JPH08253892A - めっき装置およびめっき方法 - Google Patents
めっき装置およびめっき方法Info
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- JPH08253892A JPH08253892A JP7057450A JP5745095A JPH08253892A JP H08253892 A JPH08253892 A JP H08253892A JP 7057450 A JP7057450 A JP 7057450A JP 5745095 A JP5745095 A JP 5745095A JP H08253892 A JPH08253892 A JP H08253892A
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- plating
- plated
- nozzle head
- nozzle
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 めっき面積が大きくてもめっき形成部の形状
不良を生ぜずに、高精度と高速とを確保できる噴流方式
の電気めっき装置および方法を提供する。 【構成】 被めっき物10の被めっき面10A にめっき液13
を噴流14させるノズル群15A を構成し且つ内部に陽極16
を有するノズルヘッド17を、上記ノズル群15A が開口し
た前面17A を被めっき面10A に対向させて且つ被めっき
面10A を覆う面積で配置し、被めっき面10A と上記ノズ
ルヘッド17とを、被めっき面10A に平行に相対的に２次
元揺動させる機構を設けためっき装置において、上記ノ
ズル群15Aのノズル15同士の間に、被めっき面10A から
の戻り液19を上記ノズルヘッド17の前面17A から排出す
る戻り流路30を設けた。
不良を生ぜずに、高精度と高速とを確保できる噴流方式
の電気めっき装置および方法を提供する。 【構成】 被めっき物10の被めっき面10A にめっき液13
を噴流14させるノズル群15A を構成し且つ内部に陽極16
を有するノズルヘッド17を、上記ノズル群15A が開口し
た前面17A を被めっき面10A に対向させて且つ被めっき
面10A を覆う面積で配置し、被めっき面10A と上記ノズ
ルヘッド17とを、被めっき面10A に平行に相対的に２次
元揺動させる機構を設けためっき装置において、上記ノ
ズル群15Aのノズル15同士の間に、被めっき面10A から
の戻り液19を上記ノズルヘッド17の前面17A から排出す
る戻り流路30を設けた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高品質かつ高速で電気
めっきを行う噴流方式のめっき装置およびめっき方法に
関する。本発明のめっき装置およびめっき方法は、特に
半導体ウェハ上に電極用バンプを形成するめっき技術と
して好適である。
めっきを行う噴流方式のめっき装置およびめっき方法に
関する。本発明のめっき装置およびめっき方法は、特に
半導体ウェハ上に電極用バンプを形成するめっき技術と
して好適である。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体ウェハ上にバンプ電極を
形成するには、図３に示したように例えばシリコンウェ
ハ１に金属薄膜２を蒸着し、レジスト３を塗布後、露光
および現像を行ってレジスト３に開口部４を形成する。
次に、金属薄膜２を陰極として電気めっきを行い、図４
に示したようにレジスト開口部４内の金属薄膜２上にバ
ンプ電極５を形成する。
形成するには、図３に示したように例えばシリコンウェ
ハ１に金属薄膜２を蒸着し、レジスト３を塗布後、露光
および現像を行ってレジスト３に開口部４を形成する。
次に、金属薄膜２を陰極として電気めっきを行い、図４
に示したようにレジスト開口部４内の金属薄膜２上にバ
ンプ電極５を形成する。
【０００３】本出願人は、このような電気めっきを高速
かつ高精度で行う噴流方式のめっき装置を特開平第２−
６１０８９号公報により開示した。このめっき装置は、
図６にめっきセル部分を示したように、半導体ウェハ等
の被めっき物１０を押さえ治具１１でめっき装置のパレ
ット１２上に固定し、被めっき面１０Ａへめっき液１３
