JP4237110B2 - めっき処理された被処理基板を洗浄する方法および装置 - Google Patents
めっき処理された被処理基板を洗浄する方法および装置 Download PDFInfo
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Description
1A ノズル(スリット式)
1B ノズル(フラットスプレー式)
1C ノズル(フラットスプレー式)
103 ウエハ
104 ウエハホルダ
Claims (5)
- 表面にめっき液が付着している被処理基板を洗浄する方法であって、
前記被処理基板の横側に少なくとも3つの洗浄ノズルを上下方向に高さ位置を変えて設置し、最下段のノズルに、多数の噴射孔が横に並んだノズルであるスリット式ノズルを使用し、中段と最上段のノズルにフラットスプレー式ノズルを使用する洗浄方法。 - 中段のフラットスプレー式ノズルから噴射した洗浄液を被処理基板表面の中央付近に当て、最上段のフラットスプレー式ノズルから噴射した洗浄液をノズル設置側から見て前記被処理基板の中央付近よりも遠い側の被処理基板表面に当て、最下段の前記スリット式ノズルから噴射した洗浄液を前記被処理基板の中央付近よりもノズル設置場所に近い側の被処理基板表面に当てる、請求項1に記載の洗浄方法。
- 表面にめっき液が付着している被処理基板を洗浄する装置であって、
上下方向に高さ位置を変えて設置された少なくとも3つの洗浄ノズルを有し、
最下段のノズルが、多数の噴射孔が横に並んだノズルであるスリット式ノズルであり、中段と最上段のノズルがフラットスプレー式ノズルである、洗浄装置。 - 中段のフラットスプレー式ノズルが、噴射した洗浄液が被処理基板表面の中央付近に当てるよう設定され、最上段のフラットスプレー式ノズルが、噴射した洗浄液がノズル設置側から見て前記被処理基板の中央付近よりも遠い側の被処理基板表面に当たるよう設定され、最下段の前記スリット式ノズルが、噴射した洗浄液が前記被処理基板の中央付近よりもノズル設置場所に近い側の被処理基板表面に当たるよう設定されている、請求項3に記載の洗浄装置。
- めっき液を収容するめっき槽と、
該めっき槽の底面に形成された開口部と、
該開口部の周縁に設けられたカソードと、
前記めっき槽内に前記カソードに対向するように固定されたアノードと、
前記めっき槽の下側で被処理基板を前記開口部に対して上下方向に移動する移動手段と、
前記移動手段によって前記被処理基板を移動する空間の横側に設置された、請求項3または4に記載の洗浄装置と、を備えためっき装置。
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