JP2010216006A - 噴流式めっき方法および装置 - Google Patents

Abstract

【課題】噴流式めっきにおいて、ノズルから噴流されためっき液が被めっき面に作用した後、すみやかに排出され、かつめっき形成部の形状不良が無く、めっき膜厚が均一となる、めっき方法および装置を提供する。
【解決手段】めっき液７を、複数のノズルの開口部３ｚから噴流させて金属基材Ｗの表面に当て、めっき液７を介して電気的に接続されたノズル３と金属基材Ｗとの間に電流を流すことにより金属基材Ｗの表面にめっき層を形成する噴流式めっき方法であって、金属基材の被めっき面Ｗａを大気中に鉛直方向にまたは鉛直方向より傾斜させて設置し、複数のノズル３を被めっき面Ｗａに対して等しい距離Ｇを保持するように配列して前記被めっき面（Ｗａ）と前記複数のノズル（３）とを相互に平行に２次元揺動させてめっきを施すことを特徴とする噴流式めっき方法。
【選択図】図１

Description

本発明は、めっき液を、複数のノズル開口部から噴流させて金属基材の表面に当て、めっき液を介して電気的に接続されたノズルと金属基材との間に電流を流すことにより金属基材の表面にめっき層を形成する噴流式めっき方法および装置に関する。

従来から、鉄系、ステンレス系、銅系等の金属基材にめっきの施された製品が種々製造されている。その製品としては、自動車部品、例えばエンジン部品、電気・電子部品、等が挙げられる。めっきの種類としては、亜鉛めっき、ニッケルめっき、銅めっき、錫めっき、亜鉛ニッケル合金めっき等である。

このような製品のめっきの方式として、浸漬方式が最も一般的に用いられてきた。これは、めっき液を入れためっき槽内に、金属基材を陰極として浸漬し、これと対向する陽極との間で電析反応させる方式である。しかし、浸漬方式は、必要なめっき膜形成に要するめっき処理時間が極めて長いため、生産性に問題がある。このような欠点を解消するために、めっき処理を高速化できる噴流方式が開発された（例えば特許文献１、２を参照）。

この噴流方式は、金属基材を大気中に水平方向に設置し、被めっき面を天側または地側に向ける。そして、めっき液を噴射する複数のノズルを被めっき面から等距離に設置する。循環槽に収容しためっき液をポンプで加圧しノズルから噴射させ、被めっき面に噴流として当てて、めっきを行う。このとき、ノズル群を、被めっき面に対向する向きにかつ被めっき面を覆う面積内に配列し、被めっき面とノズル群とを、相互に平行に相対的に２次元揺動させる。

これにより、噴流内に存在するめっき用金属イオンを、被めっき面に均一に供給することが、可能となる。そして、被めっき面上に供給された金属イオンは、電析反応により被めっき面上に析出してめっき膜を形成する。噴流速度を大きくし電流密度を上げれば、被めっき面上にめっき用金属イオンが析出する速度が増加する。この噴流方式を採用することにより、浸漬方式に比べてめっき処理速度を数倍程度に高速化できる。

しかしながら、金属基材を水平方向に設置して行う噴流式めっきにおいては、ノズルから噴流されためっき液は被めっき面に作用した後、すみやかには排出されず被めっき面上に滞留し易い。その結果、めっき膜厚が不均一となる。あるいは、被めっき面上でめっき反応により発生する水素等のガスを除去しきれなくなり、めっき形成部の形状不良が発生する（特許文献３、４を参照）。この噴流されためっき液を滞留させずにいかに早く被めっき面から離間させて排出するかが大きな課題となっていた。

特開平２−６１０８９号公報 特開平９−２６９８９号公報 特開平８−２５３８９２号公報 特開平９−２９６２９１号公報

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、噴流式めっきにおいて、ノズルから噴流されためっき液が被めっき面に作用した後、すみやかに排出され、かつめっき形成部の形状不良が無く、めっき膜厚が均一となる、めっき方法および装置を提供することである。

本発明の第１形態によれば、噴流式めっき方法は、金属基材の被めっき面（Ｗａ）を大気中に鉛直方向にまたは鉛直方向より傾斜させて設置し、複数のノズル（３）を前記被めっき面（Ｗａ）に対して等しい距離（Ｇ）を保持するように配列して前記被めっき面（Ｗａ）と前記複数のノズル（３）とを相互に平行に２次元揺動させてめっきを施すことを特徴とする。

金属基材の被めっき面（Ｗａ）を大気中に鉛直方向にまたは鉛直方向より傾斜させて設置することにより、ノズルから噴流されためっき液（７）が被めっき面（Ｗａ）に作用した後、その自重によりすみやかに戻り液（Ｒ）として排出される。その結果、被めっき面（Ｗａ）上でめっき反応により発生する水素等のガスが戻り液（Ｒ）とともに除去され、めっき形成部の形状不良は発生せず、めっき膜厚も均一となる。

本発明の第２形態によれば、噴流式めっき方法は、前記ノズル（３）を千鳥状に配列してめっきを施すことを特徴とする。

これにより、１つのノズル（３）の真下にあるノズルまでの距離（Ｌ）を長くとることが可能となり、１つのノズル（３）から噴流されためっき液（７）の戻り液（Ｒ）が、真下にあるノズルからのめっき液噴流の流れ方向に影響を及ぼすことが少なくなる。このため、噴流内の電流供給は乱れること無く、１つのノズル（３）から噴流されためっき液（７）による金属イオンの供給量と、真下にあるノズルから噴流されためっき液（７）による金属イオンの供給量とがほぼ同一量となり、被めっき面（Ｗａ）に均一なめっきを施すことが可能となる。さらに、ノズルの千鳥状配列により、めっき液（７）の戻り液（Ｒ）が排出され易くなる。

本発明の第３形態によれば、噴流式めっき方法は、前記ノズル（３）の開口部（３ｚ）に庇（ひさし）（４）を配置してめっきを施すことを特徴とする。

ノズルの開口部のすぐ上側に配置された庇（４）により、その庇付きノズルの上側に配置されているノズルから噴流されためっき液の戻り液（Ｒ）は、庇（４）の真下を通過することができなくなる。このため、庇付きノズルの噴流は、その上側に配置されたノズルから噴流されためっき液の戻り液（Ｒ）により、その噴流の方向が曲げられる等の影響を及ぼされることが無くなる。このため、噴流内の電流供給は乱れること無く、１つのノズルから噴流されためっき液による金属イオンの供給量と、その下側にあるノズルから噴流されためっき液による被めっき面（Ｗａ）への金属イオンの供給量とがほぼ同一量となり、被めっき面（Ｗａ）に均一なめっきを施すことが可能となる。

本発明の第４形態によれば、噴流式めっき方法は、金属基材（Ｗ）の表側と裏側の両側を被めっき面（Ｗａ）にしてめっきを施すために、金属基材（Ｗ）の被めっき面（Ｗａ）を大気中に鉛直方向に設置し、金属基材（Ｗ）の両側に前記ノズル（３）を配列してめっきを施すことを特徴とする。

金属基材（Ｗ）の被めっき面（Ｗａ）を大気中に鉛直方向に設置することにより、ノズルから噴流されためっき液の戻り液（Ｒ）の排出が、その自重による自由落下に基づいて金属基材（Ｗ）の両側において同じ状態で行われる。これにより、金属基材（Ｗ）の表側と裏側の両側の被めっき面（Ｗａ）に、両側で同一のめっき膜厚でめっき面粗度のめっき膜を形成することが可能となる。

本発明の第５形態によれば、噴流式めっき装置は、金属基材（Ｗ）の被めっき面（Ｗａ）を大気中に鉛直方向にまたは鉛直方向より傾斜させて設置し、複数のノズル（３）を前記被めっき面（Ｗａ）に対して等しい距離（Ｇ）を保持するように配列して、前記被めっき面（Ｗａ）と前記複数のノズル（３）とを相互に平行に２次元揺動させることを特徴とする。

本発明の第６形態によれば、噴流式めっき装置は、前記ノズル（３）を千鳥状に配列したことを特徴とする。

本発明の第７形態によれば、噴流式めっき装置は、前記ノズルの開口部（３ｚ）に庇（４）を配置したことを特徴とする。

本発明の第８形態によれば、噴流式めっき装置（２００）は、金属基材（Ｗ）の表側と裏側の両側を被めっき面（Ｗａ）にしてめっきを施すために、金属基材（Ｗ）の被めっき面（Ｗａ）を大気中に鉛直方向に設置し、金属基材（Ｗ）の両側に前記ノズル（３）を配列したことを特徴とする。

以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。なお、図１から図１０において、同一機能を有する部材または手段には同一符号または番号を付してその説明を省略する。

本発明に係る第１実施形態のめっき装置の模式図である。 図１の装置のノズル壁をＺ方向から視た図である。 図１の装置のノズル噴流とその戻り液の流れを模式的に表した図である。 本発明に係る第２実施形態のめっき装置の模式図である。（ａ）は第２実施形態のめっき装置を（ｂ）においてＺ方向から視た図であり、（ｂ）は第２実施形態のめっき装置を図１と同じ方向から視た図である。 本発明に係る第３実施形態のめっき装置の模式図である。 本発明に係る第４実施形態のめっき装置の模式図である。 本発明に係る第５実施形態のめっき装置の模式図である。 本発明に係る第５実施形態の変形形態のめっき装置の模式図である。（ａ）はこの実施形態のめっき装置を（ｂ）においてＺ方向から視た図であり、（ｂ）はこの実施形態のめっき装置を図１と同じ方向から視た図である。 本発明に係る第６実施形態のめっき装置の模式図である。 本発明に係る第７実施形態のめっき装置の模式図である。

（第１実施形態）
本発明の第１実施形態を図１、２に基づいて説明する。第１実施形態のめっき装置１００は、鉄鋼または銅、銅合金製の金属基材（以下、単に「基材」という）Ｗの表面にニッケルめっき層を形成するものである。

図１に示すように、めっき装置１００は、内部に攪拌機（図示せず）及びヒータ（図示せず）を有してなるタンク２を備えている。そして、このタンク２内には、後述する組成よりなるめっき溶液が貯留されている。また、このタンク２の上方には、基材Ｗが、その被めっき面Ｗａを大気中に鉛直方向にまたは鉛直方向より傾斜させて設置されている。例えば、基材Ｗは、吊り下げ器具（図示せず）により吊り下げられている。基材Ｗは、陰極となっている。

タンク２の上方（天方向）には、基材Ｗと対面した噴射ノズル３を備えるめっき液噴射装置１０が配置されている。複数のノズル３は、めっき液噴射装置１０において、被めっき面Ｗａに対して等しい距離Ｇを保持するように配列されている。めっき液噴射装置１０は、密閉容器１から成り、容器１内にはめっき液７が充填されており、電源（図示せず）に接続された陽極５も配置されている。容器１は例えば樹脂製であり、陽極５は例えばチタンを基材として表面に白金（Ｐt ）をコーティングしたものまたはニッケル板である。容器１は、その左側にノズル壁１ａを、その右側に右壁１ｃを、その地側に底壁１ｂを、その天側に上壁１ｄを備えている。上壁１ｄには、めっき液の供給用の孔１ｅが配置されており、孔１ｅは後述する連通路６と接続されている。

そして、タンク２と密閉容器１とを連結する連通路６が設けられており、この連通路６の途中にはポンプＰが設けられている。このポンプＰが駆動されることにより、タンク２内にて加温され均一に攪拌されためっき液７が、連通路６を通って容器１に貯留されて、さらに噴射ノズル３の方へと供給される。さらに、その噴射ノズル３からは、噴流（シャワー）状のめっき液が、基材Ｗの被めっき面Ｗａに当たるようになっている。なお、基材Ｗおよびめっき液噴射装置１は、カバーされており、噴出しためっき液が外部に飛散しないようになっている。そして、ノズル長さＴは１０ｍｍ、基材Ｗとノズル３との距離Ｇは１０ｍｍ、ノズル径Ｄは１〜３ｍｍ、ノズルピッチＰは１０ｍｍとなっている。

ポンプＰの下流における連通路６の途中には、バルブＶが設けられており、このバルブＶの開度を調整することにより、噴射ノズル３からのめっき液の噴出量、噴出速度を調整することができるようになっている。なお、めっき液７は、例えば硫酸ニッケル、塩化ニッケル、ホウ酸等よりなっている。さらに、めっきの条件として、めっき液７の温度はヒータ（図示せず）により５５℃に、ｐＨは４．０に、電流密度は３０Ａ／ｄｍ² に、めっき液の噴出時間は８分にそれぞれ設定されている。噴射ノズル３からの噴出速度は１ｍ／ｓ以上に設定されている。但し、これらの数値はあくまでも例示である。

次に、このめっき装置１００を用いためっき方法について説明する。まず、基材Ｗを陰極（図示せず）と接続して、被めっき面Ｗａを鉛直方向にまたは鉛直方向より傾斜させて大気中に設置する。そして、ポンプＰを作動させる。ただし、この際、バルブＶの開度を適宜調整する。すると、めっき液７は、ポンプＰから連通路６を通って噴射ノズル３から勢いよく噴射され、基材の被めっき面Ｗａに当たる。このように、めっき液７を比較的速い流速をもたせて基材の被めっき面Ｗａに当てる。このとき、基材の被めっき面Ｗａに均一にめっき液７が当たるように、めっき液噴射装置１または基材Ｗを、リンク装置（図示せず）を用いて、被めっき面Ｗａに対して平行にＸ方向およびＹ方向（図２参照）に２次元揺動させる。

このとき、噴射ノズル３から噴射しているめっき液によって、陽極５および基材Ｗ間が電気的に接続されることとなる。その結果、陽極５と基材Ｗとの間に電流が流れ、基材の被めっき面Ｗａにめっき液中の金属イオン成分（ニッケル）が金属マトリックスとなって析出し、めっき層が形成される。

一方、ノズルから噴流されためっき液は、被めっき面Ｗａに作用した後、その自重により自由落下してすみやかに戻り液Ｒとして排出される。基材の被めっき面Ｗａが大気中に鉛直方向にまたは鉛直方向より傾斜させて設置されているからである。

次に、本実施形態の作用及び効果について説明する。
（１）めっき液７に流速をもたせて基材の被めっき面Ｗａに当てるという工程のみで、基材Ｗに強固なめっき層を形成することが可能となる。そして、基材の被めっき面Ｗａを大気中に鉛直方向にまたは鉛直方向より傾斜させて設置することにより、ノズルから噴流されためっき液が被めっき面Ｗａに作用した後、その自重によりすみやかに戻り液Ｒとして排出される。その結果、めっき膜厚が均一となり、被めっき面Ｗａ上でめっき反応により発生する水素等のガスが戻り液Ｒとともに除去され、めっき形成部の形状不良は発生しなくなる。
（２）さらに、基材を浸漬させることにより行っていた従来のめっき方法とは異なり、基材にめっき液７を噴射して当てるという工程でめっきを施すことができる。このため、設備の簡素化及びコストの低減を図ることができる。

（第２実施形態）
上述した第１実施形態では、次のようなことが懸念される。すなわち、図３に示すように、ノズル３から噴出した噴流Ｊ１〜１０は、下側（地側）のノズル３から噴出した噴流ほどその真上のノズル３から噴出した噴流の戻り液Ｒ１〜８により影響を受けて、噴流方向が押し曲げられる。例えば、図３に示すように、上から３番目のノズル３ｃから噴出された噴流Ｊ３は、上から１番目のノズル３ａおよび２番目のノズル３ｂから噴出された噴流Ｊ１およびＪ２の戻り液Ｒ１およびＲ２により地方向へ押し曲げられる。その結果、噴流内の電流分布は乱れ、噴流内に存在するめっき用金属イオンを、被めっき面Ｗａに均一に供給することが、できなくなる。

第２実施形態は上記問題を解決するために、図４（ａ）に示すように、ノズル３を千鳥状に配列している。この配列により、１つのノズル３の真下にあるノズルまでの距離Ｌを長くとることが可能となり、１つのノズル３から噴流されためっき液の戻り液Ｒが、その真下にあるノズルからのめっき液噴流の流れ方向に影響を及ぼすことが少なくなる。このため、噴流内の電流分布は乱れること無く、１つのノズル３から噴流されためっき液７による金属イオンの供給量と、その真下にあるノズルから噴流されためっき液７による金属イオンの供給量とがほぼ同一量となり、被めっき面Ｗａに均一なめっきを施すことが可能となる。さらに、ノズルの千鳥状配列により、めっき液７の戻り液Ｒが排出され易くなる。

（第３実施形態）
第１実施形態の問題点のさらなる解決方法は、図４（ａ）に示すように、ノズル３の開口部３ｚに庇４を配置することである。庇４は例えば、密閉容器１と同じ材質である樹脂で作っても良い。庇４は、ノズルの開口部３ｚに近接してその真上に設置し、その形状は、半円筒形あるいは、図５に示すような傘形状、その他の天側から降り注ぐ液体からそのノズル３から噴出する噴流を保護する機能を有するノズル開口部保護覆いであれば良い。なお、庇４が図５に示すような傘形状である場合において、傘の開き角θは任意の角度で良い。

この庇４により、そのノズル３の上側にあるノズルから噴流されためっき液の戻り液Ｒは、庇４の真下を通過することができなくなる。そして、戻り液Ｒは図４（ａ）のＦに示すように、庇４に案内されてそのノズル３の側方を流れることとなる。このため、庇４を備えたノズル３の噴流は、その上側にあるノズルから噴流されためっき液の戻り液Ｒにより、その噴流の方向が曲げられる等の影響を及ぼされることが無くなる。このため、噴流内の電流供給は乱れること無く、１つのノズル３から噴流されためっき液７による金属イオンの供給量と、その下側にあるノズルから噴流されためっき液７による金属イオンの供給量とがほぼ同一量となり、被めっき面Ｗａに均一なめっきを施すことが可能となる。

（第４実施形態）
図６に示すように、噴流式めっき装置は、基材Ｗの表側と裏側の両側を被めっき面Ｗａにしてめっきを施すために、基材Ｗの被めっき面Ｗａを大気中に鉛直方向に設置し、基材Ｗの両側にノズル３を配列することもできる。

基材の被めっき面Ｗａを大気中に鉛直方向に設置することにより、ノズルから噴流されためっき液７の戻り液Ｒの排出が、基材Ｗの両側において同じ状態で行われる。これにより、基材Ｗの表側と裏側の両側の被めっき面Ｗａに、両側で同一のめっき膜厚でめっき面粗度のめっき膜を形成することが可能となる。

（第５実施形態）
電流供給をさらに安定させるために、図７に示すように、ノズル３の開口部３ｚの近傍に補助陽極１１を設けることが望ましい。この補助陽極１１を設けることにより、めっき電流効率を増加させることができ、めっき液中の電界分布もより均一化させることが可能となる。

（第６実施形態）
第５実施形態を変形した形態が図８に示す第６実施形態である。本実施形態において、補助陽極１１は、平板形状を有し庇４が貫通し、噴流が通過する複数の貫通孔１１ａを有する。貫通孔１１ａは、対面する噴射ノズル３と同一位置に同一個数設けられている。補助陽極１１は、ノズル壁１ａと基材Ｗの間に設置される。そして、庇４は例えば樹脂製であるが、補助陽極１１と同じ材質としても良い。これにより、めっき液噴流と接触する電極表面積を増加させることが可能となり、めっき電流効率を増加させることが可能となる。

（第７実施形態）
第７実施形態を図９に示す。密閉容器１は、ノズル３とめっき液供給用孔１ｅとの間に仕切り板８を備える。仕切り板８は、ノズル３側とめっき液供給用孔１ｅ側とを連通する連通路８ａを有する。ノズル壁１ａと仕切り板８との間にはバッファＢとして所定圧を有しためっき液を貯留することが可能となる。仕切り板を備えない第１実施形態のめっき液噴射装置１０においては、めっき液供給用孔１ｅと複数のノズル３との間が遮断されていないため、ノズル３からめっき液が流出を始めると、めっき液供給用孔１ｅより供給されためっき液７は、底壁１ｂへ到達し、その近傍にあるノズル３は比較的高い液圧が保たれるが、めっき液供給用孔１ｅに近いノズル３の近傍は低い液圧となる。このため、めっき液供給用孔１ｅに近いノズル３からの噴流量は、めっき液供給用孔１ｅから遠いノズル３からの噴流量よりも少なくなり、基材Ｗのめっき厚が不均一となる。この欠点を解消するためバッファＢを備える第７実施形態が提供される。なお、仕切り板８を陽極に形成することも可能である。

（第８実施形態）
図１０に第８実施形態を示す。第８実施形態は、めっき層が形成される金属基材Ｗの表面が凹凸状の表面を有する場合である。この場合、ノズル３は、ノズル３の方向が前記凹凸状の表面と直角をなすように傾斜させるか、７５°〜１０５°の範囲に傾斜させて配列される。これにより、金属基材Ｗの凹凸状の表面には均一な厚さのめっきが電着されることとなる。なお、図１０において、ノズル３ｂの傾斜は、ノズル３ａ又は３ｃに対して最大９０度までの角度を付けることが可能である。

（第９実施形態）
第９実施形態においては、複数のノズル３から噴流されるめっき液の量は、各ノズル３毎に制御される。この機能を発揮する構造は、例えば各ノズルに独立した各配管及び圧力発生機構を接続したものである。また、第１実施形態等において、各ノズルの内径を個別に変化させることによっても噴流されるめっき液の量を各ノズル同士で相対的に変化させることが可能となる。これは、基材Ｗのめっきを施す表面の各部位毎にめっき厚を変化させたいニーズが存在し、このニーズに対処したものである。

以上のように、噴流式めっきにおいて、ノズルから噴流されためっき液が被めっき面に作用した後、すみやかに排出され、かつめっき形成部の形状不良が無く、めっき膜厚が均一となる、めっき方法および装置を提供することが可能となる。

なお、以上の実施形態においては、金属基材を鋼または鉄鋳物として、めっきの種類をニッケルとして説明したが、これはあくまで例示である。本発明のめっき方法またはめっき装置を使用して、金属基材を、鉄、銅、チタン、マグネシウムその他の金属にして、めっきの種類を亜鉛、ニッケル亜鉛、銅、銀、金、錫その他の金属にしてめっき可能なことは言うまでもない。

１００ 第１実施形態のめっき装置
２００ 第４実施形態のめっき装置
１ 密閉容器
２ タンク
３ ノズル
４ 庇
５ 電極（陽極）

Claims (18)

1. めっき液（７）を、複数のノズル開口部（３ｚ）から噴流させて金属基材（Ｗ）の表面に当て、前記めっき液（７）を介して電気的に接続された前記ノズル（３）と金属基材（Ｗ）との間に電流を流すことにより前記金属基材（Ｗ）の表面にめっき層を形成する噴流式めっき方法であって、
   金属基材（Ｗ）の被めっき面（Ｗａ）を大気中に鉛直方向にまたは鉛直方向より傾斜させて設置し、複数のノズル（３）を前記被めっき面（Ｗａ）に対して等しい距離（Ｇ）を保持するように配列して前記被めっき面（Ｗａ）と前記複数のノズル（３）とを相互に平行に２次元揺動させてめっきを施すことを特徴とする噴流式めっき方法。
2. 前記ノズル（３）を千鳥状に配列してめっきを施すことを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 前記ノズルの開口部（３ｚ）に庇（４）を配置してめっきを施すことを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
4. 金属基材（Ｗ）の表側と裏側の両側を被めっき面（Ｗａ）にしてめっきを施すために、
   金属基材の被めっき面（Ｗａ）を大気中に鉛直方向に設置し、
   金属基材（Ｗ）の両側に前記ノズル（３）を配列してめっきを施すことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の方法。
5. 前記ノズルの開口部（３ｚ）の近傍に補助陽極（１１）を設けてめっきを施すことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の方法。
6. 前記めっき液（７）で充填されかつ前記ノズル（３）及びめっき液供給用孔（１ｅ）を有する密閉容器（１）であって、前記ノズル（３）と前記めっき液供給用孔（１ｅ）との間に、前記ノズル（３）側と前記めっき液供給用孔（１ｅ）側とを連通する連通路を有する仕切り板（８）を備える密閉容器（１）を使用してめっきを施すことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の方法。
7. 前記仕切り板（８）が陽極に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の方法。
8. めっき層が形成される前記金属基材（Ｗ）の表面が凹凸状の表面を有するとき、前記ノズル（３）は、前記ノズル（３）の方向が前記凹凸状の表面と直角をなすように傾斜させて配列されてめっきを施すことを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の方法。
9. 前記複数のノズル（３）から噴流されるめっき液の量が、各ノズル（３）毎に制御されることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の方法。
10. めっき液（７）を、複数のノズル（３）開口部から噴流させて金属基材（Ｗ）の表面に当て、前記めっき液（７）を介して電気的に接続された前記ノズル（３）と金属基材（Ｗ）との間に電流を流すことにより前記金属基材（Ｗ）の表面にめっき層を形成する噴流式めっき装置（１００、２００）であって、
    金属基材の被めっき面（Ｗａ）を大気中に鉛直方向にまたは鉛直方向より傾斜させて設置し、複数のノズル（３）を前記被めっき面（Ｗａ）に対して等しい距離（Ｇ）を保持するように配列して、前記被めっき面（Ｗａ）と前記複数のノズル（３）とを相互に平行に２次元揺動させることを特徴とする噴流式めっき装置（１００、２００）。
11. 前記ノズル（３）を千鳥状に配列したことを特徴とする請求項１０に記載の装置。
12. 前記ノズル（３）の開口部（１５ａ）に庇（４）を配置したことを特徴とする請求項１０または１１に記載の装置。
13. 金属基材（Ｗ）の表側と裏側の両側を被めっき面（Ｗａ）にしてめっきを施すために、
    金属基材（Ｗ）の被めっき面（Ｗａ）を大気中に鉛直方向に設置し、
    金属基材（Ｗ）の両側に前記ノズル（３）を配列したことを特徴とする請求項１０から１２のいずれか１項に記載の装置（２００）。
14. 前記ノズルの開口部（３ｚ）の近傍に補助陽極（１１）を設けたことを特徴とする請求項１０から１３のいずれか１項に記載の装置（３００）。
15. 前記めっき液（７）で充填されかつ前記ノズル（３）及びめっき液供給用孔（１ｅ）を有する密閉容器（１）であって、前記ノズル（３）と前記めっき液供給用孔（１ｅ）との間に、前記ノズル（３）側と前記めっき液供給用孔（１ｅ）側とを連通する連通路を有する仕切り板（８）を備える密閉容器（１）を備えることを特徴とする請求項１０から１４のいずれか１項に記載の装置（４００）。
16. 前記仕切り板（８）が陽極に形成されていることを特徴とする請求項１５に記載の噴流式めっき装置（４００）。
17. めっき層が形成される前記金属基材（Ｗ）の表面が凹凸状の表面を有するとき、前記ノズル（３）は、前記ノズル（３）の方向が前記凹凸状の表面と直角をなすように傾斜させて配列されることを特徴とする請求項１０から１６のいずれか１項に記載の装置（５００）。
18. 前記複数のノズル（３）から噴流されるめっき液の量が、各ノズル（３）毎に制御されることを特徴とする請求項１０から１７のいずれか１項に記載の装置（６００）。

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