を噴流１４として供給するノズル群１５Ａを構成し且つ
内部に陽極１６を有するノズルヘッド１７を、上記ノズ
ル群１５Ａが開口した前面１７Ａを被めっき面１０Ａに
対向させて且つ被めっき面１０Ａを覆う面積で配置し、
被めっき面１０Ａと上記ノズルヘッド１７とを、矢印１
８のように被めっき面１０Ａに平行に相対的に２次元揺
動させる機構を設けたものである。被めっき面１０Ａに
作用しためっき液は、図６に矢印１９で示したようにノ
ズルヘッド１７へ戻り、ノズルヘッド１７の周縁部から
矢印２０で示したように排出される。
かつ高精度で行う噴流方式のめっき装置を特開平第２−
６１０８９号公報により開示した。このめっき装置は、
図６にめっきセル部分を示したように、半導体ウェハ等
の被めっき物１０を押さえ治具１１でめっき装置のパレ
ット１２上に固定し、被めっき面１０Ａへめっき液１３
を噴流１４として供給するノズル群１５Ａを構成し且つ
内部に陽極１６を有するノズルヘッド１７を、上記ノズ
ル群１５Ａが開口した前面１７Ａを被めっき面１０Ａに
対向させて且つ被めっき面１０Ａを覆う面積で配置し、
被めっき面１０Ａと上記ノズルヘッド１７とを、矢印１
８のように被めっき面１０Ａに平行に相対的に２次元揺
動させる機構を設けたものである。被めっき面１０Ａに
作用しためっき液は、図６に矢印１９で示したようにノ
ズルヘッド１７へ戻り、ノズルヘッド１７の周縁部から
矢印２０で示したように排出される。
【０００４】確かにこの装置は、直径４インチまでのウ
ェハの場合には非常に効果的であり、ノズルの口径とピ
ッチを適正化することにより、所望のバンプ電極を短時
間で形成することが可能であった。しかし、ウェハ処理
工程のスループットを向上させるため、より大口径のウ
ェハに適用するとバンプ電極形状の不良が発生すること
が分かった。すなわち、図５に示したように、めっき時
に発生する気泡６の影響によりバンプ電極の形状に５Ａ
で示したような不良が発生してしまうという問題があ
る。
ェハの場合には非常に効果的であり、ノズルの口径とピ
ッチを適正化することにより、所望のバンプ電極を短時
間で形成することが可能であった。しかし、ウェハ処理
工程のスループットを向上させるため、より大口径のウ
ェハに適用するとバンプ電極形状の不良が発生すること
が分かった。すなわち、図５に示したように、めっき時
に発生する気泡６の影響によりバンプ電極の形状に５Ａ
で示したような不良が発生してしまうという問題があ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、口径が大き
くてもバンプ電極等のめっき形成部の形状不良を生ぜず
に、高精度と高速とを確保できる噴流方式の電気めっき
装置および方法を提供することを目的とする。
くてもバンプ電極等のめっき形成部の形状不良を生ぜず
に、高精度と高速とを確保できる噴流方式の電気めっき
装置および方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明のめっき装置は、被めっき物の被めっき面
へめっき液を噴流させるノズル群を構成し且つ内部に陽
極を有するノズルヘッドを、上記ノズル群が開口した前
面を被めっき面に対向させて且つ被めっき面を覆う面積
で配置し、被めっき面と上記ノズルヘッドとを、被めっ
き面に平行に相対的に２次元揺動させる機構を設けため
っき装置において、上記ノズル群のノズル同士の間に、
被めっき面からの戻り液を上記ノズルヘッドの前面から
排出する戻り流路を設けたことを特徴とする。
めに、本発明のめっき装置は、被めっき物の被めっき面
へめっき液を噴流させるノズル群を構成し且つ内部に陽
極を有するノズルヘッドを、上記ノズル群が開口した前
面を被めっき面に対向させて且つ被めっき面を覆う面積
で配置し、被めっき面と上記ノズルヘッドとを、被めっ
き面に平行に相対的に２次元揺動させる機構を設けため
っき装置において、上記ノズル群のノズル同士の間に、
被めっき面からの戻り液を上記ノズルヘッドの前面から
排出する戻り流路を設けたことを特徴とする。
【０００７】上記本発明のめっき装置を用いて行う本発
明のめっき方法は、被めっき物の被めっき面へめっき液
を噴流させるノズル群を構成し且つ内部に陽極を有する
ノズルヘッドを、上記ノズル群が開口した前面を被めっ
