JPH0883688A

JPH0883688A - 有機ｅｌ装置

Info

Publication number: JPH0883688A
Application number: JP6218910A
Authority: JP
Inventors: Yoshio Hironaka; 義雄弘中
Original assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Current assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date: 1994-09-13
Filing date: 1994-09-13
Publication date: 1996-03-26
Anticipated expiration: 2014-08-09
Also published as: JP2931211B2

Abstract

(57)【要約】【目的】有機ＥＬ素子を発光源として備えた有機ＥＬ
装置であって、有機ＥＬ素子を構成する鏡面性電極が当
該素子の非発光時に鏡面としては視認されない有機ＥＬ
装置を提供する。【構成】本発明の有機ＥＬ装置は、基板と、この基板
上に設けられた１つまたは複数の有機ＥＬ素子とを有
し、前記有機ＥＬ素子が前記の基板上に形成された透明
性電極の上に少なくとも有機発光層を介して鏡面性電極
を積層したものであり、この有機ＥＬ素子を発光源とす
るとともに前記基板側を光取り出し面とする有機ＥＬ装
置であって、前記有機ＥＬ素子の発光面と平行する光取
り出し面の外側に光散乱部を有することを特徴とするも
のである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、有機エレクトロルミネ
ッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と略記する）を発光
源として備えた有機ＥＬ装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＥＬ素子は自己発光のため視認性が高
く、また、完全固体素子であるため耐衝撃性に優れてい
る。このような特徴を有していることから、現在では、
発光材料として無機化合物を用いた種々の無機ＥＬ素子
や、発光材料として有機化合物（以下、この化合物を有
機発光材料という）を用いた種々の有機ＥＬ素子が提案
されており、かつ実用化が試みられている。

【０００３】なかでも有機ＥＬ素子は、無機ＥＬ素子に
比べて印加電圧を大幅に低下させることができるため、
材料の開発・改良を通して、より高性能の有機ＥＬ素子
を得るための開発が活発に進められている。この有機Ｅ
Ｌ素子は、面光源としての利用が進められていると同時
に、いろいろな発光色の素子が開発されていることか
ら、表示装置の画素としての利用も進められている。有
機ＥＬ素子を画素として用いた表示装置では、複数の有
機ＥＬ素子を同一平面上に二次元配列することによって
パネル（表示パネル）を構成し、これらの素子を独立に
駆動させることにより所望の表示を行う。

【０００４】有機ＥＬ素子の基本構成は陽極、有機発光
層、陰極が順次積層されたものであり、基板上にこれら
を順次積層したものが本明細書でいう有機ＥＬ装置であ
る。なお、陽極と陰極の位置は逆転する場合もある。ま
た、性能を向上させるために、陽極と発光層の間に正孔
輸送層を設けたり、陰極と発光層との間に電子注入層を
設けたり、陰極と発光層の間または電子注入層と発光層
との間に接着層を設けたりする場合がある。発光層は、
通常、１種または複数種の有機発光材料により形成する
が、有機発光材料と正孔輸送材料および／または電子注
入材料との混合物等により形成する場合もある。

【０００５】また、有機ＥＬ素子は通常、発光層の主表
面と実質的に平行な位置関係にある面を光取出し面とし
ており、有機ＥＬ素子を構成する１対の電極（陽極およ
び陰極）のうち光取出し面側に位置する電極（＝陽極）
は、光の取出し効率を向上させるため、また、面発光素
子としての構成上、透明ないし半透明の薄膜からなる
（以下、透明性電極ということがある）。一方、光取出
し面とは反対の側に位置する電極（＝陰極）は、特定の
金属薄膜（金属、合金、混合金属等の薄膜）からなる。

【０００６】ところで、有機ＥＬ素子の陰極として用い
られている金属薄膜は概ね７０％以上の反射率を有し、
非常に高い割合で可視光を反射するので、鏡面性電極と
も呼ばれている（以下、本明細書でも陰極を鏡面性電極
ということがある）。有機ＥＬ素子では、鏡面性電極を
有していることから、素子の非発光時に外部から当該有
機ＥＬ素子に入射した光の大部分が鏡面性電極によって
反射されて光取出し面から出射される。その結果、非発
光時には鏡面性電極が鏡面として視認されることとな
り、有機ＥＬ素子を利用した機器の美観の低下やデザイ
ン性の低下を招く。また、有機ＥＬ素子の非発光時にお
いて機器の表示を見えにくくするという難点を生じさせ
る。

【０００７】ＥＬ素子自体あるいはＥＬ素子を利用した
機器においてＥＬ素子の非発光時に当該ＥＬ素子の色が
視認されることによる美観の低下やデザイン性の低下を
防止したものとしては、特開平４−２９２８９５号公報
に開示されているＥＬ素子や、特開平４−２９１１９２
号公報に開示されているＥＬ発光時計がある。特開平４
−２９２８９５号公報に開示されているＥＬ素子は、金
もしくはアルミニウムのコーティングを施した透明体ま
たは金もしくはアルミニウムのコーティングをＥＬ素子
内の所定位置に配置することにより、非発光時に金色ま
たは銀色を呈するようにしたものである。また、特開平
４−２９１１９２号公報に開示されているＥＬ発光時計
は、透明文字盤に金もしくはアルミニウムのコーティン
グを施すことにより、または、金もしくはアルミニウム
のコーティングを施した透明体を透明文字盤とＥＬ素子
との間に配置することにより、ＥＬ素子の非発光時に文
字盤が金色または銀色を呈するようにしたものである。

【０００８】ただし、上記のＥＬ素子およびＥＬ発光時
計は、ＥＬ素子の非発光時に発光層の色が視認されるの
を金もしくはアルミニウムのコーティングを施した透明
体または金もしくはアルミニウムのコーティングにより
防止したものであり、ＥＬ素子の非発光時に当該ＥＬ素
子の陰極が視認されるのを防止しようとしたものではな
い。また、特開平４−２９２８９５号公報および特開平
４−２９１１９２号公報のいずれにおいても、使用して
いるＥＬ素子が無機ＥＬ素子であるか有機ＥＬ素子であ
るの記載がないが、非発光時のＥＬ素子の発光層の色が
クリーム色であるとのことから、これらのＥＬ素子は無
機ＥＬ素子であって有機ＥＬ素子ではないと認識され
る。

【０００９】有機ＥＬ素子では、無機ＥＬ素子と異な
り、基板とこの基板の直上に形成された透明性電極との
密着性および前記の透明性電極の表面の平坦性が共に高
いことが重要である。金やアルミニウムのコーティング
膜は基板との密着性が比較的低いことから、このコーテ
ィング膜を基板上に設けたとしても強度のある平坦な透
明性電極は得られない。したがって、前記のコーティン
グ膜を透明性電極として用いて有機ＥＬ素子を形成する
と発光面内で明るさにムラを生じ、長時間発光させた場
合には発熱により透明性電極と基板との間に剥離を生じ
てダークスポット（無発光点）の原因や素子破壊の原因
となる。

【００１０】また、非発光時にＥＬ素子の色が視認され
ることによる美観の低下やデザイン性の低下を防止する
ことを直接の目的とするものではないが、特開平１−３
１５９９２号公報には素子を構成するガラス基板の片面
（素子を形成する側の面）に機械的研磨および化学エッ
チングにより凹凸を形成した無機ＥＬ素子（薄膜ＥＬ素
子）が開示されている（同公報の実施例１参照）。この
無機ＥＬ素子は、前記の凹凸により発光輝度の視野角に
よる変化量を低減したものであるが、前記の凹凸が外部
光を散乱するので非発光時には外観上白濁した状態を呈
し、結果的に非発光時にＥＬ素子の色が視認されない。

【００１１】しかしながら、この方法を有機ＥＬ素子に
適用することはできない。有機ＥＬ素子では基板表明の
平坦性が高いことが重要であり、表明に凹凸を形成した
基板の上に透明性電極を形成し、この透明性電極を利用
して有機ＥＬ素子を作製すると、発光面に多数のダーク
スポットが生じ、また素子の寿命も極端に短くなる。こ
れは、無機ＥＬ素子で使用する透明性電極の膜厚が１０
０μｍのオーダーであるのに対して有機ＥＬ素子で使用
する透明性電極の膜厚が０．１μｍのオーダーであるこ
とに起因する。すなわち、無機ＥＬ素子では基板に数μ
ｍ程度の凹凸があってもこの凹凸は１００μｍオーダー
の膜厚の透明性電極の表面にそれ程反映されないが、有
機ＥＬ素子では基板に形成された凹凸が数μｍ程度であ
ってもこの凹凸が０．１μｍオーダーの膜厚の透明性電
極の表面に強く反映されて、この透明性電極上に形成さ
れる各層は膜厚が不均一な層となる。その結果、発光面
に多数のダークスポットが生じ、またショートパス（短
絡）が発生して断線してしまうことから、素子寿命が短
くなる。

【００１２】

【発明の目的】本発明の目的は、有機ＥＬ素子を発光源
として備えた有機ＥＬ装置であって、有機ＥＬ素子を構
成する鏡面性電極が当該素子の非発光時に鏡面としては
視認されない有機ＥＬ装置を提供することにある。

【００１３】

【目的を達成するための手段】上記の目的を達成する本
発明の有機ＥＬ装置は、基板と、この基板上に設けられ
た１つまたは複数の有機ＥＬ素子とを有し、前記有機Ｅ
Ｌ素子が前記の基板上に形成された透明性電極の上に少
なくとも有機発光層を介して鏡面性電極を積層したもの
であり、この有機ＥＬ素子を発光源とするとともに前記
基板側を光取り出し面とする有機ＥＬ装置であって、前
記有機ＥＬ素子の発光面と平行する光取り出し面の外側
に光散乱部を有することを特徴とするものである。

【００１４】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
有機ＥＬ装置は、上述のように有機ＥＬ素子の発光面と
平行する光取出し面側の外側に光散乱部を有することを
特徴とするものであるので、まず、この光散乱部につい
て説明する。

【００１５】上記の光散乱部は、本発明の有機ＥＬ装置
を構成する有機ＥＬ素子からの発光（ＥＬ光）に対して
当該発光を外部から視認するに十分な光透過性を有する
一方で、外部から前記有機ＥＬ素子に入射しようとする
光についてはこれを散乱させて、前記有機ＥＬ素子の非
発光時に当該有機ＥＬ素子の鏡面性電極が鏡面として視
認されるのを防止するものである。このような機能を有
する光散乱部は有機ＥＬ素子の発光面と平行する光取出
し面側の外側に形成されていればよく、前記の有機ＥＬ
素子が設けられる基板から離れた状態で配置されていて
もよいが、本発明の有機ＥＬ装置においては有機ＥＬ素
子が設けられる基板の片面上もしくは前記基板の内部に
形成されているか、または基板自体が光散乱部として機
能するものであることが好ましい。このような光散乱部
の具体例としては、下記（１）〜（９）のものが挙げら
れる。

