JP2003161805A - 光学物品、及び該光学物品を組み込んだ光学機器 - Google Patents
光学物品、及び該光学物品を組み込んだ光学機器Info
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- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
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- G—PHYSICS
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高屈折率ガラスレンズ・フィルターを用いた
場合も、防曇効果と反射防止性を兼ね備えた光学物品を
提供し、或は該光学物品を組み込んだ際に結露等が発生
することのない光学機器を提供する。 【解決手段】 光学物品の基材上に吸水性高分子を主成
分とする第１の吸水層と、その外層に位置する高屈折率
層、さらにその外側に第２の吸水層を有する防曇反射防
止光学物品において、前記第１の吸水層の吸水性高分子
に、ｎｄ＞１．７０の無機物質を混合し、光学物品基材
との屈折率差を小さくする。
場合も、防曇効果と反射防止性を兼ね備えた光学物品を
提供し、或は該光学物品を組み込んだ際に結露等が発生
することのない光学機器を提供する。 【解決手段】 光学物品の基材上に吸水性高分子を主成
分とする第１の吸水層と、その外層に位置する高屈折率
層、さらにその外側に第２の吸水層を有する防曇反射防
止光学物品において、前記第１の吸水層の吸水性高分子
に、ｎｄ＞１．７０の無機物質を混合し、光学物品基材
との屈折率差を小さくする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は防曇性と反射防止性
とを有する光学物品に関し、特に防曇性、反射防止性、
耐候性の優れた撮影レンズ、投影レンズ、フィルター、
ミラー等の光学物品、或はこのような光学物品を組み込
んだ電子写真機器等の光学機器に関する。
とを有する光学物品に関し、特に防曇性、反射防止性、
耐候性の優れた撮影レンズ、投影レンズ、フィルター、
ミラー等の光学物品、或はこのような光学物品を組み込
んだ電子写真機器等の光学機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、レンズ、フィルター、ミラー等の
くもり防止といえば、表面に界面活性剤を塗布する方法
が一般的である。また最近では、界面活性剤に変わっ
て、吸水性の物質をレンズ、フィルター、ミラー等の基
材に塗布成膜することにより、くもり防止を行うことも
知られている。また、従来、吸水性の物質といえば、天
然高分子類としては、デンプン−アクリロニトリルグラ
フト重合体加水分解物のようなデンプン系、セルロース
−アクリロニトリルグラフ卜重合体のようなセルロース
系、また合成高分子類としては、ポリビニルアルコール
架橋重合体のようなポリビニルアルコール系、ポリアク
リル酸ナトリウム架橋体のようなアクリル系、ポリエチ
レングリコール・ジアクリレート架橋重合体のようなポ
リエーテル系等が知られている。
くもり防止といえば、表面に界面活性剤を塗布する方法
が一般的である。また最近では、界面活性剤に変わっ
て、吸水性の物質をレンズ、フィルター、ミラー等の基
材に塗布成膜することにより、くもり防止を行うことも
知られている。また、従来、吸水性の物質といえば、天
然高分子類としては、デンプン−アクリロニトリルグラ
フト重合体加水分解物のようなデンプン系、セルロース
−アクリロニトリルグラフ卜重合体のようなセルロース
系、また合成高分子類としては、ポリビニルアルコール
架橋重合体のようなポリビニルアルコール系、ポリアク
リル酸ナトリウム架橋体のようなアクリル系、ポリエチ
レングリコール・ジアクリレート架橋重合体のようなポ
リエーテル系等が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
た従来の防曇性光学物品には、次のような点に問題があ
った。まず、くもり防止として界面活性剤を用いた場
合、その効果の持続力は極めて弱く、数時間、もしくは
数日で、再び界面活性剤を塗布しなければ、その効果を
持続することはできない。また、水等で光学物品の表面
の汚れをふいた場合、界面活性剤の膜がとれてしまい、
その効果がなくなってしまう。
た従来の防曇性光学物品には、次のような点に問題があ
った。まず、くもり防止として界面活性剤を用いた場
合、その効果の持続力は極めて弱く、数時間、もしくは
数日で、再び界面活性剤を塗布しなければ、その効果を
持続することはできない。また、水等で光学物品の表面
の汚れをふいた場合、界面活性剤の膜がとれてしまい、
その効果がなくなってしまう。
【０００４】また、くもり防止として種々の吸水性物質
を塗布成膜して防曇膜とした場合、その効果の持続性は
界面活性剤の場合と比較して格段に向上する。しかしな
がら、本発明者等の検討によれば、前記吸水性の物質を
防曇膜として用いる場合、その膜上に低屈折率物質層
を、反射防止効果を得るためにコートした場合、そのも
のの防曇性は損なわれる傾向にあることが判明した。ま
た、前記吸水性層を薄膜化し、その光学膜厚を反射防止
対象波長の１／４の奇数倍に調整し反射防止膜とした場
合、吸水性膜の厚みが薄すぎ、十分な防曇性を得られな
くなる傾向にある。
を塗布成膜して防曇膜とした場合、その効果の持続性は
界面活性剤の場合と比較して格段に向上する。しかしな
がら、本発明者等の検討によれば、前記吸水性の物質を
防曇膜として用いる場合、その膜上に低屈折率物質層
を、反射防止効果を得るためにコートした場合、そのも
のの防曇性は損なわれる傾向にあることが判明した。ま
た、前記吸水性層を薄膜化し、その光学膜厚を反射防止
対象波長の１／４の奇数倍に調整し反射防止膜とした場
合、吸水性膜の厚みが薄すぎ、十分な防曇性を得られな
くなる傾向にある。
【０００５】上記の課題を解決するために、本発明者等
は吸水性膜上に屈折率の異なる膜を形成し、反射防止膜
を形成することを特開平１１−１０９１０５号公報等で
提案している。しかし、上記構成はｎｄ＝１．５０前後
の屈折率のレンズ、およびフィルターを用いた場合は問
題無いが屈折率の高いガラス基材（ｎｄ＞１．６０）を
用いた場合、若干の膜厚の差で吸水膜と基材との干渉縞
が目立ち、外観上の不良が観察される。
は吸水性膜上に屈折率の異なる膜を形成し、反射防止膜
を形成することを特開平１１−１０９１０５号公報等で
提案している。しかし、上記構成はｎｄ＝１．５０前後
の屈折率のレンズ、およびフィルターを用いた場合は問
題無いが屈折率の高いガラス基材（ｎｄ＞１．６０）を
用いた場合、若干の膜厚の差で吸水膜と基材との干渉縞
が目立ち、外観上の不良が観察される。
【０００６】そこで、本発明は、上記課題を解決し、高
屈折率ガラスレンズ・フィルターを用いた場合も、防曇
効果と反射防止性を兼ね備えた光学物品を提供し、或は
該光学物品を組み込んだ際に結露等が発生することのな
い光学機器を提供することを目的とするものである。
屈折率ガラスレンズ・フィルターを用いた場合も、防曇
効果と反射防止性を兼ね備えた光学物品を提供し、或は
該光学物品を組み込んだ際に結露等が発生することのな
い光学機器を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を達成するた
め、本発明の光学物品は、光学素子と、前記光学素子の
上に形成した、吸水性高分子を有する第１の吸水層とを
備える光学物品であって、前記第１の吸水層の吸水性高
分子に、前記吸水性高分子よりも屈折率の高い無機物質
を混合したことを特徴としている。
め、本発明の光学物品は、光学素子と、前記光学素子の
上に形成した、吸水性高分子を有する第１の吸水層とを
備える光学物品であって、前記第１の吸水層の吸水性高
分子に、前記吸水性高分子よりも屈折率の高い無機物質
を混合したことを特徴としている。
【０００８】ここで、前記無機物質が、無機微粒子であ
ることが好ましく、またこの無機微粒子がＳｉＯ２微粒
子またはＴｉＯ２微粒子であると尚好ましい。さらに、
この無機微粒子が、微粒子のまま前記第１の吸水層中に
混合されており、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下の径を有する
微粒子として前記第１の吸水層中に含まれていると尚良
い。また、第１の吸水層に混合される無機物質の割合
が、１０〜４０ｗ％であるとよい。また、この無機物質
の屈折率ｎｄが１．７０より大きいと尚良い。
ることが好ましく、またこの無機微粒子がＳｉＯ２微粒
子またはＴｉＯ２微粒子であると尚好ましい。さらに、
この無機微粒子が、微粒子のまま前記第１の吸水層中に
混合されており、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下の径を有する
微粒子として前記第１の吸水層中に含まれていると尚良
い。また、第１の吸水層に混合される無機物質の割合
が、１０〜４０ｗ％であるとよい。また、この無機物質
の屈折率ｎｄが１．７０より大きいと尚良い。
【０００９】また、前記第１の吸水層の厚さが１μｍ以
上２０μｍ以下であるとさらに好ましい。
上２０μｍ以下であるとさらに好ましい。
【００１０】また、前記第１の吸水層の上に、高屈折率
層と、該高屈折率層の上に吸水性高分子を含む第２の吸
水層とを有することが好ましい。前記第２の吸水層が前
記無機物質を含んでいることが好ましい。ここで、前記
第２の吸水層の膜厚が１μｍ未満であり、前記第２の吸
水層の膜厚が２００ｎｍ未満であることが好ましい。こ
こで、前記高屈折率層と前記第２の吸水層を１単位とす
る反射防止層を、複数回積層して光学物品を構成しても
良い。
層と、該高屈折率層の上に吸水性高分子を含む第２の吸
水層とを有することが好ましい。前記第２の吸水層が前
記無機物質を含んでいることが好ましい。ここで、前記
第２の吸水層の膜厚が１μｍ未満であり、前記第２の吸
水層の膜厚が２００ｎｍ未満であることが好ましい。こ
こで、前記高屈折率層と前記第２の吸水層を１単位とす
る反射防止層を、複数回積層して光学物品を構成しても
良い。
【００１１】また、前記第１の吸水層と前記光学物品の
基材との屈折率差が、０．０５以下であることが好まし
く、さらに好ましくは０．０２以下であることが好まし
い。
基材との屈折率差が、０．０５以下であることが好まし
く、さらに好ましくは０．０２以下であることが好まし
い。
【００１２】また、前記物品が反射防止特性を有するよ
うに構成するのが好ましい。
うに構成するのが好ましい。
【００１３】また、本発明の光学機器は、前述の光学物
品を備えるのが好ましく、また、前記光学物品が外部に
露出していると、本発明の効果が高まる。また、前記光
学機器が撮像装置であって、該撮像装置が、撮像光学系
とファインダー光学系とを有しており、前記ファインダ
ー光学系が、前記光学物品を有するようにしても良い。
また、前記光学物品が前記ファインダー光学系の接眼レ
ンズであっても構わない。
品を備えるのが好ましく、また、前記光学物品が外部に
露出していると、本発明の効果が高まる。また、前記光
学機器が撮像装置であって、該撮像装置が、撮像光学系
とファインダー光学系とを有しており、前記ファインダ
ー光学系が、前記光学物品を有するようにしても良い。
また、前記光学物品が前記ファインダー光学系の接眼レ
ンズであっても構わない。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態においては、
上記構成を適用し、光学物品基材（基板）側に形成する
第１の吸水層の材料である吸水性高分子に基板材料より
も屈折率の高い（好ましくは屈折率ｎｄ＞１．７０）無
機微粒子を混合し、光学物品の基材との屈折率差を小さ
くすることによって、上記した本発明の課題を達成する
ことが可能となる。すなわち、第１の吸水層の吸水性高
分子と高屈折率の無機微粒子を混合した物質を用いるこ
とにより、光学物品基材と第１の吸水層との屈折率差を
小さくすることができ、これによって光学物品基材と吸
水層（吸水膜）の屈折率差による（屈折率差が大きいた
めに生じる反射に基づく）干渉縞の発生を抑えることが
可能となる。その際、無機微粒子の屈折率が１．７０以
上であり、光学物品基材と第１の吸水層の屈折率の差が
０．０２以下であれば、屈折率が１．６０以上の高屈折
率レンズ、および、フィルターを用いた場合も、第１の
吸水層の膜厚ムラによる光学物品で発生する干渉縞が観
測されなくなる。
上記構成を適用し、光学物品基材（基板）側に形成する
第１の吸水層の材料である吸水性高分子に基板材料より
も屈折率の高い（好ましくは屈折率ｎｄ＞１．７０）無
機微粒子を混合し、光学物品の基材との屈折率差を小さ
くすることによって、上記した本発明の課題を達成する
ことが可能となる。すなわち、第１の吸水層の吸水性高
分子と高屈折率の無機微粒子を混合した物質を用いるこ
とにより、光学物品基材と第１の吸水層との屈折率差を
小さくすることができ、これによって光学物品基材と吸
水層（吸水膜）の屈折率差による（屈折率差が大きいた
めに生じる反射に基づく）干渉縞の発生を抑えることが
可能となる。その際、無機微粒子の屈折率が１．７０以
上であり、光学物品基材と第１の吸水層の屈折率の差が
０．０２以下であれば、屈折率が１．６０以上の高屈折
率レンズ、および、フィルターを用いた場合も、第１の
吸水層の膜厚ムラによる光学物品で発生する干渉縞が観
測されなくなる。
【００１５】これにより、防曇効果と反射防止性を兼ね
備え、高屈折率ガラスを用いた光学物品、及び上記光学
物品を組み込んだ際、結露等の発生のない光学機器を提
供することができる。
備え、高屈折率ガラスを用いた光学物品、及び上記光学
物品を組み込んだ際、結露等の発生のない光学機器を提
供することができる。
【００１６】ここでは、無機微粒子は、微粒子のまま膜
中に存在するようにする。この無機微粒子は、３ｎｍ〜
３０ｎｍ程度の径、もしくは、５ｎｍ〜２０ｎｍの径の
微粒子として存在しているとのが好ましい。
中に存在するようにする。この無機微粒子は、３ｎｍ〜
３０ｎｍ程度の径、もしくは、５ｎｍ〜２０ｎｍの径の
微粒子として存在しているとのが好ましい。
【００１７】本発明の上記構成において、吸水性膜の原
料となる吸水性高分子としては、以下に示す従来公知の
各種高分子が利用可能である。すなわち、天然高分子の
誘導体としてはデンプン−アクリルニトリルグラフト重
合体加水分解物の様なデンプン系、セルロース−アクリ
ルニトリルグラフト重合体加水分解物の様なセルロース
系があり、合成高分子類としてはポリビニールアルコー
ル架橋重合体の様なポリビニールアルコール系、ポリア
クリル酸ナトリウム架橋体の様なアクリル系、ポリエチ
レングリコール・ジアクリレート架橋重合体の様なポリ
エーテル系等がある。中でもポリアクリル酸類やポリビ
ニールアルコール等の高吸水性物質が好適に用いられ
る。
料となる吸水性高分子としては、以下に示す従来公知の
各種高分子が利用可能である。すなわち、天然高分子の
誘導体としてはデンプン−アクリルニトリルグラフト重
合体加水分解物の様なデンプン系、セルロース−アクリ
ルニトリルグラフト重合体加水分解物の様なセルロース
系があり、合成高分子類としてはポリビニールアルコー
ル架橋重合体の様なポリビニールアルコール系、ポリア
クリル酸ナトリウム架橋体の様なアクリル系、ポリエチ
レングリコール・ジアクリレート架橋重合体の様なポリ
エーテル系等がある。中でもポリアクリル酸類やポリビ
ニールアルコール等の高吸水性物質が好適に用いられ
る。
【００１８】ここで用いられるポリアクリル酸類として
は、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリル
アミド、これらの塩類（ポリアクリル酸カリウム、ポリ
アクリル酸ナトリウムなど）が挙げられ、好ましくはポ
リアクリル酸、及びポリメタクリル酸が用いられる。こ
の吸水性膜の原料にｎｄ＞１．７無機微粒子を混合し、
基材との屈折率差を±０．０５以下にすることが望まし
い（これにより干渉縞はほとんど目立たない）。
は、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリル
アミド、これらの塩類（ポリアクリル酸カリウム、ポリ
アクリル酸ナトリウムなど）が挙げられ、好ましくはポ
リアクリル酸、及びポリメタクリル酸が用いられる。こ
の吸水性膜の原料にｎｄ＞１．７無機微粒子を混合し、
基材との屈折率差を±０．０５以下にすることが望まし
い（これにより干渉縞はほとんど目立たない）。
【００１９】更に、この吸水性膜の原料に屈折率ｎｄが
１．７より大きい無機微粒子を混合し、基材との屈折率
差を０．０２以下であるように構成することが望ましい
（これにより特開平１１−１０９１０５号公報における
ｎｄ＝１．５２ガラス基材を用いた場合と同程度にな
る）。ここでは一般的に入手が可能であり、屈折率の高
い（ｎｄ＝２．３粒径１０ｎｍ）ＴｉＯ２微粒子を用い
た。勿論他の無機微粒子を用いても構わない。
１．７より大きい無機微粒子を混合し、基材との屈折率
差を０．０２以下であるように構成することが望ましい
（これにより特開平１１−１０９１０５号公報における
ｎｄ＝１．５２ガラス基材を用いた場合と同程度にな
る）。ここでは一般的に入手が可能であり、屈折率の高
い（ｎｄ＝２．３粒径１０ｎｍ）ＴｉＯ２微粒子を用い
た。勿論他の無機微粒子を用いても構わない。
【００２０】ここで第１の吸水膜の膜厚は吸水量を多く
し、防曇性を高める点で１μｍ以上が好ましい。また、
過度の吸水で吸水性膜の膨張が大きくなり過ぎないよ
う、２０μｍ以下の膜厚が好ましい。さらに好ましく
は、２μｍ以上８μｍ以下とすると良い。
し、防曇性を高める点で１μｍ以上が好ましい。また、
過度の吸水で吸水性膜の膨張が大きくなり過ぎないよ
う、２０μｍ以下の膜厚が好ましい。さらに好ましく
は、２μｍ以上８μｍ以下とすると良い。
【００２１】また、高屈折率層は上記、金属アルコキシ
ドが溶質の主成分とする溶液に吸水膜を含む基材を浸漬
して、引き上げることにより溶液をコーティングした
後、焼成することにより得られる。
ドが溶質の主成分とする溶液に吸水膜を含む基材を浸漬
して、引き上げることにより溶液をコーティングした
後、焼成することにより得られる。
【００２２】金属アルコキシドとしては次式（１）、
（２）で示される化合物が挙げられる。
（２）で示される化合物が挙げられる。
【００２３】Ｍ（ＯＲ）ａ・・・（１）
および
Ｍ（ＯＲ）ｎ（Ｘ）ａ−ｎ・・・（２）
ここでのＭは、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃａ、Ｆｅ、
Ｖ、Ｓｎ、Ｌｉ、Ｂｅ、ＢおよびＰからなる群から選択
される原子であり、Ｒはアルキル基であり、アルキル
基、官能基を有すアルキル基、またはハロゲンであり、
ａは、Ｍの原子価であり、そしてｎは１からａまでの整
数である。
Ｖ、Ｓｎ、Ｌｉ、Ｂｅ、ＢおよびＰからなる群から選択
される原子であり、Ｒはアルキル基であり、アルキル
基、官能基を有すアルキル基、またはハロゲンであり、
ａは、Ｍの原子価であり、そしてｎは１からａまでの整
数である。
【００２４】上記、Ｘとしてはカルボニル基、カルボキ
シル基、アミノ基、ビニル基、またはエポキシ基を有す
るアルキル基が好適である。
シル基、アミノ基、ビニル基、またはエポキシ基を有す
るアルキル基が好適である。
【００２５】特に好適な無機アルコキシドとしてはＳｉ
（ＯＣ２Ｈ５）４、Ａｌ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ３Ｈ７）３、
Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ３Ｈ７）４、Ｚｒ（Ｏ−ｔ−Ｃ４
Ｈ９）４、Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ４Ｈ９）４、Ｃａ（ＯＣ２
Ｈ５）２、Ｆｅ（ＯＣ２Ｈ５）３、Ｖ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ
３Ｈ７）４、Ｓｎ（Ｏ−ｔ−Ｃ４Ｈ９）４、Ｌｉ（ＯＣ
２Ｈ５）、Ｂｅ（ＯＣ２Ｈ５）２、Ｂ（ＯＣ
２Ｈ５）３、Ｐ（ＯＣ２Ｈ５）２、およびＰ（ＯＣ
Ｈ３）３などが挙げられるが、防曇反射防止光学物品の
反射率を低減する為には、高屈折率薄膜の屈折率が１．
６８以上であることが好ましく、その為には特に、Ａｌ
（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ３Ｈ７）３、Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ３
Ｈ７）４、Ｚｒ（Ｏ−ｔ−Ｃ４Ｈ９）４、Ｚｒ（Ｏ−ｎ
−Ｃ４Ｈ９）４、Ｓｎ（Ｏ−ｔ−Ｃ４Ｈ９）４が好適で
ある。
（ＯＣ２Ｈ５）４、Ａｌ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ３Ｈ７）３、
Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ３Ｈ７）４、Ｚｒ（Ｏ−ｔ−Ｃ４
Ｈ９）４、Ｚｒ（Ｏ−ｎ−Ｃ４Ｈ９）４、Ｃａ（ＯＣ２
Ｈ５）２、Ｆｅ（ＯＣ２Ｈ５）３、Ｖ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ
３Ｈ７）４、Ｓｎ（Ｏ−ｔ−Ｃ４Ｈ９）４、Ｌｉ（ＯＣ
２Ｈ５）、Ｂｅ（ＯＣ２Ｈ５）２、Ｂ（ＯＣ
２Ｈ５）３、Ｐ（ＯＣ２Ｈ５）２、およびＰ（ＯＣ
Ｈ３）３などが挙げられるが、防曇反射防止光学物品の
反射率を低減する為には、高屈折率薄膜の屈折率が１．
６８以上であることが好ましく、その為には特に、Ａｌ
（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ３Ｈ７）３、Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｃ３
Ｈ７）４、Ｚｒ（Ｏ−ｔ−Ｃ４Ｈ９）４、Ｚｒ（Ｏ−ｎ
−Ｃ４Ｈ９）４、Ｓｎ（Ｏ−ｔ−Ｃ４Ｈ９）４が好適で
ある。
【００２６】この様な手法を用いて作成した防曇反射防
止光学物品は防曇性を有し、かつ反射防止性かつ干渉に
よる外観上の不良を無くしたものである。
止光学物品は防曇性を有し、かつ反射防止性かつ干渉に
よる外観上の不良を無くしたものである。
【００２７】また、本発明における防曇反射防止光学物
品は防曇性と優れた光透過性を備えたものであり、水分
の結露により曇りの発生する様々な屈折率のレンズを用
いた光学物品に対して、その適用が可能となるものであ
る。
品は防曇性と優れた光透過性を備えたものであり、水分
の結露により曇りの発生する様々な屈折率のレンズを用
いた光学物品に対して、その適用が可能となるものであ
る。
【００２８】
【実施例】以下に、本発明の実施例について説明する。
【００２９】［実施例１］実施例１においては、ポリビ
ニールアルコール（数平均重合度２０００、けん化度８
８ｍｏｌ％）１０重量部を水１００重量部に加熱溶解し
た溶液を作成する。その溶液に、ヘキサメトキシメチロ
ールメラニン０．５重量部、パラトルエンスルホン酸ア
ンモニウム０．０５重量部、２，２´，４，４´−テト
ラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部をメタノール
９６重量部に溶解した溶液を加え、室温３０分撹拌して
防曇性塗膜溶液を作成し、この防曇性と膜溶液に２０ｗ
％ＴｉＯ２微粒子（ｎｄ＝２．３粒径１０ｎｍ）含有メ
タノール溶液を７．５重量部混合し、全固形分濃度に対
する無機微粒子の割合を１３ｗ％とした。
ニールアルコール（数平均重合度２０００、けん化度８
８ｍｏｌ％）１０重量部を水１００重量部に加熱溶解し
た溶液を作成する。その溶液に、ヘキサメトキシメチロ
ールメラニン０．５重量部、パラトルエンスルホン酸ア
ンモニウム０．０５重量部、２，２´，４，４´−テト
ラヒドロキシベンゾフェノン０．３重量部をメタノール
９６重量部に溶解した溶液を加え、室温３０分撹拌して
防曇性塗膜溶液を作成し、この防曇性と膜溶液に２０ｗ
％ＴｉＯ２微粒子（ｎｄ＝２．３粒径１０ｎｍ）含有メ
タノール溶液を７．５重量部混合し、全固形分濃度に対
する無機微粒子の割合を１３ｗ％とした。
【００３０】ディップコート法により厚さ１ｍｍの高屈
折率ガラス（ＰＢＭ２：ｎｄ＝１．６２オハラ製）のフ
ィルター（基板）に塗装し、１５０℃で１５分間、乾
燥、硬化させて、フィルター上に膜厚４μｍを吸収層を
両面に形成した。
折率ガラス（ＰＢＭ２：ｎｄ＝１．６２オハラ製）のフ
ィルター（基板）に塗装し、１５０℃で１５分間、乾
燥、硬化させて、フィルター上に膜厚４μｍを吸収層を
両面に形成した。
【００３１】この後、７．５ｇのチタンテトライソプロ
ポキシド〔Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｐｒ）４Ｐｒ：Ｃ
３Ｈ７〕を酢酸イソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、
２規定のＨＣｌ ０．５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇの
ｉ−プロパノール中に溶かし溶液をさらに１００ｇの酢
酸イソブチルに混ぜた溶液を加えて室温で２４時間撹拌
し加水分解率を０．７５に調整した高屈折率層形成溶液
に上記吸水層を浸漬し、ディップコート法により引き上
げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５
分間で焼成し、高屈折率層を形成した。
ポキシド〔Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｐｒ）４Ｐｒ：Ｃ
３Ｈ７〕を酢酸イソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、
２規定のＨＣｌ ０．５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇの
ｉ−プロパノール中に溶かし溶液をさらに１００ｇの酢
酸イソブチルに混ぜた溶液を加えて室温で２４時間撹拌
し加水分解率を０．７５に調整した高屈折率層形成溶液
に上記吸水層を浸漬し、ディップコート法により引き上
げ速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５
分間で焼成し、高屈折率層を形成した。
【００３２】そして、高屈折率層の上に形成する層（ト
ップ層）は上記防曇性塗膜溶液を、メタノール、水を
１：１の割合混ぜた溶液で希釈して粘度１４ｃｐになる
ように調整した溶液を上記の高屈折率層上にディップコ
ート法により塗布した後、１５０℃で１５分間で焼成し
１１０ｎｍの膜厚に調整した。これで防曇膜の作成は終
了した。
ップ層）は上記防曇性塗膜溶液を、メタノール、水を
１：１の割合混ぜた溶液で希釈して粘度１４ｃｐになる
ように調整した溶液を上記の高屈折率層上にディップコ
ート法により塗布した後、１５０℃で１５分間で焼成し
１１０ｎｍの膜厚に調整した。これで防曇膜の作成は終
了した。
【００３３】このように作成した防曇膜を有する光学物
品の防曇特性を、防曇特性は室温（温度３０℃、湿度８
０％）の雰囲気中で息をかけて曇りを見る（評価法１）
方法と、２．５℃から室温（温度３０℃、湿度８０％）
に出しても曇りをみる（評価法２）方法とで評価した。
品の防曇特性を、防曇特性は室温（温度３０℃、湿度８
０％）の雰囲気中で息をかけて曇りを見る（評価法１）
方法と、２．５℃から室温（温度３０℃、湿度８０％）
に出しても曇りをみる（評価法２）方法とで評価した。
【００３４】上述の実施例１で作成した光学物品は、評
価法１及び２において、共に「変化がない」という結果
を得た。
価法１及び２において、共に「変化がない」という結果
を得た。
【００３５】次に、第１の吸水層の屈折率は、Ｓ−ＢＳ
Ｌ７基材（オハラ製）上に第１の吸水層のみを形成し、
分光エリプソメーター（ＷＶＡＳＥ：Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌ
ｌａｍＣｏ．，Ｉｎｃ製）により測定を行った。ｎｄ＝
１．５６となり、基材との屈折率の差は０．０７であっ
た（図１）。
Ｌ７基材（オハラ製）上に第１の吸水層のみを形成し、
分光エリプソメーター（ＷＶＡＳＥ：Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌ
ｌａｍＣｏ．，Ｉｎｃ製）により測定を行った。ｎｄ＝
１．５６となり、基材との屈折率の差は０．０７であっ
た（図１）。
【００３６】反射率は、分光測定器（Ｕ４０００：日立
製作所製）に測定を行った。その測定値を図２（グラフ
１）に示す。反射防止性能は、反射率が最低となる５０
０ｎｍの波長付近の光に対し反射率が０．０３３程にな
る（図１）。６００ｎｍ付近の反射率特性を測定すると
その振幅特性は０．００６程度になり、後述の比較例１
と比較すると、光学フィルター全体の干渉縞が小さくな
っていることが分かる（図１）。また、比較例１と比較
すると、反射率が低い（反射防止特性が良い）ことが良
いことが分かる。
製作所製）に測定を行った。その測定値を図２（グラフ
１）に示す。反射防止性能は、反射率が最低となる５０
０ｎｍの波長付近の光に対し反射率が０．０３３程にな
る（図１）。６００ｎｍ付近の反射率特性を測定すると
その振幅特性は０．００６程度になり、後述の比較例１
と比較すると、光学フィルター全体の干渉縞が小さくな
っていることが分かる（図１）。また、比較例１と比較
すると、反射率が低い（反射防止特性が良い）ことが良
いことが分かる。
【００３７】（比較例１）比較例１においては、ポリビ
ニールアルコール（数平均重合度２０００、けん化度８
８ｍｏｌ％）１０重量部を水１００重量部に加熱溶解し
た溶液に、ヘキサメトキシメチロールメラニン０．５重
量部、パラトルエンスルホン酸アンモニウム０．０５重
量部、２，２´，４，４´−テトラヒドロキシベンゾフ
ェノン０．３重量部をメタノール１００重量部に溶解し
た溶液を加え、室温３０分撹拌し、防曇性塗膜溶液し
た。実施例１とは異なり、ＴｉＯ２微粒子を一切、混入
しなかった。
ニールアルコール（数平均重合度２０００、けん化度８
８ｍｏｌ％）１０重量部を水１００重量部に加熱溶解し
た溶液に、ヘキサメトキシメチロールメラニン０．５重
量部、パラトルエンスルホン酸アンモニウム０．０５重
量部、２，２´，４，４´−テトラヒドロキシベンゾフ
ェノン０．３重量部をメタノール１００重量部に溶解し
た溶液を加え、室温３０分撹拌し、防曇性塗膜溶液し
た。実施例１とは異なり、ＴｉＯ２微粒子を一切、混入
しなかった。
【００３８】そして、ディップコート法により厚さ１ｍ
ｍの高屈折率ガラス（ＰＢＭ２：ｎｄ＝１．６２オハラ
製）のフィルターに塗装し、１５０℃で１５分間、乾
燥、硬化させることにより、膜厚４μｍの吸収層を前述
の高屈折率ガラスの両面に形成した。
ｍの高屈折率ガラス（ＰＢＭ２：ｎｄ＝１．６２オハラ
製）のフィルターに塗装し、１５０℃で１５分間、乾
燥、硬化させることにより、膜厚４μｍの吸収層を前述
の高屈折率ガラスの両面に形成した。
【００３９】その後、７．５ｇのチタンテトライソプロ
ポキシド〔Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｐｒ）４Ｐｒ：Ｃ
３Ｈ７〕を酢酸イソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、
２規定のＨＣｌ ０．５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇの
ｉ−プロパノール中に溶かし溶液をさらに１００ｇの酢
酸イソブチルに混ぜた溶液を加えて室温で２４時間撹拌
し加水分解率を０．７５に調整した高屈折率層形成溶液
に上記吸水層を浸漬しディップコート法により引き上げ
速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分
間で焼成し、高屈折率層を形成した。
ポキシド〔Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｐｒ）４Ｐｒ：Ｃ
３Ｈ７〕を酢酸イソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、
２規定のＨＣｌ ０．５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇの
ｉ−プロパノール中に溶かし溶液をさらに１００ｇの酢
酸イソブチルに混ぜた溶液を加えて室温で２４時間撹拌
し加水分解率を０．７５に調整した高屈折率層形成溶液
に上記吸水層を浸漬しディップコート法により引き上げ
速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分
間で焼成し、高屈折率層を形成した。
【００４０】そして、トップ層は上記防曇性塗膜溶液
を、メタノール、水を１：１の割合混ぜた溶液で希釈し
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記、高屈折率層上にデ
ィップコート法により塗布した後、１５０℃で１５分間
で焼成し１１０ｎｍの膜厚に調整した。
を、メタノール、水を１：１の割合混ぜた溶液で希釈し
粘度１４ｃｐに調整した溶液を上記、高屈折率層上にデ
ィップコート法により塗布した後、１５０℃で１５分間
で焼成し１１０ｎｍの膜厚に調整した。
【００４１】この比較例１で作成した光学物品の防曇特
性を前述の評価法１及び２により評価した。その結果、
評価方及び２共に「変化がない。」という結果を得られ
た。
性を前述の評価法１及び２により評価した。その結果、
評価方及び２共に「変化がない。」という結果を得られ
た。
【００４２】第１の吸水層の屈折率は、Ｓ−ＢＳＬ７基
材（オハラ製）上に第１の吸水層のみを形成し、分光エ
リプソメーター（ＷＶＡＳＥ：Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ
Ｃｏ．，Ｉｎｃ製）により測定を行った。ｎｄ＝１．５
１４となり、基材との屈折率の差は０．１０であった
（図１）。
材（オハラ製）上に第１の吸水層のみを形成し、分光エ
リプソメーター（ＷＶＡＳＥ：Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ
Ｃｏ．，Ｉｎｃ製）により測定を行った。ｎｄ＝１．５
１４となり、基材との屈折率の差は０．１０であった
（図１）。
【００４３】反射率は、分光測定器（Ｕ４０００：日立
製作所製）に測定を行った。その測定値を図２（グラフ
１）に示す。反射防止性能は、反射率が最低となる５０
０ｎｍの波長付近の光に対し反射率が０．０３３程にな
る（図１）。６００ｎｍ付近の反射率特性を測定すると
その振幅特性は０．０１２程度になり、光学フィルター
全体の干渉縞（特に周辺部）による不良が目立った（図
１）。
製作所製）に測定を行った。その測定値を図２（グラフ
１）に示す。反射防止性能は、反射率が最低となる５０
０ｎｍの波長付近の光に対し反射率が０．０３３程にな
る（図１）。６００ｎｍ付近の反射率特性を測定すると
その振幅特性は０．０１２程度になり、光学フィルター
全体の干渉縞（特に周辺部）による不良が目立った（図
１）。
【００４４】［実施例２］実施例２においては、ポリビ
ニルアルコール（数平均重合度２０００、けん化度８８
ｍｏｌ％）１０重量部を水１００重量部に加熱溶解した
溶液に、ヘキサメトキシメチロールメラニン０．５重量
部、パラトルエンスルホン酸アンモニウム０．０５重量
部、２，２´，４，４´−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン０．３重量部をメタノール８７重量部に溶解した溶
液を加えた後、室温３０分撹拌して防曇性塗膜溶液を作
成した。この防曇性塗膜溶液に２０ｗ％ＴｉＯ２微粒子
（ｎｄ＝２．３粒径１０ｎｍ）含有メタノール溶液を、
実施例１と異なり、１５．８重量部混合し、全固形分濃
度に対する無機微粒子の割合が２３ｗ％になるようにし
た。
ニルアルコール（数平均重合度２０００、けん化度８８
ｍｏｌ％）１０重量部を水１００重量部に加熱溶解した
溶液に、ヘキサメトキシメチロールメラニン０．５重量
部、パラトルエンスルホン酸アンモニウム０．０５重量
部、２，２´，４，４´−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン０．３重量部をメタノール８７重量部に溶解した溶
液を加えた後、室温３０分撹拌して防曇性塗膜溶液を作
成した。この防曇性塗膜溶液に２０ｗ％ＴｉＯ２微粒子
（ｎｄ＝２．３粒径１０ｎｍ）含有メタノール溶液を、
実施例１と異なり、１５．８重量部混合し、全固形分濃
度に対する無機微粒子の割合が２３ｗ％になるようにし
た。
【００４５】そして、ディップコート法により厚さ１ｍ
ｍの高屈折率ガラス（ＰＢＭ２：ｎｄ＝１．６２オハラ
製）のフィルターに塗装し、１５０℃で１５分間、乾
燥、硬化させて、膜厚４μｍを吸収層を高屈折率ガラス
の両面に形成した。
ｍの高屈折率ガラス（ＰＢＭ２：ｎｄ＝１．６２オハラ
製）のフィルターに塗装し、１５０℃で１５分間、乾
燥、硬化させて、膜厚４μｍを吸収層を高屈折率ガラス
の両面に形成した。
【００４６】その後、７．５ｇのチタンテトライソプロ
ポキシド〔Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｐｒ）４Ｐｒ：Ｃ
３Ｈ７〕を酢酸イソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、
２規定のＨＣｌ ０．５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇの
ｉ−プロパノール中に溶かし溶液をさらに１００ｇの酢
酸イソブチルに混ぜた溶液を加えて室温で２４時間撹拌
し加水分解率を０．７５に調整した高屈折率層形成溶液
に上記吸水層を浸漬しディップコート法により引き上げ
速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分
間で焼成し、高屈折率層を形成した。
ポキシド〔Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｐｒ）４Ｐｒ：Ｃ
３Ｈ７〕を酢酸イソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、
２規定のＨＣｌ ０．５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇの
ｉ−プロパノール中に溶かし溶液をさらに１００ｇの酢
酸イソブチルに混ぜた溶液を加えて室温で２４時間撹拌
し加水分解率を０．７５に調整した高屈折率層形成溶液
に上記吸水層を浸漬しディップコート法により引き上げ
速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分
間で焼成し、高屈折率層を形成した。
【００４７】そして、高屈折率層の上の層（トップ層）
は上記防曇性塗膜溶液を、メタノール、水を１：１の割
合混ぜた溶液で希釈し粘度１４ｃｐに調整した溶液を上
記、高屈折率層上にディップコート法により塗布した
後、１５０℃で１５分間で焼成し１０５ｎｍの膜厚にな
るように調整した。
は上記防曇性塗膜溶液を、メタノール、水を１：１の割
合混ぜた溶液で希釈し粘度１４ｃｐに調整した溶液を上
記、高屈折率層上にディップコート法により塗布した
後、１５０℃で１５分間で焼成し１０５ｎｍの膜厚にな
るように調整した。
【００４８】この比較例１で作成した光学物品の防曇特
性を前述の評価法１及び２により評価した。その結果、
評価方及び２共に「変化がない。」という結果を得られ
た。
性を前述の評価法１及び２により評価した。その結果、
評価方及び２共に「変化がない。」という結果を得られ
た。
【００４９】第１の吸水層の屈折率は、Ｓ−ＢＳＬ７基
材（オハラ製）上に第１の吸水層のみを形成し、分光エ
リプソメーター（ＷＶＡＳＥ：Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ
Ｃｏ．，Ｉｎｃ製）により測定を行った。ｎｄ＝１．５
９となり、基材との屈折率の差は０．０３であった（図
１）。
材（オハラ製）上に第１の吸水層のみを形成し、分光エ
リプソメーター（ＷＶＡＳＥ：Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ
Ｃｏ．，Ｉｎｃ製）により測定を行った。ｎｄ＝１．５
９となり、基材との屈折率の差は０．０３であった（図
１）。
【００５０】反射率は、分光測定器（Ｕ４０００：日立
製作所製）に測定を行った。その測定値を図３（グラフ
２）に示す。反射防止性能は、反射率が最低となる５０
０ｎｍの波長付近の光に対し反射率が０．０３０程にな
る（図１）。６００ｎｍ付近の反射率特性を測定すると
その振幅特性は０．００３程度とかなり小さくなり、光
学フィルター全体の干渉縞はほとんど目立たないことが
分かる（図１）。
製作所製）に測定を行った。その測定値を図３（グラフ
２）に示す。反射防止性能は、反射率が最低となる５０
０ｎｍの波長付近の光に対し反射率が０．０３０程にな
る（図１）。６００ｎｍ付近の反射率特性を測定すると
その振幅特性は０．００３程度とかなり小さくなり、光
学フィルター全体の干渉縞はほとんど目立たないことが
分かる（図１）。
【００５１】（比較例２）比較例２においては、ポリビ
ニルアルコール（数平均重合度２０００、けん化度８８
ｍｏｌ％）１０重量部を水１００重量部に加熱溶解した
溶液に、ヘキサメトキシメチロールメラニン０．５重量
部、パラトルエンスルホン酸アンモニウム０．０５重量
部、２，２´，４，４´−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン０．３重量部をメタノール８７重量部に溶解した溶
液を加え、室温３０分撹拌して防曇性塗膜溶液を作詞し
た。その防曇性塗膜溶液に、実施例２と異なり、２０ｗ
％ＳｉＯ２微粒子（ｎｄ＝１．４５粒径１０ｎｍ）含有
メタノール溶液を、１５．８重量部混合し、全固形分濃
度に対する無機微粒子の割合を２３ｗ％とした。
ニルアルコール（数平均重合度２０００、けん化度８８
ｍｏｌ％）１０重量部を水１００重量部に加熱溶解した
溶液に、ヘキサメトキシメチロールメラニン０．５重量
部、パラトルエンスルホン酸アンモニウム０．０５重量
部、２，２´，４，４´−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン０．３重量部をメタノール８７重量部に溶解した溶
液を加え、室温３０分撹拌して防曇性塗膜溶液を作詞し
た。その防曇性塗膜溶液に、実施例２と異なり、２０ｗ
％ＳｉＯ２微粒子（ｎｄ＝１．４５粒径１０ｎｍ）含有
メタノール溶液を、１５．８重量部混合し、全固形分濃
度に対する無機微粒子の割合を２３ｗ％とした。
【００５２】そして、ディップコート法により厚さ１ｍ
ｍの高屈折率ガラス（ＰＢＭ２：ｎｄ＝１．６２オハラ
製）のフィルターに塗装し、１５０℃で１５分間、乾
燥、硬化させて、膜厚４μｍを吸収層を両面に形成し
た。
ｍの高屈折率ガラス（ＰＢＭ２：ｎｄ＝１．６２オハラ
製）のフィルターに塗装し、１５０℃で１５分間、乾
燥、硬化させて、膜厚４μｍを吸収層を両面に形成し
た。
【００５３】その後、７．５ｇのチタンテトライソプロ
ポキシド〔Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｐｒ）４Ｐｒ：Ｃ
３Ｈ７〕を酢酸イソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、
２規定のＨＣｌ ０．５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇの
ｉ−プロパノール中に溶かし溶液をさらに１００ｇの酢
酸イソブチルに混ぜた溶液を加えて室温で２４時間撹拌
し加水分解率を０．７５に調整した高屈折率層形成溶液
に上記吸水層を浸漬しディップコート法により引き上げ
速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分
間で焼成し、高屈折率層を形成した。
ポキシド〔Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｐｒ）４Ｐｒ：Ｃ
３Ｈ７〕を酢酸イソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、
２規定のＨＣｌ ０．５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇの
ｉ−プロパノール中に溶かし溶液をさらに１００ｇの酢
酸イソブチルに混ぜた溶液を加えて室温で２４時間撹拌
し加水分解率を０．７５に調整した高屈折率層形成溶液
に上記吸水層を浸漬しディップコート法により引き上げ
速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分
間で焼成し、高屈折率層を形成した。
【００５４】そして、高屈折率層の上の層（トップ層）
は上記防曇性塗膜溶液を、メタノール・水を１：１の割
合混ぜた溶液で希釈し粘度１４ｃｐに調整した溶液を上
記、高屈折率層上にディップコート法により塗布した
後、１５０℃で１５分間で焼成し１０５ｎｍの膜厚に調
整した。
は上記防曇性塗膜溶液を、メタノール・水を１：１の割
合混ぜた溶液で希釈し粘度１４ｃｐに調整した溶液を上
記、高屈折率層上にディップコート法により塗布した
後、１５０℃で１５分間で焼成し１０５ｎｍの膜厚に調
整した。
【００５５】この比較例１で作成した光学物品の防曇特
性を前述の評価法１及び２により評価した。その結果、
評価方及び２共に「変化がない。」という結果を得られ
た。
性を前述の評価法１及び２により評価した。その結果、
評価方及び２共に「変化がない。」という結果を得られ
た。
【００５６】第１の吸水層の屈折率はＳ−ＢＳＬ７基材
（オハラ製）上に第１の吸水層のみを形成し、分光エリ
プソメーター（ＷＶＡＳＥ：Ｊ．Ａ．ＷｏｏｌｌａｍＣ
ｏ．，Ｉｎｃ製）により測定を行った。ｎｄ＝１．５１
０となり、基材との屈折率の差は０．１０であった（図
１）。
（オハラ製）上に第１の吸水層のみを形成し、分光エリ
プソメーター（ＷＶＡＳＥ：Ｊ．Ａ．ＷｏｏｌｌａｍＣ
ｏ．，Ｉｎｃ製）により測定を行った。ｎｄ＝１．５１
０となり、基材との屈折率の差は０．１０であった（図
１）。
【００５７】反射率は、分光測定器（Ｕ４０００：日立
製作所製）に測定を行った。その測定値を図４（グラフ
３）に示す。反射防止性能は、反射率が最低となる５０
０ｎｍの波長付近の光に対し反射率が０．０３５程にな
る（図１）。６００ｎｍ付近の反射率特性を測定すると
その振幅特性は０．０１２程度になり（図１）、光学フ
ィルター全体の干渉縞（特に周辺部）による不良が目立
った。（比較例１と同程度で効果がない。） ［実施例３］実施例３においては、ポリビニルアルコー
ル（数平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１
０重量部を水１００重量部に加熱溶解した溶液に、ヘキ
サメトキシメチロールメラニン０．５重量部、パラトル
エンスルホン酸アンモニウム０．０５重量部、，、２
´，４，４´−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３
重量部をメタノール７６．５重量部に溶解した溶液を加
え、室温３０分撹拌して防曇性塗膜溶液を作成する。そ
の防曇性塗膜溶液に２０ｗ％ＴｉＯ２微粒子（ｎｄ＝
２．３粒径１０ｎｍ）含有メタノール溶液を、実施例
１、２と異なり、２９．４重量部混合し、全固形分濃度
に対する無機微粒子の割合を３７ｗ％とした。
製作所製）に測定を行った。その測定値を図４（グラフ
３）に示す。反射防止性能は、反射率が最低となる５０
０ｎｍの波長付近の光に対し反射率が０．０３５程にな
る（図１）。６００ｎｍ付近の反射率特性を測定すると
その振幅特性は０．０１２程度になり（図１）、光学フ
ィルター全体の干渉縞（特に周辺部）による不良が目立
った。（比較例１と同程度で効果がない。） ［実施例３］実施例３においては、ポリビニルアルコー
ル（数平均重合度２０００、けん化度８８ｍｏｌ％）１
０重量部を水１００重量部に加熱溶解した溶液に、ヘキ
サメトキシメチロールメラニン０．５重量部、パラトル
エンスルホン酸アンモニウム０．０５重量部、，、２
´，４，４´−テトラヒドロキシベンゾフェノン０．３
重量部をメタノール７６．５重量部に溶解した溶液を加
え、室温３０分撹拌して防曇性塗膜溶液を作成する。そ
の防曇性塗膜溶液に２０ｗ％ＴｉＯ２微粒子（ｎｄ＝
２．３粒径１０ｎｍ）含有メタノール溶液を、実施例
１、２と異なり、２９．４重量部混合し、全固形分濃度
に対する無機微粒子の割合を３７ｗ％とした。
【００５８】そして、ディップコート法により厚さ１ｍ
ｍの高屈折率ガラス（ＰＢＭ２：ｎｄ＝１．６２オハラ
製）のフィルターに塗装し、１５０℃で１５分間、乾
燥、硬化させて、膜厚４μｍを吸収層を高屈折率ガラス
の両面に形成した。
ｍの高屈折率ガラス（ＰＢＭ２：ｎｄ＝１．６２オハラ
製）のフィルターに塗装し、１５０℃で１５分間、乾
燥、硬化させて、膜厚４μｍを吸収層を高屈折率ガラス
の両面に形成した。
【００５９】その後、７．５ｇのチタンテトライソプロ
ポキシド〔Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｐｒ）４Ｐｒ：Ｃ
３Ｈ７〕を酢酸イソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、
２規定のＨＣｌ ０．５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇの
ｉ−プロパノール中に溶かし溶液をさらに１００ｇの酢
酸イソブチルに混ぜた溶液を加えて室温で２４時間撹拌
し加水分解率を０．７５に調整した高屈折率層形成溶液
に上記吸水層を浸漬しディップコート法により引き上げ
速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分
間で焼成し、高屈折率層を形成した。
ポキシド〔Ｔｉ（Ｏ−ｉｓｏ−Ｐｒ）４Ｐｒ：Ｃ
３Ｈ７〕を酢酸イソブチル１３０ｇに溶かした溶液に、
２規定のＨＣｌ ０．５０ｇと水０．２５ｇを１０ｇの
ｉ−プロパノール中に溶かし溶液をさらに１００ｇの酢
酸イソブチルに混ぜた溶液を加えて室温で２４時間撹拌
し加水分解率を０．７５に調整した高屈折率層形成溶液
に上記吸水層を浸漬しディップコート法により引き上げ
速度３０ｍｍ／ｍｉｎでコートした後、１５０℃で５分
間で焼成し、高屈折率層を形成した。
【００６０】そして、高屈折率層の上の層（トップ層）
は上記防曇性塗膜溶液を、メタノール・水を１：１の割
合混ぜた溶液で希釈し粘度１４ｃｐに調整した溶液を上
記、高屈折率層上にディップコート法により塗布した
後、１５０℃で１５分間で焼成し１００ｎｍの膜厚に調
整した。
は上記防曇性塗膜溶液を、メタノール・水を１：１の割
合混ぜた溶液で希釈し粘度１４ｃｐに調整した溶液を上
記、高屈折率層上にディップコート法により塗布した
後、１５０℃で１５分間で焼成し１００ｎｍの膜厚に調
整した。
【００６１】この比較例１で作成した光学物品の防曇特
性を前述の評価法１及び２により評価した。その結果、
評価方及び２共に「変化がない。」という結果を得られ
た。
性を前述の評価法１及び２により評価した。その結果、
評価方及び２共に「変化がない。」という結果を得られ
た。
【００６２】第１の吸水層の屈折率は、Ｓ−ＢＳＬ７基
材（オハラ製）上に第１の吸水層のみを形成し、分光エ
リプソメーター（ＷＶＡＳＥ：Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ
Ｃｏ．，Ｉｎｃ製）により測定を行った。ｎｄ＝１．６
３３となり、基材との屈折率の差は０．０１２であった
（図１）。
材（オハラ製）上に第１の吸水層のみを形成し、分光エ
リプソメーター（ＷＶＡＳＥ：Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ
Ｃｏ．，Ｉｎｃ製）により測定を行った。ｎｄ＝１．６
３３となり、基材との屈折率の差は０．０１２であった
（図１）。
【００６３】反射率は、分光測定器（Ｕ４０００：日立
製作所製）に測定を行った。その測定値を図５（グラフ
４）に示す。反射防止性能は、反射率が最低となる５０
０ｎｍの波長付近の光に対し反射率が０．０２７程にな
る（図１）。６００ｎｍ付近の反射率特性を測定すると
その振幅特性は０．００１程度になり、光学フィルター
全体の干渉縞は観察されなかった（図１）。以上の実施
例１〜実施例３、比較例１〜比較例２における防曇反射
防止光学物品の膜構成と防曇及び反射特性の結果、等を
まとめた表を図１に示す。
製作所製）に測定を行った。その測定値を図５（グラフ
４）に示す。反射防止性能は、反射率が最低となる５０
０ｎｍの波長付近の光に対し反射率が０．０２７程にな
る（図１）。６００ｎｍ付近の反射率特性を測定すると
その振幅特性は０．００１程度になり、光学フィルター
全体の干渉縞は観察されなかった（図１）。以上の実施
例１〜実施例３、比較例１〜比較例２における防曇反射
防止光学物品の膜構成と防曇及び反射特性の結果、等を
まとめた表を図１に示す。
【００６４】ここで、実施例１乃至３において、ＴｉＯ
２微粒子を無機微粒子として用いたが、その限りでは無
い。そして、無機微粒子は１０ｗ％（重量％）以上４０
ｗ％以下の範囲で吸収層に含有されるようにするのが好
ましい。
２微粒子を無機微粒子として用いたが、その限りでは無
い。そして、無機微粒子は１０ｗ％（重量％）以上４０
ｗ％以下の範囲で吸収層に含有されるようにするのが好
ましい。
【００６５】また、６００ｎｍ近傍の反射防止特性の振
幅幅が０．０１以下（１％以下）となるように膜を構成
するのが好ましい。
幅幅が０．０１以下（１％以下）となるように膜を構成
するのが好ましい。
【００６６】[実施例４]図６に、実施例５の防曇膜をつ
けた光学物品を有するカメラ（撮像装置）を示す。図６
において、１０１はレンズ（ズームレンズ）本体であ
る。このレンズ本体は、内部に一つまたは複数のレンズ
群を有しており、その全てもしくは一部のレンズ群を移
動させることで焦点距離を変化させることが可能である
撮像光学系１０２，該撮像光学系２の焦点距離、即ちズ
ーム状態を検出するためのレンズ状態検出手段１３７、
前記撮像光学系１０２を構成するレンズの全てもしくは
一部を移動させて焦点状態を調整するための駆動手段１
０３，ＲＯＭのような記憶手段１０４、および、それら
を制御するためのレンズ制御手段１０５を含んでいる。
けた光学物品を有するカメラ（撮像装置）を示す。図６
において、１０１はレンズ（ズームレンズ）本体であ
る。このレンズ本体は、内部に一つまたは複数のレンズ
群を有しており、その全てもしくは一部のレンズ群を移
動させることで焦点距離を変化させることが可能である
撮像光学系１０２，該撮像光学系２の焦点距離、即ちズ
ーム状態を検出するためのレンズ状態検出手段１３７、
前記撮像光学系１０２を構成するレンズの全てもしくは
一部を移動させて焦点状態を調整するための駆動手段１
０３，ＲＯＭのような記憶手段１０４、および、それら
を制御するためのレンズ制御手段１０５を含んでいる。
【００６７】ここで、前記レンズ状態検出手段１３７は
公知の方法、例えば撮像光学系１０２の焦点距離を変化
させる為に回転または移動する鏡筒に設けられたエンコ
ーダ用の電極とそれに接する検出用の電極等を用いるこ
とにより、撮像光学系２の焦点距離（ズーム状態）を変
化させる為に移動するレンズの移動状態または移動状態
を特徴づける量を検出している。
公知の方法、例えば撮像光学系１０２の焦点距離を変化
させる為に回転または移動する鏡筒に設けられたエンコ
ーダ用の電極とそれに接する検出用の電極等を用いるこ
とにより、撮像光学系２の焦点距離（ズーム状態）を変
化させる為に移動するレンズの移動状態または移動状態
を特徴づける量を検出している。
【００６８】１０６はカメラ本体であり、内部には、主
ミラー１０７，物体像が形成されている焦点板１０８，
像反転用のペンタプリズム１０９，接眼レンズ１１０を
有し、これらによりファインダ系を構成している。さら
に、サブミラー１１１，焦点検出手段１１２，演算手段
１１３，カメラ制御手段１１４，撮像面１１５に配置さ
れる撮像媒体としてのフイルムを含んでいる。１１６は
前記レンズ本体１０１およびカメラ本体１０６に具備さ
れた接点であり、互いに装着された状態では該接点１１
６を介して各種情報の通信や電源の供給が行われる。
ミラー１０７，物体像が形成されている焦点板１０８，
像反転用のペンタプリズム１０９，接眼レンズ１１０を
有し、これらによりファインダ系を構成している。さら
に、サブミラー１１１，焦点検出手段１１２，演算手段
１１３，カメラ制御手段１１４，撮像面１１５に配置さ
れる撮像媒体としてのフイルムを含んでいる。１１６は
前記レンズ本体１０１およびカメラ本体１０６に具備さ
れた接点であり、互いに装着された状態では該接点１１
６を介して各種情報の通信や電源の供給が行われる。
【００６９】ここで、本願発明の防曇膜をつけた光学物
品を撮像光学系１０２や、ペンタプリズム１０９、接眼
レンズ１１０を含むファインダー光学系中に設けるよう
にすると、光学物品の曇りを防ぐことができるため、好
ましい。特に接眼レンズ１１０は、カメラが持つレンズ
（光学素子）の中で、人が近づく回数が最も多くなる可
能性が高いレンズなので、従来曇りやすいという問題点
があったが、本発明の防曇膜をつけた光学物品を接眼レ
ンズ１１０に採用することによって、そのような問題点
は解消された。
品を撮像光学系１０２や、ペンタプリズム１０９、接眼
レンズ１１０を含むファインダー光学系中に設けるよう
にすると、光学物品の曇りを防ぐことができるため、好
ましい。特に接眼レンズ１１０は、カメラが持つレンズ
（光学素子）の中で、人が近づく回数が最も多くなる可
能性が高いレンズなので、従来曇りやすいという問題点
があったが、本発明の防曇膜をつけた光学物品を接眼レ
ンズ１１０に採用することによって、そのような問題点
は解消された。
【００７０】このカメラと同様に、レンズ、ミラー等で
人が近接するもの（つまり、装置の外部に露出している
レンズやミラー）に関しては、そのレンズ、ミラーの表
面に本実施例の防曇膜を施す、つまり、人が近接するレ
ンズ、ミラー等に本実施例の光学物品を用いると、反射
防止効果を持ちつつ防曇効果があり、人が近づいても光
学物品の表面が曇らずに、効率良く反射及び／又は透過
することができるため好ましい。
人が近接するもの（つまり、装置の外部に露出している
レンズやミラー）に関しては、そのレンズ、ミラーの表
面に本実施例の防曇膜を施す、つまり、人が近接するレ
ンズ、ミラー等に本実施例の光学物品を用いると、反射
防止効果を持ちつつ防曇効果があり、人が近づいても光
学物品の表面が曇らずに、効率良く反射及び／又は透過
することができるため好ましい。
【００７１】このように、本発明は防曇膜をつけた光学
物品（例えば、レンズ、ミラー、プリズム、透明な平行
平板等）そのものだけでなく、本発明の光学物品を備え
た光学機器、例えばカメラ（撮像光学系、ファインダー
光学系等）や（液晶）プロジェクター（照明光学系、投
影光学系、偏光板、液晶パネルの基板等）、その他様々
な光学機器に適用することができるのは言うまでもな
い。
物品（例えば、レンズ、ミラー、プリズム、透明な平行
平板等）そのものだけでなく、本発明の光学物品を備え
た光学機器、例えばカメラ（撮像光学系、ファインダー
光学系等）や（液晶）プロジェクター（照明光学系、投
影光学系、偏光板、液晶パネルの基板等）、その他様々
な光学機器に適用することができるのは言うまでもな
い。
【００７２】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、高屈折率ガラスレンズ・フィルターを用いた場合
も、防曇効果と反射防止性を兼ね備えた光学物品を提供
し、或は該光学物品を組み込んだ際に結露等が発生する
ことのない光学機器を実現することができる。
ば、高屈折率ガラスレンズ・フィルターを用いた場合
も、防曇効果と反射防止性を兼ね備えた光学物品を提供
し、或は該光学物品を組み込んだ際に結露等が発生する
ことのない光学機器を実現することができる。
【図１】実施例１〜実施例３、比較例１〜比較例２にお
ける防曇反射防止光学物品の膜構成と防曇及び反射特性
の結果、等をまとめた表。
ける防曇反射防止光学物品の膜構成と防曇及び反射特性
の結果、等をまとめた表。
【図２】実施例１と比較例１の反射率比較を示すグラ
フ。
フ。
【図３】実施例２と実施例１の反射率比較を示すグラ
フ。
フ。
【図４】実施例２と比較例２の反射率比較を示すグラ
フ。
フ。
【図５】実施例３と実施例２の反射率比較を示すグラ
フ。
フ。
【図６】実施例５のカメラの概略図。
１０１ レンズ本体
１０２ 撮像光学系
１０３ 駆動手段
１０４ 記憶装置
１０５ レンズ制御手段
１０６ カメラ本体
１０７ 主ミラー
１０８ 焦点板
１０９ ペンタプリズム
１１０ 接眼レンズ
１１１ サブミラー
１１２ 焦点検出手段
１１３ 演算手段
１１４ カメラ制御手段
１１５ 撮像面
１１６ 接点
１３７ レンズ状態検出手段
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ０９Ｄ 7/12 Ｃ０９Ｄ 201/00 ４Ｊ０３８
201/00 Ｇ０３Ｂ 13/06
Ｇ０２Ｂ 1/11 17/02
Ｇ０３Ｂ 13/06 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ
17/02 Ａ
Ｆターム(参考） 2H018 AA02 AA26
2H100 EE05
2K009 AA02 CC03 CC09 CC24 CC45
DD02 EE00 EE02
4F100 AA00B AA00D AA00H AA20B
AA20H AA21B AA21C AA21H
AK01B AK01D AK21B AR00C
AT00A BA02 BA04 BA07
BA10A BA10B BA10D BA13
CC00B DE01B DE01H GB90
JD15B JD15D JL07 JN06
JN18B JN18C JN18H YY00B
YY00D YY00H
4J002 AA011 BE021 BG011 BN011
CH001 DE136 DJ016 GP00
4J038 DM021 HA216 HA446 KA08
NA06 NA19 PA15 PB08
Claims (20)
- 【請求項１】 光学素子と、前記光学素子の上に形成し
た、吸水性高分子を有する第１の吸水層とを備える光学
物品であって、前記第１の吸水層の吸水性高分子に、前
記吸水性高分子よりも屈折率の高い無機物質を混合した
ことを特徴とする光学物品。 - 【請求項２】 前記無機物質が、無機微粒子であること
を特徴とする請求項１記載の光学物品。 - 【請求項３】 前記無機物質がＳｉＯ２微粒子またはＴ
ｉＯ２微粒子であることを特徴とする請求項１記載の光
学物品。 - 【請求項４】 前記無機微粒子が、微粒子のまま前記第
１の吸水層中に混合されていることを特徴とする請求項
２又は３記載の光学物品。 - 【請求項５】 前記無機微粒子が、５ｎｍ以上２０ｎｍ
以下の径を有する微粒子として前記第１の吸水層中に含
まれていることを特徴とする請求項２乃至４いずれか１
項記載の光学物品。 - 【請求項６】 前記第１の吸水層に混合される無機物質
の割合が、１０〜４０ｗ％であることを特徴とする請求
項１乃至５いずれか１項記載の光学物品。 - 【請求項７】 前記第１の吸水層の厚さが１μｍ以上２
０μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至６いず
れか１項記載の光学物品。 - 【請求項８】 前記無機物質の屈折率ｎｄが１．７０よ
り大きいことを特徴とする請求項１乃至７いずれか１項
記載の光学物品。 - 【請求項９】 前記第１の吸水層の上に、高屈折率層
と、該高屈折率層の上に吸水性高分子を含む第２の吸水
層とを有することを特徴とする請求項１乃至８いずれか
１項記載の光学物品。 - 【請求項１０】 前記第２の吸水層が前記無機物質を含
んでいることを特徴とする請求項９記載の光学物品。 - 【請求項１１】 前記第２の吸水層の膜厚が１μｍ未満
であることを特徴とする請求項９又は１０記載の光学物
品。 - 【請求項１２】 前記第２の吸水層の膜厚が２００ｎｍ
未満であることを特徴とする請求項９乃至１１いずれか
１項記載の光学物品。 - 【請求項１３】 前記高屈折率層と前記第２の吸水層を
１単位とする反射防止層を、複数積層していることを特
徴とする請求項９乃至１２いずれか１項記載の光学物
品。 - 【請求項１４】 前記第１の吸水層と前記光学物品の基
材との屈折率差が、０．０５以下であることを特徴とす
る請求項１乃至１３いずれか１項記載の光学物品。 - 【請求項１５】 前記第１の吸水層と前記光学物品の基
材との屈折率差が、０．０２以下であることを特徴とす
る請求項１乃至１３いずれか１項記載の光学物品。 - 【請求項１６】 前記物品が反射防止特性を有すること
を特徴とする請求項１乃至１５いずれか１項記載の光学
物品。 - 【請求項１７】 請求項１に記載の光学物品を備えるこ
とを特徴とする光学機器。 - 【請求項１８】 前記光学物品は外部に露出しているこ
とを特徴とする請求項１７記載の光学機器。 - 【請求項１９】 前記光学機器が撮像装置であって、 該撮像装置が、撮像光学系とファインダー光学系とを有
しており、 前記ファインダー光学系が、前記光学物品を有すること
を特徴とする請求項１７又は１８記載の光学機器。 - 【請求項２０】 前記光学物品が前記ファインダー光学
系の接眼レンズであることを特徴とする請求項１９記載
の光学機器。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002223127A JP2003161805A (ja) | 2001-08-10 | 2002-07-31 | 光学物品、及び該光学物品を組み込んだ光学機器 |
| US10/215,914 US6932482B2 (en) | 2001-08-10 | 2002-08-12 | Fog prevention and antireflection optical element and optical equipment incorporating the same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001-243334 | 2001-08-10 | ||
| JP2001243334 | 2001-08-10 | ||
| JP2002223127A JP2003161805A (ja) | 2001-08-10 | 2002-07-31 | 光学物品、及び該光学物品を組み込んだ光学機器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003161805A true JP2003161805A (ja) | 2003-06-06 |
| JP2003161805A5 JP2003161805A5 (ja) | 2005-10-20 |
Family
ID=26620344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002223127A Pending JP2003161805A (ja) | 2001-08-10 | 2002-07-31 | 光学物品、及び該光学物品を組み込んだ光学機器 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JP2003161805A (ja) |
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| DE102004016517A1 (de) * | 2004-04-03 | 2005-10-20 | Kostal Leopold Gmbh & Co Kg | Optoelektronische Sensoreinrichtung für ein Kraftfahrzeug |
| DE102006008784A1 (de) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Rodenstock Gmbh | Kratzfeste entspiegelte Oberfläche mit Antifog-Eigenschaften |
| DE102007009512A1 (de) * | 2007-02-27 | 2008-08-28 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Optisches Element mit einer Antibeschlagsschicht und Verfahren zu dessen Herstellung |
| DE102008014900A1 (de) | 2008-03-19 | 2009-09-24 | Rodenstock Gmbh | Schichtsystem zur Beheizung optischer Oberflächen und gleichzeitiger Reflexminderung |
| CN109889790B (zh) * | 2019-04-09 | 2020-11-06 | 中枢物联网科技(嘉兴)有限公司 | 一种防水雾监控器 |
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|---|---|---|---|---|
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| US5134021A (en) * | 1990-01-04 | 1992-07-28 | Toray Industries, Inc. | Anti-fogging film |
| JP3351666B2 (ja) * | 1995-10-20 | 2002-12-03 | 株式会社中戸研究所 | 防曇性反射防止膜、光学部品、及び防曇性反射防止膜の製造方法 |
| US6287683B1 (en) * | 1997-04-09 | 2001-09-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Anti-fogging coating and optical part using the same |
| JP3762108B2 (ja) | 1997-08-07 | 2006-04-05 | キヤノン株式会社 | 防曇反射防止光学物品 |
| US6394613B1 (en) | 1997-08-07 | 2002-05-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Anti-fogging and anti-reflection optical article |
| US6055376A (en) | 1997-09-05 | 2000-04-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Observation optical system and optical apparatus having the same |
| US6352758B1 (en) * | 1998-05-04 | 2002-03-05 | 3M Innovative Properties Company | Patterned article having alternating hydrophilic and hydrophobic surface regions |
| JP2001074902A (ja) * | 1999-09-03 | 2001-03-23 | Nikon Corp | 防曇性皮膜および光学部品 |
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-
2002
- 2002-07-31 JP JP2002223127A patent/JP2003161805A/ja active Pending
- 2002-08-12 US US10/215,914 patent/US6932482B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
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|---|---|
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