き面に対向させて且つ被めっき面を覆う面積で配置し、
被めっき面と上記ノズルヘッドとを被めっき面に平行に
相対的に２次元揺動させてめっきを行うめっき方法にお
いて、上記ノズル群のノズル同士の間に設けた戻り流路
を介して、被めっき面からの戻り液を上記ノズルヘッド
の前面から排出することを特徴とする。
明のめっき方法は、被めっき物の被めっき面へめっき液
を噴流させるノズル群を構成し且つ内部に陽極を有する
ノズルヘッドを、上記ノズル群が開口した前面を被めっ
き面に対向させて且つ被めっき面を覆う面積で配置し、
被めっき面と上記ノズルヘッドとを被めっき面に平行に
相対的に２次元揺動させてめっきを行うめっき方法にお
いて、上記ノズル群のノズル同士の間に設けた戻り流路
を介して、被めっき面からの戻り液を上記ノズルヘッド
の前面から排出することを特徴とする。
【０００８】
【作用】本発明者は、従来の噴流方式めっき装置におい
てめっき面積が大きい場合にめっき形成部の形状不良が
発生する原因と、その解決手段とを見出して本発明を完
成させたものである。すなわち、ノズルから噴流された
めっき液は被めっき面に作用した後ノズルヘッドに戻っ
てくる。この戻り液はノズルヘッドの前面に沿って流れ
ノズルヘッドの周縁部から周囲へ排出される。被めっき
面の面積が大きい場合には、この戻り液がノズルヘッド
の前面、特にその中央部に滞留し易くなり、めっき液の
噴流・排出効率が低下する。その結果、被めっき面上で
めっき反応により発生する水素等のガスを除去しきれな
くなり、めっき形成部の形状不良が発生する。
てめっき面積が大きい場合にめっき形成部の形状不良が
発生する原因と、その解決手段とを見出して本発明を完
成させたものである。すなわち、ノズルから噴流された
めっき液は被めっき面に作用した後ノズルヘッドに戻っ
てくる。この戻り液はノズルヘッドの前面に沿って流れ
ノズルヘッドの周縁部から周囲へ排出される。被めっき
面の面積が大きい場合には、この戻り液がノズルヘッド
の前面、特にその中央部に滞留し易くなり、めっき液の
噴流・排出効率が低下する。その結果、被めっき面上で
めっき反応により発生する水素等のガスを除去しきれな
くなり、めっき形成部の形状不良が発生する。
【０００９】本発明においては、ノズル群のノズル同士
の間に設けた戻り流路を介して、被めっき面からの戻り
液を上記ノズルヘッドの前面から排出するので、めっき
面積が大きくても戻り液が被めっき面上に滞留すること
が無く、めっき形成部の形状不良が発生しない。戻り液
をノズルヘッド前面から排出するための戻り流路は、例
えばノズルヘッド前面上に溝状の凹部として簡易に設け
ることもできるが、ノズルヘッド内部をその前面から後
面まで貫通した貫通路として設けた方が、排出効率を大
幅に向上することができる。
の間に設けた戻り流路を介して、被めっき面からの戻り
液を上記ノズルヘッドの前面から排出するので、めっき
面積が大きくても戻り液が被めっき面上に滞留すること
が無く、めっき形成部の形状不良が発生しない。戻り液
をノズルヘッド前面から排出するための戻り流路は、例
えばノズルヘッド前面上に溝状の凹部として簡易に設け
ることもできるが、ノズルヘッド内部をその前面から後
面まで貫通した貫通路として設けた方が、排出効率を大
幅に向上することができる。
【００１０】戻り流路をノズルヘッド内部を貫通した貫
通路として設けると、この貫通路の存在する位置には陽
極は存在できないから、陽極を個々のノズル毎に分割し
た形にする等の給電面積の減少を伴う場合が多い。この
ように給電面積が小さくなるとめっき電圧が高くなっ
て、結局はバンプ電極等のめっき形成部の形成精度が低
下してしまう。したがって、そのような場合には、この
給電面積の減少分を補うための補助陽極をノズルヘッド
の外表面に設けることが望ましく、一般にはノズルヘッ
ドの前面に設けることが望ましい。補助陽極を設けるこ
とにより、めっき電流の供給が安定に確保され、バンプ
電極等のめっき形成部の形成精度を良好に確保すること
ができる。
通路として設けると、この貫通路の存在する位置には陽
極は存在できないから、陽極を個々のノズル毎に分割し
た形にする等の給電面積の減少を伴う場合が多い。この
ように給電面積が小さくなるとめっき電圧が高くなっ
て、結局はバンプ電極等のめっき形成部の形成精度が低
下してしまう。したがって、そのような場合には、この
給電面積の減少分を補うための補助陽極をノズルヘッド
の外表面に設けることが望ましく、一般にはノズルヘッ
ドの前面に設けることが望ましい。補助陽極を設けるこ
とにより、めっき電流の供給が安定に確保され、バンプ
電極等のめっき形成部の形成精度を良好に確保すること
ができる。
【００１１】以下に、実施例により本発明を更に詳細に
説明する。
説明する。
【００１２】
【実施例】図１に本発明によるめっき装置のめっきセル
部の一例を示す。このめっき装置は、図６に示した従来
のめっき装置と同様に、半導体ウェハ等の被めっき物１
０を被めっき面１０Ａを下向きにして押さえ治具１１で
めっき装置のパレット１２上に固定し、被めっき面１０
Ａへめっき液１３を噴流１４として供給するノズル群１
５Ａを構成し且つ内部に陽極１６を有するノズルヘッド
１７を、上記ノズル群１５Ａが開口した前面１７Ａを被
めっき面１０Ａに対向させて且つ被めっき面１０Ａを覆
う面積で配置し、被めっき面１０Ａと上記ノズルヘッド
１７とを、矢印１８のように被めっき面１０Ａに平行に
相対的に２次元揺動させるようになっている。そのため
の揺動機構については前出の特開平第２−６１０８９号
公報に詳述したとおりである。
部の一例を示す。このめっき装置は、図６に示した従来
のめっき装置と同様に、半導体ウェハ等の被めっき物１
０を被めっき面１０Ａを下向きにして押さえ治具１１で
めっき装置のパレット１２上に固定し、被めっき面１０
Ａへめっき液１３を噴流１４として供給するノズル群１
５Ａを構成し且つ内部に陽極１６を有するノズルヘッド
１７を、上記ノズル群１５Ａが開口した前面１７Ａを被
めっき面１０Ａに対向させて且つ被めっき面１０Ａを覆
う面積で配置し、被めっき面１０Ａと上記ノズルヘッド
１７とを、矢印１８のように被めっき面１０Ａに平行に
相対的に２次元揺動させるようになっている。そのため
の揺動機構については前出の特開平第２−６１０８９号
公報に詳述したとおりである。
【００１３】ただし、図６の従来装置とは下記の構成に
おいて異なる。すなわち、上記ノズル群１５Ａのノズル
１５同士の間に、被めっき面１０Ａからの戻り液１９を
上記ノズルヘッド１７上端の前面１７Ａから排出する戻
り流路３０を設けた。戻り流路３０は、ノズルヘッド１
７の内部をその前面（上端）１７Ａから後面（下端）１
７Ｂまで貫通する貫通孔として形成されている。これに
より、戻り液１９はノズルヘッド前面１７Ａから矢印２
１で示したようにノズルヘッド後面１７を通り、ノズル
ヘッド１７の下方へ流れ落ちる。このようにすると、戻
り液をノズルヘッド前面１７Ａから極めて効率良く排出
することができる。なお、戻り液１９の一部は従来と同
様にノズルヘッド１７の周縁部からも矢印２０のように
排出される。
おいて異なる。すなわち、上記ノズル群１５Ａのノズル
１５同士の間に、被めっき面１０Ａからの戻り液１９を
上記ノズルヘッド１７上端の前面１７Ａから排出する戻
り流路３０を設けた。戻り流路３０は、ノズルヘッド１
７の内部をその前面（上端）１７Ａから後面（下端）１
７Ｂまで貫通する貫通孔として形成されている。これに
より、戻り液１９はノズルヘッド前面１７Ａから矢印２
１で示したようにノズルヘッド後面１７を通り、ノズル
ヘッド１７の下方へ流れ落ちる。このようにすると、戻
り液をノズルヘッド前面１７Ａから極めて効率良く排出
することができる。なお、戻り液１９の一部は従来と同
様にノズルヘッド１７の周縁部からも矢印２０のように
排出される。
【００１４】図１に示した構造では、戻り流路３０がノ
ズルヘッド１７内部の陽極１６を貫通している。これに
より、陽極１６は図６の従来構造に比べて戻り流路３０
の貫通箇所の分だけ給電面積が減少する。これを補うた
めに、ノズルヘッド前面１７Ａ上に補助陽極３５を設け
た。補助陽極３５は、ノズルヘッド前面１７Ａとほぼ同
一の輪郭を持ち、ノズル１５および戻り流路３０の開口
部に対応する箇所に貫通孔３５Ａを形成したステンレス
鋼等の金属製プレートであり、ノズルヘッド前面１７Ａ
に密着した状態で固定してある。
ズルヘッド１７内部の陽極１６を貫通している。これに
より、陽極１６は図６の従来構造に比べて戻り流路３０
の貫通箇所の分だけ給電面積が減少する。これを補うた
めに、ノズルヘッド前面１７Ａ上に補助陽極３５を設け
た。補助陽極３５は、ノズルヘッド前面１７Ａとほぼ同
一の輪郭を持ち、ノズル１５および戻り流路３０の開口
部に対応する箇所に貫通孔３５Ａを形成したステンレス
鋼等の金属製プレートであり、ノズルヘッド前面１７Ａ
に密着した状態で固定してある。
【００１５】直流電源２５からウェハ１０の被めっき面
１０Ａにはマイナス側リード線２５Ａが、ノズルヘッド
内部の陽極１７とノズルヘッド前面上の補助陽極３５に
はプラス側リード線２５Ｂが接続されている。一般に、
直流電源２５から定電流を流して電気めっきを行う。図
１のめっきセルを組み込んだめっき装置の全体配置の一
例を図２に示す。
１０Ａにはマイナス側リード線２５Ａが、ノズルヘッド
内部の陽極１７とノズルヘッド前面上の補助陽極３５に
はプラス側リード線２５Ｂが接続されている。一般に、
直流電源２５から定電流を流して電気めっきを行う。図
１のめっきセルを組み込んだめっき装置の全体配置の一
例を図２に示す。
【００１６】図１のめっきセル５０とめっき液貯蔵槽５
２とがめっき液供給系５６とめっき液返還系５８で接続
されている。めっき液貯蔵槽５２は内部に貯蔵している
めっき液１３を所定温度に維持するための冷却器５２Ａ
と加熱器５２Ｂとを備えている。めっき液供給系５６
は、配管５６Ａの途中にめっき液循環用ポンプ５６Ｂ、
フィルター５６Ｃおよび流量計５６Ｄを備えている。め
っき液返還系５８は実質的に配管で構成される。めっき
液貯蔵槽５２には、めっき中に発生してめっき液中に混
入したスラッジを除去するための濾過器５４が付属して
いる。濾過器５４は例えばめっき液吸入用ポンプ５４
Ａ、活性炭フィルター５４Ｂ、および微粒子フィルター
５４Ｃから構成される。
２とがめっき液供給系５６とめっき液返還系５８で接続
されている。めっき液貯蔵槽５２は内部に貯蔵している
めっき液１３を所定温度に維持するための冷却器５２Ａ
と加熱器５２Ｂとを備えている。めっき液供給系５６
は、配管５６Ａの途中にめっき液循環用ポンプ５６Ｂ、
フィルター５６Ｃおよび流量計５６Ｄを備えている。め
っき液返還系５８は実質的に配管で構成される。めっき
液貯蔵槽５２には、めっき中に発生してめっき液中に混
入したスラッジを除去するための濾過器５４が付属して
いる。濾過器５４は例えばめっき液吸入用ポンプ５４
Ａ、活性炭フィルター５４Ｂ、および微粒子フィルター
５４Ｃから構成される。
【００１７】めっき液はめっき液貯蔵槽５２から供給系
５６によりめっきセル５０に供給され、めっきセル５０
から返還系５８を通って貯蔵槽５２に戻る。図１および
図２に示した本発明によるめっき装置を用いて、硫酸銅
めっき液にて銅バンプ電極を形成した例を以下に説明す
る。電極１６および補助電極３５は銅板製とした。ノズ
ルヘッド１７をウェハ１０の被めっき面１０Ａと平行に
二次元揺動させながら、流速１０ｍ／秒でめっき液をウ
ェハ被めっき面１０Ａに噴流させ、電流密度２５Ａ／ｄ
ｍ2 にて銅バンプ電極をめっきした。めっき液濃度は硫
酸（Ｈ2 ＳＯ4 ）１００ｇ／Ｌ、硫酸銅（ＣｕＳＯ4 ・
５Ｈ2 Ｏ）１００ｇ／Ｌとした。
５６によりめっきセル５０に供給され、めっきセル５０
から返還系５８を通って貯蔵槽５２に戻る。図１および
図２に示した本発明によるめっき装置を用いて、硫酸銅
めっき液にて銅バンプ電極を形成した例を以下に説明す
る。電極１６および補助電極３５は銅板製とした。ノズ
ルヘッド１７をウェハ１０の被めっき面１０Ａと平行に
二次元揺動させながら、流速１０ｍ／秒でめっき液をウ
ェハ被めっき面１０Ａに噴流させ、電流密度２５Ａ／ｄ
ｍ2 にて銅バンプ電極をめっきした。めっき液濃度は硫
酸（Ｈ2 ＳＯ4 ）１００ｇ／Ｌ、硫酸銅（ＣｕＳＯ4 ・
５Ｈ2 Ｏ）１００ｇ／Ｌとした。
【００１８】上記条件下で本発明により直径４インチと
直径５インチのウェハ上にめっきを行って得られた銅バ
ンプ電極の形状不良率および寸法ばらつきを図７に示
す。ただし、めっき装置は図１の構成から補助陽極を取
り外した本発明の基本構成と、図１のとおり補助陽極を
装着した本発明の望ましい態様による構成の両方をそれ
ぞれ用いた。
直径５インチのウェハ上にめっきを行って得られた銅バ
ンプ電極の形状不良率および寸法ばらつきを図７に示
す。ただし、めっき装置は図１の構成から補助陽極を取
り外した本発明の基本構成と、図１のとおり補助陽極を
装着した本発明の望ましい態様による構成の両方をそれ
ぞれ用いた。
【００１９】同図には比較のため、同じく上記条件下で
特開平第２−６１０８９号公報の従来装置によりめっき
を行った場合の結果も併せて示した。同図から分かるよ
うに、めっき液の戻り流路を備えていない従来装置で
は、４インチウェハ（同図Ａ）の場合は電極形状不良は
無く寸法ばらつきも小さいが、ウェハサイズの大きい５
インチウェハ（同図Ｂ）の場合には電極形状不良が発生
した。
特開平第２−６１０８９号公報の従来装置によりめっき
を行った場合の結果も併せて示した。同図から分かるよ
うに、めっき液の戻り流路を備えていない従来装置で
は、４インチウェハ（同図Ａ）の場合は電極形状不良は
無く寸法ばらつきも小さいが、ウェハサイズの大きい５
インチウェハ（同図Ｂ）の場合には電極形状不良が発生
した。
【００２０】これに対して、めっき液の戻り流路を備え
た本発明の基本構成の装置によれば、電極形状不良は全
く発生しなかった（同図Ｃ）。更に、本発明の望ましい
態様により、めっき液戻り流路を備えると共に補助陽極
をも備えた場合には、電極形状不良が発生しないばかり
でなく、電極寸法ばらつきも低減された（同図Ｄ）。
た本発明の基本構成の装置によれば、電極形状不良は全
く発生しなかった（同図Ｃ）。更に、本発明の望ましい
態様により、めっき液戻り流路を備えると共に補助陽極
をも備えた場合には、電極形状不良が発生しないばかり
でなく、電極寸法ばらつきも低減された（同図Ｄ）。
【００２１】上記の結果から、本発明によれば、被めっ
き面からの戻り液を排出する戻り流路を備えたことによ
り、ウェハサイズが４インチより大きい場合でも、従来
法では発生した電極形状不良の発生を無くすることがで
き、従来法による４インチウェハの場合と同等のバンプ
品質を得ることができる。更に、戻り流路がノズルヘッ
ド内を貫通させたためにノズルヘッド内部の陽極の給電
面積が減少する場合には、その減少分を補う補助陽極を
更に備えることにより、電極寸法ばらつきを低減するこ
とができる。
き面からの戻り液を排出する戻り流路を備えたことによ
り、ウェハサイズが４インチより大きい場合でも、従来
法では発生した電極形状不良の発生を無くすることがで
き、従来法による４インチウェハの場合と同等のバンプ
品質を得ることができる。更に、戻り流路がノズルヘッ
ド内を貫通させたためにノズルヘッド内部の陽極の給電
面積が減少する場合には、その減少分を補う補助陽極を
更に備えることにより、電極寸法ばらつきを低減するこ
とができる。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
口径が大きくてもめっき形成部の形状不良を生ぜずに、
高精度と高速とを確保して噴流方式で電気めっきを行う
ことができる。本発明は、特に直径４インチを超える大
口径のウェハ上にバンプ電極を形成する場合に有効であ
る。
口径が大きくてもめっき形成部の形状不良を生ぜずに、
高精度と高速とを確保して噴流方式で電気めっきを行う
ことができる。本発明は、特に直径４インチを超える大
口径のウェハ上にバンプ電極を形成する場合に有効であ
る。
【図１】図１は、本発明によるめっき装置の一構成例に
おけるめっきセル部を示す断面図である。
おけるめっきセル部を示す断面図である。
【図２】図２は、図１のめっきセル部を含む本発明によ
るめっき装置の全体構成の一例を示す配置図である。
るめっき装置の全体構成の一例を示す配置図である。
【図３】図３は、バンプ電極を形成するために半導体ウ
ェハ上に金属薄膜とその上のレジストパターンとを形成
した状態を示す断面図である。
ェハ上に金属薄膜とその上のレジストパターンとを形成
した状態を示す断面図である。
【図４】図４は、図３のウェハ上の電気めっきによりバ
ンプ電極を形成した状態を示す断面図である。
ンプ電極を形成した状態を示す断面図である。
【図５】図５は、図４と同等なバンプ電極を形成する際
に発生する電極形状不良を示す断面図である。
に発生する電極形状不良を示す断面図である。
【図６】図６は、従来の噴流式めっき装置のめっきセル
部を示す断面図である。
部を示す断面図である。
【図７】図７は、本発明および従来法によるめっきによ
り形成したバンプ電極の形状不良率および寸法ばらつき