【００１６】（１）レンズシートからなるものレンズシートとは同心円状、互いに平行な複数本の線
状、格子状等に配列ないし形成された複数のレンズ、プ
リズム、Ｖ字溝等によって直進する光の方向を変化させ
る薄型板状透明物質を意味する。このレンズシートの具
体例としてはレンティキュラーレンズシート、フレネル
レンズシート、ハエの目レンズシート、猫の目レンズシ
ート、二重ハエの目レンズシート、二重レンティキュラ
ーレンズシート、放射状レンティキュラーレンズシー
ト、プリズムレンズフィルム、マイクロプリズムレンズ
フィルム等や、これらのレンズシートの凸面を凹面に変
えてなるレンズシート、透明球または半透明球を面状に
並べたもの等が挙げられる。また、Ｖ字溝等の溝を彫る
ことによって光の方向を変化させたものでもよい。レン
ズシートの材質はガラスであってもよいし、樹脂であっ
てもよい。前記の樹脂の具体例としては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスル
ホン、ポリアリレート、ポリメタクリレート、ポリアク
リレート、ポリスチレン等が挙げられる。

【００１７】上記のレンズシートからなる光散乱部は、
基板の内側面（有機ＥＬ素子が設けられる側の面。以下
同じ。）または外側面（有機ＥＬ素子が設けられる側と
は反対側の面。以下同じ。）に設けられていてもよい
し、貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設けられて
いてもよい。さらには、このレンズシートが基板を兼ね
ていてもよい。レンズシートの向きは、当該レンズシー
トにおいてプリズムまたはレンズが形成されている側の
面が有機ＥＬ素子と対向する向きであってもよいし、そ
の逆であってもよい。プリズムまたはレンズが形成され
ている側の面が有機ＥＬ素子と対向する向きにレンズシ
ートを配設した場合には、その逆向きに配設した場合よ
りも光散乱効果が低下するが、プリズムまたはレンズが
形成されている側の面を覆うようにして後述するオーバ
ーコート層を設けることにより、あるはプリズムまたは
レンズが形成されている側の面を覆うようにして透明性
の接着剤を塗布して基板上に固着させることにより、光
散乱効果の低下を少なくすることができる。

【００１８】レンズシートからなる光散乱部を基板の片
面（内側面または外側面）に設けるにあたっては、当該
レンズシートを例えばエポキシ系接着剤、アクリル系接
着剤、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性接着剤
（ビニル樹脂系接着剤等）、イソシアン酸エステル系樹
脂等のバインダーにより基板の所望面上に固着させる。
また、レンズシートからなる光散乱部を貼り合わせ構造
の基板の貼り合わせ部に設けるにあたっては、まず、１
枚の基板の片面にレンズシートを例えば前述のバインダ
ーによって固着させた後、前記のレンズシートが内部に
位置するようにしてもう１枚の基板を例えば前述のバイ
ンダーによって貼り合わせる。なお、有機ＥＬ素子を設
けるための基板として前記貼り合わせ構造の基板を用い
る場合、有機ＥＬ素子は当該貼り合わせ構造の基板を構
成する２枚の基板のいずれの面上に設けてもよい。

【００１９】（２）片面または両面が艶消し処理された
ガラス板もしくはポリマー板からなるものこの光散乱部は、基板の片面（内側面または外側面）ま
たは貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設けられる
か、または、この光散乱部自体が基板を兼ねる。ここ
に、ガラス板としては石英ガラス、青板ガラス、硅酸塩
ガラス、硼酸塩ガラス、燐酸塩ガラス、燐硅酸ガラス、
硼硅酸ガラス等からなるものを用いることができ、偏光
板ガラスからなるものを用いることもできる。また、ポ
リマー板としてはポリエチレンテレフタレート、ポリカ
ーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、
ポリメタクリレート、ポリアクリレート等からなるもの
を用いることができる。この光散乱部を基板の片面また
は貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設ける場合、
その厚さは０．０５〜３ｍｍ程度であることが好まし
い。また、この光散乱自体を基板として兼用する場合に
は、その厚さは０．０５〜５ｍｍ程度であることが好ま
しい。この光散乱部を基板の片面または貼り合わせ構造
の基板の貼り合わせ部に設ける場合と基板として兼用す
る場合のいずれにおいても、当該光散乱部の厚さの下限
は０．０５ｍｍ以下であってもよいが、その場合の光散
乱部材料には強度がないため取り扱いにくい。同様に、
当該光散乱部の厚さの上限を前記の値より高くすること
もできるが、その場合には得られる装置が重たくなる。

【００２０】上記の光散乱部を基板の片面に設けるにあ
たっては、例えば前記（１）で例示したバインダーを用
いて前記のガラス板もしくはポリマー板を基板の所望面
上に固着させる。また、上記の光散乱部を貼り合わせ構
造の基板の貼り合わせ部に設ける場合、光散乱部の材料
として前記のガラス板もしくはポリマー板を用いる以外
は前記（１）での配設方法に準じることができる。な
お、有機ＥＬ素子を設けるための基板として前記の貼り
合わせ構造の基板を用いる場合、有機ＥＬ素子は当該貼
り合わせ構造の基板を構成する２枚の基板のいずれの面
上に設けてもよい。

【００２１】（３）透明基板の内部に当該透明基板と屈
折率が異なる透明物質または不透明粒子を分散させてな
る基板自体からなるものここに、透明基板の材質はガラスであってもよいし、ポ
リマーであってもよい。また、前記透明物質の具体例と
しては気泡、ガラスファイバー、ＳｉＯ₂ 粒子、ガラス
ビーズ、透明プラスチック粒子等が挙げられ、前記不透
明粒子の具体例としてはカーボン，酸化スズ，硫酸バリ
ウム，炭化チタン，窒化チタン，酸化チタン，不透明プ
ラスチック等からなる粒子や、帯電防止材料として使用
される粉末（酸化亜鉛や硫化亜鉛を酸化スズで被覆した
粉末等）が挙げられる。これらの透明物質および不透明
粒子は、ガラスファイバーを除いて、粒径が０．１μｍ
〜数１０μｍのものであることが好ましい。ガラスファ
イバーは、繊維径が０．１〜１０００μｍ程度、繊維長
が０．１〜１０ｍｍ程度のものであることが好ましい。
これらの透明物質および不透明粒子はそれぞれ単独で使
用されていてもよいし、併用されていてもよい。さら
に、ジオキサジン系，アントラキノン系，フタロシアニ
ン系等の色素粉末や、スチルベン系，ベンゾイミダゾー
ル系，ベンジジン系等の蛍光色素粉末を単独で、または
前記の透明物質および／または不透明粒子と併用して用
いてもよい。

【００２２】（４）一平面上に分散または凝集した状態
で配置された透明物質または不透明粒子からなるものここに、上記の透明物質および不透明粒子の具体例とし
ては、気泡を除いて上記の（３）で例示したものと同じ
ものが挙げられる。なお、透明物質を用いる場合、当該
透明物質としては基板の屈折率と異なる屈折率を有する
ものを選択することが好ましい。上記の光散乱部は基板
の片面（内側面または外側面）に設けられていてもよい
し、貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設けられて
いてもよい。この光散乱部を基板の片面に設けるにあた
っては、例えば前記（１）で例示したバインダーを用い
て前記の透明物質の所望量または前記の不透明粒子の所
望量を基板の所望面上に固着させる。また、上記の光散
乱部を貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設ける場
合は、光散乱部の材料として前記の透明物質の所望量ま
たは前記の不透明粒子の所望量を用いる以外は前記
（１）での配設方法に準じることができる。なお、有機
ＥＬ素子を設けるための基板として前記の貼り合わせ構
造の基板を用いる場合、有機ＥＬ素子は当該貼り合わせ
構造の基板を構成する２枚の基板のいずれの面上に設け
てもよい。

【００２３】（５）一平面上に班点状に付着した金属か
らなるものこの光散乱部も基板の片面（内側面または外側面）に設
けられていてもよいし、貼り合わせ構造の基板の貼り合
わせ部に設けられていてもよい。光散乱部を前記の貼り
合わせ部に設ける場合、その配設方法は前述の（１）で
の配設方法に準じることができる。班点状に付着した金
属の形成は、所定の金属を蒸発源として使用した真空蒸
着法や、所定の金属をターゲットとして用いたスパッタ
リング法、あるいは印刷法、塗布法、散布法等により行
うことができる。このとき、班点状の金属の膜厚は概ね
０．０１〜５００μｍであることが好ましい。また、斑
点状に付着した金属の１つの大きさ（平面視上の面積）
は１〜１００００μｍ²であることが好ましが、１ｍｍ
²以上のものが含まれていてもよい。そして、班点状に
付着した金属による被覆率は５〜９０％であることが好
ましい。上記の金属の具体例としては金、白金、ニッケ
ル、クロムおよびアルミニウムが挙げられる。なお、貼
り合わせ構造の基板（貼り合わせ部に上記の光散乱部が
設けられているもの）を得る際の基板同士の固着は、例
えば上記の（１）と同様にして行うことができる。ま
た、有機ＥＬ素子を設けるための基板として前記の貼り
合わせ構造の基板を用いる場合、有機ＥＬ素子は当該貼
り合わせ構造の基板を構成する２枚の基板のいずれの面
上に設けてもよい。

【００２４】（６）非金属性繊維製の織物、編み物もし
くは不織布または前記非金属性繊維の配列物からなるも
のここに、上記の非金属性繊維の具体例としては、絹，
麻，木綿等の天然繊維や、人絹，ナイロン繊維，ポリエ
ステル繊維，ポリプロピレン繊維，ガラスファイバー等
の化学繊維が挙げられ、その太さは０．１μｍ〜１ｍｍ
であることが好ましい。また、このような非金属性繊維
からなる前記の配列物とは、前記の非金属性繊維を放射
状、縞状、ジグザグ状、葛折状、格子状、網の目状、螺
旋状、同心円状、幾何学模様状、あるいは不定形に配置
したものを意味し、使用されている繊維の本数は１本で
も複数本でもよい。前記の非金属性繊維は透明であって
もよいし、人為的に着色されていてもよいが、透明な非
金属性繊維を用いる場合には基板の屈折率と異なる屈折
率を有するものを選択することが好ましい。

【００２５】上記の光散乱部は基板の片面（内側面また
は外側面）に設けられていてもよいし、貼り合わせ構造
の基板の貼り合わせ部に設けられていてもよい。光散乱
部を基板の片面に設けるにあたっては、例えば前記
（１）で例示したバインダーを用いて前記の織物、編み
物、不織布もしくは配列物を固着するか前記の非金属性
繊維を所望形状に配列する。また、光散乱部を貼り合わ
せ構造の基板の貼り合わせ部に設けるあたっては、ま
ず、１枚の基板の片面に例えば前記（１）で例示したバ
インダーを用いて前記の織物、編み物、不織布もしくは
配列物を固着するか前記の非金属性繊維を所望形状に配
列した後、この上にもう１枚の基板を例えば前記（１）
で例示したバインダーによって貼り合わせる。なお、有
機ＥＬ素子を設けるための基板として前記の貼り合わせ
構造の基板を用いる場合、有機ＥＬ素子は当該貼り合わ
せ構造の基板を構成する２枚の基板のいずれの面上に設
けてもよい。

【００２６】（７）一平面上に非金属製の細線によって
描画されるか、または細い溝によって描画された模様か
らなものここに、上記非金属製の細線の具体例としては、印刷イ
ンキ、複写インキ、カーボンインキ、絵具、油脂、透明
合成樹脂等や、これらのものに白，黒，赤，青，緑等の
色素（蛍光色素を含む）ないし顔料を添加したもの等か
らなる線幅１０〜２０００μｍのものが挙げられる。細
線の色は特に限定されるものではなく、透明、無彩色
（半透明を含む）、有彩色（半透明を含む）等、所望の
色を適宜選択する。また、この細線によって描画された
模様の具体例としては放射状、縞状、ジグザグ状、葛折
状、格子状、網の目状、螺旋状、同心円状、幾何学模様
状、あるいは不定形が挙げられる。光散乱部として非金
属製の透明な細線によって描画された模様を用いる場
合、前記透明な細線の屈折率は基板の屈折率と異なって
いることが好ましい。また、上記の細い溝の具体例とし
ては、垂直断面がＶ字状、Ｕ字状等を呈する深さ０．１
〜１００μｍ程度の溝で、幅（深さ方向で最も幅広の部
分での値）が０．１〜５００μｍ程度のものが挙げられ
る。この溝によって描画された模様の具体例としては、
上記細線によって描画された模様の具体例と同じものが
挙げられる。

【００２７】上記の光散乱部は基板の片面（内側面また
は外側面）に設けられていてもよいし、貼り合わせ構造
の基板の貼り合わせ部に設けられていてもよい。さらに
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリメタクリ
レート、ポリアクリレート等からなるポリマーフィルム
の片面に設けられていてもよいが、この場合には、上記
の光散乱部が設けられたポリマーフィルムを基板の片面
または貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設ける。
上記の光散乱部（模様）を基板あるいはポリマーフィル
ムの片面に設けるにあたっては、この面上にインクジェ
ットプリンターによる印刷、電子複写機による印刷、ス
トロボフラッシュ方式による印刷、スクリーン印刷、写
真式複写機による印刷等の方法により前記非金属製の細
線によって所望の模様を描画するか、または切削やエッ
チング法等の方法により前記の細い溝によって所望の模
様を描画する。そして、片面に光散乱部（模様）を描画
したポリマーフィルムを基板の片面に設けるにあたって
は、例えば前記（１）で例示したバインダーによって前
記のポリマーフィルムを基板の所望面上に固着させる。

【００２８】また、光散乱部（模様）を貼り合わせ構造
の基板の貼り合わせ部に設けるにあたっては、まず、１
枚の基板の片面に前述の方法で所望の模様を描画した
後、この上にもう１枚の基板を例えば前記（１）で例示
したバインダーによって貼り合わせる。そして、片面に
光散乱部（模様）を描画したポリマーフィルムを貼り合
わせ構造の基板の貼り合わせ部に設けるにあたっては、
まず、１枚の基板の片面に前述の方法でポリマーフィル
ム（片面に模様を描画したもの）を固着させた後、この
上にもう１枚の基板を例えば前記（１）で例示したバイ
ンダーによって貼り合わせる。上記の光散乱部は有機Ｅ
Ｌ素子と対向する向きに設けられていてもよいし、その
逆の向きに設けられていてもよい。なお、有機ＥＬ素子
を設けるための基板として前記の貼り合わせ構造の基板
を用いる場合、有機ＥＬ素子は当該貼り合わせ構造の基
板を構成する２枚の基板のいずれの面上に設けてもよ
い。

【００２９】（８）半透明物質層または半透明フィルム
からなるものここに、上記の半透明物質層とは可視光の透過率が１０
〜９９％である固体、液体、または固溶体からなる層を
意味し、その材質の具体例としては、パラフィン
（蝋）、デンプン糊、グリース、シリコーングリース、
染料溶液、顔料分散液、金コロイド溶液、セッケン水等
が挙げられる。半透明物質層の厚さはその材料によって
異なるが、概ね５〜１０００μｍである。また、上記の
半透明フィルムとは可視光の透過率が１０〜９０％であ
る層を意味し、その具体例としては、パラフィン紙、パ
ラフィルム（パラフィンフィルム）、エンボス加工を施
した透明ポリマーフィルムを複数枚重ねたもの（透明ポ
リマーフィルムの材質はポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレ
ート、ポリメタクリレート、ポリアクリレート等）、結
晶性ポリマー（結晶性ポリプロピレン、ナイロン、ポリ
スチレン、セルロース、ポリビニルアルコール等）のフ
ィルム、和紙、洋紙、セロファン、ゴム膜等が挙げられ
る。

【００３０】上記の光散乱部は基板の片面に設けられて
いてもよいし、貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に
設けられていてもよい。上記の半透明物質層からなる光
散乱部を基板の片面に設けるにあたっては、パラフィン
（蝋）、デンプン糊、グリース、シリコーングリース等
については塗布法等の方法によって、また、染料溶液、
顔料分散液、金コロイド溶液、セッケン水等については
これを透明袋に入れ、この透明袋を基板の片面に例えば
前記（１）で例示したバインダーにより固着させる等の
方法により、目的とする半透明物質層を形成する。ま
た、上記の半透明フィルムからなる光散乱部を基板の片
面に設けるにあたっては、例えば前記（１）で例示した
バインダーにより上記の半透明フィルムを固着させる。

【００３１】一方、上記の半透明物質層からなる光散乱
部を貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設けるにあ
たっては、まず、１枚の基板の片面に前述の方法で所望
の半透明物質層を形成した後、この上にもう１枚の基板
を例えば前記（１）で例示したバインダーによって貼り
合わせる。または、１枚の基板の片面に前述の方法で所
望の半透明物質層を形成した後、この上にもう１枚の基
板を重ね、必要に応じてジグ等を使用して、前記２枚の
基板に半透明物質層を挟持させる。ジグ等を使用して２
枚の基板に挟持させる半透明物質層の材料として透明袋
に入った染料溶液、顔料分散液、金コロイド溶液、セッ
ケン水等を使用する場合、この透明袋はバインダーによ
って基板に固着されていなくてもよい。また、上記の半
透明フィルムからなる光散乱部を貼り合わせ構造の基板
の貼り合わせ部に設けるにあたっては、まず、１枚の基
板の片面に前述の方法で所望の半透明フィルムを固着さ
せた後、この上にもう１枚の基板を例えば前記（１）で
例示したバインダーによって貼り合わせる。または、１
枚の基板の片面に前述の方法で所望の半透明物質層を形
成した後、この上にもう１枚の基板を重ね、必要に応じ
てジグ等を使用して、前記２枚の基板に半透明フィルム
を挟持させる。ジグ等を使用して２枚の基板に半透明フ
ィルムを挟持させる場合、この半透明フィルムはバイン
ダーによって基板に固着されていなくてもよい。なお、
有機ＥＬ素子を設けるための基板として前記の貼り合わ
せ構造の基板を用いる場合、有機ＥＬ素子は当該貼り合
わせ構造の基板を構成する２枚の基板のいずれの面上に
設けてもよい。

【００３２】（９）半透明のポリマー基板自体からなる
ものここに、上記半透明のポリマー基板とは可視光の透過性
が１０〜９９％程度のもを意味する。その具体例として
は、結晶性ポリプロピレン、６，６−ナイロン、変性ポ
リスチレン、シンジオタクチックポリスチレン等からな
る厚さ０．１〜１０ｍｍのものが挙げられる。

【００３３】本発明の有機ＥＬ装置では上で例示した
（１）〜（９）等の光散乱部を設けた基板上に有機ＥＬ
素子が形成されているわけであるが、凹凸面を有する光
散乱部を前記の凹凸面が有機ＥＬ素子と対向する向きに
基板の内側面上に設けた場合には、この光散乱部の上に
オーバーコート層を設けて実質的に平坦な面を形成した
後、このオーバーコート層上に有機ＥＬ素子を形成す
る。オーバーコート層を設けることなく前記の光散乱部
上に直接有機ＥＬ素子を形成すると、前記の光散乱部と
直接接することになる透明性電極（有機ＥＬ素子を構成
する透明性電極＝陽極）が前記光散乱部の凹凸の影響を
受けて平坦にならないため、有機ＥＬ素子を構成する各
層の厚さが一定でなくなる結果、発光面に多数のダーク
スポットが生じ足り、ショートパスによる断線が生じ易
くなる。前記のオーバーコート層の材質の具体例として
は、広栄化学工業（株）製のコーエイハードＭ−１０１
（商品名）、ノボラック型ビニルエステル樹脂、トリメ
チロールプロパントリアクリレートと２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−フェニル−プロパン−１との反応物等
の光硬化性樹脂が挙げられる。

【００３４】また、光散乱部および必要に応じてのオー
バーコート層を形成した状態下での基板の光透過率は、
基板の外側面側から内側面へ透過しようとする可視光に
対しては概ね８０％未満であることが好ましい。この光
透過率が８０％以上では有機ＥＬ素子を構成する鏡面性
電極が当該素子の非発光時に鏡面として視認され易くな
る。一方、基板の内側面側から外側面へ透過しようとす
る光（特に、有機ＥＬ素子の発光波長の光）に対しては
概ね１０％以上であることが好ましい。この光透過率が
１０％未満では実用上十分な発光輝度を有する有機ＥＬ
装置を得ることが困難になる。上述の光透過特性を満足
することができさえすれば、本発明の有機ＥＬ装置を構
成する基板（光散乱部が形成されたもの）は光散乱部を
形成する前の段階において必ずしも無色透明である必要
はなく、白色半透明あるいは有色半透明であってもよ
い。また、光散乱部が基板を兼ねてない場合、基板の材
質はガラス、プラスチック、セラミックスのいずれでも
よく、目的とする有機ＥＬ装置の用途や使用する光散乱
部の種類等に応じて適宜選択可能である。

【００３５】なお、光散乱部として前述の（３），
（４）または（５）のものを用いて有機ＥＬ装置を作製
した場合には、当該光散乱部を用いない場合よりも、有
機ＥＬ素子からの光（ＥＬ光）の取り出し効率を著しく
向上させることが可能である。有機ＥＬ素子が設けられ
る基板（光散乱部を設けていないもの）の屈折率は、通
常、Ｍ＝１．４〜３の範囲にある。この値は空気の屈折
率Ｍ＝１より大きい。このため、通常の光取り出し面
（光散乱部を設けていない基板面）では全反射角以上の
角度で進入した光は全反射され、外部に取り出されな
い。一方、前記（３），（４）または（５）の光散乱部
を設けた基板では全反射が緩和され、その結果として光
取り出し面より出射される光の量が多くなる。全反射角
未満の角度で進入した光に対しても、基板（光散乱部を
設けていない基板）の屈折率と空気の屈折率との差は一
定の光の戻りを与えるが、前記（３），（４）または
（５）の光散乱部が設けられていると当該光散乱部がこ
れを緩和する結果、光の取り出し効率がさらに大きくな
る。なお、全反射を緩和する光散乱部であっても光吸収
性の性質をもつもの（吸光定数が１０³ｃｍ^-1を超える
もの）は光を吸収するので、光の取り出し効率を大きく
することはできない。

【００３６】本発明の有機ＥＬ装置は前述した光散乱部
を有することを特徴とするものであり、この有機ＥＬ装
置を構成する有機ＥＬ素子は有機ＥＬ素子として機能す
るものであればよく、その層構成および材質は特に限定
されるものではない。有機ＥＬ素子の代表的な層構成と
しては基板上への積層順が下記(1)〜(8)であるものが挙
げられる。

【００３７】(1) 陽極（透明性電極）／正孔輸送層／有
機発光層／電子注入層／陰極（鏡面性電極） (2) 陽極（透明性電極）／正孔輸送層／有機発光層／陰
極（鏡面性電極） (3) 陽極（透明性電極）／有機発光層／電子注入層／陰
極（鏡面性電極） (4) 陽極（透明性電極）／正孔輸送層／有機発光層／接
着層／陰極（鏡面性電極） (5) 陽極（透明性電極）／有機発光層／陰極（鏡面性電
極） (6) 陽極（透明性電極）／正孔輸送材料・有機発光材料
・電子注入材料の混合層／陰極（鏡面性電極） (7) 陽極（透明性電極）／正孔輸送材料・有機発光材料
の混合層／陰極（鏡面性電極） (8) 陽極（透明性電極）／有機発光材料・電子注入材料
の混合層／陰極（鏡面性電極）

【００３８】また、本発明の有機ＥＬ装置を構成する有
機ＥＬ素子の数は１個であってもよいし複数個であって
もよい。そして、有機ＥＬ素子を複数個設ける場合、各
有機ＥＬ素子の発光色は同じであってもよいし異なって
いてもよく、有機ＥＬ装置全体としての発光色が所望色
になるように１種または複数種の有機ＥＬ素子を所望形
状に形成する。例えば、有機ＥＬ装置全体としての発光
色を白色にする場合には、赤色光を発する有機ＥＬ素子
と緑色光を発する有機ＥＬ素子と青色光を発する有機Ｅ
Ｌ素子とをストライプ型、モザイク型、トライアングル
型、４画素配置型等に配置する。個々の有機ＥＬ素子の
発光色は有機発光材料の種類に応じて変化するので、有
機ＥＬ装置全体としての発光色が所望の色になるよう
に、使用する有機発光材料の種類を適宜選択する。ある
いは、光散乱部の材料として用いる粒子やガラス、樹脂
基板等に蛍光変換材料（蛍光材料）、色素、顔料等を混
入させることにより装置としての発光色を変化させても
よい。なお、上述した有機ＥＬ素子は基板上に形成され
るわけであるが、有機ＥＬ素子は一般に水分に弱いの
で、基板上に形成された有機ＥＬ素子を覆うようにして
当該有機ＥＬ素子への水分の侵入を防止するための保護
層を１重または２重以上に設けてもよい。

【００３９】陽極（透明性電極）、陰極（鏡面性電
極）、有機発光層、正孔輸送層、電子注入層、接着層、
保護層の材料としては、それぞれ従来公知の材料を用い
ることができる。例えば、陽極（透明性電極）材料とし
ては仕事関数が大きく（４ｅＶ以上）かつ所望の透明性
電極（透明導電膜）が得られる金属、合金、電気伝導性
化合物、またはこれらの混合物等を利用することがで
き、具体例としてはＡｕ等の金属や、ＣｕＩ，ＩＴＯ，
ＳｎＯ₂ ，ＺｎＯ等の誘電性透明材料等が挙げられる。
また、陰極（鏡面性電極）材料としては仕事関数の小さ
い（４ｅＶ以下）金属、合金、電気伝導性化合物、また
はこれらの混合物等を利用することができ、具体例とし
てはナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシ
ウム、リチウム、マグネシウムと銀との合金または混合
金属、Ａｌ／ＡｌＯ₂、インジウム、希土類金属等が挙
げられる。なかでも、４００〜６００ｎｍの波長域での
反射率が５０％以上である金属（合金および混合金属を
含む）膜が得られるものが好ましい（特願平５−２８８
２０９号公報参照）。なお、陽極材料および陰極材料を
選択する際に基準とする仕事関数の大きさは４ｅＶに限
定されるものではない。

【００４０】有機発光層の材料（有機発光材料）の具体
例としては、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール
系、ベンゾオキサゾール系等の系の蛍光増白剤や、金属
キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化
合物、ジスチリルピラジン誘導体、芳香族ジメチリジン
化合物等が挙げられる。有機発光層は、有機発光材料の
みよって形成する他、有機発光材料と正孔輸送材料およ
び／または電子注入材料との混合物等により形成しても
よい。この場合の有機発光層の材料の具体例としては、
ポリメチルメタクリレート、ビスフェノールＡ、ポリカ
ーボネート（ＰＣ）等のポリマー中にクマリン等の有機
発光材料を少量分散させた分子分散ポリマー系や、ポリ
カーボネート骨格中にジスチリルベンゼン誘導体を導入
したポリマー系、あるいはポリフェニレンビニル（ＰＰ
Ｖ）誘導体系，ポリアルキルチオフェン（ＰＡＴ）誘導
体系，ポリアルキルフルオレン（ＰＡＦ）誘導体系，ポ
リフェニレン（ＰＰ）誘導体系，およびポリアリレン
（ＰＡ）誘導体系等の共役ポリマー中や正孔輸送性のポ
リビニルカルバゾール中に電子注入性のオキサジアゾー
ル系誘導体を分散させた系等が挙げられる。

【００４１】正孔輸送層の材料（正孔輸送材料）の具体
例としては、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘
導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導
体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレン
ジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カ
ルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラ
セン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、
スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系化合
物、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の特
定の導電性高分子オリゴマー等が挙げられる。

【００４２】電子注入層の材料（電子注入材料）の具体
例としては、ニトロ置換フルオレノン誘導体、アントラ
キノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピ
ランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環
テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニ
リデンメタン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ア
ントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、８−キノリ
ノール誘導体、その他特定の電子伝達性化合物等が挙げ
られる。

【００４３】接着層の材料の具体例としては、８−キノ
リノールまたはその誘導体の金属錯体、例えばトリス
（８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリ
ノール）マグネシウム、ビス（ベンゾ−８−キノリノー
ル）亜鉛、ビス（２−メチル−８−キノリラート）アル
ミニウムオキシド、トリス（８−キノリノール）インジ
ウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミ
ニウム、８−キノリノールリチウム、トリス（５−クロ
ロ−８−キノリノール）ガリウム、ビス（５−クロロ−
８−キノリノール）カルシウム、トリス（５，７−ジク
ロル−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５，
７−ジブロモ−８−ヒドロキシキノリノール）アルミニ
ウム、ビス（８−キノリノール）ベリリウム、ビス（２
−メチル−８−キノリノール）ベリリウム、ビス（８−
キノリノール）亜鉛、ビス（２−メチル−８−キノリノ
ール）亜鉛、ビス（８−キノリノール）スズ、トリス
（７−プロピル−８−キノリノール）アルミニウム等が
挙げられる。

【００４４】そして、保護層の材料の具体例としては、
テトラフルオロエチレンと少なくとも１種のコモノマー
とを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合
体（特願平２−４０９０１７号公報参照）、環状構造を
有する含フッ素共重合体（特願平３−１２９８５２号公
報参照）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチル
メタクリレート、ポリイミド、ポリユリア、ポリテトラ
フルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、
ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロ
エチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、
吸水率１％以上の吸水性物質および吸水率０．１％以下
の防湿性物質（特願平６−４０６５号公報参照）等が挙
げられる。

【００４５】本発明の有機ＥＬ装置は、所望の光散乱部
を形成した基板の内側面上（基板の内側面に光散乱部が
形成されている場合にはこの光散乱部上、また、この光
散乱部上にオーバーコート層が形成されている場合には
このオーバーコート層上）に抵抗加熱真空蒸着法、電子
ビーム加熱真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法、キャスト法、スピンコート法等を利用し
て有機ＥＬ素子を構成する各層を順次積層し、この後、
必要に応じて抵抗加熱真空蒸着法、電子ビーム加熱真空
蒸着法、高周波誘導加熱真空蒸着、蒸着重合法、プラズ
マ蒸着法、ＭＢＥ（分子線エピタキシ）法、クラスター
イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重
合法（高周波励起イオンプレーティング法）、スパッタ
リング法、反応性スパッタリング法、キャスト法、スピ
ンコート法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱
ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法等を利用して保護層を設
けることにより作製することができる。有機ＥＬ素子を
構成する各層の形成方法および保護層の形成方法は、使
用する材料に応じて適宜変更可能である。有機ＥＬ素子
を構成する各層の形成にあたって真空蒸着法を用いれ
ば、この真空蒸着法だけによって陽極（透明性電極）か
ら陰極（鏡面性電極）まで、または陽極（透明性電極）
から保護層までを形成することができるため、設備の簡
略化や生産時間の短縮を図るうえで有利である。

【００４６】なお、光散乱部を基板の内部（貼り合わせ
構造の基板の貼り合わせ部）または外側面に形成する場
合には、当該光散乱部の形成は有機ＥＬ素子の形成後や
保護層の形成後に行ってもよい。また、鏡面性電極とし
て４００〜６００ｎｍの波長域での反射率が５０％以上
である金属（合金および混合金属を含む）膜を用いる場
合、このような金属膜を得るためには少なくとも１０^-2
Ｐａ以下の真空環境下での成膜が必要である。さらに、
有機ＥＬ素子は陽極と陰極との間に電圧を印加すること
によりエージングを行ったものであってもよい。ここ
で、エージングとは電圧を印加することによりリーク電
流が発生する領域を除去するとともに、素子内に溜まっ
た正孔や電子を除去する処理をいう（特開平４−１４７
９４号公報参照）。このエージングにより、有機ＥＬ素
子の安定動作が図れる。エージングは必ずしも必要では
ないが、素子の動作安定性の観点からはエージングを行
うことが望ましい。

【００４７】上述のようにして得ることができる本発明
の有機ＥＬ装置は、有機ＥＬ素子を構成する鏡面性電極
が当該素子の非発光時に鏡面としては視認されない有機
ＥＬ装置であるので、非発光時に前記の鏡面性電極が鏡
面として視認されることに起因する美観の低下やデザイ
ン性の低下が実質的にない。したがって、本発明の有機
ＥＬ装置を用いることにより美観やデザイン性の高い有
機ＥＬ装置を容易に提供することが可能になる。このよ
うな特性を有する本発明の有機ＥＬ装置は、面光源、液
晶表示装置や時計のバックライト、キャラクター表示装
置、電飾用装置、車載用インジケーター、複写機の除電
用光源、プリンタ用光源、光変調装置等として利用する
ことができる。

【００４８】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
有機ＥＬ装置の構成要素の１つである有機ＥＬ素子の作
製方法を予め説明しておく。まず、基板（光散乱部が形
成されていてもよい。この基板については後述する個々
の実施例参照。）の内側面（有機ＥＬ素子を形成しよう
とする側の面）上に必要に応じて陽極（透明性電極）用
に膜厚１００ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法により
成膜した後、この基板をイソプロピルアルコールで３０
分間超音波洗浄し、更に純水で３０分間洗浄し、最後に
再びイソプロピルアルコールで３０分間超音波洗浄す
る。洗浄後の基板を市販の真空蒸着装置（日本真空技術
（株）製）の基板ホルダーに固定し、モリブデン製抵抗
加熱ボートにＮ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス−
（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−
４，４′−ジアミン（以下、ＴＰＤという）を２００ｍ
ｇ入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにトリス（８
−キノリノール）アルミニウム（以下、Ａｌｑという）
を２００ｍｇ入れて、真空チャンバー内を１×１０^-4Ｐ
ａまで減圧する。

【００４９】次に、ＴＰＤを入れた前記の抵抗加熱ボー
トを２１５〜２２０℃まで加熱し、ＴＰＤを蒸着速度
０．１〜０．３ｎｍ／秒でＩＴＯ膜上に堆積させて、膜
厚６０ｎｍの正孔輸送層を成膜する。このときの基板温
度は室温である。次いで、正孔輸送層が成膜された基板
を真空チャンバーから取出すことなく、正孔輸送層の成
膜に引続いて有機発光層の成膜を行う。有機発光層の成
膜は、Ａｌｑを入れた前記の抵抗加熱ボートを２７５℃
まで加熱し、Ａｌｑを蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒
で正孔輸送層上に堆積させて、膜厚６０ｎｍのＡｌｑ層
を成膜することにより行う。このときの基板温度も室温
である。次に、モリブデン製抵抗加熱ボートにマグネシ
ウム１ｇを入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにイ
ンジウム５００ｍｇを入れて、真空チャンバー内を２×
１０^-4Ｐａまで減圧する。そして、マグネシウムを入れ
た前記の抵抗加熱ボートを５００℃程度に加熱してマグ
ネシウムを約１．７〜２．８ｎｍ／ｓの蒸着速度で蒸発
させると共に、インジウムを入れた前記の抵抗加熱ボー
トを８００℃程度に加熱してインジウムを約０．０３〜
０．０８ｎｍ／ｓの蒸着速度で蒸発させて、マグネシウ
ムとインジウムとの混合金属からなる膜厚１５０ｎｍの
陰極（鏡面性電極）を有機発光層上に設ける。

【００５０】このようにして、ガラス基板上の層構成が
陽極（透明性電極；ＩＴＯ膜）／正孔輸送層／有機発光
層／陰極（鏡面性電極；Ｍｇ・Ｉｎ層）である有機ＥＬ
素子を作製する。この有機ＥＬ素子は緑色光（主波長は
５１３ｎｍ）を発し、その初期輝度は、基板が透明ガラ
ス基板（光散乱部を設けていないもの。波長５１３ｎｍ
の光の透過率亜は９５％）である場合には電圧６．５
Ｖ、電流密度３ｍＡ／ｃｍ² で１００cd／ｍ² に達す
る。

【００５１】実施例１まず、基板として２５×７５×１．１ｍｍの透明ガラス
板（日本板ガラス社製のＯＡ−２）上に陽極用に膜厚１
００ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法により成膜した
ものを用意した。また光散乱部の材料として、カマボコ
型レンズが同心円状に多数配列されているレンティキュ
ラーレンズシート（ピッチ０．４ｍｍ、平均厚さ０．４
ｍｍ、ポリアリレート製。以下、レンズシートＩとい
う）を用意した。このレンズシートＩの平面形状を図１
（ａ）に、また断面形状を図１（ｂ）に示す。図１にお
いて符号１がレンズシートＩを示す。次に、上記の基板
の外側面（ＩＴＯ膜が成膜されていない側の面）に上記
のレンズシートＩを当該レンズシートＩのレンズ面（レ
ンズが形成されている側の面）が外側になるようにして
エポキシ系接着剤により固着させた。この後、上記の基
板の内側面（有機ＥＬ素子を形成する側の面、すなわち
ＩＴＯ膜が成膜されている側の面）上に上記の方法によ
り有機ＥＬ素子を形成して、目的とする有機ＥＬ装置を
得た。この有機ＥＬ装置の断面の概略を図２に示す。図
２に示したように、この有機ＥＬ装置１０ａは基板１１
ａとこの基板１１ａの片面（内側面）に形成された有機
ＥＬ素子１２とを備え、有機ＥＬ素子１２は基板１１ａ
側から順に陽極（透明性電極；ＩＴＯ膜）／正孔輸送層
／有機発光層／陰極（鏡面性電極；Ｍｇ・Ｉｎ層）を積
層してなる。これらの部材のうち、陽極（透明性電極）
を符号１３で、また陰極（鏡面性電極）を符号１４で示
す。また、基板１１ａの外側面（有機ＥＬ素子１２が形
成されている面とは反対側の面）には光散乱部としての
レンティキュラーレンズシート１５ａ（レンズシート
Ｉ）がエポキシ系接着剤（図示せず）によって固着され
ている。このようにして得た有機ＥＬ装置の初期輝度を
電圧６．５Ｖ、電流密度３ｍＡ／ｃｍ²の条件下で測定
した。また、有機ＥＬ素子の非発光時に当該有機ＥＬ素
子の鏡面性電極が視認できるか否かを調べた。これらの
結果を表１に示す。

【００５２】実施例２まず、基板材料として、厚さが０．３ｍｍである点を除
いて実施例１で使用したガラス板と同じもの（ただし、
ＩＴＯ膜は設けられていない）を２枚用意した。また、
光散乱部の材料として実施例１で使用したものと同一の
レンズシートＩを用意した。次に、一方のガラス板の片
面に実施例１と同様にしてレンズシートＩを固着させた
後、このレンズシートＩが内部にくるようにしてもう１
枚のガラス板をエポキシ系接着剤により貼り合わせた。
これにより、内部（貼り合わせ部）にレンズシートＩを
有する貼り合わせ構造の基板が得られた。この後、最初
にレンズシートＩを固着させた方のガラス板においてレ
ンズシートＩを固着させた面と対向する面の上に前述の
方法（ＩＴＯ膜の成膜を含む）により有機ＥＬ素子を形
成して、目的とする有機ＥＬ装置を得た。この有機ＥＬ
装置の断面の概略を図３に示す。図３に示したように、
この有機ＥＬ装置１０ｂは、基板１１ｂとこの基板１１
ｂの片面（内側面）に形成された有機ＥＬ素子１２とを
備えており、基板１１ｂは光散乱部としてのレンティキ
ュラーレンズシート１５ａ（レンズシートＩ）を介して
２枚のガラス板１１ｂ１，１１ｂ２をエポキシ系接着剤
（図示せず）によって貼り合わせた貼り合わせ構造をな
している。なお、図３において図２と共通する部材につ
いては図２と同じ符号を付してある。このようにして得
られた有機ＥＬ装置の初期輝度を実施例１と同一条件で
測定した。また、有機ＥＬ素子の非発光時に当該有機Ｅ
Ｌ素子の鏡面性電極が視認できるか否かを調べた。これ
らの結果を表１に示す。

【００５３】実施例３まず、基板として実施例１で使用したガラス板と同じも
の（ただし、ＩＴＯ膜は設けられていない）を用い、こ
の基板の内側面に実施例１と同様にしてレンズシートＩ
を固着させた。このとき、レンズシートＩの向きはレン
ズが形成されている側の面が有機ＥＬ素子と対向する向
きとした。次に、このレンズシートＩの上に光硬化性樹
脂（広栄化学工業（株）製のコーエイハードＭ−１０
１）を塗布して、実質的に平坦な表面を有するオーバー
コート層を設けた。このとき、オーバーコート層の膜厚
（最大膜厚）は１０μｍとした。この後、前記のオーバ
ーコート層上に前述の方法（ＩＴＯ膜の成膜を含む）に
より有機ＥＬ素子を形成して、目的とする有機ＥＬ装置
を得た。この有機ＥＬ装置の断面の概略を図４に示す。
図４に示したように、この有機ＥＬ装置１０ｃは基板１
１ａと、この基板１１ａの片面（内側面）にエポキシ系
接着剤（図示せず）によって固着された光散乱部として
のレンティキュラーレンズシート１５ａ（レンズシート
Ｉ）と、このレンズシート１５ａ上に形成されたオーバ
ーコート層１６と、このオーバーコート層１６上に形成
された有機ＥＬ素子１２とを備えている。なお、図４に
おいて図２と共通する部材については図２と同じ符号を
付してある。このようにして得られた有機ＥＬ装置の初
期輝度を実施例１と同一条件で測定した。また、有機Ｅ
Ｌ素子の非発光時に当該有機ＥＬ素子の鏡面性電極が視
認できるか否かを調べた。これらの結果を表１に示す。

【００５４】実施例４〜実施例５レンズシートＩに代えてレンズが互いに平行な複数本の
線状に形成されているプリズムレンズフィルム（３Ｍ社
製のＴＲＡＦ。以下、レンズシートIIという）を用いた
以外は実施例１、実施例２と同様にして、目的とする実
施例４および実施例５の有機ＥＬ装置をそれぞれ得た。
なお、レンズシートIIの平面形状を図５（ａ）に、また
断面形状を図５（ｂ）に示す。図５において符号２がレ
ンズシートIIを示す。このようにして得られた各有機Ｅ
Ｌ装置の初期輝度を実施例１と同一条件で測定した。ま
た、各有機ＥＬ素子の非発光時に当該有機ＥＬ素子の鏡
面性電極が視認できるか否かを調べた。これらの結果を
表１に示す。

【００５５】実施例６レンズシートIIに代えてプリズムレンズフィルム（３Ｍ
社製のＢＥＦ−１００）を用いた以外は実施例４と同様
にして、目的とする有機ＥＬ装置を得た。この有機ＥＬ
装置の初期輝度を実施例１と同一条件で測定した。ま
た、この有機ＥＬ素子の非発光時に当該有機ＥＬ素子の
鏡面性電極が視認できるか否かを調べた。これらの結果
を表１に示す。

【００５６】実施例７〜実施例９レンズシートＩに代えて複数のＶ字溝（ピッチ１．０ｍ
ｍ、深さ０．２ｍｍ、溝の角度１２０゜）がフィルムの
対角線に沿って格子状に配列されているプリズムレンズ
フィルム（ポリメタクリレート製。以下、レンズシート
III という）を用いた以外は実施例１、実施例２、実施
例３と同様にして、目的とする実施例７、実施例８およ
び実施例９の有機ＥＬ装置をそれぞれ得た。なお、レン
ズシートIII の平面形状を図６（ａ）に、また断面形状
を図６（ｂ）に示す。図６において符号４がレンズシー
トIII を示す。このようにして得られた各有機ＥＬ装置
の初期輝度を実施例１と同一条件で測定した。また、各
有機ＥＬ素子の非発光時に当該有機ＥＬ素子の鏡面性電
極が視認できるか否かを調べた。これらの結果を表１に
示す。

【００５７】実施例１０〜実施例１２レンズシートＩに代えて複数のＶ字溝（深さ０．５ｍ
ｍ、溝の角度１２０゜）がフィルムの辺に沿って格子状
（５ｍｍ×５ｍｍの正方形の組合せ）に配列されている
レンズシート（ガラス製。以下、レンズシートIVとい
う）を用いた以外は実施例１、実施例２、実施例３と同
様にして、目的とする実施例１０、実施例１１および実
施例１２の有機ＥＬ装置をそれぞれ得た。なお、レンズ
シートIVの平面形状を図７（ａ）に、また断面形状を図
７（ｂ）に示す。図７において符号５がレンズシートIV
を示す。このようにして得られた各有機ＥＬ装置の初期
輝度を実施例１と同一条件で測定した。また、各有機Ｅ
Ｌ素子の非発光時に当該有機ＥＬ素子の鏡面性電極が視
認できるか否かを調べた。これらの結果を表１に示す。

【００５８】実施例１３片面にレンズ処理を施したポリエチレンテレフタレート
フィルム（レンティキュラーレンズの金型に流し込んで
成形したもの）を基板兼光散乱部として用い、この基板
においてレンズ処理してない側の主表面上に前記の方法
（ＩＴＯ膜の成膜を含む）により有機ＥＬ素子を形成し
て、目的とする有機ＥＬ装置を得た。この有機ＥＬ装置
の断面の概略を図８に示す。図８に示したように、この
有機ＥＬ装置１０ｄは基板１１ｃとこの基板１１ｃの片
面（内側面）に形成された有機ＥＬ素子１２とを備え、
基板１１ｃの外側面（有機ＥＬ素子１２が形成されてい
る面とは反対側の面）にはレンティキュラーレンズ２０
がレンズ処理によって形成されている。この基板１１ｃ
は光散乱部を兼ねている。なお、図８において図２と共
通する部材については図２と同じ符号を付してある。こ
のようにして得られた有機ＥＬ装置の初期輝度を実施例
１と同一条件で測定した。また、有機ＥＬ素子の非発光
時に当該有機ＥＬ素子の鏡面性電極が視認できるか否か
を調べた。これらの結果を表１に示す。

【００５９】実施例１４片面に艶消し処理を施したガラス板（市販の建築用摺り
板ガラス（ＪＩＳＲ３２０３）を基板兼光散乱部とし
て用い、この基板において艶消し処理してない側の主表
面上に前記の方法（ＩＴＯ膜の成膜を含む）により有機
ＥＬ素子を形成して、目的とする有機ＥＬ装置を得た。
このようにして得られた有機ＥＬ装置の初期輝度を実施
例１と同一条件で測定した。また、有機ＥＬ素子の非発
光時に当該有機ＥＬ素子の鏡面性電極が視認できるか否
かを調べた。これらの結果を表１に示す。

【００６０】実施例１５内部に多数のシリカ粒子（粒径１〜１０μｍ）を分散さ
せたポリエチレンテレフタレートフィルムシート（厚さ
０．８ｍｍ、シリカ粒子の配合量５重量％）を基板兼光
散乱部として用い、この基板の片面に前述の方法（ＩＴ
Ｏ膜の成膜を含む）により有機ＥＬ素子を形成すること
により目的とする有機ＥＬ装置を得た。この有機ＥＬ装
置の側面の概略を図９に示す。図９に示したように、こ
の有機ＥＬ装置１０ｅは基板１１ｄとこの基板１１ｄの
片面（内側面）に形成された有機ＥＬ素子１２とを備
え、基板１１ｄの内部にはシリカ粒子２１が多数含まれ
ている。この有機ＥＬ装置１０ｅにおいては、基板１１
ｄ自体が光散乱部として機能する。なお、図９において
図２と共通する部材については図２と同じ符号を付して
ある。このようにして得られた有機ＥＬ装置の初期輝度
を実施例１と同一条件で測定した。また、有機ＥＬ素子
の非発光時に当該有機ＥＬ素子の鏡面性電極が視認でき
るか否かを調べた。これらの結果を表１に示す。

【００６１】実施例１６内部に多数のチタニア粒子（粒径１〜１０μｍ）を分散
させたポリエチレンテレフタレートフィルムシート（厚
さ０．８ｍｍ、チタニア粒子の配合量５重量％）を基板
兼光散乱部として用いた以外は実施例１５と同様にし
て、目的とする有機ＥＬ装置を得た。この有機ＥＬ装置
の初期輝度を実施例１と同一条件で測定した。また、有
機ＥＬ素子の非発光時に当該有機ＥＬ素子の鏡面性電極
が視認できるか否かを調べた。これらの結果を表１に示
す。

【００６２】実施例１７まず、基板として透明ガラス板（日本板ガラス社製のＯ
Ａ−２、厚さ１．１ｍｍ）を用い、この基板の片面（外
側面）に平均粒径が０．５ｍｍのガラス粒子（屈折率ｎ
ｄ＝１．５１）を４００個／ｃｍ² の密度で凝集配置す
ることにより光散乱部を形成した。このときの凝集配置
は上記のガラス粒子をアクリル系接着剤で基板面に固着
させることにより行った。次に、上記の基板において光
散乱部を形成した面とは反対側の面（内側面）に前述の
方法（ＩＴＯ膜の成膜を含む）により有機ＥＬ素子を形
成することにより目的とする有機ＥＬ装置を得た。この
有機ＥＬ装置の側面の概略を図１０に示す。図１０に示
したように、この有機ＥＬ装置１０ｆは基板１１ｅとこ
の基板１１ｅの片面（内側面）に形成された有機ＥＬ素
子１２とを備え、基板１１ｅの外側面にはアクリル系接
着剤（図示せず）によって凝集配置された多数のガラス
粒子２２からなる光散乱部が形成されている。なお、図
１０において図２と共通する部材については図２と同じ
符号を付してある。このようにして得られた有機ＥＬ装
置の初期輝度を実施例１と同一条件で測定した。また、
有機ＥＬ素子の非発光時に当該有機ＥＬ素子の鏡面性電
極が視認できるか否かを調べた。これらの結果を表１に
示す。

【００６３】実施例１８まず、基板として透明ガラス板（日本板ガラス社製のＯ
Ａ−２、厚さ１．１ｍｍ）を用い、この基板の内側面に
アルミニウムを班点状に付着させることにより光散乱部
を形成した。この光散乱部の形成は真空蒸着法により行
い、そのときの成膜条件は減圧度１×１０^-4Ｐａ、アル
ミニウムを入れた坩堝の温度１２００℃とした。また、
班点状に付着したアルミニウムの膜厚（平均値）は０．
０１μｍであり、被覆率は約５０％であった。次に、こ
の光散乱部上に光硬化性樹脂（広栄化学工業（株）製の
コーエイハードＭ−１０１）からなるオーバーコート層
を設けることにより実質的に平坦な面を形成した。この
とき、オーバーコート層の膜厚（基板面を基準とした膜
厚）は１０μｍとした。この後、前記のオーバーコート
層上に前述の方法（ＩＴＯ膜の成膜を含む）により有機
ＥＬ素子を形成して、目的とする有機ＥＬ装置を得た。
この有機ＥＬ装置の一部切欠き斜視図を図１１として示
す。図１１に示した有機ＥＬ装置１０ｇは基板１１ｆ
と、この基板１１ｆの片面（内側面）に班点状に付着し
たアルミニウム２３からなる光散乱部と、この光散乱部
を被覆するオーバーコート層２４と、このオーバーコー
ト層２４上に形成された有機ＥＬ素子１２とを備えてい
る。なお、図４において図２と共通する部材については
図２と同じ符号を付してある。このようにして得られた
有機ＥＬ装置の初期輝度を実施例１と同一条件で測定し
た。また、有機ＥＬ素子の非発光時に当該有機ＥＬ素子
の鏡面性電極が視認できるか否かを調べた。これらの結
果を表１に示す。

【００６４】実施例１９まず、基板材料として、厚さが０．３ｍｍである点を除
いて実施例１８で使用したガラス板と同じのもの（ただ
し、ＩＴＯ膜は成膜されていない）を２枚用意した。次
いで、一方のガラス板の片面に実施例１８と同様にして
金を班点状に付着させた。このとき、金の膜厚（平均
値）は１μｍであり、被覆率は約８０％であった。次
に、班点状に付着した金の上に光硬化性樹脂（広栄化学
工業（株）製のコーエイハードＭ−１０１）を塗布し
た。この後、前記の光硬化性樹脂を硬化させる前に、前
記班点状に付着した金が内部にくるようにしてもう１枚
のガラス板を重ね合わせ、この状態で前記の光硬化性樹
脂を硬化させた。これにより、貼り合わせ部に光散乱部
を有する貼り合わせ構造の基板が得られた。この後、金
を班点状に付着させた方のガラス板において金を班点状
に付着させた面と対向する面の上に前述の方法（ＩＴＯ
膜の成膜を含む）により有機ＥＬ素子を形成して、目的
とする有機ＥＬ装置を得た。この有機ＥＬ装置の断面の
概略を図１２に示す。図１２に示したように、この有機
ＥＬ装置１０ｈは基板１１ｇとこの基板１１ｇの片面
（内側面）に形成された有機ＥＬ素子１２とを備えてお
り、基板１１ｇは２枚のガラス板１１ｇ１，１１ｇ２を
光散乱部としての金（班点状に付着したもの）２５とオ
ーバーコート層２６とを介して貼り合わせた貼り合わせ
構造をなしている。なお、図１２において図２と共通す
る部材については図２と同じ符号を付してある。このよ
うにして得られた有機ＥＬ装置の初期輝度を実施例１と
同一条件で測定した。また、有機ＥＬ素子の非発光時に
当該有機ＥＬ素子の鏡面性電極が視認できるか否かを調
べた。これらの結果を表１に示す。

【００６５】実施例２０基板の外側面に金を班点状に付着させ、かつオーバーコ
ート層を設けなかった以外は実施例１８と同様にして目
的とする有機ＥＬ装置を得た。このとき、金の膜厚（平
均値）は１０μｍであり、被覆率は約６０％であった。
この有機ＥＬ装置の断面の概略を図１３に示す。図１３
に示したように、この有機ＥＬ装置１０ｉは基板１１ｆ
と、この基板１１ｆの片面（内側面）上に形成された有
機ＥＬ素子１２とを備えており、基板１１ｆの外側面に
は金２５が班点状に付着している。この有機ＥＬ装置１
０ｉでは、班点状に付着している前記の金２５が光散乱
部として機能する。なお、図１３において図１１と共通
する部材については図１１と同じ符号を付してある。こ
のようにして得られた有機ＥＬ装置の初期輝度を実施例
１と同一条件で測定した。また、有機ＥＬ素子の非発光
時に当該有機ＥＬ素子の鏡面性電極が視認できるか否か
を調べた。これらの結果を表１に示す。

【００６６】実施例２１まず、基板として透明ガラス板（日本板ガラス社製のＯ
Ａ−２、厚さ１．１ｍｍ）を用い、この基板の片面（内
側面）に前述の方法（ＩＴＯ膜の成膜を含む）により有
機ＥＬ素子を形成した。この後、前記の基板の外側面
に、エンボス加工ポリエチレンフィルム（出光石油化学
（株）製のポリ手袋（Ｍサイズ）から切り出したもの）
を２枚重ねたものをアクリル系接着剤により部分的に固
着させて、目的とする有機ＥＬ装置を得た。この有機Ｅ
Ｌ装置の断面の概略を図１４に示す。図１４に示したよ
うに、この有機ＥＬ装置１０ｊは基板１１ｇと、この基
板１１ｇの片面（内側面）上に形成された有機ＥＬ素子
１２とを備えており、基板１１ｇの外側面には２枚のエ
ンボス加工ポリエチレンフィルム２７ａ，２７ｂを重ね
たものからなる光散乱部が設けられている。なお、図１
４において図２と共通する部材については図２と同じ符
号を付してある。このようにして得られた有機ＥＬ装置
の初期輝度を実施例１と同一条件で測定した。また、こ
の有機ＥＬ素子の非発光時に当該有機ＥＬ素子の鏡面性
電極が視認できるか否かを調べた。これらの結果を表１
に示す。

【００６７】実施例２２基板の外側面に厚さ５００μｍのパラフィン（蝋）層を
設けて光散乱部とした以外は実施例２１と同様にして、
目的とする有機ＥＬ装置を得た。なお、前記のパラフィ
ン（蝋）層は、固形のパラフィンを４５℃に加熱して融
解させ、得られた融液を基板の外側面に塗布することに
より形成した。このようにして得られた有機ＥＬ装置の
初期輝度を実施例１と同一条件で測定した。また、この
有機ＥＬ素子の非発光時に当該有機ＥＬ素子の鏡面性電
極が視認できるか否かを調べた。これらの結果を表１に
示す。

【００６８】実施例２３市販のガーゼ（縦糸のピッチと横糸のピッチをそれぞれ
０．８〜０．９ｍｍにして格子状に織ったもの）１枚を
基板の外側面にアクリル系接着剤で固着させて光散乱部
とした以外は実施例２１と同様にして、目的とする有機
ＥＬ装置を得た。このようにして得られた有機ＥＬ装置
の初期輝度を実施例１と同一条件で測定した。また、こ
の有機ＥＬ素子の非発光時に当該有機ＥＬ素子の鏡面性
電極が視認できるか否かを調べた。これらの結果を表１
に示す。

【００６９】実施例２４ポリエステル製メッシュシート（東洋ロ紙社製のクロマ
トグラフィー用メッシュシート）を基板の外側面にアク
リル系接着剤で固着させて光散乱部とした以外は実施例
２１と同様にして、目的とする有機ＥＬ装置を得た。こ
のようにして得られた有機ＥＬ装置の初期輝度を実施例
１と同一条件で測定した。また、この有機ＥＬ素子の非
発光時に当該有機ＥＬ素子の鏡面性電極が視認できるか
否かを調べた。これらの結果を表１に示す。

【００７０】実施例２５まず、図形作製機能を備えたパーソナルコンピュータと
このパーソナルコンピュータに接続されたインクジェッ
トプリンターとを用いて、ポリエチレンテレフタレート
フィルムシート（セイコーエプソン社製のＯＨＰシー
ト、厚さ０．１ｍｍ）の片面に図１５に示す格子模様を
描画した。図１５においては符号２８が格子模様を示
す。この格子模様２８は線幅０．１ｍｍのピンク色の
インク細線によって描かれており、図中の縦線のピッチ
は０．５ｍｍ、横線のピッチは０．５ｍｍである。この
後、光散乱部として上記のポリエチレンテレフタレート
フィルムシート（格子模様を描画したもの）をアクリル
系接着剤で基板の外側面に固着させた以外は実施例２１
と同様にして、目的とする有機ＥＬ装置を得た。なお、
ポリエチレンテレフタレートフィルムシート（格子模様
を描画したもの）は格子模様が内側に位置するようにし
て基板の外側面に固着させた。このようにして得られた
有機ＥＬ装置の初期輝度を実施例１と同一条件で測定し
た。また、この有機ＥＬ素子の非発光時に当該有機ＥＬ
素子の鏡面性電極が視認できるか否かを調べた。これら
の結果を表１に示す。

【００７１】実施例２６まず、ポリエチレンテレフタレートフィルムシート（セ
イコーエプソン社製のＯＨＰシート、厚さ０．１ｍｍ）
の片面に実施例２５と同一手法で図１６に示す模様を描
画した。図１６においては符号２９が模様を示す。この
模様２９は線幅０．１〜０．８ｍｍの黒色のカーボンイ
ンク細線を放射状に配列することによって描かれてお
り、１本の細線の長さは１５ｍｍである。この後、光散
乱部として上記のポリエチレンテレフタレートフィルム
シート（上記の模様を描画したもの）を用いた以外は実
施例２５と同様にして、目的とする有機ＥＬ装置を得
た。なお、ポリエチレンテレフタレートフィルムシート
（上記の模様を描画したもの）は描画した模様が内側に
位置するようにして基板の外側面に固着させた。このよ
うにして得られた有機ＥＬ装置の初期輝度を実施例１と
同一条件で測定した。また、この有機ＥＬ素子の非発光
時に当該有機ＥＬ素子の鏡面性電極が視認できるか否か
を調べた。これらの結果を表１に示す。

【００７２】実施例２７片面が艶消し処理されているポリマーフィルム（（株）
きもと製のライトアップ１００ＳＨ、光透過率９５％）
を基板の外側面に光硬化性樹脂（東亜合成化学社製のア
ロンタイトＶＬ）で固着させて光散乱部とした以外は実
施例２１と同様にして、目的とする有機ＥＬ装置を得
た。なお、上記のポリマーフィルムは艶消し面が外側に
位置するようにして固着させた。このようにして得られ
た有機ＥＬ装置の初期輝度を実施例１と同一条件で測定
した。また、この有機ＥＬ素子の非発光時に当該有機Ｅ
Ｌ素子の鏡面性電極が視認できるか否かを調べた。これ
らの結果を表１に示す。

【００７３】

【表１】

【００７４】表１に示したように、実施例１〜実施例２
７で得たいずれの有機ＥＬ装置においても、有機ＥＬ素
子の非発光時には当該素子を構成する鏡面性電極が鏡面
としては視認されない。また、光散乱部を設けたことに
よる輝度の低下も小さい。特に、実施例１４、実施例１
７および実施例２７で得られた有機ＥＬ装置では光散乱
部を設けたことにより逆に輝度が１．４〜１．６倍に向
上しており、有用性が高いことが証明された。実施例１
４、実施例１７および実施例２７で輝度が向上したの
は、これらの実施例で設けた各光散乱部が光取り出し面
で生じる反射または全反射を緩和し、かつ、当該光散乱
部が本質的に光を吸収しないからであると推察される。

【００７５】実施例２８まず、金属やすりおよび砥石で磨くことにより片面に艶
消し処理を施した直径２６ｃｍの円形ガラス基板（厚さ
０．３ｍｍ）の中心部に直径０．２ｃｍの円形開口部を
設けたものを基板兼光散乱部として用い、この基板にお
いて艶消し処理してない側の主表面上に前記の方法（Ｉ
ＴＯ膜の成膜を含む）により有機ＥＬ素子を形成した。
このとき、基板の外側縁部および開口部側の縁部にはそ
れぞれ若干のスペースを残した。次に、前記の有機ＥＬ
素子を覆うようにして、テトラフルオロエチレンとパー
フルオロビニルエーテルとの共重合体（デュポン社製の
テフロンＡＦ）からなる保護層を設けた。この保護層の
形成は、真空蒸着法により膜厚が５０μｍになるように
行った。保護層まで設けたことにより、目的とする時計
用バックライトが得られた。

【００７６】図１７に示すように、この時計用バックラ
イト３０は基板３１と、この基板３１の片面（内側面）
上に形成された有機ＥＬ素子１２とを備えており、有機
ＥＬ素子１２は保護層３２によって被覆されている。ま
た、基板３１の外側面には艶消し処理が施されており、
この艶消し処理された基板３１自体が光散乱部として機
能する。この時計用バックライト３０は、透明文字盤を
有する時計において前記の透明文字盤（図１７中の符号
３３で示されているもの。符号３４は透明文字盤に描か
れている文字を示す。）の背面に配置される。なお、図
１７において図２と共通する部材については図２と同じ
符号を付してある。この時計用バックライトの初期輝度
を実施例１と同一条件で測定したところ、８０cd／ｍ²
であった。また、有機ＥＬ素子の非発光時には当該素子
を構成する鏡面性電極は実質的に視認されなかった。

【００７７】実施例２９まず、膜厚１００ｎｍのＩＴＯ膜が設けられているガラ
ス基板（大きさ２５×７５×１．１ｍｍ）を透明支持基
板として用い、これをイソプロピルアルコールで３０分
間超音波洗浄した後、イソプロピルアルコールに浸漬し
て更に洗浄した。洗浄後の基板を乾燥窒素ガスで乾燥し
た後、市販の真空蒸着装置（日本真空技術（株）製）の
基板ホルダーに固定し、モリブデン製抵抗加熱ボートに
Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス−（３−メチル
フェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジ
アミン（以下、ＴＰＤという）を２００ｍｇ入れ、別の
モリブデン製抵抗加熱ボートに４，４′−ビス（２，２
−ジフェニルビニル）ビフェニル（以下、ＤＰＶＢｉと
いう）を２００ｍｇ入れ、更に別のモリブデン製抵抗加
熱ボートにトリス（キノリノラート）アルミニウム（以
下、Ａｌｑという）を２００ｍｇ入れて、真空チャンバ
ー内を４×１０^-4Ｐａまで減圧した。

【００７８】次に、ＴＰＤを入れた前記の抵抗加熱ボー
トに通電して２２０℃にまで加熱し、ＴＰＤを蒸着速度
０．１〜０．３ｎｍ／秒でＩＴＯ膜上に堆積させて、膜
厚６０ｎｍの正孔輸送層を設けた。このときの基板温度
は室温であった。次いで、ＤＰＶＢｉの入った前記の加
熱ボートに通電して２２０℃にまで加熱し、ＤＰＶＢｉ
を蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／秒で前記の正孔輸送層
上に堆積させて、膜厚４０ｎｍの有機発光層を設けた。
このときの基板温度も室温であった。さらに、Ａｌｑの
入った前記の加熱ボートに通電して３１５℃にまで加熱
し、Ａｌｑを蒸着速度０．１ｎｍ／秒で前記の有機発光
層上に堆積させて、膜厚２０ｎｍの電子注入層を設け
た。このときの基板温度も室温であった。

【００７９】次に、真空チャンバーを開け、上記の電子
注入層の上にステンレス鋼製のマスクを設置した。ま
た、モリブデン製抵抗加熱ボートにマグネシウムを３ｇ
入れ、タングステン製の蒸着用バスケットに銀ワイヤを
０．５ｇ入れた。この後、真空チャンバー内を２×１０
^-4Ｐａまで減圧し、マグネシウムを入れた前記の加熱ボ
ートに通電してマグネシウムを約１．５〜２．０ｎｍ／
ｓの蒸着速度で蒸発させると共に、銀を入れた前記のバ
スケットを加熱して銀を約０．１ｎｍ／ｓの蒸着速度で
蒸発させて、マグネシウムと銀との混合物からなる膜厚
２００ｎｍの陰極（鏡面性電極）を電子注入層上に設け
た。このようにして、ガラス基板上に層構成が陽極（透
明性電極；ＩＴＯ膜）／正孔輸送層／有機発光層／電子
注入層／陰極（鏡面性電極；Ｍｇ・Ａｇ層）である有機
ＥＬ素子を作製した。この有機ＥＬ素子は青白色光を発
し、その初期輝度は電圧６．５Ｖ、電流密度３ｍＡ／ｃ
ｍ² で９８cd／ｍ² に達した。

【００８０】次に、上記のガラス基板の外側面に実施例
４と同様にしてレンズシートIIを固着させ、この後、実
施例２８と同じ方法により、上記の有機ＥＬ素子を被覆
する保護層を形成した。保護層まで設けたことにより、
目的とする液晶表示装置用バックライトが得られた。図
１８に示すように、この液晶表示装置用バックライト４
０は基板４１と、この基板４１の片面（内側面）上に形
成された有機ＥＬ素子４２とを備えており、有機ＥＬ素
子４２は基板４１側から順に陽極（透明性電極；ＩＴＯ
膜）／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層／陰極（鏡
面性電極；Ｍｇ・Ａｇ層）を積層してなる。これらの部
材のうち、陽極（透明性電極）を符号４３で、また陰極
（鏡面性電極）を符号４４で示す。この有機ＥＬ素子４
２は保護層４５によって被覆されている。また、基板４
１の外側面には光散乱部としてのレンティキュラーレン
ズシート４６（レンズシートII）が設けられている。こ
の液晶表示装置用バックライト４０は、透過型液晶表示
装置において液晶パネル４７（図１８中に仮想線で図
示）の背面に配置される。この液晶表示装置用バックラ
イトの初期輝度を実施例１と同一条件で測定したとこ
ろ、８８cd／ｍ² であった。また、有機ＥＬ素子の非発
光時には当該素子を構成する鏡面性電極は実質的に視認
されなかった。

【００８１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の有機ＥＬ
装置では有機ＥＬ素子を構成する鏡面性電極が当該素子
の非発光時に鏡面としては視認されない。したがって、
非発光時に前記の鏡面性電極が鏡面として視認されるこ
とにより美観やデザイン性が低下することが実質的にな
い。このため、本発明の有機ＥＬ装置を用いることによ
り美観やデザイン性の高い有機ＥＬ装置を容易に提供す
ることが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１で使用したレンズシートを示す平面図
（ａ）および断面図（ｂ）である。

【図２】実施例１で作製した有機ＥＬ装置の概略を示す
断面図である。

【図３】実施例２で作製した有機ＥＬ装置の概略を示す
断面図である。

【図４】実施例３で作製した有機ＥＬ装置の概略を示す
断面図である。

【図５】実施例４〜実施例５で使用したプリズムレンズ
フィルムを示す平面図（ａ）および断面図（ｂ）であ
る。

【図６】実施例７〜実施例９で使用したプリズムレンズ
フィルムを示す平面図（ａ）および断面図（ｂ）であ
る。

【図７】実施例１０〜実施例１２で使用したレンズシー
トを示す平面図（ａ）および断面図（ｂ）である。

【図８】実施例１３で作製した有機ＥＬ装置の概略を示
す断面図である。

【図９】実施例１５で作製した有機ＥＬ装置の概略を示
す断面図である。

【図１０】実施例１７で作製した有機ＥＬ装置の概略を
示す断面図である。

【図１１】実施例１８で作製した有機ＥＬ装置の概略を
示す一部切欠き斜視図である。

【図１２】実施例１９で作製した有機ＥＬ装置の概略を
示す断面図である。

【図１３】実施例２０で作製した有機ＥＬ装置の概略を
示す断面図である。

【図１４】実施例２１で作製した有機ＥＬ装置の概略を
示す断面図である。

【図１５】実施例２５で使用したポリエチレンテレフタ
レートフィルムシートの片面に描画した格子模様を示す
平面図である。

【図１６】実施例２６で使用したポリエチレンテレフタ
レートフィルムシートの片面に描画した模様を示す平面
図である。

【図１７】実施例２８で作製した時計用バックライトの
概略を示す断面図である。

【図１８】実施例２９で作製した液晶表示装置用バック
ライトの概略を示す断面図である。

【符号の説明】

１レンティキュラーレンズシート（レンズシートＩ）２プリズムレンズフィルム（レンズシートII）４プリズムレンズフィルム（レンズシートIII）５レンズシート（レンズシートIV）１０ａ〜１０ｊ有機ＥＬ装置１１ａ〜１１ｈ基板１２有機ＥＬ素子１３陽極（透明性電極）１４陰極（鏡面性電極）１５ａレンズシートＩ２０レンティキュラーレンズ２１シリカ粒子２２ガラス粒子２３班点状に付着しアルミニウム２４，２６オーバーコート層２５班点状に付着し金２７ａ，２７ｂエンボス加工ポリエチレンフィルム２８格子模様２９模様３０時計用バックライト３１基板３２保護層３３透明文字盤３４文字４０液晶表示装置用バックライト４１基板４２有機ＥＬ素子４３陽極（透明性電極）４４陰極（鏡面性電極）４５保護層４６プリズムレンズフィルム（レンズシートII）４７液晶パネル

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板と、この基板上に設けられた１つま
たは複数の有機ＥＬ素子とを有し、前記有機ＥＬ素子が
前記の基板上に形成された透明性電極の上に少なくとも
有機発光層を介して鏡面性電極を積層したものであり、
この有機ＥＬ素子を発光源とするとともに前記基板側を
光取り出し面とする有機ＥＬ装置において、前記有機ＥＬ素子の発光面と平行する光取り出し面の外
側に光散乱部を有することを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項２】光散乱部がレンズシートからなり、
（ｉ）前記レンズシートが基板の片面または貼り合わせ
構造の基板の貼り合わせ部に設けられているか、または
（ii）前記レンズシートが基板を兼ねている、請求項１
に記載の装置。
【請求項３】光散乱部が、片面または両面を艶消し処
理したガラス板もしくはポリマー板からなり、（ｉ）前
記ガラス板もしくはポリマー板が基板の片面または貼り
合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設けられているか、
または（ii）前記ガラス板もしくはポリマー板が基板を
兼ねている、請求項１に記載の装置。
【請求項４】基板が、透明基板の内部に該透明基板と
屈折率が異なる透明物質または不透明粒子を分散させた
ものからなり、光散乱部が、前記屈折率が異なる透明物
質または前記不透明粒子が内部に分散している基板自体
からなる、請求項１に記載の装置。
【請求項５】光散乱部が、一平面上に分散または凝集
した状態で配置された透明物質もしくは不透明粒子から
なり、この光散乱部が基板の片面または貼り合わせ構造
の基板の貼り合わせ部に設けられている、請求項１に記
載の装置。
【請求項６】光散乱部が、一平面上に班点状に付着し
た金属からなり、この光散乱部が基板の片面または貼り
合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設けられている、請
求項１に記載の装置。
【請求項７】金属が金、白金、ニッケル、クロムおよ
びアルミニウムからなる群より選択された１種である、
請求項６に記載の装置。
【請求項８】光散乱部が、非金属性繊維製の織物、編
み物もしくは不織布または前記非金属性繊維の配列物か
らなり、この光散乱部が基板の片面または貼り合わせ構
造の基板の貼り合わせ部に設けられている、請求項１に
記載の装置。
【請求項９】光散乱部が、一平面上に非金属性製の細
線によって描画されるか、または細い溝によって描画さ
れた模様からなり、（ｉ）前記光散乱部が基板の片面ま
たは貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設けられて
いるか、または（ii）ポリマーフィルムの片面に設けら
れており、かつ、このポリマーフィルムが基板の片面ま
たは貼り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設けられて
いる、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】光散乱部が半透明物質層または半透明
フィルムからなり、この光散乱部が基板の片面または貼
り合わせ構造の基板の貼り合わせ部に設けられている、
請求項１に記載の装置。
【請求項１１】基板が半透明のポリマー基板からな
り、光散乱部が前記半透明のポリマー基板自体からな
る、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】光散乱部が光取り出し面において生じ
る反射または全反射を緩和し、該光散乱部が本質的に光
を吸収しないものである、請求項１〜請求項１１のいず
れか１項に記載の装置。
【請求項１３】基板と、この基板上に設けられた１つ
または複数の有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子の発光
面と平行する光取り出し面の外側に設けられた光散乱部
とを有し、前記有機ＥＬ素子が前記の基板上に形成され
た透明性電極の上に少なくとも有機発光層を介して鏡面
性電極を積層したものであり、この有機ＥＬ素子を発光
源とするとともに前記基板側を光取り出し面とする有機
ＥＬ装置からなることを特徴とする液晶表示装置用バッ
クライト。
【請求項１４】基板と、この基板上に設けられた１つ
または複数の有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子の発光
面と平行する光取り出し面の外側に設けられた光散乱部
とを有し、前記有機ＥＬ素子が前記の基板上に形成され
た透明性電極の上に少なくとも有機発光層を介して鏡面
性電極を積層したものであり、この有機ＥＬ素子を発光
源とするとともに前記基板側を光取り出し面とする有機
ＥＬ装置からなることを特徴とする時計用バックライ
ト。