JP2541481B2 - 噴流めっき装置 - Google Patents
噴流めっき装置Info
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- JP2541481B2 JP2541481B2 JP5276105A JP27610593A JP2541481B2 JP 2541481 B2 JP2541481 B2 JP 2541481B2 JP 5276105 A JP5276105 A JP 5276105A JP 27610593 A JP27610593 A JP 27610593A JP 2541481 B2 JP2541481 B2 JP 2541481B2
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- Japan
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- plating
- anode
- jet
- plating solution
- nozzles
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は噴流めっき装置に関し、
特に可溶性アノードを用いた電気めっきにより基板上に
電極用バンプ等を形成するための噴流めっき装置に関す
る。
特に可溶性アノードを用いた電気めっきにより基板上に
電極用バンプ等を形成するための噴流めっき装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の噴流めっき装置は、図４
に示されているように、めっき液４を溜めるめっき槽５
と、基板９を設置するためのめっきチャンバ７と、チャ
ンバ７内に設けられた陽極１６とめっき液４を基板９で
噴出させるための循環ポンプ３とを含んで構成されてい
る。なお、８はフレーム、１６はノズル、１はめっき電
源である。
に示されているように、めっき液４を溜めるめっき槽５
と、基板９を設置するためのめっきチャンバ７と、チャ
ンバ７内に設けられた陽極１６とめっき液４を基板９で
噴出させるための循環ポンプ３とを含んで構成されてい
る。なお、８はフレーム、１６はノズル、１はめっき電
源である。
【０００３】かかる構成において、従来の噴流めっき装
置では、循環ポンプ３により、めっき液４をめっきチャ
ンバ７上の基板９に噴出させることによりめっきが行わ
れる。 また、他の例としては、陽極をチャンバの内部
に設けるのではなく、アノードボール（アノード片）を
用いた装置も知られている。これは、チタンケースにア
ノードボールを数個入れたアノードボックスを用いるも
のである。例えば、図５に示されているように、循環ポ
ンプ３とチャンバ７との間にアノードボックス２を設け
た構成が知られており、このアノードボックス２を介し
てめっき液４を被めっき面に噴流させてめっきが行われ
る。
置では、循環ポンプ３により、めっき液４をめっきチャ
ンバ７上の基板９に噴出させることによりめっきが行わ
れる。 また、他の例としては、陽極をチャンバの内部
に設けるのではなく、アノードボール（アノード片）を
用いた装置も知られている。これは、チタンケースにア
ノードボールを数個入れたアノードボックスを用いるも
のである。例えば、図５に示されているように、循環ポ
ンプ３とチャンバ７との間にアノードボックス２を設け
た構成が知られており、このアノードボックス２を介し
てめっき液４を被めっき面に噴流させてめっきが行われ
る。
【０００４】さらにまた、ノズルを複数個設けると共
に、被めっき面を揺動させて均一なめっきを得る装置が
特開平２−６１０８９号公報に開示されている。これ
は、図６に示されているように、めっき液４を噴流させ
るノズル群２１を被めっき面に対向する向きに、かつ被
めっき面を覆う面積で配置し、このノズル群２１を被め
っき面と平行に２次元揺動させるモータ２２等の機構を
設け、各ノズル内に電解用電極１６を設けた構成であ
る。
に、被めっき面を揺動させて均一なめっきを得る装置が
特開平２−６１０８９号公報に開示されている。これ
は、図６に示されているように、めっき液４を噴流させ
るノズル群２１を被めっき面に対向する向きに、かつ被
めっき面を覆う面積で配置し、このノズル群２１を被め
っき面と平行に２次元揺動させるモータ２２等の機構を
設け、各ノズル内に電解用電極１６を設けた構成であ
る。
【０００５】なお、図中の１９はフレキシブルジョイン
ト、２０はフレキシブルチューブ、１７はキャップであ
る。
ト、２０はフレキシブルチューブ、１７はキャップであ
る。
【０００６】このめっき装置によれば、ノズル群２１と
被めっき面とを平行に相対的に２次元揺動させることに
より、被めっき面上でのめっき液の流動を均一に多方向
化し、めっき電流の限界電流密度を高め、各ノズル内の
電解用電極１６により、被めっき面上の電流分布の均一
性を高めて、めっきを行うことができる。
被めっき面とを平行に相対的に２次元揺動させることに
より、被めっき面上でのめっき液の流動を均一に多方向
化し、めっき電流の限界電流密度を高め、各ノズル内の
電解用電極１６により、被めっき面上の電流分布の均一
性を高めて、めっきを行うことができる。
【０００７】なお、以上の各図中において、同等部分は
同一符号により示されている。
同一符号により示されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】図４に示されている噴
流めっき装置の場合、めっきをするにつれて陽極１６が
溶解し、徐々に変形するため、被めっき面での電流分布
の変化と、めっき液の流れの方向性により、めっき膜厚
の均一化が困難であるという欠点があった。また、陽極
１６がめっきチャンバ７内にあるため、その交換に手間
を要するという欠点があった。
流めっき装置の場合、めっきをするにつれて陽極１６が
溶解し、徐々に変形するため、被めっき面での電流分布
の変化と、めっき液の流れの方向性により、めっき膜厚
の均一化が困難であるという欠点があった。また、陽極
１６がめっきチャンバ７内にあるため、その交換に手間
を要するという欠点があった。
【０００９】また、図５に示されている噴流めっき装置
では、めっきチャンバ７と循環ポンプ３との間にアノー
ドボックス２を設けているので、被めっき面までの距離
が離れ、抵抗が高くなるため、大きなめっき電流が流せ
なくなり、めっき時間が長くなるという欠点があった。
では、めっきチャンバ７と循環ポンプ３との間にアノー
ドボックス２を設けているので、被めっき面までの距離
が離れ、抵抗が高くなるため、大きなめっき電流が流せ
なくなり、めっき時間が長くなるという欠点があった。
【００１０】さらにまた、図６に示されているめっき装
置では、ノズル群２１と被めっき面とを平行に、かつ相
対的に２次元揺動させることで、液流分布を均一にし、
電流分布の均一性を高めることができるが、電流分布の
制御をすることは困難である。よって、めっきすべきパ
ターンの配列や形状が異なる場合、ノズル群２１の配列
の変更や揺動軌跡の変更が必要であり、また、ノズル内
に陽極１６があるため、その交換に手間を要するという
欠点があった。
置では、ノズル群２１と被めっき面とを平行に、かつ相
対的に２次元揺動させることで、液流分布を均一にし、
電流分布の均一性を高めることができるが、電流分布の
制御をすることは困難である。よって、めっきすべきパ
ターンの配列や形状が異なる場合、ノズル群２１の配列
の変更や揺動軌跡の変更が必要であり、また、ノズル内
に陽極１６があるため、その交換に手間を要するという
欠点があった。
【００１１】本発明は上述した従来の欠点を解決するた
めになされたものであり、その目的は膜厚の均一なめっ
きを得ることのできる噴流めっき装置を提供することで
ある。
めになされたものであり、その目的は膜厚の均一なめっ
きを得ることのできる噴流めっき装置を提供することで
ある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明による噴流めっき
装置は、アノード片を収容するＮ個（Ｎは２以上の整
数、以下同じ）のアノードボックスと、このＮ個のアノ
ードボックスに対応して設けられ対応ボックス内のアノ
ード片に対して電気分解用の電力を供給するＮ個の電源
と、被めっき物に対してめっき液を噴出するためのＮ個
のノズルと、このＮ個のノズルに対応して設けられ対応
ノズルに対し前記アノードボックスを介して前記めっき
液を供給するＮ個のポンプとを有することを特徴とす
る。
装置は、アノード片を収容するＮ個（Ｎは２以上の整
数、以下同じ）のアノードボックスと、このＮ個のアノ
ードボックスに対応して設けられ対応ボックス内のアノ
ード片に対して電気分解用の電力を供給するＮ個の電源
と、被めっき物に対してめっき液を噴出するためのＮ個
のノズルと、このＮ個のノズルに対応して設けられ対応
ノズルに対し前記アノードボックスを介して前記めっき
液を供給するＮ個のポンプとを有することを特徴とす
る。
【００１３】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【００１４】図１は本発明による噴流めっき装置の一実
施例の構成を示す断面図であり、図４〜６と同等部分は
同一符号により示されている。図においては、アノード
ボールを収容する５個のアノードボックス２と、これ等
５個のアノードボックス２に対応して設けられ対応ボッ
クス内のアノード片に対して電気分解用の電力を供給す
る５個の電源１と、基板９等の被めっき物に対してめっ
き液４を噴出するための５個の噴出口（ノズル）１０
と、これら５個のノズル１０に対応して設けられ対応ノ
ズルに対しアノードボックス２を介してめっき液４を供
給する５個の循環ポンプ３とを含んで構成されている。
以下、詳細に説明する。
施例の構成を示す断面図であり、図４〜６と同等部分は
同一符号により示されている。図においては、アノード
ボールを収容する５個のアノードボックス２と、これ等
５個のアノードボックス２に対応して設けられ対応ボッ
クス内のアノード片に対して電気分解用の電力を供給す
る５個の電源１と、基板９等の被めっき物に対してめっ
き液４を噴出するための５個の噴出口（ノズル）１０
と、これら５個のノズル１０に対応して設けられ対応ノ
ズルに対しアノードボックス２を介してめっき液４を供
給する５個の循環ポンプ３とを含んで構成されている。
以下、詳細に説明する。
【００１５】めっき液４を溜めるめっき槽５上部に、め
っきチャンバ７を吊手６で設置する。めっきチャンバ７
は噴出口１０を５個持ち、５本の配管１１によって、め
っき槽５と噴出口１０とが接続されている。それぞれの
配管１１の途中には、循環ポンプ３とアノードボックス
２とが設置されている。５個のアノードボックス２は、
５個のめっき電源１と１対１対応で接続されている。め
っきチャンバ７の上部には、基板９を設置するためのフ
レーム８が取付けられている。
っきチャンバ７を吊手６で設置する。めっきチャンバ７
は噴出口１０を５個持ち、５本の配管１１によって、め
っき槽５と噴出口１０とが接続されている。それぞれの
配管１１の途中には、循環ポンプ３とアノードボックス
２とが設置されている。５個のアノードボックス２は、
５個のめっき電源１と１対１対応で接続されている。め
っきチャンバ７の上部には、基板９を設置するためのフ
レーム８が取付けられている。
【００１６】図２はアノードボックス２の内部構成を示
す断面図である。アノードボックス２の内部は中空であ
り、その中には可溶性の陽極であるアノードボール１４
を入れるためのメッシュ状のチタンケース１３を有す
る。めっき電源１の正極はチタンケース１３に接続され
ている。なお、アノードボール１４には純銅、ニッケル
等が用いられる。
す断面図である。アノードボックス２の内部は中空であ
り、その中には可溶性の陽極であるアノードボール１４
を入れるためのメッシュ状のチタンケース１３を有す
る。めっき電源１の正極はチタンケース１３に接続され
ている。なお、アノードボール１４には純銅、ニッケル
等が用いられる。
【００１７】チタンケース１３の外側には陽極スライム
がめっき液４中に混入するのを防ぐため、アノードバッ
ク１２が取付けられている。アノードボックス２の上部
はアノードボール１４の補充、交換ができるように開閉
可能であり、また、エア抜き用のバルブ１５が取付けら
れている。
がめっき液４中に混入するのを防ぐため、アノードバッ
ク１２が取付けられている。アノードボックス２の上部
はアノードボール１４の補充、交換ができるように開閉
可能であり、また、エア抜き用のバルブ１５が取付けら
れている。
【００１８】また、図３はめっきチャンバ７にフレーム
８を付けた様子を示す平面図である。５個設けられてい
る噴出口１０の大きさ、形状、位置等は基板の形状、大
きさ、配線パターン等に応じて任意に決めることができ
る。
８を付けた様子を示す平面図である。５個設けられてい
る噴出口１０の大きさ、形状、位置等は基板の形状、大
きさ、配線パターン等に応じて任意に決めることができ
る。
【００１９】次に、かかる構成とされためっき装置の動
作について説明する。まず、基板９をフレーム８上に設
置し、めっき電源１の負極と接続させる。５個の循環ポ
ンプ３によって、めっき液４を５個のアノードボックス
２を通して、めっきチャンバ７の噴出口１０より噴出さ
せて、基板９に当てる。
作について説明する。まず、基板９をフレーム８上に設
置し、めっき電源１の負極と接続させる。５個の循環ポ
ンプ３によって、めっき液４を５個のアノードボックス
２を通して、めっきチャンバ７の噴出口１０より噴出さ
せて、基板９に当てる。
【００２０】アノードボックス２内では、アノードボー
ル１４がめっき液中に沈むように、バルブ１５でエア抜
きを行い、液面を調整する。めっき液４はフレーム８の
外側から落下し、下のめっき槽５へ戻る。このとき、め
っきチャンバ７内の液流分布が均一になるように５個の
循環ポンプ３の流量（めっき液の供給量）をそれぞれ調
整する。
ル１４がめっき液中に沈むように、バルブ１５でエア抜
きを行い、液面を調整する。めっき液４はフレーム８の
外側から落下し、下のめっき槽５へ戻る。このとき、め
っきチャンバ７内の液流分布が均一になるように５個の
循環ポンプ３の流量（めっき液の供給量）をそれぞれ調
整する。
【００２１】基板９上のパターンの形状や配列等を考慮
に入れ、基板９上の電流分布が均一になるように５個の
めっき電源１における電流条件をそれぞれ決定する。必
要電気量を給電後、循環ポンプ３を止め、めっき作業を
終了する。
に入れ、基板９上の電流分布が均一になるように５個の
めっき電源１における電流条件をそれぞれ決定する。必
要電気量を給電後、循環ポンプ３を止め、めっき作業を
終了する。
【００２２】以上説明したように本実施例の装置は、５
個の循環ポンプの流量を夫々調整できるようにしたので
基板にめっき液を均一に当てることができる。また、複
数の電源をもつため、基板表面の電流分布の制御が可能
となる。よって、基板上のパターンの配列や形状が異な
る場合でも、めっき条件出しが容易となり、かつ膜厚の
均一なめっきが得られる。また、アノードをめっきチャ
ンバ外側の配管に設置するようにしているが、５カ所に
分散させたため、アノードボールの補充、交換が容易で
あるまま、めっきの高速化も図れる。
個の循環ポンプの流量を夫々調整できるようにしたので
基板にめっき液を均一に当てることができる。また、複
数の電源をもつため、基板表面の電流分布の制御が可能
となる。よって、基板上のパターンの配列や形状が異な
る場合でも、めっき条件出しが容易となり、かつ膜厚の
均一なめっきが得られる。また、アノードをめっきチャ
ンバ外側の配管に設置するようにしているが、５カ所に
分散させたため、アノードボールの補充、交換が容易で
あるまま、めっきの高速化も図れる。
【００２３】なお、以上は循環ポンプ、めっき電源、ア
ノードボックス等が５個の場合について説明したが、こ
れに限らず、各ポンプボックス、電源等を対応させて夫
々独立に制御できる構成にすれば、同様の効果が得られ
ることは明らかである。
ノードボックス等が５個の場合について説明したが、こ
れに限らず、各ポンプボックス、電源等を対応させて夫
々独立に制御できる構成にすれば、同様の効果が得られ
ることは明らかである。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、アノード
ボックス、めっき電源、ノズル及び循環ポンプを各々対
応させて設け、めっき電源による供給電力、循環ポンプ
によるめっき液の供給量を夫々独立に制御することによ
り、膜圧の均一なめっきを得ることができるという効果
がある。
ボックス、めっき電源、ノズル及び循環ポンプを各々対
応させて設け、めっき電源による供給電力、循環ポンプ
によるめっき液の供給量を夫々独立に制御することによ
り、膜圧の均一なめっきを得ることができるという効果
がある。
【図１】本発明の実施例による噴流めっき装置の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図２】図１におけるアノードボックスの内部構成を示
す断面図である。
す断面図である。
【図３】図１におけるめっきチャンバにフレームを付け
た様子を示す平面図である。
た様子を示す平面図である。
【図４】従来の噴流めっき装置の構成を示す断面図であ
る。
る。
【図５】従来の噴流めっき装置の他の構成を示す断面図
である。
である。
【図６】従来の噴流めっき装置の他の構成を示す断面図
である。
である。
１ めっき電源 ２ アノードボックス ３ 循環ポンプ ４ めっき液 ５ めっき槽 ７ めっきチャンバ ９ 基板 １０ 噴出口 １１ 配管 １４ アノードボール
Claims (3)
- 【請求項１】 アノード片を収容するＮ個（Ｎは２以上
の整数、以下同じ）のアノードボックスと、このＮ個の
アノードボックスに対応して設けられ対応ボックス内の
アノード片に対して電気分解用の電力を供給するＮ個の
電源と、被めっき物に対してめっき液を噴出するための
Ｎ個のノズルと、このＮ個のノズルに対応して設けられ
対応ノズルに対し前記アノードボックスを介して前記め
っき液を供給するＮ個のポンプとを有することを特徴と
する噴流めっき装置。 - 【請求項２】 前記Ｎ個の電源による供給電力を夫々独
立に制御自在としたことを特徴とする請求項１記載の噴
流めっき装置。 - 【請求項３】 前記Ｎ個のポンプによるめっき液の供給
量を夫々独立に制御自在としたことを特徴とする請求項
１又は２記載の噴流めっき装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5276105A JP2541481B2 (ja) | 1993-10-06 | 1993-10-06 | 噴流めっき装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5276105A JP2541481B2 (ja) | 1993-10-06 | 1993-10-06 | 噴流めっき装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07109599A JPH07109599A (ja) | 1995-04-25 |
| JP2541481B2 true JP2541481B2 (ja) | 1996-10-09 |
Family
ID=17564872
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5276105A Expired - Lifetime JP2541481B2 (ja) | 1993-10-06 | 1993-10-06 | 噴流めっき装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2541481B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6848930B2 (en) | 2003-01-15 | 2005-02-01 | Shimano, Inc. | Electrical connector with resilient retaining ring to restrict radial expansion |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB0005886D0 (en) * | 2000-03-13 | 2000-05-03 | Lowe John M | Elector-plating apparatus and method |
-
1993
- 1993-10-06 JP JP5276105A patent/JP2541481B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6848930B2 (en) | 2003-01-15 | 2005-02-01 | Shimano, Inc. | Electrical connector with resilient retaining ring to restrict radial expansion |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07109599A (ja) | 1995-04-25 |
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