を示すグラフである。
り形成したバンプ電極の形状不良率および寸法ばらつき
を示すグラフである。
１０…被めっき物 １０Ａ…被めっき面 １３…めっき液 １４…めっき液噴流 １５…ノズル群１５Ａの個々のノズル １５Ａ…ノズル群 １６…ノズルヘッド内部の陽極 １７…ノズルヘッド １７Ａ…ノズルヘッド前面 １９…被めっき面１０Ａからの戻り液 ３０…戻り液１９をノズルヘッド前面１７Ａから排出す
る戻り流路 ３５…補助陽極
る戻り流路 ３５…補助陽極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 基樹 愛知県刈谷市昭和町１丁目１番地 日本電 装株式会社内 (72)発明者 田中 和夫 愛知県刈谷市昭和町１丁目１番地 日本電 装株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 被めっき物の被めっき面へめっき液を噴
流させるノズル群を構成し且つ内部に陽極を有するノズ
ルヘッドを、上記ノズル群が開口した前面を被めっき面
に対向させて且つ被めっき面を覆う面積で配置し、被め
っき面と上記ノズルヘッドとを、被めっき面に平行に相
対的に２次元揺動させる機構を設けためっき装置におい
て、 上記ノズル群のノズル同士の間に、被めっき面からの戻
り液を上記ノズルヘッドの前面から排出する戻り流路を
設けたことを特徴とするめっき装置。 - 【請求項２】 上記戻り流路が、上記ノズルヘッド内部
をその前面から後面まで貫通していることを特徴とする
請求項１に記載のめっき装置。 - 【請求項３】 上記戻り流路が上記ノズルヘッド内部を
貫通したことによる陽極の給電面積の減少分を補う補助
陽極を上記ノズルヘッドの外表面に設けたことを特徴と
する請求項２に記載のめっき装置。 - 【請求項４】 上記補助陽極を上記ノズルヘッドの前面
に設けたことを特徴とする請求項３に記載のめっき装
置。 - 【請求項５】 被めっき物の被めっき面へめっき液を噴
流させるノズル群を構成し且つ内部に陽極を有するノズ
ルヘッドを、上記ノズル群が開口した前面を被めっき面
に対向させて且つ被めっき面を覆う面積で配置し、被め
っき面と上記ノズルヘッドとを被めっき面に平行に相対
的に２次元揺動させてめっきを行うめっき方法におい
て、 上記ノズル群のノズル同士の間に設けた戻り流路を介し
て、被めっき面からの戻り液を上記ノズルヘッドの前面
から排出することを特徴とするめっき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05745095A JP3438387B2 (ja) | 1995-03-16 | 1995-03-16 | めっき装置およびめっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05745095A JP3438387B2 (ja) | 1995-03-16 | 1995-03-16 | めっき装置およびめっき方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08253892A true JPH08253892A (ja) | 1996-10-01 |
| JP3438387B2 JP3438387B2 (ja) | 2003-08-18 |
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ID=13056011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05745095A Expired - Fee Related JP3438387B2 (ja) | 1995-03-16 | 1995-03-16 | めっき装置およびめっき方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3438387B2 (ja) |
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- 1995-03-16 JP JP05745095A patent/JP3438387B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |