、例えば、ＸがＣ
ｌ、Ｂｒのようなハロゲンである化合物がある。Ｘがハ
ロゲンである化合物には、後述のようにアルコキシ基と
同様に加水分解されてＯＨ基を生じ重縮合反応が起こ
る。Ｘはまた、アルキル基や官能基を有するアルキル基
であり得、このアルキル基の炭素数は通常１〜１５であ
る。このような基は、加水分解されずに得られるポリマ
ー中に有機部分として残留する。上記官能基としては、
カルボキシル基、カルボニル基、アミノ基、ビニル基、
エポキシ基などがある。このような基は、不溶性を高め
るうえで好適である。
【００１８】Ｘを有する式（Ｉ）の化合物としては、ビ
ニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルメトキシシランなど
が挙げられる。
ニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルメトキシシランなど
が挙げられる。
【００１９】特に好適な無機アルコキシドとしては、Ｓ
ｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 、Ａｌ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ
3 Ｈ7 ）3 、Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）4 、Ｚｒ
（Ｏ−ｔ−Ｃ4 Ｈ 9 ）4 、Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ
4 Ｈ9 ）4 、Ｃａ（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 、Ｆｅ（ＯＣ
2 Ｈ 5 ）3 、Ｖ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）4 、Ｓｎ（Ｏ
−ｔ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 、Ｌｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）、Ｂｅ（ＯＣ
2 Ｈ5 ）2 、Ｂ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 、Ｐ（ＯＣ2 Ｈ5 ） 2
およびＰ（ＯＣＨ3 ）3 でなる群から選択される少なく
とも１種である。
ｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 、Ａｌ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ
3 Ｈ7 ）3 、Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）4 、Ｚｒ
（Ｏ−ｔ−Ｃ4 Ｈ 9 ）4 、Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ
4 Ｈ9 ）4 、Ｃａ（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 、Ｆｅ（ＯＣ
2 Ｈ 5 ）3 、Ｖ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）4 、Ｓｎ（Ｏ
−ｔ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 、Ｌｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）、Ｂｅ（ＯＣ
2 Ｈ5 ）2 、Ｂ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 、Ｐ（ＯＣ2 Ｈ5 ） 2
およびＰ（ＯＣＨ3 ）3 でなる群から選択される少なく
とも１種である。
【００２０】本発明に用いられるポリアクリル酸類とし
ては、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリ
ルアミド、これらの塩類（ポリアクリル酸カリウム、ポ
リポリアクリル酸ナトリウムなど）などが挙げられ、好
ましくは、ポリアクリル酸、およびポリメタクリル酸が
用いられる。
ては、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリ
ルアミド、これらの塩類（ポリアクリル酸カリウム、ポ
リポリアクリル酸ナトリウムなど）などが挙げられ、好
ましくは、ポリアクリル酸、およびポリメタクリル酸が
用いられる。
【００２１】ポリアクリル酸類の平均分子量は数平均分
子量３，０００〜１，５００，０００、特には５０，０
００〜７５０，０００が好ましい。
子量３，０００〜１，５００，０００、特には５０，０
００〜７５０，０００が好ましい。
【００２２】本発明による反射防止膜は、無機アルコキ
シド、無機アルコキシドの加水分解物および該加水分解
物の低分子量重縮合物の少なくとも一方、ポリアクリル
酸類い、該加水分解物の重縮合反応を促進させる触媒を
含む反応溶液を基材表面に塗布する工程および塗布膜を
熱処理する工程により製造できる。無機アルコキシドお
よび無機アルコキシドの加水分解物の少なくとも一方を
含むとは、次の４つの場合を含む。 （１）反応溶液を調合するに用いるのが、無機アルコキ
シドで、その加水分解反応は反応溶液の調合後に生じさ
せる。 （２）反応溶液を調合するに用いるのが、既に加水分解
反応処理が行われた無機アルコキシドの加水分解物であ
るもの。 （３）反応溶液を調合するに用いるのが、無機アルコキ
シドの加水分解物が既に一部重縮合した低分子量重縮合
物であるもの。 （４）反応溶液を調合するに用いるのが、無機アルコキ
シド、その加水分解物およびその加水分解物の低分子量
重縮合物の２種以上であるもの。
シド、無機アルコキシドの加水分解物および該加水分解
物の低分子量重縮合物の少なくとも一方、ポリアクリル
酸類い、該加水分解物の重縮合反応を促進させる触媒を
含む反応溶液を基材表面に塗布する工程および塗布膜を
熱処理する工程により製造できる。無機アルコキシドお
よび無機アルコキシドの加水分解物の少なくとも一方を
含むとは、次の４つの場合を含む。 （１）反応溶液を調合するに用いるのが、無機アルコキ
シドで、その加水分解反応は反応溶液の調合後に生じさ
せる。 （２）反応溶液を調合するに用いるのが、既に加水分解
反応処理が行われた無機アルコキシドの加水分解物であ
るもの。 （３）反応溶液を調合するに用いるのが、無機アルコキ
シドの加水分解物が既に一部重縮合した低分子量重縮合
物であるもの。 （４）反応溶液を調合するに用いるのが、無機アルコキ
シド、その加水分解物およびその加水分解物の低分子量
重縮合物の２種以上であるもの。
【００２３】反応溶液の調合に用いるものに無機アルキ
シドが含まれる場合には、無機アルコキシドの加水分解
反応およびその加水分解反応物の重縮合反応は、ポリア
クリル酸類の存在下で生ずることになる。反応溶液中で
の重縮合反応が進行するに従って溶液粘度が上昇するの
で、反応溶液の基材への塗布は、粘度が高くなり過ぎな
い内に行う。
シドが含まれる場合には、無機アルコキシドの加水分解
反応およびその加水分解反応物の重縮合反応は、ポリア
クリル酸類の存在下で生ずることになる。反応溶液中で
の重縮合反応が進行するに従って溶液粘度が上昇するの
で、反応溶液の基材への塗布は、粘度が高くなり過ぎな
い内に行う。
【００２４】本発明に用いられる触媒としては、酸触媒
および塩基触媒が挙げられる。酸触媒は無機アルコキシ
ドの加水分解反応に用いられる。従って、予め無機アル
コキシドがある程度加水分解され、あるいは、さらに一
部重縮合し、ＯＨ基を有する低分子量のオリゴマーを使
用する場合には、酸触媒は、不要となり得る。
および塩基触媒が挙げられる。酸触媒は無機アルコキシ
ドの加水分解反応に用いられる。従って、予め無機アル
コキシドがある程度加水分解され、あるいは、さらに一
部重縮合し、ＯＨ基を有する低分子量のオリゴマーを使
用する場合には、酸触媒は、不要となり得る。
【００２５】酸触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸などの
鉱酸などが用いられる。鉱酸の無水物、例えば、塩化水
素ガスも用いられ得る。この他に有機酸やその無水物も
利用され得る。例えば、酒石酸、フタル酸、マレイン
酸、ドデシルコハク酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチル
ナジック酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸、ジクロルコハク酸、クロレンディック酸、無
水フタル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、
無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルナジック酸、無
水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン
酸、無水ジクロルコハク酸、無水クロレンディック酸な
どが挙げられる。これらの酸触媒は、無機アルコキシド
１００重量部に対して０．０１〜０．５重量部、好まし
くは０．０１５〜０．３重量部である。０．０１重量部
未満の場合には加水分解が不充分となるおそれがあり、
０．５重量部を越える場合には塗布する前に重縮合反応
も進行させ、粘度が増大する場合がある。
鉱酸などが用いられる。鉱酸の無水物、例えば、塩化水
素ガスも用いられ得る。この他に有機酸やその無水物も
利用され得る。例えば、酒石酸、フタル酸、マレイン
酸、ドデシルコハク酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチル
ナジック酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸、ジクロルコハク酸、クロレンディック酸、無
水フタル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、
無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルナジック酸、無
水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン
酸、無水ジクロルコハク酸、無水クロレンディック酸な
どが挙げられる。これらの酸触媒は、無機アルコキシド
１００重量部に対して０．０１〜０．５重量部、好まし
くは０．０１５〜０．３重量部である。０．０１重量部
未満の場合には加水分解が不充分となるおそれがあり、
０．５重量部を越える場合には塗布する前に重縮合反応
も進行させ、粘度が増大する場合がある。
【００２６】塩基触媒は、主として無機アルコキシドの
加水分解物の重縮合反応の触媒として、作用する。この
ような塩基触媒としては、好ましくは、水に実質的に不
溶であり、有機溶媒に可溶な第三アミンが用いられる。
好ましい塩基触媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ベンジルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミ
ン、トリペンチルアミンなどがあり、特にＮ，Ｎ−ジメ
チルベンジルアミンが好適である。上記塩基触媒の使用
量は、反応溶液の溶質の合計量１００重量部中に０．０
１〜１重量部、さらに好ましくは、０．０５重量部であ
る。１重量部を上回る量を用いる場合には、重縮合が急
速に進行するため、下記有機溶媒に溶けにくくなり、得
られる被膜が不均一となるため、強度が低下する場合が
ある。
加水分解物の重縮合反応の触媒として、作用する。この
ような塩基触媒としては、好ましくは、水に実質的に不
溶であり、有機溶媒に可溶な第三アミンが用いられる。
好ましい塩基触媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ベンジルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミ
ン、トリペンチルアミンなどがあり、特にＮ，Ｎ−ジメ
チルベンジルアミンが好適である。上記塩基触媒の使用
量は、反応溶液の溶質の合計量１００重量部中に０．０
１〜１重量部、さらに好ましくは、０．０５重量部であ
る。１重量部を上回る量を用いる場合には、重縮合が急
速に進行するため、下記有機溶媒に溶けにくくなり、得
られる被膜が不均一となるため、強度が低下する場合が
ある。
【００２７】本発明に用いられる有機溶媒としては、メ
チルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアル
コール、ブチルアルコールなどの水と相溶性のある溶媒
が用いられる。この有機溶媒は水と共に用いられる。上
記有機溶媒の使用量は、反応溶液の溶質の合計１００重
量部に対して１００〜５０００重量部であり、さらに好
ましくは約３０００重量部である。
チルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアル
コール、ブチルアルコールなどの水と相溶性のある溶媒
が用いられる。この有機溶媒は水と共に用いられる。上
記有機溶媒の使用量は、反応溶液の溶質の合計１００重
量部に対して１００〜５０００重量部であり、さらに好
ましくは約３０００重量部である。
【００２８】ポリアクリル酸類の使用量は、好ましく
は、反応溶液の溶質の合計１００重量部に対して、０．
１〜１０重量部である。０．１重量部未満の場合には、
得られる組成物は吸水スピードが遅くなる場合があり、
１０重量部を越える場合には、得られる組成物の硬度が
低下する場合がある。
は、反応溶液の溶質の合計１００重量部に対して、０．
１〜１０重量部である。０．１重量部未満の場合には、
得られる組成物は吸水スピードが遅くなる場合があり、
１０重量部を越える場合には、得られる組成物の硬度が
低下する場合がある。
【００２９】反応溶液の塗布後の加熱条件の一例として
は、８０℃以上の温度、好ましくは１００℃〜２００℃
の範囲内で加熱乾燥させることにより、本発明の高屈折
率膜が得られる。また、防曇性膜組成物の各成分を混合
して透明な塗工液を得、これを上記高屈折率膜の上層に
積層塗工し、これを８０℃以上の温度、好ましくは８０
℃〜１５０℃範囲内で加熱乾燥させることにより、本発
明の防曇性反射防止膜が得られる。
は、８０℃以上の温度、好ましくは１００℃〜２００℃
の範囲内で加熱乾燥させることにより、本発明の高屈折
率膜が得られる。また、防曇性膜組成物の各成分を混合
して透明な塗工液を得、これを上記高屈折率膜の上層に
積層塗工し、これを８０℃以上の温度、好ましくは８０
℃〜１５０℃範囲内で加熱乾燥させることにより、本発
明の防曇性反射防止膜が得られる。
【００３０】本発明による防曇性反射防止膜としては、
０℃の低温に放置後、２５℃で６５％ＲＨ以上の高湿下
に移したときにも曇りが全く生じないものが好適であ
る。
０℃の低温に放置後、２５℃で６５％ＲＨ以上の高湿下
に移したときにも曇りが全く生じないものが好適であ
る。
【００３１】本発明による反射防止層が適用される基材
としては、光学機器用レンズ、ミラー、プリズムなど、
また、フィルター等の平行平板光学素子などが挙げられ
る。
としては、光学機器用レンズ、ミラー、プリズムなど、
また、フィルター等の平行平板光学素子などが挙げられ
る。
【００３２】本発明による防曇性反射防止膜の主な組成
は、ポリアクリル酸類等の存在下でゾル−ゲル反応を生
じさせて得られるものであるから、無機アルコキシドの
加水分解物のＯＨ基が脱プロトン化し、その結果重縮合
反応が生じて得られる重縮合物、重縮合物が有するＯＨ
基にポリアクリル酸類等が架橋反応して得られる、前述
の複合ポリマー、無機アルコキシドの加水分解物とポリ
アクリル酸類等との反応物、並びに上記重縮合物、加水
分解物およびポリアクリル酸類等の三者の反応物などが
考えられる。
は、ポリアクリル酸類等の存在下でゾル−ゲル反応を生
じさせて得られるものであるから、無機アルコキシドの
加水分解物のＯＨ基が脱プロトン化し、その結果重縮合
反応が生じて得られる重縮合物、重縮合物が有するＯＨ
基にポリアクリル酸類等が架橋反応して得られる、前述
の複合ポリマー、無機アルコキシドの加水分解物とポリ
アクリル酸類等との反応物、並びに上記重縮合物、加水
分解物およびポリアクリル酸類等の三者の反応物などが
考えられる。
【００３３】一般に光線の反射防止を目的として光学レ
ンズ等の表面に薄膜を形成する場合、単層もしくは多層
で形成され、屈折率、膜の厚みについては以下のように
設定されている。
ンズ等の表面に薄膜を形成する場合、単層もしくは多層
で形成され、屈折率、膜の厚みについては以下のように
設定されている。
【００３４】単層の場合、屈折率に関してはｎs ＞ｎf
（ｎs は基材の屈折率、ｎf は基材表面に形成される薄
膜の屈折率、理想的にはｎf ＝√（ｎs ））又、薄膜の
厚みｄf に関しては、特に透過させたい光の波長λと屈
折率ｎf との間に以下の式が成り立つことが理想であ
る。
（ｎs は基材の屈折率、ｎf は基材表面に形成される薄
膜の屈折率、理想的にはｎf ＝√（ｎs ））又、薄膜の
厚みｄf に関しては、特に透過させたい光の波長λと屈
折率ｎf との間に以下の式が成り立つことが理想であ
る。
【００３５】ｎf ・ｄf ＝λ／４または３λ／４ 多層の場合には、屈折率に関してはｎ2 ＞ｎs ＞ｎ
f （ｎ2 は最外層から２層目に形成される薄膜の屈折
率） 最外層に形成される薄膜及び最外層から２層目に形成さ
れる薄膜の厚みｄf 、ｄ2 は以下の式が成り立つことが
理想である。
f （ｎ2 は最外層から２層目に形成される薄膜の屈折
率） 最外層に形成される薄膜及び最外層から２層目に形成さ
れる薄膜の厚みｄf 、ｄ2 は以下の式が成り立つことが
理想である。
【００３６】ｎf ・ｄf ＝λ／４または３λ／４ ｎ2 ・ｄ2 ＝λ／４またはλ／２ 尚、ｎ2 ・ｄ2 ＝λ／４が成り立つ時は特定の波長λで
の透光率が最大となる。又、ｎ2 ・ｄ2 ＝λ／２が成り
立つ時は幅広い波長範囲での透光率が増加する。
の透光率が最大となる。又、ｎ2 ・ｄ2 ＝λ／２が成り
立つ時は幅広い波長範囲での透光率が増加する。
【００３７】このようにして得られる反射防止膜は、基
材の表面に防曇性および反射防止性を与える。形成され
た反射防止膜は、水および有機溶剤に不溶であり、且つ
高い表面硬度、耐摩耗性、耐候性を有する。
材の表面に防曇性および反射防止性を与える。形成され
た反射防止膜は、水および有機溶剤に不溶であり、且つ
高い表面硬度、耐摩耗性、耐候性を有する。
【００３８】また、膜厚は実用的には下記に示す範囲が
好ましい。
好ましい。
【００３９】０．０５λ＜ｎf ・ｄf ＜１．５λ ０．０５λ＜ｎ2 ・ｄ2 ＜１．５λ この反射防止膜は、低屈折率の表面側の防曇性膜と積層
する目的で気相法による所定の屈折率に形成した膜でも
良い。
する目的で気相法による所定の屈折率に形成した膜でも
良い。
【００４０】以下に、本発明を実施例に基づいて説明す
る。
る。
【００４１】（実施例１）表１のａに示す成分（各々、
重量部）に従って、ポリアクリル酸のメタノール溶液を
作成し、常温２５℃で３分間撹拌した。別途に表１のｂ
に示す成分（各々、重量部）に予め調整したアルミニウ
ムイソプロポキシド、塩酸、水、およびエタノール溶液
にエチルシリケート４０（コルコート社製）、シランカ
ップリング剤ＳＨ６０４０（東レダウコーニング社
製）、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンを加え、常温２
５℃で１０分間撹拌して得られた溶液を加え、常温２５
℃で２分間撹拌して、透明な塗工液を得た。
重量部）に従って、ポリアクリル酸のメタノール溶液を
作成し、常温２５℃で３分間撹拌した。別途に表１のｂ
に示す成分（各々、重量部）に予め調整したアルミニウ
ムイソプロポキシド、塩酸、水、およびエタノール溶液
にエチルシリケート４０（コルコート社製）、シランカ
ップリング剤ＳＨ６０４０（東レダウコーニング社
製）、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンを加え、常温２
５℃で１０分間撹拌して得られた溶液を加え、常温２５
℃で２分間撹拌して、透明な塗工液を得た。
【００４２】この塗工液に屈折率１．８３のレンズをデ
ィッピングし、毎分３０ｍｍの速度で引き上げ塗工し、
１５０℃で１０分間加熱乾燥した。
ィッピングし、毎分３０ｍｍの速度で引き上げ塗工し、
１５０℃で１０分間加熱乾燥した。
【００４３】塗工されたレンズの透光率を日立製作所製
Ｕ−４０００形自記分光光度計にて測定したところ、５
５０ｎｍの測定波長で９０％であった。
Ｕ−４０００形自記分光光度計にて測定したところ、５
５０ｎｍの測定波長で９０％であった。
【００４４】尚、レンズ上に塗工された塗工膜の屈折率
は１．４６であり光学的膜厚（幾何学的厚みに屈折率を
乗じた値）は０．５μｍであった。
は１．４６であり光学的膜厚（幾何学的厚みに屈折率を
乗じた値）は０．５μｍであった。
【００４５】次に、該レンズを０℃の恒温恒湿室にいれ
３０分間保持した後、２５℃、ＲＨ７５％の恒温恒湿室
に入れたところ全く曇りは見られなかった。
３０分間保持した後、２５℃、ＲＨ７５％の恒温恒湿室
に入れたところ全く曇りは見られなかった。
【００４６】
【００４７】（比較例１）実施例１に用いた屈折率１．
８３のレンズ単体の透光率を実施例１と同様に測定した
ところ５５０ｎｍの測定波長で８２％であった。
８３のレンズ単体の透光率を実施例１と同様に測定した
ところ５５０ｎｍの測定波長で８２％であった。
【００４８】次に、該レンズを０℃の恒温恒湿室にいれ
３０分間保持した後、２５℃、ＲＨ７５％の恒温恒湿室
に入れたところ曇りが生じた。
３０分間保持した後、２５℃、ＲＨ７５％の恒温恒湿室
に入れたところ曇りが生じた。
【００４９】（比較例２）実施例１の表１のａに示す成
分より、ポリアクリル酸（２５％溶液）のみを除き、表
１のｂの成分を加えたメタノール溶液を常温２５℃で１
０分間撹拌し、透明な塗工液を作成した。これに屈折率
１．８３のレンズをディッピングし、実施例１と同様の
塗工・乾燥工程を施し、当該レンズを０℃の恒温恒湿室
に３０分間保持した後、２５℃、ＲＨ７５％の恒温恒湿
室に入れたところ、直ちに曇りが生じた。
分より、ポリアクリル酸（２５％溶液）のみを除き、表
１のｂの成分を加えたメタノール溶液を常温２５℃で１
０分間撹拌し、透明な塗工液を作成した。これに屈折率
１．８３のレンズをディッピングし、実施例１と同様の
塗工・乾燥工程を施し、当該レンズを０℃の恒温恒湿室
に３０分間保持した後、２５℃、ＲＨ７５％の恒温恒湿
室に入れたところ、直ちに曇りが生じた。
【００５０】（実施例２）表２のａに示す成分（各々、
重量部）に従って、チタニウムテトライソプロポキシ
ド、塩酸、エタノールを混合し、常温２５℃で３分間撹
拌した。これに、別途に表２のｂに示す成分（各々、重
量部）に予め調整したシランカップリング剤ＳＨ６０４
０（東レダウコーニング社製）、２Ｎ−塩酸、Ｎ，Ｎ−
ジメチルベンジルアミンおよび水を加えた溶液を加え、
２分間常温で撹拌し、透明な塗工液を得た。
重量部）に従って、チタニウムテトライソプロポキシ
ド、塩酸、エタノールを混合し、常温２５℃で３分間撹
拌した。これに、別途に表２のｂに示す成分（各々、重
量部）に予め調整したシランカップリング剤ＳＨ６０４
０（東レダウコーニング社製）、２Ｎ−塩酸、Ｎ，Ｎ−
ジメチルベンジルアミンおよび水を加えた溶液を加え、
２分間常温で撹拌し、透明な塗工液を得た。
【００５１】上記塗工液に屈折率が１．５８のレンズを
ディッピングし、毎分３０ｍｍの速度で引き上げ塗工
し、１５０℃で１０分間加熱乾燥した。
ディッピングし、毎分３０ｍｍの速度で引き上げ塗工
し、１５０℃で１０分間加熱乾燥した。
【００５２】尚、この塗工膜の屈折率は１．７であり光
学的膜厚は０．６μｍであった。
学的膜厚は０．６μｍであった。
【００５３】
【００５４】次に表３のａに示す成分（各々、重量部）
に従って、ポリアクリル酸のメタノール溶液を作成し、
常温２５℃で３分間撹拌した。これに、別途に表３のｂ
に示す成分（各々、重量部）に予め調整したアルミニウ
ムイソプロポキシド、塩酸、水、およびエタノール溶液
にエチルシリケート４０（コルコート社製）、シランカ
ップリング剤ＳＨ６０４０（東レダウコーニング社
製）、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンを加え、常温２
５℃で１０分間撹拌して得られた溶液を加え、常温２５
℃で２分間撹拌して、透明な塗工液を得た。
に従って、ポリアクリル酸のメタノール溶液を作成し、
常温２５℃で３分間撹拌した。これに、別途に表３のｂ
に示す成分（各々、重量部）に予め調整したアルミニウ
ムイソプロポキシド、塩酸、水、およびエタノール溶液
にエチルシリケート４０（コルコート社製）、シランカ
ップリング剤ＳＨ６０４０（東レダウコーニング社
製）、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンを加え、常温２
５℃で１０分間撹拌して得られた溶液を加え、常温２５
℃で２分間撹拌して、透明な塗工液を得た。
【００５５】該塗工液に、前記最外層から２層目の膜を
施したレンズをディッピングし、毎分３０ｍｍの速度で
引き上げ、積層塗工し、１５０℃で１０分間加熱乾燥し
た。
施したレンズをディッピングし、毎分３０ｍｍの速度で
引き上げ、積層塗工し、１５０℃で１０分間加熱乾燥し
た。
【００５６】
【００５７】積層されたレンズの透光率を日立製作所製
Ｕ−４０００形自記分光光度計にて測定したところ、５
５０ｎｍの測定波長で９５％であった。
Ｕ−４０００形自記分光光度計にて測定したところ、５
５０ｎｍの測定波長で９５％であった。
【００５８】次に、該レンズを０℃の恒温恒湿室に入
れ、３０分保持した後、２５℃、ＲＨ７５％の恒温恒湿
室に入れたところ、全く曇りは見られなかった。
れ、３０分保持した後、２５℃、ＲＨ７５％の恒温恒湿
室に入れたところ、全く曇りは見られなかった。
【００５９】（実施例３）実施例１に記載の表１のａに
示す成分のポリアクリル酸をポリアクリル酸（数平均分
子量 １５０，０００）に変えたメタノール溶液を作成
し、常温２５℃で３分間撹拌した。次に予め調整した表
１のｂに示す成分を加え実施例１に従って処方し、透明
な塗工液を得た。
示す成分のポリアクリル酸をポリアクリル酸（数平均分
子量 １５０，０００）に変えたメタノール溶液を作成
し、常温２５℃で３分間撹拌した。次に予め調整した表
１のｂに示す成分を加え実施例１に従って処方し、透明
な塗工液を得た。
【００６０】この塗工液にスライドガラスをディッピン
グし、毎分３０ｍｍの温度で引き上げ塗工し、１５０℃
で１０分間加熱乾燥して反射防止層を形成した。
グし、毎分３０ｍｍの温度で引き上げ塗工し、１５０℃
で１０分間加熱乾燥して反射防止層を形成した。
【００６１】塗工されたスライドガラスを０℃の恒温恒
湿室に入れ、３０分間保持した後、２５℃、ＲＨ７５％
の恒温恒湿室に入れたところ曇りは見られなかった。
湿室に入れ、３０分間保持した後、２５℃、ＲＨ７５％
の恒温恒湿室に入れたところ曇りは見られなかった。
【００６２】（実施例４）下記表４のａに示す成分（各
々、重量部）に従って、ポリメタクリル酸のメタノール
溶液を作成し、常温２５℃で３分間撹拌した。別途に表
４のｂに示す成分（各々、重量部）に予め調整したアル
ミニウムイソプロポキシド、塩酸、水及びエタノール溶
液にエチルシリケート４０（コルコート社製）、シラン
カップリング剤ＳＨ６０４０（東レダウコーニング社
製）、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンを加え、常温２
５℃で１０分間撹拌して得られた溶液を加え、常温２５
℃で２分間撹拌して、透明な塗工液を得た。
々、重量部）に従って、ポリメタクリル酸のメタノール
溶液を作成し、常温２５℃で３分間撹拌した。別途に表
４のｂに示す成分（各々、重量部）に予め調整したアル
ミニウムイソプロポキシド、塩酸、水及びエタノール溶
液にエチルシリケート４０（コルコート社製）、シラン
カップリング剤ＳＨ６０４０（東レダウコーニング社
製）、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンを加え、常温２
５℃で１０分間撹拌して得られた溶液を加え、常温２５
℃で２分間撹拌して、透明な塗工液を得た。
【００６３】この塗工液にスライドガラスをディッピン
グし、毎分３０ｍｍの速度で引き上げ、塗工し、１５５
℃〜１６０℃で１０分間加熱乾燥して反射防止層を形成
した。
グし、毎分３０ｍｍの速度で引き上げ、塗工し、１５５
℃〜１６０℃で１０分間加熱乾燥して反射防止層を形成
した。
【００６４】次に、該スライドガラスを０℃の恒温恒湿
室に入れ、３０分間保持した後、２５℃、ＲＨ７５％の
恒温恒湿室に入れたところ全く曇りは見られなかった。
室に入れ、３０分間保持した後、２５℃、ＲＨ７５％の
恒温恒湿室に入れたところ全く曇りは見られなかった。
【００６５】
【００６６】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明による反
射防止膜は防曇性に優れ、また耐水性、耐摩耗性にも優
れる。
射防止膜は防曇性に優れ、また耐水性、耐摩耗性にも優
れる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｄ 183/04 ＰＭＵ Ｃ０９Ｄ 183/04 ＰＭＵ 185/00 ＰＭＷ 185/00 ＰＭＷ (72)発明者 山本 亨 滋賀県野洲郡野洲町大字大篠原６番地 株 式会社中戸研究所内 (72)発明者 吉田 重夫 滋賀県野洲郡野洲町大字大篠原６番地 株 式会社中戸研究所内 (72)発明者 井狩 初美 滋賀県野洲郡野洲町大字大篠原６番地 株 式会社中戸研究所内
Claims (15)
- 【請求項１】 基材の表面に形成される防曇性反射防止
膜において、該反射防止膜が、無機アルコキシドの加水
分解物の少なくとも重縮合反応をポリアクリル酸類の存
在下で生ぜしめて得られる組成物で形成されたものであ
ることを特徴とする防曇性反射防止膜。 - 【請求項２】 無機アルコキシドの加水分解反応および
無機アルコキシドの加水分解物の重縮合反応をポリアク
リル酸類の存在下で生ぜしめる請求項１の防曇性反射防
止膜。 - 【請求項３】 基材と防曇性反射防止膜が屈折率および
厚みについて次の関係にある請求項１の防曇性反射防止
膜。 ｎs ＞ｎf ０．０５λ＜ｎf ・ｄf ＜１．５λ ｎs ：基材の屈折率 ｎf ：最外層を形成する防曇性反射防止膜の屈折率 ｄf ：最外層を形成する防曇性反射防止膜の厚み λ ：光の波長（４００〜８３０ｎｍのある１波長） - 【請求項４】 無機アルコキシドが、次式（Ｉ）及び
（II）で示される化合物の少なくとも１種である、請求
項１の防曇性反射防止膜。 Ｍ（ＯＲ）a ……（Ｉ） Ｍ（ＯＲ）n （Ｘ）a-n ……（II） ここでＭは、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃａ、Ｆｅ、
Ｖ、Ｓｎ、Ｌｉ、Ｂｅ、Ｂ及びＰからなる群から選択さ
れる原子、Ｒは、アルキル基であり、Ｘはアルキル基、
官能基を有するアルキル基、またはハロゲン、ａは、Ｍ
の原子価、およびｎは、１からａまでの整数である。 - 【請求項５】 無機アルコキシドが、Ｓｉ（ＯＣ
2 Ｈ5 ）4 、Ａｌ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）3 、Ｔｉ
（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）4 、Ｚｒ（Ｏ−ｔ−Ｃ
4 Ｈ 9 ）4 、Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 、Ｃａ（ＯＣ
2 Ｈ5 ）2 、Ｆｅ（ＯＣ2 Ｈ 5 ）3 、Ｖ（Ｏ−ｉｓｏ−
Ｃ3 Ｈ7 ）4 、Ｓｎ（Ｏ−ｔ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 、Ｌｉ（Ｏ
Ｃ2 Ｈ5 ）、Ｂｅ（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 、Ｂ（ＯＣ2 Ｈ5 ）
3 、Ｐ（ＯＣ2 Ｈ5 ） 2 及びＰ（ＯＣＨ3 ）3 から選択
される少なくとも１種である、請求項４に記載の防曇性
反射防止膜。 - 【請求項６】 ポリアクリル酸類が、ポリアクリル酸、
ポリメタクリル酸、及びこれらの塩類から選択される少
なくとも１種である、請求項１の防曇性反射防止膜。 - 【請求項７】 請求項４に記載の無機アルコキシドと請
求項６に記載のポリアクリル酸類とを用いた請求項１の
防曇性反射防止膜。 - 【請求項８】 防曇性反射防止膜が２層構成になってお
り、該両層の屈折率および厚みの関係が次の通りになっ
ている請求項１の防曇性反射防止膜。 ｎ2 ＞ｎs ＞ｎf ０．０５λ＜ｎf ・ｄf ＜１．５λ ０．０５λ＜ｎ2 ・ｄ2 ＜１．５λ ｎs ：基材の屈折率 ｎf ：最外層を形成する防曇性反射防止膜の屈折率 ｄf ：最外層を形成する防曇性反射防止膜の厚み ｎ2 ：最外層から２層目を形成する反射防止膜の屈折率 ｄ2 ：最外層から２層目を形成する反射防止膜の厚み λ ：光の波長（４００〜８３０ｎｍのある１波長） - 【請求項９】 最外層から２層目を形成する反射防止膜
を形成するに用いる無機アルコキシドが、（Ｉ）及び
（II）で示される化合物の少なくとも１種である、請求
項８の防曇性反射防止膜。 Ｍ（ＯＲ）a ……（Ｉ） Ｍ（ＯＲ）n （Ｘ）a-n ……（II） ここでＭは、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃａ、Ｆｅ、
Ｖ、Ｓｎ、Ｌｉ、Ｂｅ、Ｂ及びＰからなる群から選択さ
れる原子、Ｒは、アルキル基であり、Ｘはアルキル基、
官能基を有するアルキル基、またはハロゲン、ａは、Ｍ
の原子価、およびｎは、１からａまでの整数である。 - 【請求項１０】 無機アルコキシドが、Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ
5 ）4 、Ａｌ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）3 、Ｔｉ（Ｏ−
ｉｓｏ−Ｃ3 Ｈ7 ）4 、Ｚｒ（Ｏ−ｔ−Ｃ4Ｈ9 ）4 お
よびＺｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ4 Ｈ9 ）4 の少なくとも１種であ
る、請求項９の防曇性反射防止膜。 - 【請求項１１】 無機アルコキシドの加水分解物の少な
くとも重縮合反応を、ポリアクリル酸類の存在下で生ぜ
しめて得られる組成物で形成された防曇性反射防止膜を
基材表面に有することを特徴とする光学部品。 - 【請求項１２】 基材が、レンズ、光学平行平板、ミラ
ー、およびプリズムから選ばれたものである請求項１１
の光学部品。 - 【請求項１３】 無機アルコキシド、無機アルコキシド
の加水分解物および該加水分解物の低分子量重縮合物の
少なくとも一方、ポリアクリル酸類、該加水分解物の重
縮合反応を促進させる触媒を含む反応溶液を基材表面に
塗布する工程および塗布膜を熱処理する工程を有するこ
とを特徴とする防曇性反射防止膜の製造方法。 - 【請求項１４】 触媒が、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルア
ミンである請求項１３の防曇性反射防止膜の製造方法。 - 【請求項１５】 熱処理が８０℃以上で行われる請求項
１３の防曇性反射防止膜の製造方法。
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