JPH09103633A - パーフルオロ化合物ガスの分離および回収方法および装置 - Google Patents
パーフルオロ化合物ガスの分離および回収方法および装置Info
- Publication number
- JPH09103633A JPH09103633A JP8187877A JP18787796A JPH09103633A JP H09103633 A JPH09103633 A JP H09103633A JP 8187877 A JP8187877 A JP 8187877A JP 18787796 A JP18787796 A JP 18787796A JP H09103633 A JPH09103633 A JP H09103633A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- membrane
- gas
- permeate
- stream
- gas mixture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/22—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by diffusion
- B01D53/225—Multiple stage diffusion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/22—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by diffusion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/22—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by diffusion
- B01D53/225—Multiple stage diffusion
- B01D53/226—Multiple stage diffusion in serial connexion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/22—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by diffusion
- B01D53/229—Integrated processes (Diffusion and at least one other process, e.g. adsorption, absorption)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2257/00—Components to be removed
- B01D2257/20—Halogens or halogen compounds
- B01D2257/204—Inorganic halogen compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2257/00—Components to be removed
- B01D2257/20—Halogens or halogen compounds
- B01D2257/206—Organic halogen compounds
- B01D2257/2066—Fluorine
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/151—Reduction of greenhouse gas [GHG] emissions, e.g. CO2
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/151—Reduction of greenhouse gas [GHG] emissions, e.g. CO2
- Y02P20/155—Perfluorocarbons [PFC]; Hydrofluorocarbons [HFC]; Hydrochlorofluorocarbons [HCFC]; Chlorofluorocarbons [CFC]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ガス混合物から少なくとも１種のパーフルオロ
化合物ガスを回収する方法および装置を提供する。 【解決手段】少なくとも１種のパーフルオロ化合物ガス
および少なくとも１種のキャリヤーガスを包含し、所定
の圧力にあるガス混合物を提供し、供給サイドおよび透
過物サイドを有するガラス状ポリマー膜を提供し、該膜
の供給サイドを該ガス混合物と接触させ、該膜の供給サ
イドから、該所定の圧力と実質的に等しい圧力にある非
透過物流として、実質的に該少なくとも１種のパーフル
オロ化合物ガスを包含する濃縮ガスを取り出し、該膜の
透過物サイドから、透過物流として、該少なくとも１種
のキャリヤーガスから実質的になる欠乏ガス混合物を取
り出す。
化合物ガスを回収する方法および装置を提供する。 【解決手段】少なくとも１種のパーフルオロ化合物ガス
および少なくとも１種のキャリヤーガスを包含し、所定
の圧力にあるガス混合物を提供し、供給サイドおよび透
過物サイドを有するガラス状ポリマー膜を提供し、該膜
の供給サイドを該ガス混合物と接触させ、該膜の供給サ
イドから、該所定の圧力と実質的に等しい圧力にある非
透過物流として、実質的に該少なくとも１種のパーフル
オロ化合物ガスを包含する濃縮ガスを取り出し、該膜の
透過物サイドから、透過物流として、該少なくとも１種
のキャリヤーガスから実質的になる欠乏ガス混合物を取
り出す。
Description
【０００１】
【発明の属する分野】本発明は、ガス分離方法に関し、
より具体的には、ガス混合物からのパーフルオロ化合物
ガスの分離および回収（または処分）に関する。特に、
本発明は、半導体製造プロセス、特にエッチングおよび
洗浄工程の流出物中に存在するもののようなパーフルオ
ロ化合物ガスの低濃度混合物の濃縮に関する。
より具体的には、ガス混合物からのパーフルオロ化合物
ガスの分離および回収（または処分）に関する。特に、
本発明は、半導体製造プロセス、特にエッチングおよび
洗浄工程の流出物中に存在するもののようなパーフルオ
ロ化合物ガスの低濃度混合物の濃縮に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体産業では、ガスが関与する半導体
製造プロセスにおいて、特に半導体製造プロセスの種々
のエッチング工程において、さらには製造工程のチャン
バ洗浄工程において、ＣＦ4 、Ｃ2 Ｆ6 、Ｃ3 Ｆ8 、Ｃ
4 Ｆ10、ＣＨＦ3 、ＳＦ6 、ＮＦ3 等のパーフルオロ化
合物がもっぱら使用されつつある。これらパーフルオロ
化合物ガスは、純粋な形態で、あるいは例えば空気、窒
素もしくは他の不活性ガスで希釈した状態で、または他
のパーフルオロ化合物ガスもしくは他のキャリヤーガス
（例えば、不活性ガス）との混合物の形態で使用され
る。半導体製造プロセス中にこれらガスのすべてが他の
種と反応する必要はない。従って、製造プロセスの他の
工程を実施するために反応器を洗浄または排気する場
合、流出ガスまたはガス混合物は、たとえそれらが空気
または不活性ガスのような他のガスで多量に希釈されて
いても、排出すべきでない。パーフルオロ化合物（ＰＦ
Ｃともいう）のほとんどは、大気中で数千年の寿命が測
定され、また強力な赤外線吸収剤でもある。１９９４年
７月７〜８日に、米国テキサス州ダラスで開催された
「地球温暖化シンポジウム」において、四フッ化炭素
（ＣＦ4 ）、ヘキサフルオロエタン（Ｃ2 Ｆ6 ）、三フ
ッ化窒素（ＮＦ3 ）、および六フッ化硫黄（ＳＦ6 ）
は、半導体産業に関連する温室化ガスであると同定され
た。
製造プロセスにおいて、特に半導体製造プロセスの種々
のエッチング工程において、さらには製造工程のチャン
バ洗浄工程において、ＣＦ4 、Ｃ2 Ｆ6 、Ｃ3 Ｆ8 、Ｃ
4 Ｆ10、ＣＨＦ3 、ＳＦ6 、ＮＦ3 等のパーフルオロ化
合物がもっぱら使用されつつある。これらパーフルオロ
化合物ガスは、純粋な形態で、あるいは例えば空気、窒
素もしくは他の不活性ガスで希釈した状態で、または他
のパーフルオロ化合物ガスもしくは他のキャリヤーガス
（例えば、不活性ガス）との混合物の形態で使用され
る。半導体製造プロセス中にこれらガスのすべてが他の
種と反応する必要はない。従って、製造プロセスの他の
工程を実施するために反応器を洗浄または排気する場
合、流出ガスまたはガス混合物は、たとえそれらが空気
または不活性ガスのような他のガスで多量に希釈されて
いても、排出すべきでない。パーフルオロ化合物（ＰＦ
Ｃともいう）のほとんどは、大気中で数千年の寿命が測
定され、また強力な赤外線吸収剤でもある。１９９４年
７月７〜８日に、米国テキサス州ダラスで開催された
「地球温暖化シンポジウム」において、四フッ化炭素
（ＣＦ4 ）、ヘキサフルオロエタン（Ｃ2 Ｆ6 ）、三フ
ッ化窒素（ＮＦ3 ）、および六フッ化硫黄（ＳＦ6 ）
は、半導体産業に関連する温室化ガスであると同定され
た。
【０００３】このシンポジウムでミカエルＴ．モセラに
より行われた「半導体処理器具からのパーフルオロ化合
物発生減少：選択および戦略の概観」と題するプレゼン
テーションにおいて、大気中へのこれらガスの放出を制
御するための可能性のある戦略が説明された。
より行われた「半導体処理器具からのパーフルオロ化合
物発生減少：選択および戦略の概観」と題するプレゼン
テーションにおいて、大気中へのこれらガスの放出を制
御するための可能性のある戦略が説明された。
【０００４】非ＰＦＣによるプロセス置換とは別に、い
くつかの方法がすでに知られ、あるいは開発中である： ・種々の活性化金属による化学−熱分解であって、ここ
では使用済床材料を処分しなければならない。これは、
たとえ有望な開発中にあっても、現在商業的に立証され
ていないと考えられている。
くつかの方法がすでに知られ、あるいは開発中である： ・種々の活性化金属による化学−熱分解であって、ここ
では使用済床材料を処分しなければならない。これは、
たとえ有望な開発中にあっても、現在商業的に立証され
ていないと考えられている。
【０００５】・分解のために熱エネルギーおよび反応体
の双方を供給するために火炎を使用する燃焼に基づく分
解プロセス（または化学−熱プロセス）。使用する水素
または天然ガスに関連する安全上の問題があり、すべて
のＰＦＣは燃焼生成物としてＨＦを生成し（温度が十分
高いとき）、その放出は関心事項であり、同様に処理し
なければならない。また、抵抗加熱器を使用すると高温
が発生し得る。
の双方を供給するために火炎を使用する燃焼に基づく分
解プロセス（または化学−熱プロセス）。使用する水素
または天然ガスに関連する安全上の問題があり、すべて
のＰＦＣは燃焼生成物としてＨＦを生成し（温度が十分
高いとき）、その放出は関心事項であり、同様に処理し
なければならない。また、抵抗加熱器を使用すると高温
が発生し得る。
【０００６】・９０％を超えるＣ2 Ｆ6 の分解を伴って
Ｃ2 Ｆ6 を部分的に分解するための、結合高周波システ
ムのようなプラズマの使用を含むプラズマに基づく分解
プロセス。しかしながら、このシステムは、いまだに商
業的には立証されていない。非ＰＦＣ生成物への分解を
駆動するためには、通常、酸素が必要であるが、後に管
理しなければならないＨＦの発生を伴う。
Ｃ2 Ｆ6 を部分的に分解するための、結合高周波システ
ムのようなプラズマの使用を含むプラズマに基づく分解
プロセス。しかしながら、このシステムは、いまだに商
業的には立証されていない。非ＰＦＣ生成物への分解を
駆動するためには、通常、酸素が必要であるが、後に管
理しなければならないＨＦの発生を伴う。
【０００７】・ＰＦＣを破壊する代りに、再循環させる
ためにこれを回収する回収プロセス。この種のプロセス
は、「最も穏和（greenest）」であると考えられるの
で、大いに関心がある。著者によれば、「ＰＦＣの吸着
または低温トラップの燃焼に基づいて」異なるスキーム
が可能である。しかしながら、ポンプ操作、ＣＦ4 とＮ
Ｆ4 との近接した沸点、種々のプロセス流および／また
は可能性のある反応体と吸着剤との混合に関連した多量
の窒素の処理のようないくつかの問題がある。再循環が
示唆されているが、そのような混合物を再循環させるこ
とは明らかに疑問である。
ためにこれを回収する回収プロセス。この種のプロセス
は、「最も穏和（greenest）」であると考えられるの
で、大いに関心がある。著者によれば、「ＰＦＣの吸着
または低温トラップの燃焼に基づいて」異なるスキーム
が可能である。しかしながら、ポンプ操作、ＣＦ4 とＮ
Ｆ4 との近接した沸点、種々のプロセス流および／また
は可能性のある反応体と吸着剤との混合に関連した多量
の窒素の処理のようないくつかの問題がある。再循環が
示唆されているが、そのような混合物を再循環させるこ
とは明らかに疑問である。
【０００８】ＰＦＣを含む高窒素含有率流出ガスを破壊
するための他の燃焼システムが、１９９４年７月７〜８
日の同じシンポジウムでラリー・アンダーソンにより提
出された「ベクターテクノロジーのフェニックス燃焼
器」と題する文献に開示されている。この減少システム
もガス火炎（天然ガスまたは水素を空気とともに使用）
を用いており、同じＨＦ発生とさらなる破壊（プラス燃
焼プロセスに固有のＮＯx 、ＣＯ2 の発生）という問題
をもたらす。
するための他の燃焼システムが、１９９４年７月７〜８
日の同じシンポジウムでラリー・アンダーソンにより提
出された「ベクターテクノロジーのフェニックス燃焼
器」と題する文献に開示されている。この減少システム
もガス火炎（天然ガスまたは水素を空気とともに使用）
を用いており、同じＨＦ発生とさらなる破壊（プラス燃
焼プロセスに固有のＮＯx 、ＣＯ2 の発生）という問題
をもたらす。
【０００９】同じシンポジウムでＡＴ＆Ｔマクロエレク
トロニクス・アンド・ノバピュア・コーポレーションに
より提出された「ＰＦＣの濃縮と再循環」と題する文献
において、著者は、二酸化炭素、ＮＯx およびＨＦの生
成を回避する（燃焼プロセスと比べて）回収プロセスの
利点を認めている。簡単にいうと、このプロセスは、二
連床吸着剤（活性炭）を使用するものとして開示され、
一方の床は吸着モードにある一方、第２の床は再生され
る。ＰＦＣは、活性炭ふるい上に吸着されるが、窒素、
水素のような「キャリヤー」ガスは吸着されずに排出シ
ステムに排出される。システムが第２の吸着剤に切り替
えられると、第１の吸着剤は真空ポンプを用いて排気さ
れ、ついで、流出物が再圧縮され、ＰＦＣガス混合物が
回収される。このようなシステムについていまだ解決さ
れていない問題の１つは、非極性であるＣＦ4 は活性炭
ふるいには容易に吸着されず、排出ガスとともに捨てら
れてしまうということである。また、どのような吸着シ
ステムも水分に非常に敏感であり、痕跡量の水でも供給
流から除去しなければならない。
トロニクス・アンド・ノバピュア・コーポレーションに
より提出された「ＰＦＣの濃縮と再循環」と題する文献
において、著者は、二酸化炭素、ＮＯx およびＨＦの生
成を回避する（燃焼プロセスと比べて）回収プロセスの
利点を認めている。簡単にいうと、このプロセスは、二
連床吸着剤（活性炭）を使用するものとして開示され、
一方の床は吸着モードにある一方、第２の床は再生され
る。ＰＦＣは、活性炭ふるい上に吸着されるが、窒素、
水素のような「キャリヤー」ガスは吸着されずに排出シ
ステムに排出される。システムが第２の吸着剤に切り替
えられると、第１の吸着剤は真空ポンプを用いて排気さ
れ、ついで、流出物が再圧縮され、ＰＦＣガス混合物が
回収される。このようなシステムについていまだ解決さ
れていない問題の１つは、非極性であるＣＦ4 は活性炭
ふるいには容易に吸着されず、排出ガスとともに捨てら
れてしまうということである。また、どのような吸着シ
ステムも水分に非常に敏感であり、痕跡量の水でも供給
流から除去しなければならない。
【００１０】米国特許第５，２８１，２５５号から、ポ
リジメチルシロキサンのようなゴム状ポリマーまたは置
換されたポリアセチレン（低いガラス転移温度を有す
る）のようなある特別のポリマーで作られた膜を−５０
℃を超える沸点を有する凝縮性有機成分、本質的には炭
化水素（ＣＨ4 、Ｃ2 Ｈ6 等）を回収するために使用す
ることも知られている。この炭化水素は、空気よりもは
るかに速く上記膜を透過する性質を有し、したがって上
記膜の透過物サイド上にこの炭化水素が回収される。つ
いで、透過物（炭化水素）は、実質的に大気圧でまたは
より低い圧力で回収される一方、非透過物（例えば、空
気）は供給流の初期圧になおあるが、排出され、供給流
の圧力エネルギーのすべてが失われる。
リジメチルシロキサンのようなゴム状ポリマーまたは置
換されたポリアセチレン（低いガラス転移温度を有す
る）のようなある特別のポリマーで作られた膜を−５０
℃を超える沸点を有する凝縮性有機成分、本質的には炭
化水素（ＣＨ4 、Ｃ2 Ｈ6 等）を回収するために使用す
ることも知られている。この炭化水素は、空気よりもは
るかに速く上記膜を透過する性質を有し、したがって上
記膜の透過物サイド上にこの炭化水素が回収される。つ
いで、透過物（炭化水素）は、実質的に大気圧でまたは
より低い圧力で回収される一方、非透過物（例えば、空
気）は供給流の初期圧になおあるが、排出され、供給流
の圧力エネルギーのすべてが失われる。
【００１１】また、ＰＣＴ／ＣＡ９０／００１９５にお
いて、炭化水素またはクロロフルオロカーボンを例えば
空気から分離するための使用できるパーフルオロ−２，
２−ジメチル−１，３−ジオキソールの非晶質ポリマー
から作られた選択透過性膜が開示されている。このよう
な特別の膜は、明らかに、炭化水素およびクロロフルオ
ロカーボンよりも速く酸素および窒素を透過し、米国特
許第４，５５３，９８３号および第５，２８１，２５５
号に開示されている膜を含むすべての膜と対照的に、予
期せざることに炭化水素およびクロロフルオロカーボン
は膜の非透過物サイド上に回収され得る。また、このＰ
ＣＴ出願において、パーフルオロ−２，２−ジメチル−
１，３−ジオキソールの非晶質ポリマーとポリテトラフ
ルオロエチレンとの混合物も開示されている。これらす
べてのパーフルオロポリマーは、有害なクロロフルオロ
カーボンおよび炭化水素のほとんどに対して耐性がある
ことが知られ、これによりこれらポリマーはそのような
分離に商業的に好適となっている。しかしながら、この
膜は現在入手不能であり、この特許出願には、そのよう
な膜が空気または窒素からのＰＦＣの分離に好適かどう
かの指摘がない。
いて、炭化水素またはクロロフルオロカーボンを例えば
空気から分離するための使用できるパーフルオロ−２，
２−ジメチル−１，３−ジオキソールの非晶質ポリマー
から作られた選択透過性膜が開示されている。このよう
な特別の膜は、明らかに、炭化水素およびクロロフルオ
ロカーボンよりも速く酸素および窒素を透過し、米国特
許第４，５５３，９８３号および第５，２８１，２５５
号に開示されている膜を含むすべての膜と対照的に、予
期せざることに炭化水素およびクロロフルオロカーボン
は膜の非透過物サイド上に回収され得る。また、このＰ
ＣＴ出願において、パーフルオロ−２，２−ジメチル−
１，３−ジオキソールの非晶質ポリマーとポリテトラフ
ルオロエチレンとの混合物も開示されている。これらす
べてのパーフルオロポリマーは、有害なクロロフルオロ
カーボンおよび炭化水素のほとんどに対して耐性がある
ことが知られ、これによりこれらポリマーはそのような
分離に商業的に好適となっている。しかしながら、この
膜は現在入手不能であり、この特許出願には、そのよう
な膜が空気または窒素からのＰＦＣの分離に好適かどう
かの指摘がない。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】水分を包含するか水分
で飽和された供給流とともに使用でき、供給流中のＰＦ
Ｃの流量および／または濃度の重要なもしくは極端な変
動をもってさえもＰＦＣ回収および／または濃縮を安全
に取り扱うことができ、（供給物中の可能性のあるＨＦ
含有量に加えて）ＰＦＣの分解から残渣としてフッ酸を
生成することのない、ガス状流からのＰＦＣの濃縮およ
び／または回収のための「穏和な」プロセスについての
要求が現在なお存在する。
で飽和された供給流とともに使用でき、供給流中のＰＦ
Ｃの流量および／または濃度の重要なもしくは極端な変
動をもってさえもＰＦＣ回収および／または濃縮を安全
に取り扱うことができ、（供給物中の可能性のあるＨＦ
含有量に加えて）ＰＦＣの分解から残渣としてフッ酸を
生成することのない、ガス状流からのＰＦＣの濃縮およ
び／または回収のための「穏和な」プロセスについての
要求が現在なお存在する。
【００１３】
【課題を解決するための手段】予期せざることに、ある
種の、好ましくは中空繊維の形態の、膜を用いることに
より、パーフルオロ化合物を含む、例えば半導体製造プ
ロセスからの流出ガス（effluent gas）が効率的に処理
できることが見い出された。当該膜は、流出ガス混合物
の「キャリヤーガス」例えば空気、窒素、酸素、アルゴ
ンおよび／またはヘリウムを該ガス混合物のＰＦＣより
もはるかに迅速に透過させるものであり、ＰＦＣは、こ
の膜の非透過物サイド上に回収される。
種の、好ましくは中空繊維の形態の、膜を用いることに
より、パーフルオロ化合物を含む、例えば半導体製造プ
ロセスからの流出ガス（effluent gas）が効率的に処理
できることが見い出された。当該膜は、流出ガス混合物
の「キャリヤーガス」例えば空気、窒素、酸素、アルゴ
ンおよび／またはヘリウムを該ガス混合物のＰＦＣより
もはるかに迅速に透過させるものであり、ＰＦＣは、こ
の膜の非透過物サイド上に回収される。
【００１４】好ましい膜は、ガラス状ポリマー膜であ
り、より好ましくは、非対称（asymmetric）もしくは複
合（非対称外側層を有する）膜である。好ましくは、本
発明に従って使用されるこれらガラス状ポリマー膜は、
ポリテトラフルオロエチレン、非晶質パーフルオロ−
２，２−ジメチル−１，３−ジオキシド等のようなフッ
素化ポリマーで作られた後処理層等の１の層を含み得
る。
り、より好ましくは、非対称（asymmetric）もしくは複
合（非対称外側層を有する）膜である。好ましくは、本
発明に従って使用されるこれらガラス状ポリマー膜は、
ポリテトラフルオロエチレン、非晶質パーフルオロ−
２，２−ジメチル−１，３−ジオキシド等のようなフッ
素化ポリマーで作られた後処理層等の１の層を含み得
る。
【００１５】本発明の１つの側面は、ガス混合物から少
なくとも１種のパーフルオロ化合物ガスを回収するため
の方法であって、 ａ）少なくとも１種のパーフルオロ化合物ガスおよび少
なくとも１種のキャリヤーガスを含み、所定の圧力にあ
るガス混合物を提供し、 ｂ）供給サイドおよび透過物サイドを有し、該少なくと
も１種のキャリヤーガスに対して透過性であり、かつ該
少なくとも１種のパーフルオロ化合物ガス種に対して非
透過性である少なくとも１つのガラス状ポリマー膜を提
供し、 ｃ）該少なくとも１つの膜の供給サイドを該ガス混合物
と接触させ、 ｄ）該膜の供給サイドから、該所定の圧力と実質的に等
しい圧力で第１の非透過物流として、実質的に該少なく
とも１種のパーフルオロ化合物ガスを包含する濃縮ガス
を取り出し、 ｅ）該少なくとも１つの膜の透過物サイドから、透過物
流として、該少なくとも１種のキャリヤーガスから実質
的になる欠乏（depleted）ガス混合物を取り出す 各工程を備える方法に関する。
なくとも１種のパーフルオロ化合物ガスを回収するため
の方法であって、 ａ）少なくとも１種のパーフルオロ化合物ガスおよび少
なくとも１種のキャリヤーガスを含み、所定の圧力にあ
るガス混合物を提供し、 ｂ）供給サイドおよび透過物サイドを有し、該少なくと
も１種のキャリヤーガスに対して透過性であり、かつ該
少なくとも１種のパーフルオロ化合物ガス種に対して非
透過性である少なくとも１つのガラス状ポリマー膜を提
供し、 ｃ）該少なくとも１つの膜の供給サイドを該ガス混合物
と接触させ、 ｄ）該膜の供給サイドから、該所定の圧力と実質的に等
しい圧力で第１の非透過物流として、実質的に該少なく
とも１種のパーフルオロ化合物ガスを包含する濃縮ガス
を取り出し、 ｅ）該少なくとも１つの膜の透過物サイドから、透過物
流として、該少なくとも１種のキャリヤーガスから実質
的になる欠乏（depleted）ガス混合物を取り出す 各工程を備える方法に関する。
【００１６】他の側面によれば、本発明は、半導体製造
プロセスから流出するガス混合物からパーフルオロ化合
物ガスもしくはガス混合物を回収するための方法であっ
て、該ガス混合物を予備処理して膜に対して有害な成分
（ガス、粒子等）のほとんどを実質的に除去し、予備処
理ガス混合物を配送し、供給サイドと透過物サイドを有
する少なくとも１つのガラス状ポリマー膜を提供し、こ
の膜の供給サイドを該予備処理ガス混合物と第１の圧力
で接触させ、該膜の供給サイドから該第１の圧力と実質
的に等しい圧力で該パーフルオロ化合物ガスもしくはガ
ス混合物を取り出し、該第１の圧力よりも低い第２の圧
力にある残存ガスを該膜の透過物サイドから取り出す各
工程を備えた方法に関する。ＰＦＣを用いる半導体製造
プロセスは、酸化物、金属、誘電体等のエッチングプロ
セス、シリコンＣＶＤ等のデポジションプロセス、タン
グステンのバックエッチング、ドライチャンバ洗浄等か
ら選ぶことができる。
プロセスから流出するガス混合物からパーフルオロ化合
物ガスもしくはガス混合物を回収するための方法であっ
て、該ガス混合物を予備処理して膜に対して有害な成分
（ガス、粒子等）のほとんどを実質的に除去し、予備処
理ガス混合物を配送し、供給サイドと透過物サイドを有
する少なくとも１つのガラス状ポリマー膜を提供し、こ
の膜の供給サイドを該予備処理ガス混合物と第１の圧力
で接触させ、該膜の供給サイドから該第１の圧力と実質
的に等しい圧力で該パーフルオロ化合物ガスもしくはガ
ス混合物を取り出し、該第１の圧力よりも低い第２の圧
力にある残存ガスを該膜の透過物サイドから取り出す各
工程を備えた方法に関する。ＰＦＣを用いる半導体製造
プロセスは、酸化物、金属、誘電体等のエッチングプロ
セス、シリコンＣＶＤ等のデポジションプロセス、タン
グステンのバックエッチング、ドライチャンバ洗浄等か
ら選ぶことができる。
【００１７】ガラス状膜のいくつかは、それに対して有
害であり得るある種の生成物、すなわち膜をすぐに破壊
しまたは閉塞し得る生成物に対して敏感であるので、ガ
ス混合物は、これを膜上に送る前に、スクラビングする
ことが好ましい。好ましくは、いずれもの有害なガス状
ＨＦ、ＮＨ3 、ＷＦ6 、Ｏ3 、ＢＣｌ3 、および腐食性
種、さらにはＳｉＨ4 のようなケイ素水素化物等の自然
発火性種、約２０マイクロメートルを超える平均直径を
有するいずれもの粒状物、およびいずれもの油ミスト等
の供給流中に存在する膜を害し得るどのような種でもこ
れをスクラバー手段により除去する。実際、本発明の方
法および装置に使用されるコンプレッサーは、シールさ
れ、油のないことが好ましいのである。
害であり得るある種の生成物、すなわち膜をすぐに破壊
しまたは閉塞し得る生成物に対して敏感であるので、ガ
ス混合物は、これを膜上に送る前に、スクラビングする
ことが好ましい。好ましくは、いずれもの有害なガス状
ＨＦ、ＮＨ3 、ＷＦ6 、Ｏ3 、ＢＣｌ3 、および腐食性
種、さらにはＳｉＨ4 のようなケイ素水素化物等の自然
発火性種、約２０マイクロメートルを超える平均直径を
有するいずれもの粒状物、およびいずれもの油ミスト等
の供給流中に存在する膜を害し得るどのような種でもこ
れをスクラバー手段により除去する。実際、本発明の方
法および装置に使用されるコンプレッサーは、シールさ
れ、油のないことが好ましいのである。
【００１８】本発明の１つの好ましい側面は、好くなく
とも１種のパーフルオロ化合物ガスもしくはガス混合物
を回収するための方法であって、 ａ）供給サイドおよび透過物サイドを有するガラス状ポ
リマー膜を提供し、 ｂ）少なくとも１種のパーフルオロ化合物ガス状種、少
なくとも１種の、膜に有害な種、および少なくとも１種
のキャリヤーガスを含む、第１の圧力にあるガス混合物
を提供し、 ｃ）該膜に有害な種を実質的に除去し、該有害な種の濃
度を該膜に許容されるレベルまで化粧させるために該ガ
ス混合物をスクラバー手段中で処理し、およびスクラビ
ングされたガス混合物を第２の圧力で得、 ｄ）該膜の供給サイドを実質的に該第２の圧力でまたは
より高い圧力で該スクラビングされたガス混合物と接触
させ、 ｅ）該スクラビングされたガス混合物におけるよりも高
い濃度の該少なくとも１種のパーフルオロ化合物ガスを
含む濃縮されたガス混合物を該第２の圧力に実質的に等
しい圧力で、非透過物流として、該膜の供給サイドから
取り出し、 ｆ）キャリヤーガスに富み、該少なくとも１種のパーフ
ルオロ化合物に欠乏する透過物流として欠乏ガスもしく
はガス混合物を該膜の透過物サイドから取り出す 各工程を備える方法に関する。
とも１種のパーフルオロ化合物ガスもしくはガス混合物
を回収するための方法であって、 ａ）供給サイドおよび透過物サイドを有するガラス状ポ
リマー膜を提供し、 ｂ）少なくとも１種のパーフルオロ化合物ガス状種、少
なくとも１種の、膜に有害な種、および少なくとも１種
のキャリヤーガスを含む、第１の圧力にあるガス混合物
を提供し、 ｃ）該膜に有害な種を実質的に除去し、該有害な種の濃
度を該膜に許容されるレベルまで化粧させるために該ガ
ス混合物をスクラバー手段中で処理し、およびスクラビ
ングされたガス混合物を第２の圧力で得、 ｄ）該膜の供給サイドを実質的に該第２の圧力でまたは
より高い圧力で該スクラビングされたガス混合物と接触
させ、 ｅ）該スクラビングされたガス混合物におけるよりも高
い濃度の該少なくとも１種のパーフルオロ化合物ガスを
含む濃縮されたガス混合物を該第２の圧力に実質的に等
しい圧力で、非透過物流として、該膜の供給サイドから
取り出し、 ｆ）キャリヤーガスに富み、該少なくとも１種のパーフ
ルオロ化合物に欠乏する透過物流として欠乏ガスもしく
はガス混合物を該膜の透過物サイドから取り出す 各工程を備える方法に関する。
【００１９】本発明の好ましい側面によれば、膜により
ＰＦＣを濃縮した後、別々のＰＦＣまたは近接した沸点
を有するＰＦＣの混合物を回収するために、選択凝縮も
しくは吸着のようなそれ自体よく知られた方法により、
種々のＰＦＣを相互に分離する。本発明の他の側面によ
れば、ＰＦＣガス混合物は、例えば第２の膜により再度
濃縮され、またはＰＦＣガス混合物は貯蔵されるか方法
に再循環される（追加の処理を行うかまたは行わない
で）。
ＰＦＣを濃縮した後、別々のＰＦＣまたは近接した沸点
を有するＰＦＣの混合物を回収するために、選択凝縮も
しくは吸着のようなそれ自体よく知られた方法により、
種々のＰＦＣを相互に分離する。本発明の他の側面によ
れば、ＰＦＣガス混合物は、例えば第２の膜により再度
濃縮され、またはＰＦＣガス混合物は貯蔵されるか方法
に再循環される（追加の処理を行うかまたは行わない
で）。
【００２０】本発明の他の好ましい方法および装置は、
ＰＦＣガス混合物が圧縮され、少なくとも部分的に液化
され、および将来の使用のために貯蔵され得るように真
空ポンプ、熱交換器、コンプレッサーまたは低温ポンプ
（cryogenic pump）を提供することを含む。本発明の他
の特徴は、ＰＦＣガス混合物を直列に配置された複数の
膜を用いて濃縮する工程を提供することを含み、各膜か
らの濃縮ＰＦＣガス混合物を直列の膜ユニットのいずれ
か１つまたは全ての透過物サイドの掃引ガスとして使用
し得る。本発明のさらなる側面は、ＰＦＣが半導体製造
プロセスに再循環される前にまたは貯蔵に送られる前
に、ＰＦＣガス混合物サージタンクを提供することを含
む。
ＰＦＣガス混合物が圧縮され、少なくとも部分的に液化
され、および将来の使用のために貯蔵され得るように真
空ポンプ、熱交換器、コンプレッサーまたは低温ポンプ
（cryogenic pump）を提供することを含む。本発明の他
の特徴は、ＰＦＣガス混合物を直列に配置された複数の
膜を用いて濃縮する工程を提供することを含み、各膜か
らの濃縮ＰＦＣガス混合物を直列の膜ユニットのいずれ
か１つまたは全ての透過物サイドの掃引ガスとして使用
し得る。本発明のさらなる側面は、ＰＦＣが半導体製造
プロセスに再循環される前にまたは貯蔵に送られる前
に、ＰＦＣガス混合物サージタンクを提供することを含
む。
【００２１】本発明の他の側面は、 ａ）反応器流出ガス導管を付設した、パーフルオロ化合
物ガス、キャリヤーガス等を受けるための少なくとも１
つの反応器チャンバ、 ｂ）供給サイドおよび透過物サイドを有する少なくとも
１つのガラス状ポリマー膜分離ユニットであって、該膜
は少なくとも１種のキャリヤーガスに対して透過性であ
り、かつ少なくとも１種のパーフルオロ化合物ガスに対
して実質的に非透過性であり、該膜ユニットは該反応器
流出ガス導管を介して該反応器チャンバに接続し、該膜
ユニットは透過物排出導管および非透過物排出導管を有
し、後者は非透過物流を含有するパーフルオロ化合物の
少なくとも一部を該膜ユニットから反応器チャンバーへ
向けるところの膜分離ユニット を備えた半導体製造装置である。本発明による好ましい
装置は、反応器流出流が膜ユニットに入る前に、ここに
開示するドライもしくはウエット（またはその両者の）
スクラバー、熱分解器、接触（触媒）分解器、プラズマ
ガス分解器および種々のフィルターのような予備処理お
よび／または後処理手段を提供することを含む。また、
ここに開示するように、１または全ての膜の透過物サイ
ド上の非透過物の掃引ガスを提供しまたは提供すること
なく、複数の膜ユニットを直列に配設することができ
る。本発明の装置のさらなる好ましい態様は、非透過物
導管中（すなわち、第１のまたは複数の膜ユニットと反
応器チャンバーとの間）にダンパー（damper）もしくは
サージ（surge ）タンクを含み、コンプレッサー、熱交
換器、低温ポンプもしくは真空ポンプを１またはそれ以
上の非透過物ＰＦＣ富化流上に設け、ＰＦＣ富化流を将
来の使用のために液体状態で貯蔵させることを含む。ま
た、ここにより十分に説明するように、ダンパーもしく
はサージタンクおよび液状ＰＦＣ混合物を生成させるた
めのコンプレッサーをバイパスさせる適切な弁を設ける
ことも好ましい。
物ガス、キャリヤーガス等を受けるための少なくとも１
つの反応器チャンバ、 ｂ）供給サイドおよび透過物サイドを有する少なくとも
１つのガラス状ポリマー膜分離ユニットであって、該膜
は少なくとも１種のキャリヤーガスに対して透過性であ
り、かつ少なくとも１種のパーフルオロ化合物ガスに対
して実質的に非透過性であり、該膜ユニットは該反応器
流出ガス導管を介して該反応器チャンバに接続し、該膜
ユニットは透過物排出導管および非透過物排出導管を有
し、後者は非透過物流を含有するパーフルオロ化合物の
少なくとも一部を該膜ユニットから反応器チャンバーへ
向けるところの膜分離ユニット を備えた半導体製造装置である。本発明による好ましい
装置は、反応器流出流が膜ユニットに入る前に、ここに
開示するドライもしくはウエット（またはその両者の）
スクラバー、熱分解器、接触（触媒）分解器、プラズマ
ガス分解器および種々のフィルターのような予備処理お
よび／または後処理手段を提供することを含む。また、
ここに開示するように、１または全ての膜の透過物サイ
ド上の非透過物の掃引ガスを提供しまたは提供すること
なく、複数の膜ユニットを直列に配設することができ
る。本発明の装置のさらなる好ましい態様は、非透過物
導管中（すなわち、第１のまたは複数の膜ユニットと反
応器チャンバーとの間）にダンパー（damper）もしくは
サージ（surge ）タンクを含み、コンプレッサー、熱交
換器、低温ポンプもしくは真空ポンプを１またはそれ以
上の非透過物ＰＦＣ富化流上に設け、ＰＦＣ富化流を将
来の使用のために液体状態で貯蔵させることを含む。ま
た、ここにより十分に説明するように、ダンパーもしく
はサージタンクおよび液状ＰＦＣ混合物を生成させるた
めのコンプレッサーをバイパスさせる適切な弁を設ける
ことも好ましい。
【００２２】本発明の好ましい方法および装置は、各膜
ユニットからの非透過物流中のＰＦＣ濃度について一定
の濃度設定点で１またはそれ以上の膜ユニットを操作す
ることを含む。この好ましい装置および方法において、
各後続のＰＦＣ膜分離ユニットからの非透過物流中のＰ
ＦＣの設定点濃度は、いうまでもなく、直前のものより
も高い。ＰＦＣ濃度について連続的または不連続的に分
析するために各膜ユニットからの非透過物流出物導管中
に適切なセンサーを挿入することができ、あるいは各膜
ユニットから試料を定期的または連続的に採取し、これ
を現場でのまたは現場を離れた専用の分析器に送ること
ができる。ついで、この情報を例えば各膜ユニットへの
供給の圧力、温度、流量等を制御し得るプロセスコント
ローラーに送る。また、掃引ガス配設の使用を考えると
き、掃引ガスはオープンループもしくはクローズドルー
プ配置（open loop or closed loop arrangement）を介
して制御することができる。
ユニットからの非透過物流中のＰＦＣ濃度について一定
の濃度設定点で１またはそれ以上の膜ユニットを操作す
ることを含む。この好ましい装置および方法において、
各後続のＰＦＣ膜分離ユニットからの非透過物流中のＰ
ＦＣの設定点濃度は、いうまでもなく、直前のものより
も高い。ＰＦＣ濃度について連続的または不連続的に分
析するために各膜ユニットからの非透過物流出物導管中
に適切なセンサーを挿入することができ、あるいは各膜
ユニットから試料を定期的または連続的に採取し、これ
を現場でのまたは現場を離れた専用の分析器に送ること
ができる。ついで、この情報を例えば各膜ユニットへの
供給の圧力、温度、流量等を制御し得るプロセスコント
ローラーに送る。また、掃引ガス配設の使用を考えると
き、掃引ガスはオープンループもしくはクローズドルー
プ配置（open loop or closed loop arrangement）を介
して制御することができる。
【００２３】本発明の他の好ましい装置および方法は、
膜ユニットの第１のまたは後続の段階の透過物流の再循
環を含む（換言すれば、キャリヤーガスまたは他のプロ
セスガスを再循環させる）。キャリヤーガスは、反応器
チャンバーに直接再循環させてもよいし、貯蔵または将
来の使用のために、液体状態に減少させるために熱交換
器、コンプレッサー等に送ることもできる。キャリヤー
ガスをプロセスガスから分離するように機能する再循環
膜を提供することもできる。
膜ユニットの第１のまたは後続の段階の透過物流の再循
環を含む（換言すれば、キャリヤーガスまたは他のプロ
セスガスを再循環させる）。キャリヤーガスは、反応器
チャンバーに直接再循環させてもよいし、貯蔵または将
来の使用のために、液体状態に減少させるために熱交換
器、コンプレッサー等に送ることもできる。キャリヤー
ガスをプロセスガスから分離するように機能する再循環
膜を提供することもできる。
【００２４】本発明の他の好ましい方法および装置は、
半導体プロセスから発出するガス混合物のための予備処
理工程からの廃棄流が、１またはそれ以上のパーフルオ
ロ化合物もしくは他の化学物質を生成させるために使用
することができ、それらは半導体プロセスまたは他の化
学プロセスに使用するための精製することができるもの
である。
半導体プロセスから発出するガス混合物のための予備処
理工程からの廃棄流が、１またはそれ以上のパーフルオ
ロ化合物もしくは他の化学物質を生成させるために使用
することができ、それらは半導体プロセスまたは他の化
学プロセスに使用するための精製することができるもの
である。
【００２５】本発明によるさらに他の好ましい方法およ
び装置は、非パーフルオロ化合物を除去するために、１
またはそれ以上の非投下物流を後処理するものである。
後処理方法は、膜への供給物の予備処理に好適であると
して上に述べたものを含む。
び装置は、非パーフルオロ化合物を除去するために、１
またはそれ以上の非投下物流を後処理するものである。
後処理方法は、膜への供給物の予備処理に好適であると
して上に述べたものを含む。
【００２６】本発明の他の側面は、１またはそれ以上の
ガスキャビネット、チューブトレーラー、クリーンルー
ム等からの排出流からここに記載した膜を用いて比較的
純粋なＰＦＣ流を回収する方法である。
ガスキャビネット、チューブトレーラー、クリーンルー
ム等からの排出流からここに記載した膜を用いて比較的
純粋なＰＦＣ流を回収する方法である。
【００２７】本発明の方法および装置は、以下の説明を
図面を参照して考慮することによりよりよく理解される
であろう。
図面を参照して考慮することによりよりよく理解される
であろう。
【００２８】
【発明の実施の形態】例えば半導体製造プロセスからの
ＰＦＣの回収は、今や、ある種のポリマー膜を用い、膜
の非透過物サイド上の非透過物流を回収することによっ
てＰＦＣ含有ガス混合物を濃縮することによって本発明
により可能となり、環境に非有害なガスは膜を透過し、
直接排出させまたは再循環させることができる。この方
法は、上気したように、現存する方法よりも簡単で、環
境的にやさしいものである。非透過物流は、半導体製造
反応器チャンバーへ再度送られるか、将来の使用のため
に貯蔵設備に送られるか、あるいは個々のまたは類似の
ＰＦＣを現場でまたは現場を離れて分離するためのＰＦ
Ｃ回収装置に送られ得る。
ＰＦＣの回収は、今や、ある種のポリマー膜を用い、膜
の非透過物サイド上の非透過物流を回収することによっ
てＰＦＣ含有ガス混合物を濃縮することによって本発明
により可能となり、環境に非有害なガスは膜を透過し、
直接排出させまたは再循環させることができる。この方
法は、上気したように、現存する方法よりも簡単で、環
境的にやさしいものである。非透過物流は、半導体製造
反応器チャンバーへ再度送られるか、将来の使用のため
に貯蔵設備に送られるか、あるいは個々のまたは類似の
ＰＦＣを現場でまたは現場を離れて分離するためのＰＦ
Ｃ回収装置に送られ得る。
【００２９】本発明の目的にとって、パーフルオロ化合
物は、Ｃ、Ｓおよび／またはＮ原子を含有する化合物で
あって、全てのまたは１個を除いて全ての水素がフッ素
により置換されている化合物と定義される。最も普通の
ＰＦＣには、以下の化合物、すなわちＣＦ4 、Ｃ
2 Ｆ6 、Ｃ3 Ｆ8 、Ｃ4 Ｆ10のような完全フッ素化炭化
水素、およびＣＨＦ3 、ＳＦ6 、ＮＦ3 のような他のフ
ッ素化化合物であって、当該膜に有害でないものが含ま
れるが、これらに限定されるものではない。ある場合に
は、ＰＦＣは、また、ある種の膜に有害でない限り、Ｂ
Ｆ3 、ＣＯＦ2 、Ｆ2、ＨＦ、ＳｉＦ4 、ＷＦ6 、ＷＯ
Ｆ4 を含んでいてもよい。パーフルオロ化合物は、クロ
ロフルオロカーボンまたは２つ以上の水素置換基を含む
化合物を含まない。そのような化合物は、膜に対してＰ
ＦＣとして挙動せず、半導体製造プロセスに有用でない
からである。
物は、Ｃ、Ｓおよび／またはＮ原子を含有する化合物で
あって、全てのまたは１個を除いて全ての水素がフッ素
により置換されている化合物と定義される。最も普通の
ＰＦＣには、以下の化合物、すなわちＣＦ4 、Ｃ
2 Ｆ6 、Ｃ3 Ｆ8 、Ｃ4 Ｆ10のような完全フッ素化炭化
水素、およびＣＨＦ3 、ＳＦ6 、ＮＦ3 のような他のフ
ッ素化化合物であって、当該膜に有害でないものが含ま
れるが、これらに限定されるものではない。ある場合に
は、ＰＦＣは、また、ある種の膜に有害でない限り、Ｂ
Ｆ3 、ＣＯＦ2 、Ｆ2、ＨＦ、ＳｉＦ4 、ＷＦ6 、ＷＯ
Ｆ4 を含んでいてもよい。パーフルオロ化合物は、クロ
ロフルオロカーボンまたは２つ以上の水素置換基を含む
化合物を含まない。そのような化合物は、膜に対してＰ
ＦＣとして挙動せず、半導体製造プロセスに有用でない
からである。
【００３０】本発明に有用な膜は、好ましくはポリイミ
ド、ポリアミド、ポリアミド−イミド、ポリエステル、
ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ン、ポリエーテルケトン、アルキル置換芳香族ポリエス
テル、ポリエーテルスルホンと芳香族ポリイミドと芳香
族ポリアミドとポリアミド−イミドとフッ素化芳香族ポ
リイミドとポリアミドとポリアミド−イミドとのブレン
ド、ガラス状ポリマー膜、セルロースアセテート、それ
らのブレンド、それらのコポリマー、それらの（例え
ば、アルキル、アリール）置換ポリマー等から作られた
ポリマー膜のようなガラス状膜である。
ド、ポリアミド、ポリアミド−イミド、ポリエステル、
ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ン、ポリエーテルケトン、アルキル置換芳香族ポリエス
テル、ポリエーテルスルホンと芳香族ポリイミドと芳香
族ポリアミドとポリアミド−イミドとフッ素化芳香族ポ
リイミドとポリアミドとポリアミド−イミドとのブレン
ド、ガラス状ポリマー膜、セルロースアセテート、それ
らのブレンド、それらのコポリマー、それらの（例え
ば、アルキル、アリール）置換ポリマー等から作られた
ポリマー膜のようなガラス状膜である。
【００３１】非対称膜は、溶媒混和性非溶媒中にポリマ
ー溶液を析出させることにより調整される。そのような
膜は、勾配付多孔度の異方性基材上に支持された緻密な
分離層により特徴づけられ、一般に一工程で調整され
る。そのような膜の例および製造方法は、米国特許第
４，１１３，６２８号、第４，３７８，３２４号、第
４，４６０，５２６号、第４，４７４，６６２号、第
４，４８５，０５６号、第４，５１２，８９３号、第
５，０８５，６７６号、および第４，７１７，３９４号
に開示されている。第４，７１７，３９４号および第
５，０８５，６７６号米国特許明細書には、選定された
ポリイミドから非対称分離膜を製造する方法が開示され
ている。特に好ましい膜は、米国特許第５，０８５，６
７６号に記載されているポリイミドの非対称ガス分離膜
である。
ー溶液を析出させることにより調整される。そのような
膜は、勾配付多孔度の異方性基材上に支持された緻密な
分離層により特徴づけられ、一般に一工程で調整され
る。そのような膜の例および製造方法は、米国特許第
４，１１３，６２８号、第４，３７８，３２４号、第
４，４６０，５２６号、第４，４７４，６６２号、第
４，４８５，０５６号、第４，５１２，８９３号、第
５，０８５，６７６号、および第４，７１７，３９４号
に開示されている。第４，７１７，３９４号および第
５，０８５，６７６号米国特許明細書には、選定された
ポリイミドから非対称分離膜を製造する方法が開示され
ている。特に好ましい膜は、米国特許第５，０８５，６
７６号に記載されているポリイミドの非対称ガス分離膜
である。
【００３２】圧力駆動ガス膜分離プロセスにおいて、ガ
ス分離膜の１つのサイド（側）は、複雑な多成分ガス混
合物と接触され、その混合物のある種のガスは他のガス
よりも速く膜を透過する。それによりガス分離膜は、相
対的な意味で、いくつかのガスを透過させる一方、他の
ガスに対するバリヤーとして作用する。膜を通る相対的
ガス透過速度は、膜材料組成およびその形態（morpholo
gy）の性質である。従来技術において、ポリマー膜の固
有の透過性は、膜材料の充填性（packing ）および分子
自由体積により一部制御される、膜を通るガス拡散と膜
材料内のガス溶解性との組合せであることが示唆されて
いる。選択率は、材料により分離される２種のガスの透
過率の比である。また、高いガス選択性を保持するため
には、欠陥のない緻密な分離層を作ることが非常に望ま
しい。
ス分離膜の１つのサイド（側）は、複雑な多成分ガス混
合物と接触され、その混合物のある種のガスは他のガス
よりも速く膜を透過する。それによりガス分離膜は、相
対的な意味で、いくつかのガスを透過させる一方、他の
ガスに対するバリヤーとして作用する。膜を通る相対的
ガス透過速度は、膜材料組成およびその形態（morpholo
gy）の性質である。従来技術において、ポリマー膜の固
有の透過性は、膜材料の充填性（packing ）および分子
自由体積により一部制御される、膜を通るガス拡散と膜
材料内のガス溶解性との組合せであることが示唆されて
いる。選択率は、材料により分離される２種のガスの透
過率の比である。また、高いガス選択性を保持するため
には、欠陥のない緻密な分離層を作ることが非常に望ま
しい。
【００３３】複合ガス分離膜は、典型的に、予備成形さ
れた微多孔質基材上に緻密な分離層を有する。分離層お
よび基材は、通常、組成が異なる。複合ガス分離膜は、
異方性微多孔質基材上に支持された極薄緻密分離層の構
造にまで発展した。これらの複合膜構造は、予備成形さ
れた異方性支持膜の頂部に予備成形された極薄緻密分離
層を積層するころにより調製することができる。そのよ
うな膜の例およびその製造方法は、米国特許第４，６６
４，６６９号、第４，６８９，２６７号、第４，７４
１，８２９号、第２，９４７，６８７号、第２，９５
３，５０２号、第３，６１６，６０７号、第４，７１
４，４８１号、第４，６０２，９２２号、第２，９７
０，１０６号、第２，９６０，４６２号、第４，７１
３，２９２号、第４，０８６，３１０号、第４，１３
２，８２４号、第４，１９２，８２４号、第４，１５
５，７９３号および第４，１５６，５９７号に開示され
ている。
れた微多孔質基材上に緻密な分離層を有する。分離層お
よび基材は、通常、組成が異なる。複合ガス分離膜は、
異方性微多孔質基材上に支持された極薄緻密分離層の構
造にまで発展した。これらの複合膜構造は、予備成形さ
れた異方性支持膜の頂部に予備成形された極薄緻密分離
層を積層するころにより調製することができる。そのよ
うな膜の例およびその製造方法は、米国特許第４，６６
４，６６９号、第４，６８９，２６７号、第４，７４
１，８２９号、第２，９４７，６８７号、第２，９５
３，５０２号、第３，６１６，６０７号、第４，７１
４，４８１号、第４，６０２，９２２号、第２，９７
０，１０６号、第２，９６０，４６２号、第４，７１
３，２９２号、第４，０８６，３１０号、第４，１３
２，８２４号、第４，１９２，８２４号、第４，１５
５，７９３号および第４，１５６，５９７号に開示され
ている。
【００３４】あるいは、複合ガス分離膜は、まず、異方
性多孔質基材を作り、ついでこの基材を膜生成溶液と接
触される多工程作製方法により調製することができる。
そのような方法の例は、米国特許第４，８２６，５９９
号および第３，５０８，９９４号に開示されている。
性多孔質基材を作り、ついでこの基材を膜生成溶液と接
触される多工程作製方法により調製することができる。
そのような方法の例は、米国特許第４，８２６，５９９
号および第３，５０８，９９４号に開示されている。
【００３５】米国特許第４，７５６，９３２号には、多
ポリマー溶液層の共押出し、その後の溶媒混和性非溶媒
中での析出によって複合中空繊維膜を製造する方法が記
載されている。
ポリマー溶液層の共押出し、その後の溶媒混和性非溶媒
中での析出によって複合中空繊維膜を製造する方法が記
載されている。
【００３６】本発明の１つの態様によれば、膜は、ＰＦ
Ｃを分離しようとするガス混合物中の有害な成分に、低
レベルでまたはそのような成分と一時的に接触しても、
耐えるその能力を向上させるために、フッ素化もしくは
パーフッ素化ポリマー層で処理、被覆、またはこれと共
押出しすることができる。
Ｃを分離しようとするガス混合物中の有害な成分に、低
レベルでまたはそのような成分と一時的に接触しても、
耐えるその能力を向上させるために、フッ素化もしくは
パーフッ素化ポリマー層で処理、被覆、またはこれと共
押出しすることができる。
【００３７】中空繊維紡糸プロセスは、中空繊維膜の形
態および性質に影響を及ぼし得る多くの変数に依存す
る。これらの変数には、繊維を生成するために使用され
るポリマー溶液の組成、紡糸中に中空繊維押出し物の穴
に射出される流体の組成、紡糸口金の温度、中空繊維押
出し物を処理するために使用される凝集媒体、凝集媒体
の温度、ポリマーの凝集の迅速性、繊維の押出し速度、
巻取りロールへの繊維の巻取り速度等が含まれる。
態および性質に影響を及ぼし得る多くの変数に依存す
る。これらの変数には、繊維を生成するために使用され
るポリマー溶液の組成、紡糸中に中空繊維押出し物の穴
に射出される流体の組成、紡糸口金の温度、中空繊維押
出し物を処理するために使用される凝集媒体、凝集媒体
の温度、ポリマーの凝集の迅速性、繊維の押出し速度、
巻取りロールへの繊維の巻取り速度等が含まれる。
【００３８】分離すべきＰＦＣを含有するガス混合物
は、通常、少なくとも１種のＰＦＣおよび空気、窒素、
アルゴン、ヘリウム等およびそれらの混合物のようなの
少なくとも１種のキャリヤーガスを含有する。
は、通常、少なくとも１種のＰＦＣおよび空気、窒素、
アルゴン、ヘリウム等およびそれらの混合物のようなの
少なくとも１種のキャリヤーガスを含有する。
【００３９】以下の表１および表２に、半導体製造プロ
セスからの廃棄流からの最も普通のＰＦＣおよび他のガ
スを掲げてある（これらガスのすべてが存在する必要な
なく、これらのいくつかのみが廃棄物中に存在し得
る）。
セスからの廃棄流からの最も普通のＰＦＣおよび他のガ
スを掲げてある（これらガスのすべてが存在する必要な
なく、これらのいくつかのみが廃棄物中に存在し得
る）。
【００４０】最も普通のＰＦＣは、通常、以下のもので
ある。
ある。
【００４１】チャンバークリーニングについて：四塩化
炭素（ＣＦ4 ）、ヘキサフルオロエタン（Ｃ2 Ｆ6 ）、
三フッ化窒素（ＮＦ3 ）、パーフルオロプロパン（Ｃ3
Ｆ8）、六フッ化硫黄（ＳＦ6 ）、トリフルオロメタン
（ＣＨＦ3 ）；エッチング工程については、同じＰＦＣ
が通常使用されるが、アルゴン、三塩化ホウ素、塩素、
臭化水素、塩化水素、フッ化水素、ホスフィン、シラ
ン、四塩化ケイ素等のようないくつかの他のガスも使用
される。
炭素（ＣＦ4 ）、ヘキサフルオロエタン（Ｃ2 Ｆ6 ）、
三フッ化窒素（ＮＦ3 ）、パーフルオロプロパン（Ｃ3
Ｆ8）、六フッ化硫黄（ＳＦ6 ）、トリフルオロメタン
（ＣＨＦ3 ）；エッチング工程については、同じＰＦＣ
が通常使用されるが、アルゴン、三塩化ホウ素、塩素、
臭化水素、塩化水素、フッ化水素、ホスフィン、シラ
ン、四塩化ケイ素等のようないくつかの他のガスも使用
される。
【００４２】これらガスのいくつかは、膜に有害である
ことがあり（表１および２に指摘）、膜に送られる供給
ガス混合物からそれらを除去または分解することが好ま
しい。通常、該流れを膜に送る前に、以下の化合物を除
去することが好ましい。すなわち、ＷＦ6 、ＨＦ、
Ｆ2 、ＮＨ3 、Ｃｌ2 、ＨＢｒ、ＨＣｌ、Ｏ3 、および
いずれものケイ素水素化物、ゲルマニウム水素化物等で
ある。そのためには、スクラバー手段（ドライまたはウ
エットスクラバー）、熱分解、プラズマ分解、触媒（接
触）除去等のような種々の方法を使用して各有害物質の
１０ｐｐｍ未満、最も好ましくは１ｐｐｍ未満のレベル
を達成することができる。ここに後処理として言及され
ている方法の１またはそれ以上を用いて、分離された非
透過物流を処理することもできる。
ことがあり（表１および２に指摘）、膜に送られる供給
ガス混合物からそれらを除去または分解することが好ま
しい。通常、該流れを膜に送る前に、以下の化合物を除
去することが好ましい。すなわち、ＷＦ6 、ＨＦ、
Ｆ2 、ＮＨ3 、Ｃｌ2 、ＨＢｒ、ＨＣｌ、Ｏ3 、および
いずれものケイ素水素化物、ゲルマニウム水素化物等で
ある。そのためには、スクラバー手段（ドライまたはウ
エットスクラバー）、熱分解、プラズマ分解、触媒（接
触）除去等のような種々の方法を使用して各有害物質の
１０ｐｐｍ未満、最も好ましくは１ｐｐｍ未満のレベル
を達成することができる。ここに後処理として言及され
ている方法の１またはそれ以上を用いて、分離された非
透過物流を処理することもできる。
【００４３】
【表１】
【表２】 ＳｉＦ4 、ＷＦ6 、ＷＯＦ4 、ＨＦ、Ｆ2 は、パーフッ
素化化合物ではあるが、通常、ＰＦＣとはみなされな
い。
素化化合物ではあるが、通常、ＰＦＣとはみなされな
い。
【００４４】膜にとって有害な物質を除去するためのス
クラバー手段は、ドライスクラバー（これは、通常、少
なくともＦ2 、ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＢｒ、Ｃｌ2 、Ｎ
Ｈ3 、ＷＦ6 およびＳｉＨ4 を除去する）であり得る。
ドライスクラバーは、通常、樹脂タイプのスクラバーま
たはソーダ石灰であるが、ＭｎＯ2 のような触媒を包含
するいくつかのドライスクラバーもオゾンを除去し得
る。また、ガス状水素化物は、米国特許第４，７４３，
４３５号、第４，７８４，８３７号、第４，９１０，０
０１号、第４，９９６，０３０号、第５，１８２，０８
８号および第５，３７８，４３９号に開示された方法に
従って除去することができる。種々の有害成分を除去す
るために異なるスクラバーを設置する場合、まずドライ
スクラバー（または複数のスクラバー）を設置し、つい
でウエットスクラバーを設置することが好ましい。スク
ラバーの上流に、流れから粒子を除去するためのフィル
ターが通常必要であり（２０ミクロンを超える直径を有
する粒子の除去）、本発明により、２０マイクロメート
ル未満の、好ましくは１０マイクロメートル未満の気孔
径を有するフィルターを上流に提供することが推奨さ
れ、これは膜の閉塞を避けるために粒子および液滴を除
去する。
クラバー手段は、ドライスクラバー（これは、通常、少
なくともＦ2 、ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＢｒ、Ｃｌ2 、Ｎ
Ｈ3 、ＷＦ6 およびＳｉＨ4 を除去する）であり得る。
ドライスクラバーは、通常、樹脂タイプのスクラバーま
たはソーダ石灰であるが、ＭｎＯ2 のような触媒を包含
するいくつかのドライスクラバーもオゾンを除去し得
る。また、ガス状水素化物は、米国特許第４，７４３，
４３５号、第４，７８４，８３７号、第４，９１０，０
０１号、第４，９９６，０３０号、第５，１８２，０８
８号および第５，３７８，４３９号に開示された方法に
従って除去することができる。種々の有害成分を除去す
るために異なるスクラバーを設置する場合、まずドライ
スクラバー（または複数のスクラバー）を設置し、つい
でウエットスクラバーを設置することが好ましい。スク
ラバーの上流に、流れから粒子を除去するためのフィル
ターが通常必要であり（２０ミクロンを超える直径を有
する粒子の除去）、本発明により、２０マイクロメート
ル未満の、好ましくは１０マイクロメートル未満の気孔
径を有するフィルターを上流に提供することが推奨さ
れ、これは膜の閉塞を避けるために粒子および液滴を除
去する。
【００４５】ウエットスクラバーは、例えば、ＤＥＬＡ
ＴＥＣＨ社からの「あなたの特別の用途のためのＣＤＯ
TMの選択」と題するパンフレットに開示されている。
ＴＥＣＨ社からの「あなたの特別の用途のためのＣＤＯ
TMの選択」と題するパンフレットに開示されている。
【００４６】本発明の好ましい側面によれば、膜を横切
る（横断する）圧力降下（すなわち、供給物と透過物と
の間のΔＰ）、供給物の温度（すなわち、供給流と膜自
体との間の温度平衡後の膜の温度）および供給物流量の
間にはある関係が存在する。膜上の供給ガスのある一定
の流量および供給ガスの温度について、膜横断圧力差が
増すと、例えばＣ2 Ｆ6 のようなＰＦＣの回収が膜の非
透過物もしくは「残渣」サイドで低下する一方、膜の透
過物サイドでこのＰＦＣ濃度は増加することが見い出さ
れた。従って、本発明によれば、高くない、通常約１
３，６００ｋＰａ（２０００ｐｓｉｇ）未満、好ましく
は約１２０から約１４５０ｋＰａ（約３から約２００ｐ
ｓｉｇ）まで、最も好ましくは約２４０ないし約５１０
ｋＰａ（約２０ないし約６０ｐｓｉｇ）の膜横断圧力降
下ΔＰを有することが好ましい。
る（横断する）圧力降下（すなわち、供給物と透過物と
の間のΔＰ）、供給物の温度（すなわち、供給流と膜自
体との間の温度平衡後の膜の温度）および供給物流量の
間にはある関係が存在する。膜上の供給ガスのある一定
の流量および供給ガスの温度について、膜横断圧力差が
増すと、例えばＣ2 Ｆ6 のようなＰＦＣの回収が膜の非
透過物もしくは「残渣」サイドで低下する一方、膜の透
過物サイドでこのＰＦＣ濃度は増加することが見い出さ
れた。従って、本発明によれば、高くない、通常約１
３，６００ｋＰａ（２０００ｐｓｉｇ）未満、好ましく
は約１２０から約１４５０ｋＰａ（約３から約２００ｐ
ｓｉｇ）まで、最も好ましくは約２４０ないし約５１０
ｋＰａ（約２０ないし約６０ｐｓｉｇ）の膜横断圧力降
下ΔＰを有することが好ましい。
【００４７】供給ガス混合物が通常実質的に大気圧で得
られる限り、この供給物を圧縮して十分な膜横断圧力降
下を有するようにする（しかし、これは、通常、供給物
中に存在する多くの種がコンプレッサーを劣化させるの
で、好ましくない）か、または膜の透過物サイドに大気
圧よりも低い圧力を産み出す（これは、真空手段を害し
得る種のほとんどが膜の非透過物サイドに保持されるた
め、好ましいものでありえる）という選択事項がある。
膜の透過物サイドにこの低い圧力を産み出すために、真
空ポンプまたはいずれもの他の吸引手段が適切である。
あるいは、膜への供給流を圧縮しようとするなら、圧縮
は、好ましくは、ウエットもしくはドライスクラバー、
フィルター、接触除去、パルスコロナ分解、熱分解およ
び／またはプラズマ分解を用いて供給流を予備処理した
後に行う。好ましいコンプレッサーはシールされ、油の
ないものであり、例えば、米国オハイオ州のパワレック
ス・ハリソン社から入手できるＰＯＷＥＲＥＸという商
品名で知られているコンプレッサーである。膜ユニット
に供給するコンプレッサーの圧縮比（コンプレッサー出
口の圧力をコンプレッサー入口の圧力で除した比として
定義される）は、一般に、約２：１ないし約１０：１で
あり、一連の膜ユニットにおいて他の膜供給位置では追
加の圧縮が要求され得る。例えば個々の膜に流入する供
給物の温度および／または圧力を制御しようとする場
合、またはここに開示するように非透過物流中のＰＦＣ
濃度を設定点で制御する場合、圧縮された供給流と液体
窒素のような冷却剤との間に熱交換を提供することが必
要であり得る。
られる限り、この供給物を圧縮して十分な膜横断圧力降
下を有するようにする（しかし、これは、通常、供給物
中に存在する多くの種がコンプレッサーを劣化させるの
で、好ましくない）か、または膜の透過物サイドに大気
圧よりも低い圧力を産み出す（これは、真空手段を害し
得る種のほとんどが膜の非透過物サイドに保持されるた
め、好ましいものでありえる）という選択事項がある。
膜の透過物サイドにこの低い圧力を産み出すために、真
空ポンプまたはいずれもの他の吸引手段が適切である。
あるいは、膜への供給流を圧縮しようとするなら、圧縮
は、好ましくは、ウエットもしくはドライスクラバー、
フィルター、接触除去、パルスコロナ分解、熱分解およ
び／またはプラズマ分解を用いて供給流を予備処理した
後に行う。好ましいコンプレッサーはシールされ、油の
ないものであり、例えば、米国オハイオ州のパワレック
ス・ハリソン社から入手できるＰＯＷＥＲＥＸという商
品名で知られているコンプレッサーである。膜ユニット
に供給するコンプレッサーの圧縮比（コンプレッサー出
口の圧力をコンプレッサー入口の圧力で除した比として
定義される）は、一般に、約２：１ないし約１０：１で
あり、一連の膜ユニットにおいて他の膜供給位置では追
加の圧縮が要求され得る。例えば個々の膜に流入する供
給物の温度および／または圧力を制御しようとする場
合、またはここに開示するように非透過物流中のＰＦＣ
濃度を設定点で制御する場合、圧縮された供給流と液体
窒素のような冷却剤との間に熱交換を提供することが必
要であり得る。
【００４８】上に述べたようなどのような膜横断圧力降
下が選ばれても、低い供給流量よりも高い供給流量を有
することが好ましい。供給流量が高ければ、回収も高く
なる。この供給流量は、分離に利用される膜の平方メー
トル当りほぼゼロから約１０5 Ｎｍ3 ／ｈ、好ましくは
約１０-4ないし約１０Ｎｍ3 ／ｈ−ｍ2 、より好ましく
は約０．１ないし約０．５Ｎｍ3 ／ｈ−ｍ2 で変わり得
る。
下が選ばれても、低い供給流量よりも高い供給流量を有
することが好ましい。供給流量が高ければ、回収も高く
なる。この供給流量は、分離に利用される膜の平方メー
トル当りほぼゼロから約１０5 Ｎｍ3 ／ｈ、好ましくは
約１０-4ないし約１０Ｎｍ3 ／ｈ−ｍ2 、より好ましく
は約０．１ないし約０．５Ｎｍ3 ／ｈ−ｍ2 で変わり得
る。
【００４９】あるいは、コンプレッサーは、予備処理手
段（ドライおよび／またはウエットスクラバー、フィル
ター等）の後段に位置し得る。
段（ドライおよび／またはウエットスクラバー、フィル
ター等）の後段に位置し得る。
【００５０】供給流および／または膜の温度は、また、
膜の非透過物サイドにおけるＰＦＣの回収に影響する。
通常、供給および／または膜温度が増すと、一定の流量
および圧力降下では、ガス混合物の種は膜をより多く透
過する傾向にあり、特にすでにより低温でより速く透過
するものはそうである。たとえば、周囲温度でＰＦＣよ
りも膜を速く透過する窒素および酸素（空気）は、より
高温で例えば５０℃ないし６０℃では、膜をさらに速く
透過する。
膜の非透過物サイドにおけるＰＦＣの回収に影響する。
通常、供給および／または膜温度が増すと、一定の流量
および圧力降下では、ガス混合物の種は膜をより多く透
過する傾向にあり、特にすでにより低温でより速く透過
するものはそうである。たとえば、周囲温度でＰＦＣよ
りも膜を速く透過する窒素および酸素（空気）は、より
高温で例えば５０℃ないし６０℃では、膜をさらに速く
透過する。
【００５１】通常、供給および／または膜の温度は、約
−１０℃から約１００℃まで、好ましくは約１０℃から
約８０℃まで、特に好ましくは周囲温度（通常約２０℃
ないし２５℃）から約６０℃まで変わり得る。
−１０℃から約１００℃まで、好ましくは約１０℃から
約８０℃まで、特に好ましくは周囲温度（通常約２０℃
ないし２５℃）から約６０℃まで変わり得る。
【００５２】本発明の方法および装置の膜分離ユニット
を操作する他の好ましい方法は、１またはそれ以上の膜
ユニットを出る非透過物流中の１またはそれ以上のＰＦ
Ｃガスの一定の設定点を持つように各膜ユニットを操作
することによる。このように本発明の方法および装置を
操作することの利点のいくつかは、供給圧力変動が平滑
となり、膜の寿命が有意に延長されるということであ
る。非透過物流中のＰＦＣの設定点濃度を維持する１つ
の方法は、非透過物流の一部を、好ましくは向流的に、
中空繊維膜の外側（すなわち、膜ユニットの中空繊維の
透過物サイド）に通すことである。このプラクティス
は、いずれもレール・リキードＳ．Ａ．に譲渡されてい
る米国特許第５，２４０，４７１号および第５，３８
３，９５７号により詳しく記載されているが、これら特
許にはこれら技術を用いたＰＦＣの分離は記載されてい
ない。これら特許は、掃引ガス技術を教示するものであ
る。かくして、段階Ｎの非透過物流の一部または全部を
段階Ｎ＋１および／またはＮ＋２などのための供給流と
して使用することができ、その際、実際には、段階Ｎ、
段階Ｎ＋１および段階Ｎ＋２等の間には小さな圧力降下
があることが留意される。このことは、段階Ｎの非透過
物（供給サイド）の圧力は、段階Ｎ＋１または段階Ｎ＋
２のような後の段階の供給サイドでの圧力よりも大きい
ことを意味する。
を操作する他の好ましい方法は、１またはそれ以上の膜
ユニットを出る非透過物流中の１またはそれ以上のＰＦ
Ｃガスの一定の設定点を持つように各膜ユニットを操作
することによる。このように本発明の方法および装置を
操作することの利点のいくつかは、供給圧力変動が平滑
となり、膜の寿命が有意に延長されるということであ
る。非透過物流中のＰＦＣの設定点濃度を維持する１つ
の方法は、非透過物流の一部を、好ましくは向流的に、
中空繊維膜の外側（すなわち、膜ユニットの中空繊維の
透過物サイド）に通すことである。このプラクティス
は、いずれもレール・リキードＳ．Ａ．に譲渡されてい
る米国特許第５，２４０，４７１号および第５，３８
３，９５７号により詳しく記載されているが、これら特
許にはこれら技術を用いたＰＦＣの分離は記載されてい
ない。これら特許は、掃引ガス技術を教示するものであ
る。かくして、段階Ｎの非透過物流の一部または全部を
段階Ｎ＋１および／またはＮ＋２などのための供給流と
して使用することができ、その際、実際には、段階Ｎ、
段階Ｎ＋１および段階Ｎ＋２等の間には小さな圧力降下
があることが留意される。このことは、段階Ｎの非透過
物（供給サイド）の圧力は、段階Ｎ＋１または段階Ｎ＋
２のような後の段階の供給サイドでの圧力よりも大きい
ことを意味する。
【００５３】１または複数の膜によるこの第１の濃縮工
程の後、種々のＰＦＣを少なく友部分的に相互に分離す
る、あるいはより多量のＰＦＣを少量の他のＰＦＣから
分離する第２の工程を行うことが好ましい。蒸留、吸
着、凝縮等、２種以上のパーフルオロ化合物を分離する
ための異なる分離技術を用いることができる。好ましく
は、かつ半導体製造器具から出てくる流れについてより
適切であり得るので、「ソルバール（ＳＯＬＶＡＬ）TM
溶媒凝縮および回収システム」（１９９４）と題する技
術報告書に開示されているエール・リキード・アメリカ
・コーポレーションのソルバールという商品名で知られ
ているもののような凝縮プロセスを使用することができ
る。基本的に、この凝縮方法において、１つまたは複数
の膜の非透過物サイドからの流出物は、熱交換器に供給
される。液体窒素または他の冷却媒体が熱交換器に導入
され、冷却コイル中を流れる。ＰＦＣとＮ2 との混合物
が熱交換器のシェルに導入され、シェル中を通る際にコ
イルの周りを流れる。この混合物は冷却され、ＰＦＣ蒸
気の一部は、冷却コイルの温度に基づいて、凝集し、液
化し、集められる。交換器中への液体窒素の流量が高い
程、冷却コイルの温度が低く、それゆえより多くのＰＦ
Ｃが液化する。
程の後、種々のＰＦＣを少なく友部分的に相互に分離す
る、あるいはより多量のＰＦＣを少量の他のＰＦＣから
分離する第２の工程を行うことが好ましい。蒸留、吸
着、凝縮等、２種以上のパーフルオロ化合物を分離する
ための異なる分離技術を用いることができる。好ましく
は、かつ半導体製造器具から出てくる流れについてより
適切であり得るので、「ソルバール（ＳＯＬＶＡＬ）TM
溶媒凝縮および回収システム」（１９９４）と題する技
術報告書に開示されているエール・リキード・アメリカ
・コーポレーションのソルバールという商品名で知られ
ているもののような凝縮プロセスを使用することができ
る。基本的に、この凝縮方法において、１つまたは複数
の膜の非透過物サイドからの流出物は、熱交換器に供給
される。液体窒素または他の冷却媒体が熱交換器に導入
され、冷却コイル中を流れる。ＰＦＣとＮ2 との混合物
が熱交換器のシェルに導入され、シェル中を通る際にコ
イルの周りを流れる。この混合物は冷却され、ＰＦＣ蒸
気の一部は、冷却コイルの温度に基づいて、凝集し、液
化し、集められる。交換器中への液体窒素の流量が高い
程、冷却コイルの温度が低く、それゆえより多くのＰＦ
Ｃが液化する。
【００５４】いくつかの好ましい態様において、濃縮後
のＰＦＣ混合物は、沸点が近接している種を含み、それ
ゆえそれらを分別凝縮により分離することが困難であ
る。例えば、Ｃ2 Ｆ6 は、−７８．２℃の標準沸点を有
し、ＣＨＦ3 は、−８２．１℃の標準沸点を有し、ま
た、ＣＦ4 は、−１２７．９℃の標準沸点を有し、ＮＦ
3は、−１２９℃の標準沸点を有する。近接する沸点を
有する少なくとも２の種を分離することを望む場合、近
接し過ぎていない沸点を有する種々の種の間で例えば凝
縮による第１の分離を行って実質的に純粋な種または近
接する沸点を有する種の混合物を提供する。ついで、近
接する沸点を有する種の混合物を他の方法、例えば、混
合物の種の１つが他のものより極性が高い場合には吸着
により分離する。ＮＦ3 およびＣＦ4 は、モレキュラー
シーブ（例えば、ＮａＸ、ＣａＸ、およびＮａＡ、ここ
で、「Ａ」は５オングストロームのケージサイズを示
し、「Ｘ」は、１０オングストロームのケージサイズを
示す）、活性炭等を用いて分離することができ、ここ
で、極性種（例えば、ＮＦ3 、ＣＨＦ3 ）は、ＣＦ4 の
ような非極性種に対して優先的に吸着される。
のＰＦＣ混合物は、沸点が近接している種を含み、それ
ゆえそれらを分別凝縮により分離することが困難であ
る。例えば、Ｃ2 Ｆ6 は、−７８．２℃の標準沸点を有
し、ＣＨＦ3 は、−８２．１℃の標準沸点を有し、ま
た、ＣＦ4 は、−１２７．９℃の標準沸点を有し、ＮＦ
3は、−１２９℃の標準沸点を有する。近接する沸点を
有する少なくとも２の種を分離することを望む場合、近
接し過ぎていない沸点を有する種々の種の間で例えば凝
縮による第１の分離を行って実質的に純粋な種または近
接する沸点を有する種の混合物を提供する。ついで、近
接する沸点を有する種の混合物を他の方法、例えば、混
合物の種の１つが他のものより極性が高い場合には吸着
により分離する。ＮＦ3 およびＣＦ4 は、モレキュラー
シーブ（例えば、ＮａＸ、ＣａＸ、およびＮａＡ、ここ
で、「Ａ」は５オングストロームのケージサイズを示
し、「Ｘ」は、１０オングストロームのケージサイズを
示す）、活性炭等を用いて分離することができ、ここ
で、極性種（例えば、ＮＦ3 、ＣＨＦ3 ）は、ＣＦ4 の
ような非極性種に対して優先的に吸着される。
【００５５】図１は、従来技術の方法におけるＰＦＣを
分解するためのバーナーの効率を温度（℃）に対して示
している。例えば、空気−燃料バーナーを用いたとき、
到達する火炎の温度、ほとんど１００％のＮＦ3 、ＣＣ
ｌ2 Ｆ2 （これはＰＦＣではなく、電子産業に使用され
ているクロロフルオロ化合物である）、ＣＨＦ3 および
ＳＦ6 が破壊される場合、Ｃ2 Ｆ6 およびＣＦ4 は部分
的にのみ破壊され、特にＣ2 Ｆ6 はわずか５０％しか破
壊されない。したがって、燃焼ガスは、排出させること
ができない。しかしながら、温度が約１４００℃である
オキシ−燃料火炎を使用すると、ほとんどのＣ2 Ｆ6 を
破壊できるが、なお不所望の種を発生する。本発明にお
いては、９００℃での燃焼により、Ｃ2 Ｆ6 およびＣＦ
4 を除くすべてのＰＦＣを除去でき、前二者は一緒に再
循環させることができるのである。
分解するためのバーナーの効率を温度（℃）に対して示
している。例えば、空気−燃料バーナーを用いたとき、
到達する火炎の温度、ほとんど１００％のＮＦ3 、ＣＣ
ｌ2 Ｆ2 （これはＰＦＣではなく、電子産業に使用され
ているクロロフルオロ化合物である）、ＣＨＦ3 および
ＳＦ6 が破壊される場合、Ｃ2 Ｆ6 およびＣＦ4 は部分
的にのみ破壊され、特にＣ2 Ｆ6 はわずか５０％しか破
壊されない。したがって、燃焼ガスは、排出させること
ができない。しかしながら、温度が約１４００℃である
オキシ−燃料火炎を使用すると、ほとんどのＣ2 Ｆ6 を
破壊できるが、なお不所望の種を発生する。本発明にお
いては、９００℃での燃焼により、Ｃ2 Ｆ6 およびＣＦ
4 を除くすべてのＰＦＣを除去でき、前二者は一緒に再
循環させることができるのである。
【００５６】本発明に従う１つの方法の一般的特徴が図
２に示され、ここでは、半導体製造プロセス（これは、
ＰＦＣを使用し、ＰＦＣを排出するいずれのタイプのプ
ロセスであってもよい）が参照符号１で表されている。
プロセス１へのＰＦＣおよびキャリヤーガス供給がそれ
ぞれ符号２３および２２で示されている（電子産業でよ
く知られた伝統的なバルクシステムもしくはガスキャビ
ネットを通じるバルクおよび／またはシリンダー輸
送）。
２に示され、ここでは、半導体製造プロセス（これは、
ＰＦＣを使用し、ＰＦＣを排出するいずれのタイプのプ
ロセスであってもよい）が参照符号１で表されている。
プロセス１へのＰＦＣおよびキャリヤーガス供給がそれ
ぞれ符号２３および２２で示されている（電子産業でよ
く知られた伝統的なバルクシステムもしくはガスキャビ
ネットを通じるバルクおよび／またはシリンダー輸
送）。
【００５７】ＰＦＣ、キャリヤーガスおよびいずれもの
他のガス２４（例えば、化学反応性ガス）の混合物は、
プロセス１から廃棄ライン２に回収される。この混合物
は、好ましくは、フィルター５ａを通った後、コンプレ
ッサーＣで圧縮される。ついで、圧縮されたガス混合物
は、場合に応じて冷却器または加熱器Ｑへ送られて圧縮
ガス混合物に所望の温度を提供する。ついで、ガス混合
物は、好ましくは、ドライスクラバーでスクラビングさ
れてほとんどのケイ素水素化物、ＮＨ3 、ＡｓＨ3 、テ
トラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、ハロゲン、ハロゲン
化物が除去された後、好ましくは、ウエットスクラバー
４でスクラビングされてほとんどの水素化物、ハロゲン
化物、ハロゲンガスが除去され（２に提供されるガス混
合物の性質に従い、ドライスクラバー３またはウエット
スクラバーのみが執拗であり得る）、ついでフィルター
５ｂで濾過されて２０マイクロメートルを超えるサイズ
を有する塵、粒子、液滴等が除去される。加えて、粒子
および塵は、ドライスクラバー３の上流のフィルターで
除去され得る。２５中のガス混合物は、いずれもの実質
量の膜ユニット６にとって有害な成分をもはや含有しな
い。ガス流２５は、膜ユニット６の複数の中空繊維の供
給サイド（穴側）に送られ、該混合物のキャリヤーガス
は膜ユニット６の中空繊維を透過し、回収されるか、廃
棄ガス７として排出される（例えば、キャリヤーガスが
ヘリウムおよびまたアルゴンを含む場合、これを回収
し、さらに精製しあるいは精製することなくプロセスに
再循環させることが有用であり得る）。ＰＦＣ（濃縮さ
れている）を含む非透過物流は、８に回収され、ライン
９を介して直接再循環（または後にプロセス１に再使用
するためにバルクで貯蔵）されるか、あるいは分離ユニ
ット例えば凝縮ユニット１０に送られる。凝縮ユニット
１０では、熱交換器がライン１５中の液体窒素ＬＮ2 を
受け取り、高沸点種を凝縮し（異なる流量のＬＮ2 を用
いることにより、種々の生成物の凝縮を容易に制御でき
る）、これはライン１２で液体として回収され、例え
ば、非極性フラクションから極性フラクション（それぞ
れ１９、２０）を分離する吸着プロセスに送られ、これ
らフラクションは、現場でのまたは現場を離れたさらな
る処理のために２１に回収される（破線は、好ましいモ
ノではないことを示す）か、プロセス１へ再循環／貯蔵
される。
他のガス２４（例えば、化学反応性ガス）の混合物は、
プロセス１から廃棄ライン２に回収される。この混合物
は、好ましくは、フィルター５ａを通った後、コンプレ
ッサーＣで圧縮される。ついで、圧縮されたガス混合物
は、場合に応じて冷却器または加熱器Ｑへ送られて圧縮
ガス混合物に所望の温度を提供する。ついで、ガス混合
物は、好ましくは、ドライスクラバーでスクラビングさ
れてほとんどのケイ素水素化物、ＮＨ3 、ＡｓＨ3 、テ
トラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、ハロゲン、ハロゲン
化物が除去された後、好ましくは、ウエットスクラバー
４でスクラビングされてほとんどの水素化物、ハロゲン
化物、ハロゲンガスが除去され（２に提供されるガス混
合物の性質に従い、ドライスクラバー３またはウエット
スクラバーのみが執拗であり得る）、ついでフィルター
５ｂで濾過されて２０マイクロメートルを超えるサイズ
を有する塵、粒子、液滴等が除去される。加えて、粒子
および塵は、ドライスクラバー３の上流のフィルターで
除去され得る。２５中のガス混合物は、いずれもの実質
量の膜ユニット６にとって有害な成分をもはや含有しな
い。ガス流２５は、膜ユニット６の複数の中空繊維の供
給サイド（穴側）に送られ、該混合物のキャリヤーガス
は膜ユニット６の中空繊維を透過し、回収されるか、廃
棄ガス７として排出される（例えば、キャリヤーガスが
ヘリウムおよびまたアルゴンを含む場合、これを回収
し、さらに精製しあるいは精製することなくプロセスに
再循環させることが有用であり得る）。ＰＦＣ（濃縮さ
れている）を含む非透過物流は、８に回収され、ライン
９を介して直接再循環（または後にプロセス１に再使用
するためにバルクで貯蔵）されるか、あるいは分離ユニ
ット例えば凝縮ユニット１０に送られる。凝縮ユニット
１０では、熱交換器がライン１５中の液体窒素ＬＮ2 を
受け取り、高沸点種を凝縮し（異なる流量のＬＮ2 を用
いることにより、種々の生成物の凝縮を容易に制御でき
る）、これはライン１２で液体として回収され、例え
ば、非極性フラクションから極性フラクション（それぞ
れ１９、２０）を分離する吸着プロセスに送られ、これ
らフラクションは、現場でのまたは現場を離れたさらな
る処理のために２１に回収される（破線は、好ましいモ
ノではないことを示す）か、プロセス１へ再循環／貯蔵
される。
【００５８】ガス状フラクションは、ライン１４を介し
て圧力スイング吸着装置１３（または他のいずれかの吸
着装置）に送られ、そこで吸着された種（１またはいく
つか）は、ライン１７に回収され、また、非吸着種（１
またはいくつか）は、ライン１８に回収される。ライン
１７および１８での両生成物は、２１（例えば、現場を
離れた処理）に回収されるか、プロセス１に再循環され
る。
て圧力スイング吸着装置１３（または他のいずれかの吸
着装置）に送られ、そこで吸着された種（１またはいく
つか）は、ライン１７に回収され、また、非吸着種（１
またはいくつか）は、ライン１８に回収される。ライン
１７および１８での両生成物は、２１（例えば、現場を
離れた処理）に回収されるか、プロセス１に再循環され
る。
【００５９】これらの種または種の混合物は、プロセス
１に再循環されるか、ＰＦＣ回収装置２１に回収され
る。２４で他のガス（例えば、ＰＦＣ以外のおよび他の
ガスを希釈するためにもしくはチャンバーをパージする
ために使用するキャリヤーガス以外の化学種）がプロセ
スに導入される。これらの他のガスは、時折、膜に有害
なもの（例えば、ＳｉＨ4 、ＷＦ6 等）であり、かつ半
導体の製造プロセスの他の工程に使用されるものであ
る。
１に再循環されるか、ＰＦＣ回収装置２１に回収され
る。２４で他のガス（例えば、ＰＦＣ以外のおよび他の
ガスを希釈するためにもしくはチャンバーをパージする
ために使用するキャリヤーガス以外の化学種）がプロセ
スに導入される。これらの他のガスは、時折、膜に有害
なもの（例えば、ＳｉＨ4 、ＷＦ6 等）であり、かつ半
導体の製造プロセスの他の工程に使用されるものであ
る。
【００６０】図３は、膜システムおよび凝縮システムで
ある図２の部分の詳細図である。供給流４１（全ての有
害成分は除去されている）は、コンプレッサー４０で圧
縮され、この流れは膜４２の供給サイドに送られる。膜
の透過物サイド４４からの透過物流４５は、通常、排出
される。要求されまたは要求されない圧力調節器４６
は、膜の下流の圧力を（非透過物流に対して）制御し、
非透過物流４７は、例えば凝縮装置４８に送られ、凝縮
装置は、液体窒素ＬＮ2 との熱交換により、凝縮された
流れすなわち液体流４９を未凝縮流すなわちガス（蒸
気）流５０から分離する。熱交換後、液体窒素ＬＮ
2 は、実質的に全体にガス状窒素ＧＮ2 として気化され
る。
ある図２の部分の詳細図である。供給流４１（全ての有
害成分は除去されている）は、コンプレッサー４０で圧
縮され、この流れは膜４２の供給サイドに送られる。膜
の透過物サイド４４からの透過物流４５は、通常、排出
される。要求されまたは要求されない圧力調節器４６
は、膜の下流の圧力を（非透過物流に対して）制御し、
非透過物流４７は、例えば凝縮装置４８に送られ、凝縮
装置は、液体窒素ＬＮ2 との熱交換により、凝縮された
流れすなわち液体流４９を未凝縮流すなわちガス（蒸
気）流５０から分離する。熱交換後、液体窒素ＬＮ
2 は、実質的に全体にガス状窒素ＧＮ2 として気化され
る。
【００６１】図４は、本発明の１の方法および装置の態
様の単純化された概略図である。半導体製造プロセスか
らの供給ガス９０は、第１段階膜Ｍ１に入る前に、コン
プレッサー９０で圧縮される。第１段階膜Ｍ１は、主と
してキャリヤーガスおよびプロセスガスからなる透過物
流９４および１またはそれ以上のＰＦＣで富化された非
透過物流９６を生成させる。背圧調節器９７は、膜Ｍ１
を横切る圧力降下を提供する。ついで、非透過物流９６
は、第２段階膜Ｍ２に入り、第２の非透過物ＰＦＣ富化
流９８、およびＭ１膜には不透過性であるがＭ２膜には
透過性であるキャリヤーガスおよびプロセスガスから主
としてなる第２段階の透過物流１００を生成する。第２
の背圧調節器９９は、第２段階膜Ｍ２を横切る圧力降下
を維持する。場合に応じて、流れ９４および１００を併
せ、廃棄するか、流れ１００のために示したように再循
環させることができる。図４に示した任意的であるが好
ましい部材には、弁１０４および導管１０６が含まれ、
これらによりＰＦＣ生成物流９８が膜Ｍ２の透過物サイ
ドを掃引し、それにより上記’４７１および’９５７特
許（これらの内容は、すでに、本開示内容の一部とされ
ている）に記載されているようにプロセス効率が与えら
れる。また、任意的な真空ポンプが再循環されたガス流
に対するものとして１０２で示されている。真空ポンプ
１０２は、存在する場合、再循環ガス流１００を供給ガ
スとともに装置に再入させる。
様の単純化された概略図である。半導体製造プロセスか
らの供給ガス９０は、第１段階膜Ｍ１に入る前に、コン
プレッサー９０で圧縮される。第１段階膜Ｍ１は、主と
してキャリヤーガスおよびプロセスガスからなる透過物
流９４および１またはそれ以上のＰＦＣで富化された非
透過物流９６を生成させる。背圧調節器９７は、膜Ｍ１
を横切る圧力降下を提供する。ついで、非透過物流９６
は、第２段階膜Ｍ２に入り、第２の非透過物ＰＦＣ富化
流９８、およびＭ１膜には不透過性であるがＭ２膜には
透過性であるキャリヤーガスおよびプロセスガスから主
としてなる第２段階の透過物流１００を生成する。第２
の背圧調節器９９は、第２段階膜Ｍ２を横切る圧力降下
を維持する。場合に応じて、流れ９４および１００を併
せ、廃棄するか、流れ１００のために示したように再循
環させることができる。図４に示した任意的であるが好
ましい部材には、弁１０４および導管１０６が含まれ、
これらによりＰＦＣ生成物流９８が膜Ｍ２の透過物サイ
ドを掃引し、それにより上記’４７１および’９５７特
許（これらの内容は、すでに、本開示内容の一部とされ
ている）に記載されているようにプロセス効率が与えら
れる。また、任意的な真空ポンプが再循環されたガス流
に対するものとして１０２で示されている。真空ポンプ
１０２は、存在する場合、再循環ガス流１００を供給ガ
スとともに装置に再入させる。
【００６２】図５は、図４に示すものに実質的に従う装
置および方法を示し、再循環ガスライン１００内に再循
環膜ＭR を備える。また、再循環膜ＭR を介してキャリ
ヤーガスの分離を行わせる導管１１０および真空ポンプ
１１２が設けられている。かくして、導管１０８中の再
循環ガスは、主として、ここに規定する他のプロセスガ
スからなる。
置および方法を示し、再循環ガスライン１００内に再循
環膜ＭR を備える。また、再循環膜ＭR を介してキャリ
ヤーガスの分離を行わせる導管１１０および真空ポンプ
１１２が設けられている。かくして、導管１０８中の再
循環ガスは、主として、ここに規定する他のプロセスガ
スからなる。
【００６３】図６および図７は、本発明の他の２つの態
様を示す。図６において、類似または異なるＰＦＣガス
およびプロセスガスとして示されている他のガスを用い
て、いくつかの同じまたは異なるプロセス６０…６１が
使用し得る（同時または非同時に）。プロセス６０…６
１からの廃棄ガスは、好ましくはスクラバーＳ1 、ＳN
でスクラビングされた後、Ｎ2 で希釈され、それぞれ、
６２…６３で圧縮され、単一流６７として混合される
（実際、種々のプロセス１…Ｎは、順次または同時に廃
棄ガスを排出する）。ついで、単一流６７は、好ましく
は、最終浄化工程としてＳm で濾過された後、本発明の
膜ユニットＭ１に供給され、ここで、透過物６５は排出
し、非透過物６６および６６ａ（濃縮されたＰＦＣ）は
プロセス１…Ｎ（それぞれ６０…６１）の１またはそれ
以上に再循環させることができる。あるいは、非透過物
流６６ｃを１またはそれ以上の膜ユニットＭ２、Ｍ３…
ＭNに送り、ＰＦＣの純度を向上させることができる。
膜ユニットＭ２、Ｍ３…ＭNは、また、掃引ガス流を有
することができる。本発明の他の好ましい特徴には、１
またはそれ以上の真空ポンプ（６９ａおよび６９ｂ）、
高圧ＰＦＣ貯蔵容器６８、および／またはサージタンク
６４の設置を含む。多重異種プロセスの例としては、１
のプロセスが金属酸化物エッチングであり、他のプロセ
スが酸化物エッチングであり、さらに他のプロセスがタ
ングステンＣＶＤプロセスであり得る。
様を示す。図６において、類似または異なるＰＦＣガス
およびプロセスガスとして示されている他のガスを用い
て、いくつかの同じまたは異なるプロセス６０…６１が
使用し得る（同時または非同時に）。プロセス６０…６
１からの廃棄ガスは、好ましくはスクラバーＳ1 、ＳN
でスクラビングされた後、Ｎ2 で希釈され、それぞれ、
６２…６３で圧縮され、単一流６７として混合される
（実際、種々のプロセス１…Ｎは、順次または同時に廃
棄ガスを排出する）。ついで、単一流６７は、好ましく
は、最終浄化工程としてＳm で濾過された後、本発明の
膜ユニットＭ１に供給され、ここで、透過物６５は排出
し、非透過物６６および６６ａ（濃縮されたＰＦＣ）は
プロセス１…Ｎ（それぞれ６０…６１）の１またはそれ
以上に再循環させることができる。あるいは、非透過物
流６６ｃを１またはそれ以上の膜ユニットＭ２、Ｍ３…
ＭNに送り、ＰＦＣの純度を向上させることができる。
膜ユニットＭ２、Ｍ３…ＭNは、また、掃引ガス流を有
することができる。本発明の他の好ましい特徴には、１
またはそれ以上の真空ポンプ（６９ａおよび６９ｂ）、
高圧ＰＦＣ貯蔵容器６８、および／またはサージタンク
６４の設置を含む。多重異種プロセスの例としては、１
のプロセスが金属酸化物エッチングであり、他のプロセ
スが酸化物エッチングであり、さらに他のプロセスがタ
ングステンＣＶＤプロセスであり得る。
【００６４】図６には、さらに、膜ユニットＭ１の非透
過物流６６に対して物質流測定装置１００が示され、こ
れは、制御器２００を介して間接的に透過物流の流れを
制御し、制御器は、流量測定装置１００から信号を受け
取り、導管６７および６５中の流量制御弁を調節する。
導管６６は、好ましくは、背圧調節器（簡潔化のため、
図示せず）を含む。背圧調節器１０２、１０４および１
０６は、背圧調節器９７（図４）について上に述べた機
能を提供する。他のプロセス制御スキームも可能であ
る。たとえば、すでに述べたように、非透過物流６６中
の設定点ＰＦＣ濃度を用いてＭ１を操作することが有利
であり得る。そのような態様において、流量測定装置
は、また、導管６６中のＰＦＣ濃度を測定するための分
析装置を含み得る。所望により、類似のプロセス制御を
膜ユニットＭ１、Ｍ２、Ｍ３およびＭN についても使用
することができる。また、１０８ａ、１０８ｂ、１０８
ｃ、１０４ａ、１０４ｂ、１０４ｃ、１０６ａ、１０６
ｂおよび１０６ｃで示すように、後者の膜ユニット中に
類似の配管を使用することができる。
過物流６６に対して物質流測定装置１００が示され、こ
れは、制御器２００を介して間接的に透過物流の流れを
制御し、制御器は、流量測定装置１００から信号を受け
取り、導管６７および６５中の流量制御弁を調節する。
導管６６は、好ましくは、背圧調節器（簡潔化のため、
図示せず）を含む。背圧調節器１０２、１０４および１
０６は、背圧調節器９７（図４）について上に述べた機
能を提供する。他のプロセス制御スキームも可能であ
る。たとえば、すでに述べたように、非透過物流６６中
の設定点ＰＦＣ濃度を用いてＭ１を操作することが有利
であり得る。そのような態様において、流量測定装置
は、また、導管６６中のＰＦＣ濃度を測定するための分
析装置を含み得る。所望により、類似のプロセス制御を
膜ユニットＭ１、Ｍ２、Ｍ３およびＭN についても使用
することができる。また、１０８ａ、１０８ｂ、１０８
ｃ、１０４ａ、１０４ｂ、１０４ｃ、１０６ａ、１０６
ｂおよび１０６ｃで示すように、後者の膜ユニット中に
類似の配管を使用することができる。
【００６５】図７は、並行処理の態様を示し、ここで
は、各プロセス１…Ｎには（それぞれ７２および７３に
おいて、窒素での希釈および圧縮後に）、それぞれ、本
発明による膜システムＭ１…ＭN が備えられている。各
供給流７４…７５は、膜システムＭ１…ＭN （必要によ
り、予備処理システムＳ１…ＳN を備える）に供給され
る。透過物ガスは、一緒に、７８で排出されるが、各非
透過物７９、８０は、好ましくはその対応するプロセス
に、再循環される。本発明の好ましい装置は、余分の膜
ユニットＭR を含み、これは好ましくはそれ自体の予備
処理ユニットＳTを有する。また、再循環膜ユニットＭR
を備えることが好ましく、これは、使用し得る反応性
プロセスガスをキャリヤーガスから分離するものであ
る。なお、弁の好適な配置により、この態様は並行また
は直列（カスケード）モードで操作し得るものである。
は、各プロセス１…Ｎには（それぞれ７２および７３に
おいて、窒素での希釈および圧縮後に）、それぞれ、本
発明による膜システムＭ１…ＭN が備えられている。各
供給流７４…７５は、膜システムＭ１…ＭN （必要によ
り、予備処理システムＳ１…ＳN を備える）に供給され
る。透過物ガスは、一緒に、７８で排出されるが、各非
透過物７９、８０は、好ましくはその対応するプロセス
に、再循環される。本発明の好ましい装置は、余分の膜
ユニットＭR を含み、これは好ましくはそれ自体の予備
処理ユニットＳTを有する。また、再循環膜ユニットＭR
を備えることが好ましく、これは、使用し得る反応性
プロセスガスをキャリヤーガスから分離するものであ
る。なお、弁の好適な配置により、この態様は並行また
は直列（カスケード）モードで操作し得るものである。
【００６６】本発明のこれらすべての異なる態様につい
て、ある場合には、膜横断圧力降下を生じさせることが
好ましいということを注意することは重要である。１つ
の態様において、これは、通常半導体製造プロセスから
放出されるガス混合物の圧力にほぼ相当するほぼ大気圧
に供給ガスを維持しながら、膜の透過物サイドに真空を
発生させることにより行うことができる。通常キャリヤ
ーガスのみが膜を透過する限り、これらガスは真空ポン
プまたは他の真空装置を損傷させ得ないが、反対に、膜
からの上流でガス混合物を圧縮することは、より多くの
ガスを圧縮することのみを意味することなく、これは圧
縮手段に対する危険をも意味する。
て、ある場合には、膜横断圧力降下を生じさせることが
好ましいということを注意することは重要である。１つ
の態様において、これは、通常半導体製造プロセスから
放出されるガス混合物の圧力にほぼ相当するほぼ大気圧
に供給ガスを維持しながら、膜の透過物サイドに真空を
発生させることにより行うことができる。通常キャリヤ
ーガスのみが膜を透過する限り、これらガスは真空ポン
プまたは他の真空装置を損傷させ得ないが、反対に、膜
からの上流でガス混合物を圧縮することは、より多くの
ガスを圧縮することのみを意味することなく、これは圧
縮手段に対する危険をも意味する。
【００６７】図８は、２０℃で２つの異なる流量１７０
ｍｌ／分および１３０ｍｌ／分について、表面積約０．
２ｍ2 を有するポリイミド製中空繊維膜に対して供給流
を該中空繊維中に送り、透過物を中空繊維の外側に向け
て行った実験例を示している。図８は、膜の非透過物サ
イドと透過物サイドとの間の圧力降下が低いと、Ｃ2Ｆ
6 の濃縮が生じないこと（「残渣」をもって非透過物サ
イド上に０．２％のＣ2 Ｆ6 回収）を明らかに示してい
る。より高い圧力降下では、流量に依存して、１３０ｍ
ｌ／分の流量に関してはＣ2 Ｆ6 の濃度は、開始点（on
set point ）約７×１０5 Ｎ／ｍ2 （膜横断ΔＰ）をも
って増加する。より高い流量（１７０ｍｌ／分）では、
開始点は明らかに高い（流量とともに増加）。
ｍｌ／分および１３０ｍｌ／分について、表面積約０．
２ｍ2 を有するポリイミド製中空繊維膜に対して供給流
を該中空繊維中に送り、透過物を中空繊維の外側に向け
て行った実験例を示している。図８は、膜の非透過物サ
イドと透過物サイドとの間の圧力降下が低いと、Ｃ2Ｆ
6 の濃縮が生じないこと（「残渣」をもって非透過物サ
イド上に０．２％のＣ2 Ｆ6 回収）を明らかに示してい
る。より高い圧力降下では、流量に依存して、１３０ｍ
ｌ／分の流量に関してはＣ2 Ｆ6 の濃度は、開始点（on
set point ）約７×１０5 Ｎ／ｍ2 （膜横断ΔＰ）をも
って増加する。より高い流量（１７０ｍｌ／分）では、
開始点は明らかに高い（流量とともに増加）。
【００６８】図９は、供給流（または膜：図８について
使用した同じ膜）の温度の効果を示している。供給流の
温度が高いほど、同じ濃度のＰＦＣを達成するために
は、より高い膜横断圧力差が必要である。
使用した同じ膜）の温度の効果を示している。供給流の
温度が高いほど、同じ濃度のＰＦＣを達成するために
は、より高い膜横断圧力差が必要である。
【００６９】図１０は、膜の非透過物サイド上でのＣ2
Ｆ6 の回収率を２つの異なる流量について膜横断圧力差
に対して示すものである。非常に低い圧力差では、ほぼ
全てのＣ2 Ｆ6 が回収されるが、膜を透過するＣ2 Ｆ6
の割合は、膜横断圧力降下とともに前進的に増加し、そ
の割合は流量が低い方が速く増加する（１３０ｍｌ／分
についての曲線と１７０ｍｌ／分についての曲線を比較
されたい）。
Ｆ6 の回収率を２つの異なる流量について膜横断圧力差
に対して示すものである。非常に低い圧力差では、ほぼ
全てのＣ2 Ｆ6 が回収されるが、膜を透過するＣ2 Ｆ6
の割合は、膜横断圧力降下とともに前進的に増加し、そ
の割合は流量が低い方が速く増加する（１３０ｍｌ／分
についての曲線と１７０ｍｌ／分についての曲線を比較
されたい）。
【００７０】図１１は、１７０ｍｌ／分についての温度
の効果を示すものである。２０℃では透過するＣ2 Ｆ6
の量は極端に少ないが、約７×１０5 Ｎ／ｍ2 の圧力降
下について５５℃ではそのほぼ半分が透過する。
の効果を示すものである。２０℃では透過するＣ2 Ｆ6
の量は極端に少ないが、約７×１０5 Ｎ／ｍ2 の圧力降
下について５５℃ではそのほぼ半分が透過する。
【００７１】回収の観点（図１０および図１１）から、
ある圧力降下では、高流量および周囲温度で操作するこ
とがよりよいことである。しかし、図８および図９は、
ある程度の純度（したがってある濃度）のＣ2 Ｆ6 を得
るためには、実質的な圧力降下が必要であることを示し
ている。
ある圧力降下では、高流量および周囲温度で操作するこ
とがよりよいことである。しかし、図８および図９は、
ある程度の純度（したがってある濃度）のＣ2 Ｆ6 を得
るためには、実質的な圧力降下が必要であることを示し
ている。
【００７２】図１２は、ガスキャビネットの一般的操作
を示し、図１３および図１４は、本発明の観点を示して
いる。ガスキャビネット（ガスパネルとしても知られ
る）は、半導体製造分野でよく知られており、当業者に
説明する必要はほとんどないものである。ＰＦＣ用のガ
スキャビネットは、ＰＦＣ排出流を有する。ＰＦＣは、
チューブトレーラー、クリーンルーム、ガスパッケージ
設備等から排出するが、これも説明をほとんど要しな
い。以下の説明はガスキャビネットの排出に関するもの
であるが、その考えは、いずれもの排出ＰＦＣからの比
較的純粋なＰＦＣの回収に関する。
を示し、図１３および図１４は、本発明の観点を示して
いる。ガスキャビネット（ガスパネルとしても知られ
る）は、半導体製造分野でよく知られており、当業者に
説明する必要はほとんどないものである。ＰＦＣ用のガ
スキャビネットは、ＰＦＣ排出流を有する。ＰＦＣは、
チューブトレーラー、クリーンルーム、ガスパッケージ
設備等から排出するが、これも説明をほとんど要しな
い。以下の説明はガスキャビネットの排出に関するもの
であるが、その考えは、いずれもの排出ＰＦＣからの比
較的純粋なＰＦＣの回収に関する。
【００７３】すべてが自動化されたキャビネットは、シ
リンダー仕込みの前後に特定のパージルーチンを採用す
る。一般に予備パージルーチンは、プロセスガスのパー
ジに利用され、後パージルーチンは、一般に、パージ侵
入物の除去に使用される。以下に、図１２を参照して、
典型的なガスキャビネットの異なる操作モードを説明す
る。
リンダー仕込みの前後に特定のパージルーチンを採用す
る。一般に予備パージルーチンは、プロセスガスのパー
ジに利用され、後パージルーチンは、一般に、パージ侵
入物の除去に使用される。以下に、図１２を参照して、
典型的なガスキャビネットの異なる操作モードを説明す
る。
【００７４】プロセスガス配送モード プロセスガスは、まず、Ｖ１を通った後、圧力減少調節
器を通り、ついでＶ７を通る。このプロセスガス配送モ
ード中、弁Ｖ２、Ｖ３およびＶ５は、バイパスされる。
器を通り、ついでＶ７を通る。このプロセスガス配送モ
ード中、弁Ｖ２、Ｖ３およびＶ５は、バイパスされる。
【００７５】予備パージルーチン 排出パージ プロセスガスシリンダー弁を閉じたら、Ｖ４により窒素
で真空発生装置を駆動し、排出ラインを大気除去のため
にパージする。このとき、Ｖ２およびＶ５の間の排出領
域もはきする。ついで、Ｖ４を順次オン、オフしてＶ２
とＶ５との間の領域を窒素で裏込めする。
で真空発生装置を駆動し、排出ラインを大気除去のため
にパージする。このとき、Ｖ２およびＶ５の間の排出領
域もはきする。ついで、Ｖ４を順次オン、オフしてＶ２
とＶ５との間の領域を窒素で裏込めする。
【００７６】排出モード Ｖ７を閉じ、Ｖ４をオンにして、プロセスガスをＶ５を
通して排出し、Ｖ１はプロセスガスが安全に大気圧に達
するまで開放しておく（トランスデューサーで検出）。
０．０４０”のオリフィスが真空発生装置の真空入口上
に配置され、排出流量を制限する。
通して排出し、Ｖ１はプロセスガスが安全に大気圧に達
するまで開放しておく（トランスデューサーで検出）。
０．０４０”のオリフィスが真空発生装置の真空入口上
に配置され、排出流量を制限する。
【００７７】真空モード Ｖ４をオンにし、Ｖ１を閉じ、Ｖ２を開放して、２２〜
２４”Ｈｇの真空をＶ１とシリンダー弁との間に発生さ
せる。注：Ｖ１は、パージルーチン注常に閉じておく。
２４”Ｈｇの真空をＶ１とシリンダー弁との間に発生さ
せる。注：Ｖ１は、パージルーチン注常に閉じておく。
【００７８】窒素圧モード Ｖ４をオンにし、Ｖ２およびＶ３を開放して、Ｖ６を開
放し窒素圧（８０ｐｓｉ）を真空に打ち勝たせ、Ｖ１と
シリンダー弁との間で窒素により装置を加圧する。Ｖ６
を閉じると、Ｖ１とシリンダー弁との間に真空が再び発
生する。予備パージ中、Ｖ６は順次オン、オフさせて真
空／パージ動作を生じさせる。
放し窒素圧（８０ｐｓｉ）を真空に打ち勝たせ、Ｖ１と
シリンダー弁との間で窒素により装置を加圧する。Ｖ６
を閉じると、Ｖ１とシリンダー弁との間に真空が再び発
生する。予備パージ中、Ｖ６は順次オン、オフさせて真
空／パージ動作を生じさせる。
【００７９】窒素パージガスブリード（bleed) 予備パージが完了したら、Ｖ３を開放し、Ｖ６を部分的
に開放することによってピグテールパージブリードを作
動させる。プロセスガスシリンダーを取り除くと、予備
設定流量の窒素がピグテールから流れ、大気侵入を防止
する。
に開放することによってピグテールパージブリードを作
動させる。プロセスガスシリンダーを取り除くと、予備
設定流量の窒素がピグテールから流れ、大気侵入を防止
する。
【００８０】後パージルーチン 真空モード Ｖ４をオンにし、Ｖ２を開放して、Ｖ１とシリンダー弁
との間に２２〜２４”Ｈｇの真空を発生させる。
との間に２２〜２４”Ｈｇの真空を発生させる。
【００８１】窒素圧モード Ｖ４をオンにし、Ｖ２およびＶ３を開放し、Ｖ６を開放
し窒素圧（８０ｐｓｉ）を真空に打ち勝たせ、Ｖ１とシ
リンダー弁との間で窒素により装置を加圧する。Ｖ６を
閉じると、Ｖ１とシリンダー弁との間に真空が再び発生
する。予備パージ中、Ｖ６は順次オン、オフさせて真空
／パージ動作を生じさせる。このシーケンスは、真空下
でＶ１までピグテールで終了する。
し窒素圧（８０ｐｓｉ）を真空に打ち勝たせ、Ｖ１とシ
リンダー弁との間で窒素により装置を加圧する。Ｖ６を
閉じると、Ｖ１とシリンダー弁との間に真空が再び発生
する。予備パージ中、Ｖ６は順次オン、オフさせて真空
／パージ動作を生じさせる。このシーケンスは、真空下
でＶ１までピグテールで終了する。
【００８２】プロセスガスフラッシュ（flush ） さて、プロセスガスシリンダー弁を開放する。Ｖ４をオ
ンにした後、Ｖ１を開放する。次に、Ｖ５を順次オン、
オフさせ、オリフィスを介しての排出中プロセスガスを
フラシングする。このシーケンスが完了したら、装置は
プロセスガス配送モードに戻る。
ンにした後、Ｖ１を開放する。次に、Ｖ５を順次オン、
オフさせ、オリフィスを介しての排出中プロセスガスを
フラシングする。このシーケンスが完了したら、装置は
プロセスガス配送モードに戻る。
【００８３】図１３は、ガスキャビネット１５０への純
粋なＰＦＣ流の供給を示している（簡潔のため、内部は
示していない）。ガスキャビネット１５０は、本明細書
に説明したような非透過物流２２０および透過物流２４
０を有する膜分離ユニット２００へ至る排出チューブま
たは導管１８０を有する。
粋なＰＦＣ流の供給を示している（簡潔のため、内部は
示していない）。ガスキャビネット１５０は、本明細書
に説明したような非透過物流２２０および透過物流２４
０を有する膜分離ユニット２００へ至る排出チューブま
たは導管１８０を有する。
【００８４】図１４は、共通の膜回収ユニット２００へ
排出する多重（この場合は３個）のガスキャビネット１
５０ａ、１５０ｂおよび１５０ｃの設置を示している。
排出する多重（この場合は３個）のガスキャビネット１
５０ａ、１５０ｂおよび１５０ｃの設置を示している。
【００８５】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。
【００８６】実施例１ ０．９５体積％のＣ2 Ｆ6 、１．０３体積％のＣＨ
Ｆ3 、１．１０％のＣＦ4および９６．９３％の窒素を
含有し、５４４，２１８パスカルの圧力、２９３Ｋ（２
０℃）の温度および１９３ｓｌ／ｍ（分当たりの標準リ
ットル）の流量の供給流を米国特許第５，０８５，６７
６号に従って作ったポリイミド膜の供給サイドに供給す
る。真空装置は、膜の反対側に低圧を産み出す：回収さ
れた透過物流は６，５７９パスカルの圧力、２９３Ｋの
温度および１８１ｓｌ／ｍの流量にあるが、非透過物サ
イドでは、圧力は５４４，２１８のままであり、温度２
９３Ｋおよび流量１２ｓｌ／ｍである。膜からの非透過
物（濃縮）流は、 Ｃ2 Ｆ6 １５．６６体積％ ＣＨＦ3 ９．５４体積％ ＣＦ4 １８．１５体積％ Ｎ2 ５６．６５体積％ を含有する。
Ｆ3 、１．１０％のＣＦ4および９６．９３％の窒素を
含有し、５４４，２１８パスカルの圧力、２９３Ｋ（２
０℃）の温度および１９３ｓｌ／ｍ（分当たりの標準リ
ットル）の流量の供給流を米国特許第５，０８５，６７
６号に従って作ったポリイミド膜の供給サイドに供給す
る。真空装置は、膜の反対側に低圧を産み出す：回収さ
れた透過物流は６，５７９パスカルの圧力、２９３Ｋの
温度および１８１ｓｌ／ｍの流量にあるが、非透過物サ
イドでは、圧力は５４４，２１８のままであり、温度２
９３Ｋおよび流量１２ｓｌ／ｍである。膜からの非透過
物（濃縮）流は、 Ｃ2 Ｆ6 １５．６６体積％ ＣＨＦ3 ９．５４体積％ ＣＦ4 １８．１５体積％ Ｎ2 ５６．６５体積％ を含有する。
【００８７】膜からの透過物流は、 Ｃ2 Ｆ6 ０．０２体積％ ＣＨＦ3 ０．４８体積％ ＣＦ4 ０．０１体積％ Ｎ2 ９９．４９体積％ を含有する。
【００８８】非透過物流は、さらに、上記低温凝縮装置
に送られ、そこで非透過物流１ポンド当たり０．４９４
２ポンドの液体窒素を熱交換器により接触させ、以下述
べるようにほとんどのＰＦＣを凝縮させる。蒸気および
液体流の成分は以下の通りである。
に送られ、そこで非透過物流１ポンド当たり０．４９４
２ポンドの液体窒素を熱交換器により接触させ、以下述
べるようにほとんどのＰＦＣを凝縮させる。蒸気および
液体流の成分は以下の通りである。
【００８９】蒸気流： Ｃ2 Ｆ6 １．０３体積％ ＣＨＦ3 ０．６９体積％ ＣＦ4 １６．５体積％ Ｎ2 ８１．７８体積％。
【００９０】この蒸気流は、窒素で希釈されたＣＦ4 か
ら実質的になる。
ら実質的になる。
【００９１】液体流： Ｃ2 Ｆ6 ４７．８３体積％ ＣＨＦ3 ２９．００体積％ ＣＦ4 ２１．８１体積％ Ｎ2 １．３７体積％。
【００９２】この液体流は、３種の液体種Ｃ2 Ｆ6 、Ｃ
ＨＦ3 およびＣＦ4 に実質的に濃縮される。ついで、こ
の液体流を供給流が出てきた当該プロセスに再循環させ
るか、さらなる処理（濃縮、分離等）のために回収し、
搬送する。
ＨＦ3 およびＣＦ4 に実質的に濃縮される。ついで、こ
の液体流を供給流が出てきた当該プロセスに再循環させ
るか、さらなる処理（濃縮、分離等）のために回収し、
搬送する。
【００９３】蒸気流は、好ましくは低温凝縮装置の入力
に再循環されるか、処理し（例えば、スクラビング）、
捨てる。
に再循環されるか、処理し（例えば、スクラビング）、
捨てる。
【００９４】実施例２ 実施例１と同じ条件の下で、０．９５体積％のＣ
2 Ｆ6 、１．０３体積％のＣＨＦ3 、１．１０％のＣＦ
4 および９６．９３％の窒素を含有し、５４４．１０5
パスカルの圧力、２０℃の温度および１９３ｓｌ／ｍ
（分当たりの標準リットル）の流量の供給流を実施例１
と同じ膜に供給する。この膜は、液体窒素を用いた同じ
低温分離装置に接続されている。膜からの非透過物（濃
縮）流は、供給流と同じ温度および圧力であるが、１２
ｓｌ／ｍの流量で、 Ｃ2 Ｆ6 １５．６６体積％ ＣＨＦ3 ９．５４体積％ ＣＦ4 １８．１５体積％ Ｎ2 ５６．６５体積％ を含有する。
2 Ｆ6 、１．０３体積％のＣＨＦ3 、１．１０％のＣＦ
4 および９６．９３％の窒素を含有し、５４４．１０5
パスカルの圧力、２０℃の温度および１９３ｓｌ／ｍ
（分当たりの標準リットル）の流量の供給流を実施例１
と同じ膜に供給する。この膜は、液体窒素を用いた同じ
低温分離装置に接続されている。膜からの非透過物（濃
縮）流は、供給流と同じ温度および圧力であるが、１２
ｓｌ／ｍの流量で、 Ｃ2 Ｆ6 １５．６６体積％ ＣＨＦ3 ９．５４体積％ ＣＦ4 １８．１５体積％ Ｎ2 ５６．６５体積％ を含有する。
【００９５】膜からの透過物流は、 Ｃ2 Ｆ6 ０．０２体積％ ＣＨＦ3 ０．４８体積％ ＣＦ4 ０．０１体積％ Ｎ2 ９９．４９体積％ を含有する。
【００９６】非透過物流は、実施例１に開示した低温分
離装置に送られ、以下の蒸気および液体流が得られる。
離装置に送られ、以下の蒸気および液体流が得られる。
【００９７】蒸気流： Ｃ2 Ｆ6 １．０３体積％ ＣＨＦ3 ０．６９体積％ ＣＦ4 １６．５体積％ Ｎ2 ８１．７８体積％。
【００９８】液体流： Ｃ2 Ｆ6 ４７．８３体積％ ＣＨＦ3 ２９．００体積％ ＣＦ4 ２１．８１体積％ Ｎ2 １．３７体積％。
【００９９】液体流は、実質的に３種の液体種Ｃ
2 Ｆ6 、ＣＨＦ3 およびＣＦ4 に濃縮される。液体およ
び蒸気流は、例えば実施例１で説明したように処理され
る。
2 Ｆ6 、ＣＨＦ3 およびＣＦ4 に濃縮される。液体およ
び蒸気流は、例えば実施例１で説明したように処理され
る。
【０１００】実施例３ 実施例１と同じ条件の下で、０．２０体積％のＣ
2 Ｆ6 、０．０１体積％のＣＨＦ3 、０．０６％のＣＦ
4 、０．０１％のＮＦ3 、０．０１％のＳＦ6 および９
９．７１％の窒素を含有し、７１４，２８６パスカルの
圧力、２０℃の温度および１９９ｓｌ／ｍ（分当たりの
標準リットル）の流量の供給流を実施例１と同じ膜に供
給する。この膜は、液体窒素を用いた同じ低温分離装置
に接続されている。膜からの非透過物（濃縮）流は、 Ｃ2 Ｆ6 ０．５３８１体積％ ＣＨＦ3 ０．０２体積％ ＣＦ4 ０．１６１１体積％ ＮＦ3 ０．０２４５体積％ ＳＦ6 ０．０２７１体積％ Ｎ2 ９９．２２９１体積％ を含有する（供給流と同じ温度および圧力であるが、７
３ｓｌ／ｍの流量で）。
2 Ｆ6 、０．０１体積％のＣＨＦ3 、０．０６％のＣＦ
4 、０．０１％のＮＦ3 、０．０１％のＳＦ6 および９
９．７１％の窒素を含有し、７１４，２８６パスカルの
圧力、２０℃の温度および１９９ｓｌ／ｍ（分当たりの
標準リットル）の流量の供給流を実施例１と同じ膜に供
給する。この膜は、液体窒素を用いた同じ低温分離装置
に接続されている。膜からの非透過物（濃縮）流は、 Ｃ2 Ｆ6 ０．５３８１体積％ ＣＨＦ3 ０．０２体積％ ＣＦ4 ０．１６１１体積％ ＮＦ3 ０．０２４５体積％ ＳＦ6 ０．０２７１体積％ Ｎ2 ９９．２２９１体積％ を含有する（供給流と同じ温度および圧力であるが、７
３ｓｌ／ｍの流量で）。
【０１０１】膜からの透過物流は、 Ｃ2 Ｆ6 ０．００４１体積％ ＣＨＦ3 ０．００４７体積％ ＣＦ4 ０．００１体積％ ＮＦ3 ０．００１６体積％ ＳＦ6 ０．０００４体積％ Ｎ2 ９９．９８７８体積％ を含有する。
【０１０２】透過物の圧力は、１２６ｓｌ／ｍの流量
で、６５７９パスカルである。さらに、非透過物流は、
実施例１に開示した低温分離装置（非透過物流１ポンド
当たり０．４３３５ポンドのＬＮ2 ）に送られ、以下の
蒸気および液体流が得られる。
で、６５７９パスカルである。さらに、非透過物流は、
実施例１に開示した低温分離装置（非透過物流１ポンド
当たり０．４３３５ポンドのＬＮ2 ）に送られ、以下の
蒸気および液体流が得られる。
【０１０３】 蒸気流： Ｃ2 Ｆ6 ０．３４１８％ 圧力：７１４，２８６パスカル ＣＨＦ3 ０．０１２５％ 温度：１４４Ｋ ＣＦ4 ０．１５９２％ 流量：７２．８ｓｌ／ｍ ＮＦ3 ０．０２４２％ ＳＦ6 ０．０１１８％ Ｎ2 ９９．４５０５％。
【０１０４】 液体流： Ｃ2 Ｆ6 ８５．９１００％ 圧力：７１４，２８６パスカル ＣＨＦ3 ３．２８００％ 温度：１４４Ｋ ＣＦ4 ０．９９００％ 流量：０．２ｓｌ／ｍ ＮＦ3 ０．１４００％ ＳＦ6 ６．６９００％ Ｎ2 ２．９９００％。
【０１０５】実施例４ 実施例１と同じ条件の下で、０．２０体積％のＣ
2 Ｆ6 、０．０１体積％のＣＨＦ3 、０．０６％のＣＦ
4 、０．０１％のＮＦ3 、０．０１％のＳＦ6 および９
９．７１％の窒素を含有し、３１９，７２８パスカルの
圧力、２０℃の温度および１７０ｓｌ／ｍ（分当たりの
標準リットル）の流量の供給流を実施例１と同じ膜に供
給する。この膜は、液体窒素を用いた同じ低温分離装置
に接続されている。膜からの非透過物（濃縮）流は、 Ｃ2 Ｆ6 ０．５６００体積％ ＣＨＦ3 ０．０２００体積％ ＣＦ4 ０．１７００体積％ ＮＦ3 ０．０３００体積％ ＳＦ6 ０．０３００体積％ Ｎ2 ９９．２００体積％ を含有する（供給流と同じ温度および圧力であるが、１
１２ｓｌ／ｍの流量で）。
2 Ｆ6 、０．０１体積％のＣＨＦ3 、０．０６％のＣＦ
4 、０．０１％のＮＦ3 、０．０１％のＳＦ6 および９
９．７１％の窒素を含有し、３１９，７２８パスカルの
圧力、２０℃の温度および１７０ｓｌ／ｍ（分当たりの
標準リットル）の流量の供給流を実施例１と同じ膜に供
給する。この膜は、液体窒素を用いた同じ低温分離装置
に接続されている。膜からの非透過物（濃縮）流は、 Ｃ2 Ｆ6 ０．５６００体積％ ＣＨＦ3 ０．０２００体積％ ＣＦ4 ０．１７００体積％ ＮＦ3 ０．０３００体積％ ＳＦ6 ０．０３００体積％ Ｎ2 ９９．２００体積％ を含有する（供給流と同じ温度および圧力であるが、１
１２ｓｌ／ｍの流量で）。
【０１０６】膜からの透過物流は、 Ｃ2 Ｆ6 ０．０１５４体積％ ＣＨＦ3 ０．００４１体積％ ＣＦ4 ０．００３９体積％ ＮＦ3 ０．００１９体積％ ＳＦ6 ０．０００９体積％ Ｎ2 ９９．９７３体積％ を含有する。
【０１０７】透過物の圧力は、１１２ｓｌ／ｍの流量
で、６５７９パスカルである。さらに、非透過物流は、
実施例１に開示した低温分離装置（非透過物流１ポンド
当たり０．４３３５ポンドのＬＮ2 ）に送られ、以下の
蒸気および液体流が得られる。
で、６５７９パスカルである。さらに、非透過物流は、
実施例１に開示した低温分離装置（非透過物流１ポンド
当たり０．４３３５ポンドのＬＮ2 ）に送られ、以下の
蒸気および液体流が得られる。
【０１０８】 蒸気流： Ｃ2 Ｆ6 ０．００７２％ 圧力：７１４，２８６パスカル ＣＨＦ3 ０．０００３％ 温度：１４４Ｋ ＣＦ4 ０．１１４５％ 流量：７２．８ｓｌ／ｍ ＮＦ3 ０．０１９７％ ＳＦ6 ０．０００３％ Ｎ2 ９９．８５８０％。
【０１０９】 液体流： Ｃ2 Ｆ6 ８０．６７％ 圧力：７１４，２８６パスカル ＣＨＦ3 ２．８８％ 温度：１４４Ｋ ＣＦ4 ８．２１％ 流量：０．２ｓｌ／ｍ ＮＦ3 １．５２％ ＳＦ6 ４．３４％ Ｎ2 ２．３８％。
【０１１０】実施例５ 実施例２と同じ条件の下で、１．００体積％のＣ
2 Ｆ6 、０．０１体積％のＣＨＦ3 、０．０１％のＣＦ
4 および９８．９６％の窒素を含有し、８６６，５９５
パスカルの圧力、２０℃の温度および５，０００ｓｌ／
ｍ（分当たりの標準リットル）の流量の供給流を実施例
１と同じ膜（第１の膜）に供給する。この膜は、第２の
膜に接続されている（カスケード接続：第１の膜の非透
過物サイドを第２の膜の供給サイドに）。第１の膜から
の非透過物（濃縮）流は、 Ｃ2 Ｆ6 ３９．９３体積％ ＣＨＦ3 ０．１７体積％ ＣＦ4 ０．３１体積％ ＮＦ3 ０．１７体積％ ＳＦ6 ０．３１体積％ Ｎ2 ６５．１１体積％ を含有する。ただし、供給流と同じ温度および圧力であ
るが、１５０ｓｌ／ｍの流量でである。
2 Ｆ6 、０．０１体積％のＣＨＦ3 、０．０１％のＣＦ
4 および９８．９６％の窒素を含有し、８６６，５９５
パスカルの圧力、２０℃の温度および５，０００ｓｌ／
ｍ（分当たりの標準リットル）の流量の供給流を実施例
１と同じ膜（第１の膜）に供給する。この膜は、第２の
膜に接続されている（カスケード接続：第１の膜の非透
過物サイドを第２の膜の供給サイドに）。第１の膜から
の非透過物（濃縮）流は、 Ｃ2 Ｆ6 ３９．９３体積％ ＣＨＦ3 ０．１７体積％ ＣＦ4 ０．３１体積％ ＮＦ3 ０．１７体積％ ＳＦ6 ０．３１体積％ Ｎ2 ６５．１１体積％ を含有する。ただし、供給流と同じ温度および圧力であ
るが、１５０ｓｌ／ｍの流量でである。
【０１１１】第１の膜からの透過物流は、 Ｃ2 Ｆ6 ０．００１２体積％ ＣＨＦ3 ０．００５３体積％ ＣＦ4 ０．０００９体積％ ＮＦ3 ０．００５２体積％ ＳＦ6 ０．０００９体積％ Ｎ2 ９９．９８６５体積％ を含有する。
【０１１２】第２の膜からの非透過物（濃縮）流は、 Ｃ2 Ｆ6 ９６．５２体積％ ＣＨＦ3 ０．２３体積％ ＣＦ4 ０．８１体積％ ＮＦ3 ０．２３体積％ ＳＦ6 ０．８１体積％ Ｎ2 ０．３９体積％ を含有する。
【０１１３】第２の膜からの透過物流は、 Ｃ2 Ｆ6 ０．０６３６体積％ ＣＨＦ3 ０．１３５８体積％ ＣＦ4 ０．０４２４体積％ ＮＦ3 ０．１３３９体積％ ＳＦ6 ０．０４０６体積％ Ｎ2 ９９．５８７３９体積％ を含有する。
【０１１４】実施例６ 実施例２と同じ条件の下で、１．００体積％のＣ
2 Ｆ6 、０．２％のＣＦ4 および９８．９％の窒素を含
有し、２１３，３１５パスカルの圧力、２０℃の温度お
よび６，３６６グラム／分の流量の供給流を実施例１と
同じ膜に供給する。この膜は、切り替え時間１５分を有
する真空切り替え吸着装置（ＶＳＡ）に接続されてい
る。膜からの非透過物（濃縮）流は、 Ｃ2 Ｆ6 ７４．２重量％ ＣＦ4 １０．８重量％ Ｎ2 １５．１重量％ を含有する。ただし、供給流と同じ温度および圧力では
あるが、８４グラム／分の流量でである。
2 Ｆ6 、０．２％のＣＦ4 および９８．９％の窒素を含
有し、２１３，３１５パスカルの圧力、２０℃の温度お
よび６，３６６グラム／分の流量の供給流を実施例１と
同じ膜に供給する。この膜は、切り替え時間１５分を有
する真空切り替え吸着装置（ＶＳＡ）に接続されてい
る。膜からの非透過物（濃縮）流は、 Ｃ2 Ｆ6 ７４．２重量％ ＣＦ4 １０．８重量％ Ｎ2 １５．１重量％ を含有する。ただし、供給流と同じ温度および圧力では
あるが、８４グラム／分の流量でである。
【０１１５】膜からの透過物流は、 Ｃ2 Ｆ6 ０．００１重量％ ＣＦ4 ０．０１４重量％ Ｎ2 ９９．９８５重量％ を含有する。
【０１１６】ＶＳＡ非吸着流は、 Ｃ2 Ｆ6 ９４．９重量％ ＣＦ4 ５．１重量％ を含有する。
【０１１７】ＶＳＡ吸着流は、 ＣＦ4 ３０．９重量％ Ｎ2 ６９．１重量％ を含有する。
【０１１８】実施例７ 半導体器具からの流出流からＰＦＣを回収するために、
本発明の装置を用いた。第１の膜分離ユニットは、３つ
の中空繊維束を含み、第２の膜分離ユニットは、１つの
みの中空繊維束を含むものであった。各中空繊維束は、
表面積が同じであり、従って、第１の膜ユニットは、物
質移送のための表面積が第２の膜ユニットの３倍であっ
た。２０８３ｐｐｍのＣ2 Ｆ6 、５９５ｐｐｍのＣＦ4
および残部窒素を含み、約５４０キロパスカルの圧力、
３０５Ｋ（３２℃）の温度および２０１ｓｃｆｈすなわ
ち９５ｓｌ／ｍ（分当りの標準リットル）の流量の供給
流を米国特許第５，０８５，６７６号に従って作ったポ
リイミド膜の供給サイドに供給した。ＰＦＣ物質収支
は、供給流中のＰＦＣ流量が約０．４５９０ｓｃｆｈす
なわち０．２１７ｓｌ／ｍであり、生成物（第２の膜ユ
ニットからの非透過物流）は約６４．７％のＰＦＣ濃度
および約３５．３％の窒素濃度を有していたことを示し
た。第２の膜ユニットから非透過物中に回収されたＰＦ
Ｃは、約９９．５％のＰＦＣ回収について、約０．４５
７ｓｃｆｈすなわち０．２１６ｓｌ／ｍであった。
本発明の装置を用いた。第１の膜分離ユニットは、３つ
の中空繊維束を含み、第２の膜分離ユニットは、１つの
みの中空繊維束を含むものであった。各中空繊維束は、
表面積が同じであり、従って、第１の膜ユニットは、物
質移送のための表面積が第２の膜ユニットの３倍であっ
た。２０８３ｐｐｍのＣ2 Ｆ6 、５９５ｐｐｍのＣＦ4
および残部窒素を含み、約５４０キロパスカルの圧力、
３０５Ｋ（３２℃）の温度および２０１ｓｃｆｈすなわ
ち９５ｓｌ／ｍ（分当りの標準リットル）の流量の供給
流を米国特許第５，０８５，６７６号に従って作ったポ
リイミド膜の供給サイドに供給した。ＰＦＣ物質収支
は、供給流中のＰＦＣ流量が約０．４５９０ｓｃｆｈす
なわち０．２１７ｓｌ／ｍであり、生成物（第２の膜ユ
ニットからの非透過物流）は約６４．７％のＰＦＣ濃度
および約３５．３％の窒素濃度を有していたことを示し
た。第２の膜ユニットから非透過物中に回収されたＰＦ
Ｃは、約９９．５％のＰＦＣ回収について、約０．４５
７ｓｃｆｈすなわち０．２１６ｓｌ／ｍであった。
【０１１９】本発明の他の変更は当業者に明らかであ
り、特許請求の範囲は、上記記述に不当に制限されるも
のではない。
り、特許請求の範囲は、上記記述に不当に制限されるも
のではない。
【図１】バーナーによるＰＦＣ分解の効率をバーナー火
炎温度に対して示す従来技術のグラフ図。
炎温度に対して示す従来技術のグラフ図。
【図２】本発明による１の方法および装置を示す概略
図。
図。
【図３】図２の方法および装置の部分の詳細図。
【図４】本発明の態様を示す概略図。
【図５】本発明の別の態様を示す概略図。
【図６】本発明の別の態様を示す概略図。
【図７】本発明の別の態様を示す概略図。
【図８】供給流の異なる流量について、膜の残渣サイド
（透過物）上のＰＦＣ濃度を膜を横切る圧力差に対して
示すグラフ図。
（透過物）上のＰＦＣ濃度を膜を横切る圧力差に対して
示すグラフ図。
【図９】供給流の異なる温度について、膜の残渣サイド
（透過物）上のＰＦＣ濃度を膜を横切る圧力差に対して
示すグラフ図。
（透過物）上のＰＦＣ濃度を膜を横切る圧力差に対して
示すグラフ図。
【図１０】供給流の異なる流量について、膜の回収サイ
ド（非透過物サイド）上のＰＦＣ濃度を膜を横切る圧力
差に対して示すグラフ図。
ド（非透過物サイド）上のＰＦＣ濃度を膜を横切る圧力
差に対して示すグラフ図。
【図１１】供給流の異なる温度について、膜の回収サイ
ド（非透過物サイド）上のＰＦＣ濃度を膜を横切る圧力
差に対して示すグラフ図。
ド（非透過物サイド）上のＰＦＣ濃度を膜を横切る圧力
差に対して示すグラフ図。
【図１２】従来のガスキャビネットおよびその種々のガ
ス流モードを示す概略図。
ス流モードを示す概略図。
【図１３】膜回収ユニットを含むガスキャビネットを示
す概略図。
す概略図。
【図１４】共通の膜回収ユニットに排出される多重ガス
キャビネットを示す図。
キャビネットを示す図。
１…半導体製造プロセス ２…排出ライン ３…ドライスクラバー ４…ウエットスクラバー ５ａ，５ｂ…フィルター ６…膜ユニット １０…凝縮装置 ２１…回収装置 ２２…キャリヤーガス ２３…ＰＦＣガス ４１…供給流。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 63/02 Ｂ０１Ｄ 71/48 71/48 71/50 71/50 71/56 71/56 71/62 71/62 71/64 71/64 71/68 71/68 53/34 １３４Ｃ (72)発明者 ジョゼフ・イー・パガネッシー アメリカ合衆国、イリノイ州 60521、バ ー・リッジ、トムリン・ドライブ 1432 (72)発明者 デイビッド・バッサロー アメリカ合衆国、イリノイ州 60025、グ レンビュー、リンデンウッド 3119 (72)発明者 グレゴリー・ケー・フレミング アメリカ合衆国、デラウエア州 19808、 ウィルミントン、ウエスト・ザベンコ・ド ライブ 1915
Claims (25)
- 【請求項１】 ａ）少なくとも１種のパーフルオロ化合
物ガスおよび少なくとも１種のキャリヤーガスを包含
し、第１の圧力および第１の温度にあるガス混合物を提
供し、 ｂ）供給サイドおよび透過物サイドを有する第１のガラ
ス状ポリマー膜を提供し、 ｃ）該第１の膜の供給サイドを該ガス混合物と接触さ
せ、 ｄ）該第１の膜の供給サイドから、該所定の圧力と実質
的に等しい圧力にある第１の非透過物流として、実質的
に該少なくとも１種のパーフルオロ化合物ガスを包含す
る濃縮ガスを取り出し、 ｅ）該第１の膜の透過物サイドから、第１の透過物流と
して、該少なくとも１種のキャリヤーガスから実質的に
なる欠乏ガス混合物を取り出す 各工程を備えたことを特徴とする、ガス混合物から少な
くとも１種のパーフルオロ化合物ガスを回収する方法。 - 【請求項２】 ガス混合物が、コンプレッサーによる圧
縮により供給されることを特徴とする請求項１記載の方
法。 - 【請求項３】 ガス混合物が、第１の膜の供給サイドへ
のガス混合物の供給前に第１の膜に有害な種のほとんど
を実質的に除去するために第１の膜の供給サイドへの受
け入れ前に処理されることを特徴とする請求項１記載の
方法 - 【請求項４】 ガス混合物が、圧縮前にコンプレッサー
に有害な種のほとんどを実質的に除去するために圧縮前
に処理されることを特徴とする請求項２記載の方法。 - 【請求項５】 第１の膜が複数の中空繊維を含む請求項
１記載の方法。 - 【請求項６】 第１の膜の供給サイドが複数の中空繊維
のそれぞれの内空サイドからなり、透過物サイドが各中
空繊維の外側である請求項５記載の方法。 - 【請求項７】 パーフルオロ化合物ガスが、フルオロカ
ーボン、ＮＦ3 、ＳＦ6 、Ｃ3 Ｆ8 およびその混合物か
らなる群の中から選ばれる請求項１記載の方法。 - 【請求項８】 キャリヤーガスが、Ａｒ、Ｎ2 、Ｋｒ、
Ｘｅ、Ｎｅ、Ｏ2 、Ｈｅ、Ｈ2 、ＣＯ、ＣＯ2 、Ｈ
2 Ｏ、および空気を含むそれらの混合物からなる群の中
から選ばれる請求項１記載の方法。 - 【請求項９】 ガラス状ポリマー膜が、ポリイミド、ポ
リアミド、ポリアミド−イミド、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポ
リエーテルケトン、アルキル置換芳香族ポリエステル、
ポリエーテルスルホンとフッ素化芳香族ポリイミドとポ
リアミドとポリアミド−イミドとのブレンド、それらの
コポリマー、それらの置換ポリマーからなる群の中から
選ばれた少なくとも１種のポリマーで作られたことを特
徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項１０】 第１の非透過物流を第１の膜と類似す
る第２の膜の供給サイドへ送り、該第２の膜が第１の非
透過物流よりもパーフルオロ化合物が濃縮された第２の
非透過物流を生成し、該プロセスをＮ−段階を通じで続
行されることを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項１１】 第１の透過物流を排出し、第２の膜か
らの第２の透過物流を第１の膜の供給サイドへ再循環さ
せることを特徴とする請求項１０記載の方法。 - 【請求項１２】 第１の非透過物流の少なくとも一部を
再循環させることを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項１３】 非透過物流が、ＳＦ6 、Ｃ2 Ｆ6 、Ｃ
ＨＦ3 、ＣＦ4 およびＮＦ3 からなる群の中から選ばれ
るパーフルオロ化合物ガスの混合物を包含する請求項１
記載の方法。 - 【請求項１４】 非透過物流のパーフルオロ化合物ガス
の少なくとも１種を非透過物流中の他のパーフルオロ化
合物からさらに分離することを特徴とする請求項１記載
の方法。 - 【請求項１５】 第１の非透過物流の少なくとも一部を
第１の膜の供給サイドにおける掃引ガスとして使用する
ことを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項１６】 段階ＮからのＮ番目の非透過物流の少
なくとも一部を前段の膜のいずれかの供給サイド上のお
よびまたは膜段階Ｎの供給サイド上の掃引ガスとして使
用することを特徴とする請求項１０記載の方法。 - 【請求項１７】 当該方法を第１の非透過物流中の１ま
たはそれ以上のパーフルオロ化合物ガスのために一定濃
度設定点で操作することを特徴とする請求項１記載の方
法。 - 【請求項１８】 透過物ガスを当該方法へまたは貯蔵へ
再循環させることを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項１９】 複数の同様のもしくは非同様の半導体
製造器具を平行流関係に配設し、各器具が専用の対応す
る膜分離ユニットを有し、該膜ユニットは同一またはこ
となることを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項２０】 主膜を使用に供させるかバイパスさせ
る１またはそれ以上のスペアー膜を有することを特徴と
する請求項１９記載の方法。 - 【請求項２１】 処理が、プラズマ分解、熱分解、触媒
分解、スクラビングおよび吸着からなる群の中から選ば
れる請求項３記載の方法。 - 【請求項２２】 予備処理からの排出流をパーフルオロ
化合物を発生させるために使用することを特徴とする請
求項２１記載の方法。 - 【請求項２３】 ａ）反応器流出ガス導管を付設した、
パーフルオロ化合物ガス、キャリヤーガス等を受けるた
めの少なくとも１つの反応器チャンバ、 ｂ）供給サイドおよび透過物サイドを有する少なくとも
１つのガラス状ポリマー膜分離ユニットであって、該膜
は少なくとも１種のキャリヤーガスに対して透過性であ
り、かつ少なくとも１種のパーフルオロ化合物ガスに対
して実質的に非透過性であり、該膜ユニットは該反応器
流出ガス導管を介して該反応器チャンバに接続し、該膜
ユニットは透過物排出導管および非透過物排出導管を有
するところの膜分離ユニット、 ｃ）該膜ユニットからの該非透過物流の少なくとも一部
を該少なくとも１つの反応器チャンバに再循環させるた
めの手段 を備えた半導体製造装置。 - 【請求項２４】 ａ）反応器流出ガス導管を付設した、
パーフルオロ化合物ガス、キャリヤーガス等を受けるた
めの少なくとも１つの反応器チャンバ、 ｂ）該流出ガス導管内に配設された、該反応器からの流
出ガスを圧食するための手段、 ｃ）供給サイドおよび透過物サイドを有する少なくとも
１つのガラス状ポリマー膜分離ユニットであって、該膜
は少なくとも１種のキャリヤーガスに対して透過性であ
り、かつ少なくとも１種のパーフルオロ化合物ガスに対
して実質的に非透過性であり、該膜ユニットは該反応器
流出ガス導管を介して該反応器チャンバに該圧縮手段の
下流側で接続し、該膜ユニットは透過物排出導管および
非透過物排出導管を有するところの膜分離ユニット、 ｄ）該膜ユニットからの該非透過物流の少なくとも一部
を該少なくとも１つの反応器チャンバに再循環させるた
めの手段、 ｅ）該反応器流出流が該膜ユニットに入る前に位置し、
プラズマ分解、熱分解、触媒的除去、スクラビングおよ
び吸着からなる群の中から選ばれる予備処理を行う手
段、 ｆ）該膜ユニットは、該非透過物導管と該膜の透過物サ
イドを接続する掃引ガス導管を備え、 ｇ）該透過物導管内に配設されたダンパーまたはサージ
タンク、および ｈ）該サージタンクの上流側で該非透過物導管内に配置
された、所望により将来の使用のためにパーフルオロ炭
素流を液状で貯蔵させるコンプレッサー、熱交換器、低
温ポンプまたは真空ポンプ を備えた半導体製造装置。 - 【請求項２５】 ａ）圧縮に適切な処理されたガス混合
物を生じさせるための光学処理手段、 ｂ）該処理されたガス混合物を圧縮して圧縮ガス混合物
を生成させるためのコンプレッサー、および ｃ）供給サイドおよび透過物サイドを有する少なくとも
１つのガラス状ポリマー膜分離ユニットであって、該膜
は少なくとも１種のキャリヤーガスに対して透過性であ
り、かつ少なくとも１種のパーフルオロ化合物ガスに対
して実質的に非透過性であり、該膜ユニットは導管を介
して該コンプレッサーに接続し、該膜ユニットは透過物
排出導管および非透過物排出導管を有するところの膜分
離ユニット を備えた、ガス混合物からパーフルオロ化合物ガスを再
循環または回収するための装置。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US50332595A | 1995-07-17 | 1995-07-17 | |
| US08/665,142 US5785741A (en) | 1995-07-17 | 1996-06-14 | Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases |
| US665142 | 1996-06-14 | ||
| US503325 | 1996-06-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09103633A true JPH09103633A (ja) | 1997-04-22 |
| JP3151151B2 JP3151151B2 (ja) | 2001-04-03 |
Family
ID=27054462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18787796A Expired - Lifetime JP3151151B2 (ja) | 1995-07-17 | 1996-07-17 | パーフルオロ化合物ガスの分離および回収方法および装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US5785741A (ja) |
| EP (2) | EP0754487B1 (ja) |
| JP (1) | JP3151151B2 (ja) |
| KR (1) | KR100266460B1 (ja) |
| CN (3) | CN101538016A (ja) |
| DE (1) | DE69629769T2 (ja) |
| SG (1) | SG54348A1 (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10298118A (ja) * | 1997-01-16 | 1998-11-10 | L'air Liquide | ペルフルオロ化合物ガスの分離および回収のための改良された方法および装置 |
| EP0933120A1 (en) * | 1998-02-03 | 1999-08-04 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Exhaust gas treatment installation |
| JP2000185212A (ja) * | 1998-12-22 | 2000-07-04 | Ube Ind Ltd | パーフルオロ化合物ガスの分離回収方法および装置 |
| WO2001025679A1 (fr) * | 1999-10-01 | 2001-04-12 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Procede et dispositif de recueil et de recuperation de gaz |
| JP2001110284A (ja) * | 1999-10-01 | 2001-04-20 | Toshiba Corp | ガス回収装置 |
| JP2002035528A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-05 | Japan Atom Energy Res Inst | ガス分離装置 |
| JP2003068630A (ja) * | 2001-08-29 | 2003-03-07 | Kyocera Corp | 露光装置 |
| JP2003190744A (ja) * | 2001-12-26 | 2003-07-08 | Ube Ind Ltd | ハロゲン化合物ガスの分離回収装置および分離回収方法 |
| JP2008088190A (ja) * | 1997-05-02 | 2008-04-17 | E I Du Pont De Nemours & Co | 半透膜による不飽和フッ素化化合物からのｃｏ２の分離 |
| JP2008115191A (ja) * | 1997-05-02 | 2008-05-22 | E I Du Pont De Nemours & Co | 半透膜によるフルオロカーボンからのｃｏ２の除去 |
| WO2012014497A1 (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-02 | Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 | 排ガス処理システム |
| JP2015525134A (ja) * | 2013-06-25 | 2015-09-03 | ファインテック．カンパニー，リミテッド | パーフルオロ化合物の分離及びリサイクルシステム |
| JP2016523965A (ja) * | 2013-07-12 | 2016-08-12 | アーケマ・インコーポレイテッド | 膜を使用して有機フッ素化合物を分離する方法 |
| JP2021159913A (ja) * | 2020-03-30 | 2021-10-11 | エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドAir Products And Chemicals Incorporated | 非透過ガスの高回収のための膜プロセスおよびシステム |
Families Citing this family (93)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0929002A (ja) * | 1995-07-17 | 1997-02-04 | Teisan Kk | ガス回収装置 |
| US5785741A (en) | 1995-07-17 | 1998-07-28 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges, Claude | Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases |
| IE80909B1 (en) * | 1996-06-14 | 1999-06-16 | Air Liquide | An improved process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases |
| US6888040B1 (en) * | 1996-06-28 | 2005-05-03 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for abatement of reaction products from a vacuum processing chamber |
| FR2751565B1 (fr) * | 1996-07-26 | 1998-09-04 | Air Liquide | Procede et installation de traitement de gaz perfluores et hydrofluorocarbones en vue de leur destruction |
| US5730779A (en) * | 1996-10-31 | 1998-03-24 | Air Products And Chemicals, Inc. | Fluorochemical recovery and recycle using membranes |
| US5814127A (en) * | 1996-12-23 | 1998-09-29 | American Air Liquide Inc. | Process for recovering CF4 and C2 F6 from a gas |
| KR100217499B1 (ko) * | 1996-12-24 | 1999-09-01 | 윤종용 | 반도체설비 환경분석용 이온크로마토그래피 시스템 |
| EP0971785A4 (en) * | 1997-01-23 | 2000-05-03 | Carbon Membranes Ltd | RECOVERY OF PERFLUORINATED INGREDIENTS AND FLUOROCOLATE GASES BY USING MOLECULAR SCREENING MEMBRANES |
| US5779763A (en) * | 1997-03-07 | 1998-07-14 | Membrane Technology And Research, Inc. | Process for recovering semiconductor industry cleaning compounds |
| US5843208A (en) * | 1997-07-24 | 1998-12-01 | Alliedsignal Inc. | Process for recovering sulfur hexafluoride |
| EP0908219B1 (en) * | 1997-10-09 | 1999-12-08 | Gkss-Forschungszentrum Geesthacht Gmbh | Multi-stage process for the separation/recovery of gases |
| ID26798A (id) | 1997-12-31 | 2001-02-08 | Corning Inc | Penangkapan partikular mengandung-germanium dari aliran gas buang sistim produksi kaca |
| US6866094B2 (en) * | 1997-12-31 | 2005-03-15 | Temptronic Corporation | Temperature-controlled chuck with recovery of circulating temperature control fluid |
| AU7431198A (en) * | 1998-01-16 | 1999-08-02 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases |
| US6032484A (en) * | 1998-03-23 | 2000-03-07 | Air Products And Chemicals, Inc. | Recovery of perfluorinated compounds from the exhaust of semiconductor fabs with recycle of vacuum pump diluent |
| US5976222A (en) * | 1998-03-23 | 1999-11-02 | Air Products And Chemicals, Inc. | Recovery of perfluorinated compounds from the exhaust of semiconductor fabs using membrane and adsorption in series |
| US6017382A (en) * | 1998-03-30 | 2000-01-25 | The Boc Group, Inc. | Method of processing semiconductor manufacturing exhaust gases |
| US6187077B1 (en) * | 1998-04-17 | 2001-02-13 | American Air Liquide Inc. | Separation of CF4 and C2F6 from a perfluorocompound mixture |
| FR2779070B1 (fr) * | 1998-05-28 | 2000-06-30 | Air Liquide | Dispositif de fourniture d'un gaz epure a une installation purgee avec ce gaz epure |
| DE19910678A1 (de) * | 1998-08-20 | 2000-09-14 | Solvay Fluor & Derivate | Verfahren zur Reinigung von SF¶6¶-kontaminierten Gasen |
| US6881354B2 (en) | 1998-12-30 | 2005-04-19 | Praxair Technology, Inc. | Multicomponent refrigerant fluids for low and cryogenic temperatures |
| US6076372A (en) * | 1998-12-30 | 2000-06-20 | Praxair Technology, Inc. | Variable load refrigeration system particularly for cryogenic temperatures |
| SG80623A1 (en) * | 1999-04-26 | 2001-05-22 | Air Prod & Chem | Recovery of perfluorinated compounds from the exhaust of semiconductor fabs using membrane and adsorption in series |
| DE19923155A1 (de) * | 1999-05-20 | 2000-11-23 | Solvay Fluor & Derivate | SF¶6¶-Abtrennung aus Isoliergasen aus gasisolierten Leitungen |
| US6238462B1 (en) | 1999-07-14 | 2001-05-29 | Corning Incorporated | Methods for the separation of compounds from acidic aqueous solutions |
| US6468490B1 (en) * | 2000-06-29 | 2002-10-22 | Applied Materials, Inc. | Abatement of fluorine gas from effluent |
| US6689252B1 (en) | 1999-07-28 | 2004-02-10 | Applied Materials, Inc. | Abatement of hazardous gases in effluent |
| FR2798076B1 (fr) * | 1999-09-06 | 2002-05-24 | Air Liquide | Procede d'elimination par permeation des composes fluores ou fluorosoufres d'un flux de xenon et/ou de krypton |
| US6391385B1 (en) * | 1999-10-18 | 2002-05-21 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method of abating of effluents from chemical vapor deposition processes using organometallic source reagents |
| US6491884B1 (en) | 1999-11-26 | 2002-12-10 | Advanced Technology Materials, Inc. | In-situ air oxidation treatment of MOCVD process effluent |
| JP4018858B2 (ja) * | 1999-12-20 | 2007-12-05 | 大同エアプロダクツ・エレクトロニクス株式会社 | パーフルオロ化合物分離回収方法およびそれに用いるパーフルオロ化合物分離回収装置 |
| SG106599A1 (en) * | 2000-02-01 | 2004-10-29 | Tokyo Electron Ltd | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| WO2001062366A1 (de) * | 2000-02-22 | 2001-08-30 | Solvay Fluor Und Derivate Gmbh | Auftrennung von sf6 enthaltenden gasen |
| US6863019B2 (en) * | 2000-06-13 | 2005-03-08 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor device fabrication chamber cleaning method and apparatus with recirculation of cleaning gas |
| JP2002035527A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-05 | Japan Atom Energy Res Inst | ガス分離装置 |
| US6921428B2 (en) * | 2001-01-25 | 2005-07-26 | Ube Industries, Ltd. | Device and method for separating and collecting halide gas |
| US20020129622A1 (en) * | 2001-03-15 | 2002-09-19 | American Air Liquide, Inc. | Heat transfer fluids and methods of making and using same |
| US20020134530A1 (en) * | 2001-03-20 | 2002-09-26 | American Air Liquide, Inc. | Heat transfer fluids and methods of making and using same |
| JP4211227B2 (ja) * | 2001-03-16 | 2009-01-21 | 株式会社日立製作所 | 過弗化物の処理方法及びその処理装置 |
| US6602323B2 (en) | 2001-03-21 | 2003-08-05 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method and apparatus for reducing PFC emission during semiconductor manufacture |
| US6668582B2 (en) | 2001-04-20 | 2003-12-30 | American Air Liquide | Apparatus and methods for low pressure cryogenic cooling |
| US6574972B2 (en) | 2001-04-30 | 2003-06-10 | L'air Liquide - Societe' Anonyme A' Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Low temperature heat transfer methods |
| US6651358B2 (en) | 2001-04-30 | 2003-11-25 | American Air Liquide, Inc. | Heat transfer fluids and methods of making and using same comprising hydrogen, helium and combinations thereof |
| FR2829403B1 (fr) * | 2001-09-11 | 2003-12-12 | Air Liquide | Procede de production par permeation, a partir d'un melange gazeux, d'au moins deux flux gazeux et installation de mise en oeuvre d'un tel procede |
| KR100592981B1 (ko) * | 2002-01-21 | 2006-06-23 | 주식회사 셈테크놀러지 | 하이브리드형 유해가스 폐기 시스템 및 방법 |
| JP2003286012A (ja) * | 2002-03-28 | 2003-10-07 | Toshiba Corp | ガスリサイクルシステムおよび方法、ガス絶縁機器、六弗化硫黄供給システム並びに電力事業システム |
| JP4214717B2 (ja) * | 2002-05-31 | 2009-01-28 | 株式会社日立製作所 | 過弗化物処理装置 |
| US6960242B2 (en) * | 2002-10-02 | 2005-11-01 | The Boc Group, Inc. | CO2 recovery process for supercritical extraction |
| US20040187683A1 (en) * | 2003-03-28 | 2004-09-30 | Luping Wang | Gas recovery system to improve the efficiency of abatementand/or implement reuse/reclamation |
| US6843830B2 (en) * | 2003-04-15 | 2005-01-18 | Advanced Technology Materials, Inc. | Abatement system targeting a by-pass effluent stream of a semiconductor process tool |
| US20050011442A1 (en) * | 2003-06-24 | 2005-01-20 | International Business Machines Corporation | Plasma processing material reclamation and reuse |
| US7329308B2 (en) * | 2003-07-09 | 2008-02-12 | Entegris, Inc. | Air handling and chemical filtration system and method |
| US20050096490A1 (en) * | 2003-10-29 | 2005-05-05 | Henderson Philip B. | Purification of perfluoromethane |
| JP4415656B2 (ja) * | 2003-11-26 | 2010-02-17 | ダイキン工業株式会社 | 二フッ化カルボニルの精製方法 |
| US20050211097A1 (en) * | 2004-03-26 | 2005-09-29 | Thomas Eckman | Apparatus for permeate side sweep of fiber membrane permeators |
| EP1731212A4 (en) * | 2004-03-31 | 2008-07-16 | Daikin Ind Ltd | GAS CLEANER |
| US7736599B2 (en) | 2004-11-12 | 2010-06-15 | Applied Materials, Inc. | Reactor design to reduce particle deposition during process abatement |
| TWI251301B (en) * | 2004-11-29 | 2006-03-11 | Unimicron Technology Corp | Substrate core and method for fabricating the same |
| JP4724877B2 (ja) * | 2005-01-28 | 2011-07-13 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 炭素多孔体、炭素多孔体を製造する方法、吸着剤および生体分子素子 |
| US7264013B2 (en) * | 2005-05-13 | 2007-09-04 | Air Products And Chemicals, Inc. | Enhanced purge effect in gas conduit |
| CN101300411B (zh) | 2005-10-31 | 2012-10-03 | 应用材料公司 | 制程减降反应器 |
| US7628845B2 (en) * | 2006-03-10 | 2009-12-08 | Macronix International Co., Ltd. | Filtering device and filtering method thereof and semiconductor fabricating method |
| US8002025B2 (en) * | 2006-04-28 | 2011-08-23 | International Business Machines Corporation | Containment of a wafer-chuck thermal interface fluid |
| US7604681B2 (en) * | 2006-05-26 | 2009-10-20 | Lummus Technology, Inc. | Three-stage membrane gas separation process |
| US20080034970A1 (en) * | 2006-08-10 | 2008-02-14 | Frank Jansen | Sulfur hexafluoride recycling system and method for recycling sulfur hexafluoride |
| GB0618016D0 (en) * | 2006-09-13 | 2006-10-18 | Boc Group Plc | Method of recycling hydrogen |
| US7767000B1 (en) * | 2007-03-29 | 2010-08-03 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Regenerable hydrogen chloride removal sorbent and regenerable multi-functional hydrogen sulfide and hydrogen chloride removal sorbent for high temperature gas streams |
| JP4280782B2 (ja) * | 2007-04-10 | 2009-06-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体製造装置のガス供給システム |
| CN103599798B (zh) | 2007-05-09 | 2015-11-18 | 国际壳牌研究有限公司 | 环氧化催化剂及其制备方法和生产环氧烷、1,2-二醇、1,2-二醇醚、1,2-碳酸酯或烷醇胺的方法 |
| US7572976B1 (en) * | 2008-02-06 | 2009-08-11 | Victor Merrill | Quick connect electrical box |
| FR2933714B1 (fr) * | 2008-07-11 | 2011-05-06 | Air Liquide | Procede de recyclage de silane (sih4) |
| US20090320519A1 (en) * | 2008-06-30 | 2009-12-31 | American Air Liquide, Inc. | Recovery of Hydrofluoroalkanes |
| JP4850223B2 (ja) * | 2008-09-10 | 2012-01-11 | 積水化学工業株式会社 | プラズマ処理方法及び装置 |
| US8192529B2 (en) * | 2009-03-10 | 2012-06-05 | Gatton Jr Lawrence H | Integrated dry scrubber system |
| IT1400850B1 (it) * | 2009-07-08 | 2013-07-02 | Varian Spa | Apparecchiatura di analisi gc-ms. |
| US8648293B2 (en) * | 2009-07-08 | 2014-02-11 | Agilent Technologies, Inc. | Calibration of mass spectrometry systems |
| DE102010012601A1 (de) * | 2010-03-24 | 2011-09-29 | Siemens Aktiengesellschaft | Vorrichtung und Verfahren zum Trennen eines fluiden Stoffgemisches |
| US8812179B1 (en) | 2010-10-05 | 2014-08-19 | The Boeing Company | Ammonia detection |
| KR101410712B1 (ko) * | 2012-02-23 | 2014-06-24 | (주)파인텍 | 과불화화합물의 분리 및 재활용시스템 |
| KR101410914B1 (ko) * | 2012-02-23 | 2014-06-24 | (주)파인텍 | 과불화화합물의 분리 및 재활용시스템 |
| HUE045214T2 (hu) * | 2012-11-14 | 2019-12-30 | Evonik Fibres Gmbh | Membrános gázelválasztó berendezés gáz összetételének szabályozása |
| DE102013219366A1 (de) * | 2013-09-26 | 2015-03-26 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zum Abtrennen von Fremdstoffen aus einem Gemisch, enthaltend ein fluides Arbeitsmedium und entsprechende Fremdstoffe |
| KR101676099B1 (ko) * | 2014-09-24 | 2016-11-15 | 오씨아이 주식회사 | Nf3 가스 분리농축 방법, 장치 및 시스템 |
| FR3026314B1 (fr) * | 2014-09-26 | 2019-04-12 | Air Liquide Electronics Systems | Procede de concentration de composes fluores |
| CN106211790B (zh) | 2015-03-26 | 2018-06-22 | 韩国能源技术研究院 | 用于难分解性有害气体焚烧处理的节能型燃烧装置及其方法 |
| TW201733664A (zh) * | 2015-11-13 | 2017-10-01 | 艾克頌美孚研究工程公司 | 烴逆滲透膜及分離 |
| KR101833882B1 (ko) * | 2015-12-10 | 2018-03-05 | (주)에어레인 | 고선택도의 중공사막 모듈을 포함하는 다단 기체분리공정을 이용한 불화가스 분리방법 |
| CN108905498A (zh) * | 2018-07-05 | 2018-11-30 | 吴亚琴 | 一种利用废弃玻璃制备空气净化材料载体的方法 |
| US11471823B2 (en) | 2019-02-12 | 2022-10-18 | Haffmans B.V. | System and method for separating a gas mixture |
| EP3797857A1 (en) * | 2019-09-30 | 2021-03-31 | General Electric Technology GmbH | Method and apparatus for recycling heptafluoroisobutyronitrile |
| KR102546586B1 (ko) * | 2021-04-22 | 2023-06-22 | (주)세미코 | 사출압력이 일정하게 유지되는 고압 다이캐스팅 주조기 |
| CN114823326B (zh) * | 2022-03-30 | 2023-09-12 | 宿州伊维特新材料有限公司 | 一种利用高纯六氟乙烷进行半导体刻蚀的方法 |
Family Cites Families (85)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2947687A (en) * | 1954-10-29 | 1960-08-02 | American Oil Co | Separation of hydrocarbons by permeation membrane |
| US2953502A (en) * | 1955-05-24 | 1960-09-20 | American Oil Co | Separation of azeotropic mixtures |
| US2960462A (en) * | 1957-09-30 | 1960-11-15 | American Oil Co | Dual film combinations for membrane permeation |
| US2970106A (en) * | 1958-01-31 | 1961-01-31 | American Oil Co | Aromatic separation process |
| US3508994A (en) * | 1966-07-07 | 1970-04-28 | Dorr Oliver Inc | Method for producing membrane separation devices |
| US3648845A (en) * | 1969-09-02 | 1972-03-14 | Us Interior | Thin film separation membranes and processes for making same |
| US3616607A (en) * | 1970-04-06 | 1971-11-02 | Northern Natural Gas Co | Separation of nitrogen and methane containing gas mixtures |
| DE2248818C2 (de) * | 1972-10-05 | 1981-10-15 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Dünne porenfreie Polycarbonatfolien und -filme |
| US4113628A (en) * | 1974-06-05 | 1978-09-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Asymmetric polyimide membranes |
| JPS5263178A (en) * | 1975-11-17 | 1977-05-25 | Toshiba Corp | Gas separation unit |
| US4192824A (en) * | 1976-09-23 | 1980-03-11 | Coal Industry (Patents) Limited | Aromatic hydrocarbon resins |
| US5064447A (en) * | 1976-11-19 | 1991-11-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for recovering organic vapors from air |
| US4132824A (en) * | 1977-07-21 | 1979-01-02 | General Electric Company | Method for casting ultrathin methylpentene polymer membranes |
| US4156597A (en) * | 1977-09-23 | 1979-05-29 | General Electric Company | Ultrathin polyetherimide membrane and gas separation process |
| US4155793A (en) * | 1977-11-21 | 1979-05-22 | General Electric Company | Continuous preparation of ultrathin polymeric membrane laminates |
| US4178224A (en) * | 1978-01-19 | 1979-12-11 | Texas Instruments Incorporated | Apparatus for generation and control of dopant and reactive gases |
| EP0023406B1 (en) * | 1979-07-26 | 1983-04-13 | Ube Industries, Ltd. | Process for preparing aromatic polyimide semipermeable membranes |
| JPS57167414A (en) * | 1981-04-03 | 1982-10-15 | Ube Ind Ltd | Production of polyimide hollow fiber |
| JPS57170936A (en) * | 1981-04-14 | 1982-10-21 | Ube Ind Ltd | Preparation of porous polyimide film |
| GB2101137B (en) * | 1981-04-14 | 1984-09-26 | Ube Industries | Producing porous aromatic imide polymer membranes |
| JPS57209607A (en) * | 1981-06-22 | 1982-12-23 | Ube Ind Ltd | Preparation of polyimide separation film |
| JPS5895541A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-07 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 気体分離膜 |
| US4424067A (en) * | 1982-07-29 | 1984-01-03 | Allied Corporation | Purification of anhydrous hydrogen fluoride |
| JPS5949822A (ja) * | 1982-09-14 | 1984-03-22 | Nippon Sanso Kk | 揮発性無機水素化物等を含有するガスの処理方法 |
| JPS59160506A (ja) * | 1983-02-28 | 1984-09-11 | Kuraray Co Ltd | 複合中空糸分離膜およびその製造法 |
| JPS6135803A (ja) * | 1984-07-26 | 1986-02-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 複合中空糸 |
| US4553983A (en) * | 1984-07-31 | 1985-11-19 | Membrane Technology And Research, Inc. | Process for recovering organic vapors from air |
| US4602922A (en) * | 1984-11-09 | 1986-07-29 | Research Foundation Of State University Of New York | Method of making membranes for gas separation and the composite membranes |
| JPS61187918A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-21 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ドライ・エツチング方法 |
| US4743435A (en) * | 1985-03-13 | 1988-05-10 | Japan Pionics., Ltd. | Method for cleaning exhaust gases |
| US4741829A (en) * | 1985-06-27 | 1988-05-03 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Composite hollow fibers and method of making same |
| JPS621404A (ja) * | 1985-06-27 | 1987-01-07 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 多層複合中空繊維状膜及びその製造法 |
| EP0239190A2 (en) * | 1986-01-23 | 1987-09-30 | Sensidyne Inc. | Electrochemical cell and method for detecting hydrides and hydride vapors |
| DE3782120T2 (de) * | 1986-08-15 | 1993-02-11 | Permea Inc | Asymmetrische gastrennungsmembranen, deren haut einen dichtegradienten aufweisen. |
| US4717394A (en) * | 1986-10-27 | 1988-01-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polyimide gas separation membranes |
| US4701187A (en) | 1986-11-03 | 1987-10-20 | Air Products And Chemicals, Inc. | Process for separating components of a gas stream |
| EP0294142B1 (en) * | 1987-06-01 | 1992-03-25 | Japan Pionics., Ltd. | Method of cleaning exhaust gases |
| US4756932A (en) * | 1987-06-11 | 1988-07-12 | Air Products And Chemicals, Inc. | Process for making highly permeable coated composite hollow fiber membranes |
| US4826599A (en) * | 1987-07-10 | 1989-05-02 | Union Carbide Corporation | Composite membranes and their manufacture and use |
| EP0309099B1 (en) * | 1987-08-31 | 1992-03-18 | Japan Pionics., Ltd. | Method for cleaning gas containing toxic component |
| US5009869A (en) * | 1987-12-28 | 1991-04-23 | Electrocinerator Technologies, Inc. | Methods for purification of air |
| US4881953A (en) * | 1988-09-15 | 1989-11-21 | Union Carbide Corporation | Prevention of membrane degradation |
| US4906256A (en) | 1989-03-23 | 1990-03-06 | Membrane Technology & Research, Inc. | Membrane process for treatment of fluorinated hydrocarbon-laden gas streams |
| US4957513A (en) * | 1989-05-10 | 1990-09-18 | Raytheon Company | Method of purifying a mixed H2 /H2 Se vapor stream |
| EP0477224B1 (en) * | 1989-06-15 | 1993-03-17 | Du Pont Canada Inc. | Perfluorodioxole membranes |
| US4988371A (en) * | 1989-09-12 | 1991-01-29 | The Dow Chemical Company | Novel alicyclic polyimide gas separation membranes |
| US4941893B1 (en) * | 1989-09-19 | 1996-07-30 | Advanced Silicon Materials Inc | Gas separation by semi-permeable membranes |
| FR2652280B1 (fr) * | 1989-09-22 | 1991-11-29 | Air Liquide | Procede d'elimination d'hydrures gazeux sur support solide a base d'oxydes metalliques. |
| JP2745768B2 (ja) | 1990-03-31 | 1998-04-28 | 宇部興産株式会社 | 非対称性分離膜及び浸透気化分離法 |
| JP2841698B2 (ja) * | 1990-05-08 | 1998-12-24 | 宇部興産株式会社 | 低級アルコールの分離法 |
| US5182088A (en) * | 1990-09-07 | 1993-01-26 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Removal of gaseous hydrides |
| US5085676A (en) * | 1990-12-04 | 1992-02-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Novel multicomponent fluid separation membranes |
| US5256295A (en) * | 1990-12-28 | 1993-10-26 | Membrane Technology & Research | Two-stage membrane process and apparatus |
| US5256296A (en) | 1990-12-28 | 1993-10-26 | Membrane Technology & Research | Membrane process and apparatus for removing a component from a fluid stream |
| JPH04322716A (ja) * | 1991-04-22 | 1992-11-12 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ガス除湿方法 |
| US5383957A (en) * | 1991-07-02 | 1995-01-24 | L'air Liquide | Multistage cascade sweep-process for membrane gas separation |
| US5240471A (en) | 1991-07-02 | 1993-08-31 | L'air Liquide | Multistage cascade-sweep process for membrane gas separation |
| US5226932A (en) * | 1991-10-07 | 1993-07-13 | Praxair Technology, Inc. | Enhanced meambrane gas separations |
| US5196616A (en) * | 1991-10-18 | 1993-03-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for separating and recovering fluorocarbons and hydrogen fluoride from mixtures thereof |
| US5290341A (en) * | 1992-08-26 | 1994-03-01 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Fast response membrane generator using heat accumulation |
| FR2695568B1 (fr) * | 1992-09-14 | 1994-10-21 | Air Liquide | Procédé et installation de séparation de gaz par perméation. |
| US5281255A (en) * | 1992-11-04 | 1994-01-25 | Membrane Technology And Research, Inc | Gas-separation process |
| US5281253A (en) * | 1993-01-06 | 1994-01-25 | Praxair Technology, Inc. | Multistage membrane control system and process |
| US5282964A (en) * | 1993-02-19 | 1994-02-01 | The Dow Chemical Company | Boreside feed hollow fiber membrane device |
| JP2874741B2 (ja) | 1993-03-02 | 1999-03-24 | 宇部興産株式会社 | 非対称性中空糸ポリイミド気体分離膜 |
| US5288304A (en) * | 1993-03-30 | 1994-02-22 | The University Of Texas System | Composite carbon fluid separation membranes |
| US5759537A (en) * | 1993-04-07 | 1998-06-02 | Lovesgrove Research Limited | Animal feeds |
| US5282969A (en) * | 1993-04-29 | 1994-02-01 | Permea, Inc. | High pressure feed membrane separation process |
| US5383956A (en) * | 1993-10-12 | 1995-01-24 | Praxair Technology, Inc. | Start-up and shut down processes for membrane systems and membrane systems useful for the same |
| US5468430A (en) | 1994-05-19 | 1995-11-21 | L'air Liquide S.A. | Process of making multicomponent or asymmetric gas separation membranes |
| CA2149806A1 (en) * | 1994-05-20 | 1995-11-21 | William John Koros | Polymeric membrane |
| FR2724327B1 (fr) | 1994-09-12 | 1996-10-25 | Air Liquide | Procede de separation membranaire par cascade de membranes de selectivites differentes |
| US5858065A (en) | 1995-07-17 | 1999-01-12 | American Air Liquide | Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases |
| US5785741A (en) * | 1995-07-17 | 1998-07-28 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges, Claude | Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases |
| US5858066A (en) | 1995-09-22 | 1999-01-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for separating and recovering fluorocarbons and HCI from gaseous mixtures thereof |
| IE80909B1 (en) | 1996-06-14 | 1999-06-16 | Air Liquide | An improved process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases |
| US5759237A (en) * | 1996-06-14 | 1998-06-02 | L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et, L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Process and system for selective abatement of reactive gases and recovery of perfluorocompound gases |
| US5730779A (en) | 1996-10-31 | 1998-03-24 | Air Products And Chemicals, Inc. | Fluorochemical recovery and recycle using membranes |
| US5814127A (en) | 1996-12-23 | 1998-09-29 | American Air Liquide Inc. | Process for recovering CF4 and C2 F6 from a gas |
| JP3284335B2 (ja) | 1996-12-27 | 2002-05-20 | 富士通株式会社 | プラズマディスプレイユニット搬送方法 |
| US5779763A (en) | 1997-03-07 | 1998-07-14 | Membrane Technology And Research, Inc. | Process for recovering semiconductor industry cleaning compounds |
| US5855647A (en) | 1997-05-15 | 1999-01-05 | American Air Liquide, Inc. | Process for recovering SF6 from a gas |
| US5843208A (en) | 1997-07-24 | 1998-12-01 | Alliedsignal Inc. | Process for recovering sulfur hexafluoride |
| US5976222A (en) * | 1998-03-23 | 1999-11-02 | Air Products And Chemicals, Inc. | Recovery of perfluorinated compounds from the exhaust of semiconductor fabs using membrane and adsorption in series |
| US6032484A (en) | 1998-03-23 | 2000-03-07 | Air Products And Chemicals, Inc. | Recovery of perfluorinated compounds from the exhaust of semiconductor fabs with recycle of vacuum pump diluent |
-
1996
- 1996-06-14 US US08/665,142 patent/US5785741A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-07-10 SG SG1996010241A patent/SG54348A1/en unknown
- 1996-07-15 KR KR1019960028489A patent/KR100266460B1/ko active IP Right Grant
- 1996-07-16 EP EP96401575A patent/EP0754487B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-07-16 CN CNA2009100016121A patent/CN101538016A/zh active Pending
- 1996-07-16 EP EP02292630A patent/EP1287875A3/en not_active Withdrawn
- 1996-07-16 DE DE69629769T patent/DE69629769T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-07-16 CN CN96110278A patent/CN1150057A/zh active Pending
- 1996-07-17 JP JP18787796A patent/JP3151151B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-07-21 US US09/119,453 patent/US6214089B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-03-28 US US09/536,687 patent/US6254666B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-09-22 CN CNB001287915A patent/CN1148250C/zh not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-01-25 US US09/768,262 patent/US6444011B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10298118A (ja) * | 1997-01-16 | 1998-11-10 | L'air Liquide | ペルフルオロ化合物ガスの分離および回収のための改良された方法および装置 |
| JP2008088190A (ja) * | 1997-05-02 | 2008-04-17 | E I Du Pont De Nemours & Co | 半透膜による不飽和フッ素化化合物からのｃｏ２の分離 |
| JP2008115191A (ja) * | 1997-05-02 | 2008-05-22 | E I Du Pont De Nemours & Co | 半透膜によるフルオロカーボンからのｃｏ２の除去 |
| EP0933120A1 (en) * | 1998-02-03 | 1999-08-04 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Exhaust gas treatment installation |
| JPH11218318A (ja) * | 1998-02-03 | 1999-08-10 | Air Liquide Japan Ltd | 排ガス処理設備 |
| JP2000185212A (ja) * | 1998-12-22 | 2000-07-04 | Ube Ind Ltd | パーフルオロ化合物ガスの分離回収方法および装置 |
| JP2001110284A (ja) * | 1999-10-01 | 2001-04-20 | Toshiba Corp | ガス回収装置 |
| WO2001025679A1 (fr) * | 1999-10-01 | 2001-04-12 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Procede et dispositif de recueil et de recuperation de gaz |
| JP2002035528A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-05 | Japan Atom Energy Res Inst | ガス分離装置 |
| JP2003068630A (ja) * | 2001-08-29 | 2003-03-07 | Kyocera Corp | 露光装置 |
| JP2003190744A (ja) * | 2001-12-26 | 2003-07-08 | Ube Ind Ltd | ハロゲン化合物ガスの分離回収装置および分離回収方法 |
| WO2012014497A1 (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-02 | Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 | 排ガス処理システム |
| JP2015525134A (ja) * | 2013-06-25 | 2015-09-03 | ファインテック．カンパニー，リミテッド | パーフルオロ化合物の分離及びリサイクルシステム |
| JP2016523965A (ja) * | 2013-07-12 | 2016-08-12 | アーケマ・インコーポレイテッド | 膜を使用して有機フッ素化合物を分離する方法 |
| JP2021159913A (ja) * | 2020-03-30 | 2021-10-11 | エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドAir Products And Chemicals Incorporated | 非透過ガスの高回収のための膜プロセスおよびシステム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69629769T2 (de) | 2004-08-05 |
| CN1148250C (zh) | 2004-05-05 |
| CN1150057A (zh) | 1997-05-21 |
| EP0754487B1 (en) | 2003-09-03 |
| CN1304779A (zh) | 2001-07-25 |
| US6214089B1 (en) | 2001-04-10 |
| US6254666B1 (en) | 2001-07-03 |
| US5785741A (en) | 1998-07-28 |
| EP1287875A3 (en) | 2003-03-12 |
| SG54348A1 (en) | 1998-11-16 |
| EP1287875A2 (en) | 2003-03-05 |
| US6444011B2 (en) | 2002-09-03 |
| DE69629769D1 (de) | 2003-10-09 |
| KR970005368A (ko) | 1997-02-19 |
| EP0754487A1 (en) | 1997-01-22 |
| US20010029841A1 (en) | 2001-10-18 |
| KR100266460B1 (ko) | 2000-09-15 |
| JP3151151B2 (ja) | 2001-04-03 |
| CN101538016A (zh) | 2009-09-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3151151B2 (ja) | パーフルオロ化合物ガスの分離および回収方法および装置 | |
| JP2999168B2 (ja) | ペルフルオロ化合物ガスの分離および回収のための改良された方法および装置 | |
| US6312502B1 (en) | Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases | |
| US5759237A (en) | Process and system for selective abatement of reactive gases and recovery of perfluorocompound gases | |
| EP0502877B1 (en) | Process for recovering condensable components from gas streams | |
| US5779763A (en) | Process for recovering semiconductor industry cleaning compounds | |
| US5069686A (en) | Process for reducing emissions from industrial sterilizers | |
| US6187077B1 (en) | Separation of CF4 and C2F6 from a perfluorocompound mixture | |
| JP3152389B2 (ja) | 膜によるフルオロケミカルの分離回収方法 | |
| EP1048338A1 (en) | Recovery of perfluorinated compounds from the exhaust of semiconductor fabrications using membrane seperation | |
| JP3284096B2 (ja) | ペルフルオロ化合物の分離及び精製方法及びシステム | |
| TW442322B (en) | Process for the separation and recovery of fluorochemicals from a gas stream containing a diluent gas and fluorochemicals | |
| US7332017B2 (en) | Method and apparatus for separation of moisture from fluids | |
| WO1999036159A1 (en) | Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases | |
| EP1048337A1 (en) | Recovery of perfluorinated compounds from the exhaust of semiconductors fabrications with recycle of vaccum pump dilutent | |
| JP2000334249A (ja) | 膜と吸着を連続して用いる半導体製造における排ガスからのフッ素化合物の分離方法 | |
| IL135653A (en) | Semiconductor production system and recovery of at least one perfluorocompound gas from a gas mixture flowing from such a system | |
| JP2000325732A (ja) | 真空ポンプ希釈剤をリサイクルしつつ半導体製造工程から出る排ガスからフッ素化化学薬品を分離回収する方法 | |
| RU2052277C1 (ru) | Способ отделения паров низкокипящих органических жидкостей от исходной смеси воздуха с 5 - 30 об.% паров этих жидкостей | |
| KR20000067495A (ko) | 일련의 멤브레인 및 흡착을 이용하여 반도체 제작시 생기는배기물로부터 퍼플루오로화된 화합물을 회수하는 방법 | |
| KR20000067501A (ko) | 진공 펌프 희석제를 재순환시켜 반도체 제조 시설의 배기 가스로부터 퍼플루오르화된 화합물을 회수하는 방법 | |
| FR3026314A1 (fr) | Procede de concentration de composes fluores. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080119 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090119 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100119 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100119 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110119 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120119 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130119 Year of fee payment: 12 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |