JP2015134956A - めっき装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】めっき対象部材2の表面に対向配置される仕切部材10と、めっき対象部材2に対し仕切部材10を挟んで反対側に配置される電極20と、仕切部材10に対して電極20の側に設けられためっき液の流通路13と、流通路13にめっき液を供給するめっき液供給部30と、仕切部材10におけるめっき対象部材2の凹部4に対向する位置に設けられて流通路13から凹部4にめっき液を供給可能な流通孔16と、凹部4の側に供給しためっき液をめっき対象部材2の凹部4以外のめっき処理面に流通させた後に排出するめっき液排出部と、を備えた。
【選択図】図3
Description
前記めっき対象部材に対し前記仕切部材を挟んで反対側に配置される電極と、
前記仕切部材に対して前記電極の側に設けられためっき液の流通路と、
前記流通路にめっき液を供給するめっき液供給部と、
前記仕切部材における前記めっき対象部材の凹部に対向する位置に設けられて前記流通路から前記凹部に前記めっき液を供給可能な流通孔と、
前記凹部の側に供給した前記めっき液を前記めっき対象部材の前記凹部以外のめっき処理面に流通させた後に排出するめっき液排出部と、を備えた点にある。
〔第1実施形態〕
図1〜図3に示すように、ここでは筒状に形成されためっき対象部材2の内周面(めっき処理面)3をめっき処理するめっき装置1を一例として示す。めっき対象部材2は、例えばスプライン状の内歯を有する歯車部材であり、その内周面3には凹部4と凸部5とが周方向に交互に形成されている。
(1)上記の実施形態(図5)では、流通孔16の開口幅を流通孔16の開口端から凹部4までの距離よりも小さくした例を示した。これに代えて、図6に示すように、流通孔16の開口端16aが凹部4に近接するように配置し、流通孔16の開口幅Wが流通孔16の開口端16aから凹部4までの距離L以上になるよう設定してもよい。流通孔16の開口幅Wが流通孔16の開口端16aから凹部4までの距離L以上であると、流通孔16の開口幅Wに比較して流通孔16の開口端16aと凹部4との間は小さな領域となる。このため、流通孔16から排出されるめっき液は流通孔16の開口端16aと凹部4との間に充填され、凹部4に供給されてめっき対象部材2の内周面3と仕切部材10との間に均一な流れが形成される。これにより、めっき液を凹部4全体に均等に行き渡らせることができ、凹部4に適正なめっき被膜を形成することができる。
めっき対象部材2としてクラッチハブを用い、図1に示すように、クラッチハブの円筒部分を垂直方向に配置し、直径10mmの電極20とクラッチハブのスプライン部(内周面3)の間に仕切部材10を配置してめっき処理を行った。クラッチハブの素材は炭素鋼であり、めっき液として電気Ni−Pめっき用のめっき液を用いた。ポンプ33によってめっき液をクラッチハブのスプライン部へ下方から上方に向けて供給し循環させた。
仕切部材10のスリット状の流通孔16の開口幅Wを0.1mmとし、流通孔16の開口端16aから凹部4(底部)までの距離Lを0.1mmとした。すなわち、流通孔16の開口幅Wと距離Lとが同じになるよう設定した。他の条件は実施例1と同じである。
直径10mmの電極をクラッチハブの円筒部の中心に配置し、仕切部材は配置せずにめっき処理を行った。他の条件は実施例と同じである。
直径5mmの電極をクラッチハブの円筒部の中心に配置し、仕切部材は配置せずにめっき処理を行った。他の条件は実施例と同じである。
2 めっき対象部材
3 内周面(めっき処理面)
4 凹部
5 凸部
10 仕切部材
11 筒状部
11a 外周面
12 底部
13 流通路
14 凹部
15 凸部
16 流通孔
18 流入孔
20 電極
30 めっき液供給部
31 めっき液排出部
40 位置決め部材
L 流通孔の開口端から凹部までの距離
W 流通孔の開口幅
Claims (4)
- めっき対象部材の表面に対向配置される仕切部材と、
前記めっき対象部材に対し前記仕切部材を挟んで反対側に配置される電極と、
前記仕切部材に対して前記電極の側に設けられためっき液の流通路と、
前記流通路にめっき液を供給するめっき液供給部と、
前記仕切部材における前記めっき対象部材の凹部に対向する位置に設けられて前記流通路から前記凹部に前記めっき液を供給可能な流通孔と、
前記凹部の側に供給した前記めっき液を前記めっき対象部材の前記凹部以外のめっき処理面に流通させた後に排出するめっき液排出部と、を備えためっき装置。 - 前記仕切部材が前記めっき処理面に平行な対向面を有する請求項1記載のめっき装置。
- 前記流通孔として前記凹部の長さ方向に沿うスリットが形成されている請求項1又は2記載のめっき装置。
- 前記流通孔の開口幅が前記流通孔の開口端から前記凹部までの距離以上になるよう設定してある請求項1〜3のいずれか一項に記載のめっき装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014107072A JP6364954B2 (ja) | 2013-12-20 | 2014-05-23 | めっき装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2013264105 | 2013-12-20 | ||
JP2013264105 | 2013-12-20 | ||
JP2014107072A JP6364954B2 (ja) | 2013-12-20 | 2014-05-23 | めっき装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2015134956A true JP2015134956A (ja) | 2015-07-27 |
JP6364954B2 JP6364954B2 (ja) | 2018-08-01 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014107072A Expired - Fee Related JP6364954B2 (ja) | 2013-12-20 | 2014-05-23 | めっき装置 |
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JP (1) | JP6364954B2 (ja) |
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