JPH08238858A - 受像シート材料、転写画像形成方法及び積層体 - Google Patents
受像シート材料、転写画像形成方法及び積層体Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 面積階調のみの熱転写方式で記録感度、ドッ
ト品質、階調再現性に優れ、ベトツキ、スティッキング
現象の無く、更に記録感度の湿度依存性も少なく印刷物
近似性の良い多階調高品質カラー画質の形成を達成しう
る感熱転写記録用受像シート材料及びそれを用いた転写
画像形成方法を提供する。 【構成】 熱転写可能なインキ層を有する転写材料から
受像シート材料上にインキ層を転写し、次いで永久支持
体上に再転写する転写画像の形成に用いる受像シート材
料において、該受像シート材料が、支持体上に少なくと
も２層の受像層を有し、該受像層の少なくとも１層が永
久支持体に転写され、少なくとも該インキ層が転写され
る受像層がポリビニルアセタール樹脂中の水酸基の０．
１〜１当量を下記一般式（Ｉ）で示される基に変換した
樹脂を含有する。 −Ｏ−Ｗ （Ｉ）
ト品質、階調再現性に優れ、ベトツキ、スティッキング
現象の無く、更に記録感度の湿度依存性も少なく印刷物
近似性の良い多階調高品質カラー画質の形成を達成しう
る感熱転写記録用受像シート材料及びそれを用いた転写
画像形成方法を提供する。 【構成】 熱転写可能なインキ層を有する転写材料から
受像シート材料上にインキ層を転写し、次いで永久支持
体上に再転写する転写画像の形成に用いる受像シート材
料において、該受像シート材料が、支持体上に少なくと
も２層の受像層を有し、該受像層の少なくとも１層が永
久支持体に転写され、少なくとも該インキ層が転写され
る受像層がポリビニルアセタール樹脂中の水酸基の０．
１〜１当量を下記一般式（Ｉ）で示される基に変換した
樹脂を含有する。 −Ｏ−Ｗ （Ｉ）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、感熱転写記録システム
において有用な受像シート材料、及び色材を含有する感
熱インキ層を熱ヘッドを用い、あるいはレーザー光を照
射して受像シート材料上に転写して画像を形成し、次い
で再転写して永久支持体上に画像を形成する画像形成方
法に関する。本発明の方法による画像は、特に印刷物近
似性に優れ、品質が高い。
において有用な受像シート材料、及び色材を含有する感
熱インキ層を熱ヘッドを用い、あるいはレーザー光を照
射して受像シート材料上に転写して画像を形成し、次い
で再転写して永久支持体上に画像を形成する画像形成方
法に関する。本発明の方法による画像は、特に印刷物近
似性に優れ、品質が高い。
【０００２】
【従来の技術】近年ＯＡ化の進展に伴い、電子写真方
式、インクジェット方式、感熱転写記録方式等の各種記
録方式を利用した複写機やプリンタ等がそれぞれの用途
に応じて用いられている。この画像形成には色材が用い
られ、通常、色材を含む組成物を溶融し、あるいは色材
を蒸発、昇華させて粘着、吸着、染着等の作用により記
録媒体、例えば紙やフィルムシート等の上に画像を得て
いる。
式、インクジェット方式、感熱転写記録方式等の各種記
録方式を利用した複写機やプリンタ等がそれぞれの用途
に応じて用いられている。この画像形成には色材が用い
られ、通常、色材を含む組成物を溶融し、あるいは色材
を蒸発、昇華させて粘着、吸着、染着等の作用により記
録媒体、例えば紙やフィルムシート等の上に画像を得て
いる。
【０００３】これらのうち、特に感熱転写記録方式は操
作や保守が容易であること、装置の小型化、低コスト化
が可能であること等の利点を有している。この感熱転写
記録方式には、以下の２種類が従来から知られている。
即ち、支持体上に熱溶融性インク層を有する転写シート
をレーザーあるいは熱ヘッドによりイメージワイズに
（像様に）加熱して、該溶融性インクを感熱転写記録用
受像シートに溶融転写する熱溶融型転写方式と、支持体
上に熱拡散性色素（昇華性色素）を含むインク層を有す
る感熱転写記録用インクシートを用いて、感熱転写記録
用受像シートに前記熱拡散性色素を拡散転写する昇華型
染料転写方式の２種類である。
作や保守が容易であること、装置の小型化、低コスト化
が可能であること等の利点を有している。この感熱転写
記録方式には、以下の２種類が従来から知られている。
即ち、支持体上に熱溶融性インク層を有する転写シート
をレーザーあるいは熱ヘッドによりイメージワイズに
（像様に）加熱して、該溶融性インクを感熱転写記録用
受像シートに溶融転写する熱溶融型転写方式と、支持体
上に熱拡散性色素（昇華性色素）を含むインク層を有す
る感熱転写記録用インクシートを用いて、感熱転写記録
用受像シートに前記熱拡散性色素を拡散転写する昇華型
染料転写方式の２種類である。
【０００４】昇華型染料転写方式は、熱ヘッドの熱的エ
ネルギーの変化に応じて色素の転写量を変化させて画像
の階調をコントロールすることができるので、シアン、
マゼンタ、イエローの重ね記録を行うことによって、色
の濃淡に連続的な変化を有するカラー画像が得られる利
点がある。しかし、この方式には以下のような問題点が
ある。 主として濃度階調を利用して画像の階調を再現するも
のであり、写真に類似する階調を好む民生用の一部の目
的には適しているが、例えば面積階調のみで階調再現を
している印刷分野で使用されているカラープルーフ用途
には適していない。 画像形成が染料の昇華を利用しているため、出来上が
り画像のエッジシャープネスが十分ではなく、又、太線
に比べ細線のベタ濃度が低くなる。このことは特に文字
画像の品質に関して大きな問題点となる。 画像の耐久性が低く耐熱性や耐光性が要求される分野
への展開が限定される。 感熱記録感度が熱溶融型転写方式に比べて低いため、
将来期待されている高解像力サーマルヘッドを用いる高
速記録材料として適していない。 熱溶融型転写材料に比べ感材が高価である。
ネルギーの変化に応じて色素の転写量を変化させて画像
の階調をコントロールすることができるので、シアン、
マゼンタ、イエローの重ね記録を行うことによって、色
の濃淡に連続的な変化を有するカラー画像が得られる利
点がある。しかし、この方式には以下のような問題点が
ある。 主として濃度階調を利用して画像の階調を再現するも
のであり、写真に類似する階調を好む民生用の一部の目
的には適しているが、例えば面積階調のみで階調再現を
している印刷分野で使用されているカラープルーフ用途
には適していない。 画像形成が染料の昇華を利用しているため、出来上が
り画像のエッジシャープネスが十分ではなく、又、太線
に比べ細線のベタ濃度が低くなる。このことは特に文字
画像の品質に関して大きな問題点となる。 画像の耐久性が低く耐熱性や耐光性が要求される分野
への展開が限定される。 感熱記録感度が熱溶融型転写方式に比べて低いため、
将来期待されている高解像力サーマルヘッドを用いる高
速記録材料として適していない。 熱溶融型転写材料に比べ感材が高価である。
【０００５】一方、熱溶融型転写方式は昇華型染料転写
方式に比べて、感熱感度が高い、画像の耐光性が優れて
いる、材料が安価である、等の利点があるが、一般的に
以下のような欠点がある。 階調再現が濃度階調ではなく２値記録であるため多階
調性に劣る。 通常、低融点の結晶性ワックスをインク層の結合剤と
しているため熱印字の際の滲みにより解像力が低下し、
転写画像の強度が低い。 結晶性ワックス類を用いると結晶相の光散乱により透
明な画像が得難い。
方式に比べて、感熱感度が高い、画像の耐光性が優れて
いる、材料が安価である、等の利点があるが、一般的に
以下のような欠点がある。 階調再現が濃度階調ではなく２値記録であるため多階
調性に劣る。 通常、低融点の結晶性ワックスをインク層の結合剤と
しているため熱印字の際の滲みにより解像力が低下し、
転写画像の強度が低い。 結晶性ワックス類を用いると結晶相の光散乱により透
明な画像が得難い。
【０００６】このような状況に鑑み、本発明者等は従来
の昇華型染料転写方式や熱溶融型転写方式とは異なる、
２値記録の面積階調のみで多階調性の顔料カラー画像が
得られる新しい感熱記録材料として熱接着薄膜剥離方式
を先に提案した（特願平５−２６３６９５）。この方式
によれば、面積階調のみの顔料転写方式で従来の感熱転
写記録方式の問題点が大幅に改善された多階調高品質カ
ラー画像やモノクロ画像が達成され、これまでの民生用
のみならず印刷分野におけるカラープルーフ、版下原
稿、あるいは顔料の耐光性を活かしてカード分野、屋外
ディスプレー分野、メーターディスプレー分野などへの
展開が可能となる。
の昇華型染料転写方式や熱溶融型転写方式とは異なる、
２値記録の面積階調のみで多階調性の顔料カラー画像が
得られる新しい感熱記録材料として熱接着薄膜剥離方式
を先に提案した（特願平５−２６３６９５）。この方式
によれば、面積階調のみの顔料転写方式で従来の感熱転
写記録方式の問題点が大幅に改善された多階調高品質カ
ラー画像やモノクロ画像が達成され、これまでの民生用
のみならず印刷分野におけるカラープルーフ、版下原
稿、あるいは顔料の耐光性を活かしてカード分野、屋外
ディスプレー分野、メーターディスプレー分野などへの
展開が可能となる。
【０００７】一方、これら各種の感熱転写記録材料に使
用される被転写材についても種々の提案がなされてい
る。昇華型染料転写方式の受像媒体としては普通紙を用
いた場合には特に染着が起こり難く記録像の濃度が低い
ばかりでなく、経時によって著しく褪色現象を起こして
しまう。そのため、熱可塑性樹脂を主成分とする受像層
を普通紙上に設けた受像紙も提案されており、記録感
度、解像度、鮮明度、色濃度、等の改良が種々検討され
てきている。また、熱溶融型転写方式の被転写材につい
ても普通紙の使用が原理的には可能であるが転写表面の
平滑性やインク受理性に起因して転写ムラやドット抜け
等の欠点が生じ易く難点となっている。したがって、表
面平滑性、インクの転写受理性、定着性、階調性、鮮鋭
性、等を改良すべく種々の受像材料が検討されてきてい
る。ここでこれら各種の受像媒体の支持体としては普通
紙、合成紙、合成樹脂フィルムあるいは白色顔料等を充
填した白色ベース、等の専用の被転写材が使われてい
る。したがってこの方法では画像形成が可能な被転写材
は受像層が設けてある専用の紙あるいは樹脂シート等に
限定されるので、印刷物近似性を要求されるプルーフ用
途には品質が不十分であった。又、任意の所望する被転
写支持体に記録画像を転写する方法も公知である。特開
昭５２−２７６４２には転写層を中間受容体に加熱付着
させ、次にこの付着した転写物を紙等の被転写物に転写
する方法が記載されているが画像品質向上に関しては何
ら述べられていない。
用される被転写材についても種々の提案がなされてい
る。昇華型染料転写方式の受像媒体としては普通紙を用
いた場合には特に染着が起こり難く記録像の濃度が低い
ばかりでなく、経時によって著しく褪色現象を起こして
しまう。そのため、熱可塑性樹脂を主成分とする受像層
を普通紙上に設けた受像紙も提案されており、記録感
度、解像度、鮮明度、色濃度、等の改良が種々検討され
てきている。また、熱溶融型転写方式の被転写材につい
ても普通紙の使用が原理的には可能であるが転写表面の
平滑性やインク受理性に起因して転写ムラやドット抜け
等の欠点が生じ易く難点となっている。したがって、表
面平滑性、インクの転写受理性、定着性、階調性、鮮鋭
性、等を改良すべく種々の受像材料が検討されてきてい
る。ここでこれら各種の受像媒体の支持体としては普通
紙、合成紙、合成樹脂フィルムあるいは白色顔料等を充
填した白色ベース、等の専用の被転写材が使われてい
る。したがってこの方法では画像形成が可能な被転写材
は受像層が設けてある専用の紙あるいは樹脂シート等に
限定されるので、印刷物近似性を要求されるプルーフ用
途には品質が不十分であった。又、任意の所望する被転
写支持体に記録画像を転写する方法も公知である。特開
昭５２−２７６４２には転写層を中間受容体に加熱付着
させ、次にこの付着した転写物を紙等の被転写物に転写
する方法が記載されているが画像品質向上に関しては何
ら述べられていない。
【０００８】特開昭６３−８２７８６には、塗工層材料
に含まれるブチラ−ル以外の塗膜を構成する材料とし
て、熱転写層に含まれるブチラ−ル樹脂と同様に他の樹
脂やワックス等を選ぶ技術が記載され、樹脂例としては
フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ロジン
やポリアミド樹脂、スルホンアミド樹脂等の記載がなさ
れているがこれらを使用した場合、特にロジンやポリア
ミド樹脂の場合は著しくシャドウ部がつぶれてしまった
り、ポリアミド樹脂を使用した場合は再現階調性に対す
る温湿度の影響が大きいといった問題が有った。また、
添加量が多いと著しく受像層表面がベトツキ、ゴミ欠陥
やむらが増大する問題点があった。
に含まれるブチラ−ル以外の塗膜を構成する材料とし
て、熱転写層に含まれるブチラ−ル樹脂と同様に他の樹
脂やワックス等を選ぶ技術が記載され、樹脂例としては
フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ロジン
やポリアミド樹脂、スルホンアミド樹脂等の記載がなさ
れているがこれらを使用した場合、特にロジンやポリア
ミド樹脂の場合は著しくシャドウ部がつぶれてしまった
り、ポリアミド樹脂を使用した場合は再現階調性に対す
る温湿度の影響が大きいといった問題が有った。また、
添加量が多いと著しく受像層表面がベトツキ、ゴミ欠陥
やむらが増大する問題点があった。
【０００９】このように、感熱転写記録材料の被転写材
としてはこれまでに種々の受像シート材料が提案されて
いるが、面積階調のみの熱転写方式で記録感度、ドット
品質、階調再現性に優れた画像を得るにはいずれも不充
分であった。特に熱記録感度を高くしようとすると受像
層の熱接着温度を低くし粘着性が増す方向になり、ベト
ツキによるスティッキング現象の発生や記録後の画像保
存での耐接着性に問題が生ずる。このため、特に多階調
高品質カラー画像、例えば色校正用のカラープルーフと
して使用する場合には印刷本紙の質感再現、等の印刷物
近似性にも大きな問題があった。
としてはこれまでに種々の受像シート材料が提案されて
いるが、面積階調のみの熱転写方式で記録感度、ドット
品質、階調再現性に優れた画像を得るにはいずれも不充
分であった。特に熱記録感度を高くしようとすると受像
層の熱接着温度を低くし粘着性が増す方向になり、ベト
ツキによるスティッキング現象の発生や記録後の画像保
存での耐接着性に問題が生ずる。このため、特に多階調
高品質カラー画像、例えば色校正用のカラープルーフと
して使用する場合には印刷本紙の質感再現、等の印刷物
近似性にも大きな問題があった。
【００１０】更に、熱転写インキ層についても検討がな
され、例えば特開平５−２５４２５６には、ポリアミド
樹脂（ナイロン）バインダー中に顔料を添加したトナ−
層処方の記載がなされているが、この様なトナ−層では
ナイロンの凝集力が高いことによりドットのきれが悪
く、更に階調再現性や温湿度変化に弱いといった問題点
が有った。
され、例えば特開平５−２５４２５６には、ポリアミド
樹脂（ナイロン）バインダー中に顔料を添加したトナ−
層処方の記載がなされているが、この様なトナ−層では
ナイロンの凝集力が高いことによりドットのきれが悪
く、更に階調再現性や温湿度変化に弱いといった問題点
が有った。
【００１１】この様に記録感度、ドット品質（網点形
状）、諧調再現性（網点再現性）が良く、ベタツキやス
ティキング、ゴミ欠陥も無く、更に記録感度の湿度依存
性も少なく印刷物近似性の良い画像を提供することがで
きる様な優れた多階調高品質カラー画像の形成が可能な
感熱転写記録用受像シート材料は知られていない。
状）、諧調再現性（網点再現性）が良く、ベタツキやス
ティキング、ゴミ欠陥も無く、更に記録感度の湿度依存
性も少なく印刷物近似性の良い画像を提供することがで
きる様な優れた多階調高品質カラー画像の形成が可能な
感熱転写記録用受像シート材料は知られていない。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、面積
階調のみの熱転写方式で記録感度、ドット品質、階調再
現性に優れ、ベトツキ、スティッキング現象やゴミ欠陥
が無く、更に湿度依存性の無い多階調高品質カラー画像
の形成を達成しうる感熱転写記録用受像シート材料及び
それを用いた転写画像形成方法を提供することにある。
さらには印刷本紙に転写が可能で印刷本紙の質感再現、
画像の光沢、等の印刷物近似性に優れた感熱転写記録用
受像シート材料及び転写画像形成方法を提供することに
ある。
階調のみの熱転写方式で記録感度、ドット品質、階調再
現性に優れ、ベトツキ、スティッキング現象やゴミ欠陥
が無く、更に湿度依存性の無い多階調高品質カラー画像
の形成を達成しうる感熱転写記録用受像シート材料及び
それを用いた転写画像形成方法を提供することにある。
さらには印刷本紙に転写が可能で印刷本紙の質感再現、
画像の光沢、等の印刷物近似性に優れた感熱転写記録用
受像シート材料及び転写画像形成方法を提供することに
ある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、熱転写
可能なインキ層を有する転写材料から受像シート材料上
にインキ層を熱転写し、次いで永久支持体上に再転写す
る転写画像の形成に用いる受像シート材料において、該
受像シート材料が、支持体上に少なくとも２層の受像層
を有し、該受像層の少なくとも１層が永久支持体に転写
され、少なくとも該インキ層が転写される受像層がポリ
ビニルアセタール樹脂中の水酸基の０．１〜１当量を下
記一般式（Ｉ）で示される基に変換した樹脂を含有する
事を特徴とする受像シート材料により達成された。 −Ｏ−Ｗ （Ｉ） 〔式中、Ｗは−ＣＯＮＨ−Ｙ1、−ＣＯＯ−Ｙ2、−
Ｙ3、−ＳｉＹ4Ｙ5Ｙ6、ＳＯ 2Ｙ7、−ＣＯ−Ｚ1−ＣＯ
ＯＨ、−ＣＯＣＨ2ＣＯＭｅ、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、Ｙ4、
Ｙ 5、Ｙ6、Ｙ7は炭素数１〜２０の１価の有機基、Ｚ1は
炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。〕以下、本発明
を詳細に説明する。
可能なインキ層を有する転写材料から受像シート材料上
にインキ層を熱転写し、次いで永久支持体上に再転写す
る転写画像の形成に用いる受像シート材料において、該
受像シート材料が、支持体上に少なくとも２層の受像層
を有し、該受像層の少なくとも１層が永久支持体に転写
され、少なくとも該インキ層が転写される受像層がポリ
ビニルアセタール樹脂中の水酸基の０．１〜１当量を下
記一般式（Ｉ）で示される基に変換した樹脂を含有する
事を特徴とする受像シート材料により達成された。 −Ｏ−Ｗ （Ｉ） 〔式中、Ｗは−ＣＯＮＨ−Ｙ1、−ＣＯＯ−Ｙ2、−
Ｙ3、−ＳｉＹ4Ｙ5Ｙ6、ＳＯ 2Ｙ7、−ＣＯ−Ｚ1−ＣＯ
ＯＨ、−ＣＯＣＨ2ＣＯＭｅ、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、Ｙ4、
Ｙ 5、Ｙ6、Ｙ7は炭素数１〜２０の１価の有機基、Ｚ1は
炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。〕以下、本発明
を詳細に説明する。
【００１４】受像シートの支持体としては、化学的及び
熱的に安定であり、かつ撓曲性を有する物質が用いられ
る。必要に応じて化学光線透過性であってもよい。具体
的には、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィル
ム、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフイン
類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロ
ゲン化ビニル類、セルロースアセテート、ニトロセルロ
ース、セロハン等のセルロース誘導体、ポリアミド類、
ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド類、場合
によりポリエチレンフイルムをラミネートした紙なども
使用可能である。これらの中で特に好ましい物は、寸度
安定性及び透過性において優れた２軸延伸ポリエチレン
テレフタレートフイルムであるが、これらに限定される
ものではない。また、支持体の上に少なくとも２層を設
けるが、好ましくは支持体に接する層（以下受像一層と
記す）及びその上に設ける層（以下受像二層と記す）か
らなることが好ましい。
熱的に安定であり、かつ撓曲性を有する物質が用いられ
る。必要に応じて化学光線透過性であってもよい。具体
的には、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィル
ム、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフイン
類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロ
ゲン化ビニル類、セルロースアセテート、ニトロセルロ
ース、セロハン等のセルロース誘導体、ポリアミド類、
ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド類、場合
によりポリエチレンフイルムをラミネートした紙なども
使用可能である。これらの中で特に好ましい物は、寸度
安定性及び透過性において優れた２軸延伸ポリエチレン
テレフタレートフイルムであるが、これらに限定される
ものではない。また、支持体の上に少なくとも２層を設
けるが、好ましくは支持体に接する層（以下受像一層と
記す）及びその上に設ける層（以下受像二層と記す）か
らなることが好ましい。
【００１５】これら支持体と受像一層の接着力をあげる
為にコロナ放電処理、グロー放電処理などの表面処理や
あるいはアンダーコート層を設けることも可能である。
アンダーコート層としては支持体と受像一層の接着力を
上げるものなら限定はないが、特にシランカップリング
剤等が好適である。
為にコロナ放電処理、グロー放電処理などの表面処理や
あるいはアンダーコート層を設けることも可能である。
アンダーコート層としては支持体と受像一層の接着力を
上げるものなら限定はないが、特にシランカップリング
剤等が好適である。
【００１６】次に受像一層について説明する。受像一層
の弾性率は２００ｋｇ・ｆ／ｃｍ2以下であることが好
ましい。この理由は弾性率の小さいポリマーを用いるこ
とにより受像層にクッション性が生じて、記録感度、ド
ット品質、階調再現性の向上が得られる。さらに記録す
る際に感熱記録材料と受像シート材料の間にゴミ等の異
物が存在した場合にも受像一層のクッション性がある為
に画像欠陥になりにくいという利点がある。また、画像
を受像シート材料に転写後、紙などの印刷本紙上に熱と
圧で再転写する際に該層が紙の凹凸に従って埋め込まれ
るので、紙との密着をよくし、受像二層を剥離した後に
表面をマット化等の特別な処理をしなくとも表面光沢が
印刷物に近似した画像が得られる。
の弾性率は２００ｋｇ・ｆ／ｃｍ2以下であることが好
ましい。この理由は弾性率の小さいポリマーを用いるこ
とにより受像層にクッション性が生じて、記録感度、ド
ット品質、階調再現性の向上が得られる。さらに記録す
る際に感熱記録材料と受像シート材料の間にゴミ等の異
物が存在した場合にも受像一層のクッション性がある為
に画像欠陥になりにくいという利点がある。また、画像
を受像シート材料に転写後、紙などの印刷本紙上に熱と
圧で再転写する際に該層が紙の凹凸に従って埋め込まれ
るので、紙との密着をよくし、受像二層を剥離した後に
表面をマット化等の特別な処理をしなくとも表面光沢が
印刷物に近似した画像が得られる。
【００１７】具体例としてはポリエチレン、ポリプロピ
レンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニルある
いはエチレンとアクリル酸エステルの如きエチレン共重
合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルの如き
塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリ
デン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、共重
合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロンの如きポ
リアミド樹脂、合成ゴム、塩化ゴム等の有機高分子物質
から少なくとも１つ選ばれるのが好ましい。これらの中
で特に重合度が２００〜２０００の、ポリ塩化ビニル、
塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、塩化ビニルとビニ
ルアルコールの共重合体、塩化ビニルと酢酸ビニルとマ
レイン酸の共重合体等が特に好適である。その理由とし
てポリ塩化ビニル及び塩化ビニル共重合体は（１）常温
での粘着性がほとんど無いこと、（２）弾性率が比較的
小さく、熱転写時に転写画像の凹凸に容易に追従可能な
こと、（３）相溶性の良好な可塑剤が豊富で実質的な弾
性率のコントロールが容易なこと、（４）共重合成分中
の水酸基あるいはカルボキシル基の効果で層間密着力の
コントロールが容易なこと、等が挙げられる。もちろん
これらの有機高分子中に受像シート支持体や、受像二層
との接着力を調整する為に、各種のポリマーや密着改良
剤あるいは界面活性剤や離型剤を加えることも可能であ
る。また弾性率を下げる目的で常温での粘着性が生じな
い範囲で粘着性ポリマーの一部併用も非常に有効であ
る。
レンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニルある
いはエチレンとアクリル酸エステルの如きエチレン共重
合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルの如き
塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリ
デン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、共重
合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロンの如きポ
リアミド樹脂、合成ゴム、塩化ゴム等の有機高分子物質
から少なくとも１つ選ばれるのが好ましい。これらの中
で特に重合度が２００〜２０００の、ポリ塩化ビニル、
塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、塩化ビニルとビニ
ルアルコールの共重合体、塩化ビニルと酢酸ビニルとマ
レイン酸の共重合体等が特に好適である。その理由とし
てポリ塩化ビニル及び塩化ビニル共重合体は（１）常温
での粘着性がほとんど無いこと、（２）弾性率が比較的
小さく、熱転写時に転写画像の凹凸に容易に追従可能な
こと、（３）相溶性の良好な可塑剤が豊富で実質的な弾
性率のコントロールが容易なこと、（４）共重合成分中
の水酸基あるいはカルボキシル基の効果で層間密着力の
コントロールが容易なこと、等が挙げられる。もちろん
これらの有機高分子中に受像シート支持体や、受像二層
との接着力を調整する為に、各種のポリマーや密着改良
剤あるいは界面活性剤や離型剤を加えることも可能であ
る。また弾性率を下げる目的で常温での粘着性が生じな
い範囲で粘着性ポリマーの一部併用も非常に有効であ
る。
【００１８】例えば、フッ素系の界面活性剤等を各層中
に利用することができ、添加により層間密着力が低下す
ると同時に熱転写インキ層と受像層表面の濡れ性が向上
し、ドット形状は良化する。但し、添加量が多すぎると
熱転写インキ層と受像層表面の接着力が低減するために
ドット形状が悪化してしまうので、離型剤や界面活性剤
の添加量は好ましくは０．０００１〜５％、特に好まし
くは０．００１〜３％である。塗布面状を良くするため
には、少量の界面活性剤の添加が好ましい。
に利用することができ、添加により層間密着力が低下す
ると同時に熱転写インキ層と受像層表面の濡れ性が向上
し、ドット形状は良化する。但し、添加量が多すぎると
熱転写インキ層と受像層表面の接着力が低減するために
ドット形状が悪化してしまうので、離型剤や界面活性剤
の添加量は好ましくは０．０００１〜５％、特に好まし
くは０．００１〜３％である。塗布面状を良くするため
には、少量の界面活性剤の添加が好ましい。
【００１９】塩化ビニル系樹脂を使用する場合には、ポ
リ塩化ビニル及び塩化ビニル共重合体の安定化剤として
一般に知られるブチル錫系安定剤あるいはオクチル錫系
安定剤等の有機錫系安定剤を添加することも有効であ
る。
リ塩化ビニル及び塩化ビニル共重合体の安定化剤として
一般に知られるブチル錫系安定剤あるいはオクチル錫系
安定剤等の有機錫系安定剤を添加することも有効であ
る。
【００２０】受像一層の厚さは１μｍ〜５０μｍが好ま
しく、特に５μｍ〜３０μｍが好ましい。この理由の１
つは受像シート材料上に転写された画像を永久支持体に
転写する場合に永久支持体の表面の凹凸より厚くする必
要があること、第２の理由は４色のカラー画像が重なる
部分のレリーフ段差を充分に吸収しうる厚みが必要な為
である。さらに第３の理由は充分なクッション性を得る
為である。
しく、特に５μｍ〜３０μｍが好ましい。この理由の１
つは受像シート材料上に転写された画像を永久支持体に
転写する場合に永久支持体の表面の凹凸より厚くする必
要があること、第２の理由は４色のカラー画像が重なる
部分のレリーフ段差を充分に吸収しうる厚みが必要な為
である。さらに第３の理由は充分なクッション性を得る
為である。
【００２１】次にこの上に設ける受像二層について説明
する。受像二層の目的は永久支持体への再転写時に受像
シート材料を剥離する際、受像一層と受像二層の間で層
間剥離をさせ、永久支持体上の画像上に薄い受像二層の
みを残し、永久支持体の凹凸により、特別なマット化処
理をほどこすことなく実際の印刷物の光沢に近似した画
像を得ることにある。さらに第２の目的は画像の耐傷性
の向上にある。従って、このような効果を有する限り、
受像二層が２層以上の積層された層により構成されてい
ても良い。
する。受像二層の目的は永久支持体への再転写時に受像
シート材料を剥離する際、受像一層と受像二層の間で層
間剥離をさせ、永久支持体上の画像上に薄い受像二層の
みを残し、永久支持体の凹凸により、特別なマット化処
理をほどこすことなく実際の印刷物の光沢に近似した画
像を得ることにある。さらに第２の目的は画像の耐傷性
の向上にある。従って、このような効果を有する限り、
受像二層が２層以上の積層された層により構成されてい
ても良い。
【００２２】受像二層の素材としては、ポリビニルアセ
タール樹脂中の水酸基の０．１〜１当量を下記一般式
（Ｉ）で示される基に変換した樹脂（以下、変性ポリビ
ニルアセタール樹脂と記す）が用いられる。 −Ｏ−Ｗ （Ｉ） 〔式中、Ｗは−ＣＯＮＨ−Ｙ1、−ＣＯＯ−Ｙ2、−
Ｙ3、−ＳｉＹ4Ｙ5Ｙ6、ＳＯ 2Ｙ7、−ＣＯ−Ｚ1−ＣＯ
ＯＨ、−ＣＯＣＨ2ＣＯＭｅ、 Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、Ｙ4、
Ｙ5、Ｙ6、Ｙ7は炭素数１〜２０の１価の有機基、Ｚ1は
炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。〕
タール樹脂中の水酸基の０．１〜１当量を下記一般式
（Ｉ）で示される基に変換した樹脂（以下、変性ポリビ
ニルアセタール樹脂と記す）が用いられる。 −Ｏ−Ｗ （Ｉ） 〔式中、Ｗは−ＣＯＮＨ−Ｙ1、−ＣＯＯ−Ｙ2、−
Ｙ3、−ＳｉＹ4Ｙ5Ｙ6、ＳＯ 2Ｙ7、−ＣＯ−Ｚ1−ＣＯ
ＯＨ、−ＣＯＣＨ2ＣＯＭｅ、 Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、Ｙ4、
Ｙ5、Ｙ6、Ｙ7は炭素数１〜２０の１価の有機基、Ｚ1は
炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。〕
【００２３】Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、Ｙ4、Ｙ5、Ｙ6、Ｙ7は炭
素数１〜２０の１価の有機基であれば特に限定は無いが
具体例としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プ
ロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ
−ブチル、アミル、ｎ−ヘキシル、２−エチルヘキシ
ル、デシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ビニル、
アリル、２−メトキシエチル、２−エトキシエチル、２
−メトキシプロピル、２−クロロエチル、トリクロロエ
チル、メトキシエトキシエチル、シアノエチル、２−ア
ミノカルボニルエチル、ベンジル、フェネチル、メトキ
シベンジル、α−メチルベンジル、フェニル、ナフチ
ル、メトキシフェニル、フロロフェニル、トリル、スチ
リル、トリフロロメチルフェニル、ビニルベンジル、３
−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２
−ヒドロキシプロピル、アセチルメチル等が挙げられ
る。更にこれらの基に置換基を有していても良い。Ｚ1
は炭素数１〜２０の２価の有機基であれば特に限定は無
いが具体例としてはエチレン、プロピレン、ビニレン、
フェニレン、シクロヘキシレン、シクロヘキセレン等が
挙げられる。更にこれらの基に置換基を有していても良
い。
素数１〜２０の１価の有機基であれば特に限定は無いが
具体例としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プ
ロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ
−ブチル、アミル、ｎ−ヘキシル、２−エチルヘキシ
ル、デシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ビニル、
アリル、２−メトキシエチル、２−エトキシエチル、２
−メトキシプロピル、２−クロロエチル、トリクロロエ
チル、メトキシエトキシエチル、シアノエチル、２−ア
ミノカルボニルエチル、ベンジル、フェネチル、メトキ
シベンジル、α−メチルベンジル、フェニル、ナフチ
ル、メトキシフェニル、フロロフェニル、トリル、スチ
リル、トリフロロメチルフェニル、ビニルベンジル、３
−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２
−ヒドロキシプロピル、アセチルメチル等が挙げられ
る。更にこれらの基に置換基を有していても良い。Ｚ1
は炭素数１〜２０の２価の有機基であれば特に限定は無
いが具体例としてはエチレン、プロピレン、ビニレン、
フェニレン、シクロヘキシレン、シクロヘキセレン等が
挙げられる。更にこれらの基に置換基を有していても良
い。
【００２４】この様にポリビニルアセタール樹脂中の水
酸基の一部又は全部をその他の官能基に変換した樹脂を
熱転写材料に用いた例としては例えば特開昭６１−１４
９８３号公報、同６１−１４９９１号公報、同６１−１
４９９２号公報、同６２−２５９８８９号公報等にポリ
ビニルアセタール樹脂とイソシアネート類の付加物を用
いる記載が有る。しかしながらこれらのイソシアネート
類としては何れも多官能イソシアネート類の例しか記載
がなく、前記一般式（Ｉ）示される基に変換した樹脂と
は異なるものである。又、これらの例の樹脂は何れも支
持体上の熱転写層を有しない面に設けられるものであ
り、本発明の形態とは異なるものである。この他例えば
特開昭６１−２１１０９４号公報にはブチラール樹脂と
架橋剤の反応物を用いる記載が有る。しかしながらこの
場合においても前記一般式（Ｉ）示される基に変換した
樹脂とは異なるものである。又、この例の樹脂はインク
層の樹脂として用いられるものであり、本発明の形態と
は異なるものである。
酸基の一部又は全部をその他の官能基に変換した樹脂を
熱転写材料に用いた例としては例えば特開昭６１−１４
９８３号公報、同６１−１４９９１号公報、同６１−１
４９９２号公報、同６２−２５９８８９号公報等にポリ
ビニルアセタール樹脂とイソシアネート類の付加物を用
いる記載が有る。しかしながらこれらのイソシアネート
類としては何れも多官能イソシアネート類の例しか記載
がなく、前記一般式（Ｉ）示される基に変換した樹脂と
は異なるものである。又、これらの例の樹脂は何れも支
持体上の熱転写層を有しない面に設けられるものであ
り、本発明の形態とは異なるものである。この他例えば
特開昭６１−２１１０９４号公報にはブチラール樹脂と
架橋剤の反応物を用いる記載が有る。しかしながらこの
場合においても前記一般式（Ｉ）示される基に変換した
樹脂とは異なるものである。又、この例の樹脂はインク
層の樹脂として用いられるものであり、本発明の形態と
は異なるものである。
【００２５】本発明の変性ポリビニルアセタール樹脂は
ポリビニルアセタール樹脂を適当な溶剤中で、適当な官
能基を有する化合物、及び必要に応じて反応触媒を用い
る高分子反応によって合成可能である。ポリビニルアセ
タール樹脂とは、例えばポリビニルアルコールを少なく
とも１種の適当なアルデヒドとの反応によりアセタール
化した樹脂であり具体的にはポリビニルアセタール、ポ
リビニルホルマール、ポリビニルブチラールや部分的に
ホルマール化した部分を含むポリビニルブチラール、ポ
リビニルブチラールアセタール等の共重合アセタール等
がある。これらは例えば電気化学工業（株）製デンカブ
チラール＃２０００Ｌ、＃３０００−１、＃３０００−
Ｋ、＃４０００−１、＃５０００−Ａ、＃６０００−
Ｃ、デンカホルマール＃２０、＃１００、＃２００、積
水化学工業（株）製エスレックＢシリーズＢＬ−１、Ｂ
Ｌ−２、ＢＬ−Ｓ、ＢＭ−１、ＢＭ−２、ＢＨ−１、Ｂ
Ｘ−１、ＢＸ−１０、ＢＬ−１、ＢＬ−ＳＨ、ＢＸ−
Ｌ、エスレックＫシリーズＫＳ−１０等として入手が可
能である。又、これらの樹脂はその他の繰り返し単位を
含有していても良い。
ポリビニルアセタール樹脂を適当な溶剤中で、適当な官
能基を有する化合物、及び必要に応じて反応触媒を用い
る高分子反応によって合成可能である。ポリビニルアセ
タール樹脂とは、例えばポリビニルアルコールを少なく
とも１種の適当なアルデヒドとの反応によりアセタール
化した樹脂であり具体的にはポリビニルアセタール、ポ
リビニルホルマール、ポリビニルブチラールや部分的に
ホルマール化した部分を含むポリビニルブチラール、ポ
リビニルブチラールアセタール等の共重合アセタール等
がある。これらは例えば電気化学工業（株）製デンカブ
チラール＃２０００Ｌ、＃３０００−１、＃３０００−
Ｋ、＃４０００−１、＃５０００−Ａ、＃６０００−
Ｃ、デンカホルマール＃２０、＃１００、＃２００、積
水化学工業（株）製エスレックＢシリーズＢＬ−１、Ｂ
Ｌ−２、ＢＬ−Ｓ、ＢＭ−１、ＢＭ−２、ＢＨ−１、Ｂ
Ｘ−１、ＢＸ−１０、ＢＬ−１、ＢＬ−ＳＨ、ＢＸ−
Ｌ、エスレックＫシリーズＫＳ−１０等として入手が可
能である。又、これらの樹脂はその他の繰り返し単位を
含有していても良い。
【００２６】これらのポリビニルアセタール樹脂のアセ
タール化度は約５０〜８５ｍｏｌ％が好ましく、更に好
ましくは約６０〜８０ｍｏｌ％である。アセタール化度
が５０ｍｏｌ％未満では原料樹脂の溶解性が劣り、８５
ｍｏｌ％を越えるものは理論上合成が困難である。重合
度としては約５０〜２０００が好ましく、更に好ましく
は１００〜１０００である。重合度が５０未満のものは
合成が困難であり、２０００を越えるものは溶解性が劣
る。適当な溶剤としては例えばアセトン、メチルエチル
ケトン、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、クロロホル
ム、酢酸エチル、メトキシプロピルアセテート、ジエチ
ルエーテル、ジオキサン等が挙げられる。
タール化度は約５０〜８５ｍｏｌ％が好ましく、更に好
ましくは約６０〜８０ｍｏｌ％である。アセタール化度
が５０ｍｏｌ％未満では原料樹脂の溶解性が劣り、８５
ｍｏｌ％を越えるものは理論上合成が困難である。重合
度としては約５０〜２０００が好ましく、更に好ましく
は１００〜１０００である。重合度が５０未満のものは
合成が困難であり、２０００を越えるものは溶解性が劣
る。適当な溶剤としては例えばアセトン、メチルエチル
ケトン、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、クロロホル
ム、酢酸エチル、メトキシプロピルアセテート、ジエチ
ルエーテル、ジオキサン等が挙げられる。
【００２７】次に各官能基毎に変性ポリビニルアセター
ル樹脂の合成方法について述べる。ポリビニルアセター
ル樹脂中の水酸基の０．１〜１当量をウレタン基（−Ｏ
ＣＯＮＨ−Ｙ1 ）に変換した変性ポリビニルアセタール
樹脂は、例えばポリビニルアセタール樹脂と単官能イソ
シアネートとの付加反応により得られる。単官能イソシ
アネートの具体例としてはエチルイソシアネート、ｎ−
プロピルイソシアネート、ｉ−プロピルイソシアネー
ト、ブチルイソシアネート、オクタデシルイソシアネー
ト、シクロヘキシルイソシアネート、フェニルイソシア
ネート、３−ｉ−プロペニルクミルイソシアネート、４
−メトキシフェニルイソシアネート、２−フロロフェニ
ルイソシアネート、ｍ−トリルイソシアネート、ｐ−ト
リルイソシアネート、２−トリフロロメチルフェニルイ
ソシアネート、１−ナフチルイソシアネート、α−メチ
ルベンジルイソシアネート等が挙げられる。これらの反
応においてはジブチル錫ジアセテート等の錫触媒の使用
が有効である。反応温度としては室温から８０℃付近が
好ましい。
ル樹脂の合成方法について述べる。ポリビニルアセター
ル樹脂中の水酸基の０．１〜１当量をウレタン基（−Ｏ
ＣＯＮＨ−Ｙ1 ）に変換した変性ポリビニルアセタール
樹脂は、例えばポリビニルアセタール樹脂と単官能イソ
シアネートとの付加反応により得られる。単官能イソシ
アネートの具体例としてはエチルイソシアネート、ｎ−
プロピルイソシアネート、ｉ−プロピルイソシアネー
ト、ブチルイソシアネート、オクタデシルイソシアネー
ト、シクロヘキシルイソシアネート、フェニルイソシア
ネート、３−ｉ−プロペニルクミルイソシアネート、４
−メトキシフェニルイソシアネート、２−フロロフェニ
ルイソシアネート、ｍ−トリルイソシアネート、ｐ−ト
リルイソシアネート、２−トリフロロメチルフェニルイ
ソシアネート、１−ナフチルイソシアネート、α−メチ
ルベンジルイソシアネート等が挙げられる。これらの反
応においてはジブチル錫ジアセテート等の錫触媒の使用
が有効である。反応温度としては室温から８０℃付近が
好ましい。
【００２８】ポリビニルアセタール樹脂中の水酸基の
０．１〜１当量をカーボネート基（−ＯＣＯＯ−Ｙ2 ）
に変換した変性ポリビニルアセタール樹脂は例えばポリ
ビニルアセタール樹脂とハロギ酸エステルとの反応によ
り得られる。ハロギ酸エステルの具体例としてはクロロ
ギ酸メチル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸アリル、ク
ロロギ酸ｎ−プロピル、クロロギ酸ブチル、クロロギ酸
アミル、クロロギ酸ヘキシル、クロロギ酸−２−エチル
ヘキシル、クロロギ酸−２−クロロエチル、クロロギ酸
−２−メトキシエチル、クロロギ酸フェニル、クロロギ
酸−２−ナフチル等が挙げられる。これらの反応におい
てはトリエチルアミン、ピリジン、水酸化ナトリウム等
の塩基を併用する事が好ましい。反応温度としては０℃
〜４０℃付近が好ましい。
０．１〜１当量をカーボネート基（−ＯＣＯＯ−Ｙ2 ）
に変換した変性ポリビニルアセタール樹脂は例えばポリ
ビニルアセタール樹脂とハロギ酸エステルとの反応によ
り得られる。ハロギ酸エステルの具体例としてはクロロ
ギ酸メチル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸アリル、ク
ロロギ酸ｎ−プロピル、クロロギ酸ブチル、クロロギ酸
アミル、クロロギ酸ヘキシル、クロロギ酸−２−エチル
ヘキシル、クロロギ酸−２−クロロエチル、クロロギ酸
−２−メトキシエチル、クロロギ酸フェニル、クロロギ
酸−２−ナフチル等が挙げられる。これらの反応におい
てはトリエチルアミン、ピリジン、水酸化ナトリウム等
の塩基を併用する事が好ましい。反応温度としては０℃
〜４０℃付近が好ましい。
【００２９】ポリビニルアセタール樹脂中の水酸基の
０．１〜１当量をエーテル基（−ＯＹ 3 ）に変換した変
性ポリビニルアセタール樹脂は例えばポリビニルアセタ
ール樹脂又はこの樹脂の金属アルコラートと有機ハライ
ドとの反応によって得られる。有機ハライドの具体例と
してはヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ベンジルブロマイ
ド、ベンジルクロリド等が挙げられる。これらの反応に
おいては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナ
トリウム等の使用が有効である。反応温度としては室温
から１２０℃付近が好ましい。又ポリビニルアセタール
樹脂とアクリロニトリル等のα、β不飽和化合物やエポ
キシ化合物との付加反応によっても得られる。これらの
反応においては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ト
リエチルアミン、トリエチルベンジルアンモニウムクロ
ライド等の使用が有効である。反応温度としては室温か
ら１００℃付近が好ましい。
０．１〜１当量をエーテル基（−ＯＹ 3 ）に変換した変
性ポリビニルアセタール樹脂は例えばポリビニルアセタ
ール樹脂又はこの樹脂の金属アルコラートと有機ハライ
ドとの反応によって得られる。有機ハライドの具体例と
してはヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ベンジルブロマイ
ド、ベンジルクロリド等が挙げられる。これらの反応に
おいては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナ
トリウム等の使用が有効である。反応温度としては室温
から１２０℃付近が好ましい。又ポリビニルアセタール
樹脂とアクリロニトリル等のα、β不飽和化合物やエポ
キシ化合物との付加反応によっても得られる。これらの
反応においては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ト
リエチルアミン、トリエチルベンジルアンモニウムクロ
ライド等の使用が有効である。反応温度としては室温か
ら１００℃付近が好ましい。
【００３０】ポリビニルアセタール樹脂中の水酸基の
０．１〜１当量をシリルエーテル基（−ＯＳｉＹ4Ｙ5Ｙ
6 ）に変換した変性ポリビニルアセタール樹脂は例えば
ポリビニルアセタール樹脂とハロゲン化シランとの脱ハ
ロゲン化水素反応によって得られる。ハロゲン化シラン
の具体例としてはトリメチルシリルクロライド、ｔ−ブ
チルジメチルシリルクロライド等が挙げられる。これら
の反応においては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
トリエチルアミン、ピリジン等の使用が好ましい。反応
温度としては０℃から４０℃付近が好ましい。
０．１〜１当量をシリルエーテル基（−ＯＳｉＹ4Ｙ5Ｙ
6 ）に変換した変性ポリビニルアセタール樹脂は例えば
ポリビニルアセタール樹脂とハロゲン化シランとの脱ハ
ロゲン化水素反応によって得られる。ハロゲン化シラン
の具体例としてはトリメチルシリルクロライド、ｔ−ブ
チルジメチルシリルクロライド等が挙げられる。これら
の反応においては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
トリエチルアミン、ピリジン等の使用が好ましい。反応
温度としては０℃から４０℃付近が好ましい。
【００３１】ポリビニルアセタール樹脂中の水酸基の
０．１〜１当量を二塩基酸半エステル基（−ＯＣＯ−Ｚ
1−ＣＯＯＨ）に変換した変性ポリビニルアセタール樹
脂は例えばポリビニルアセタール樹脂と二塩基酸無水物
との付加反応によって得られる。二塩基酸無水物の具体
例としては無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタ
ル酸、無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水
物、シクロヘキセンジカルボン酸無水物等が挙げられ
る。これらの反応においてはトリエチルアミン、ピリジ
ン、ジメチルアミノピリジン等の使用が好ましい。反応
温度としては室温から１００℃付近が好ましい。
０．１〜１当量を二塩基酸半エステル基（−ＯＣＯ−Ｚ
1−ＣＯＯＨ）に変換した変性ポリビニルアセタール樹
脂は例えばポリビニルアセタール樹脂と二塩基酸無水物
との付加反応によって得られる。二塩基酸無水物の具体
例としては無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタ
ル酸、無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水
物、シクロヘキセンジカルボン酸無水物等が挙げられ
る。これらの反応においてはトリエチルアミン、ピリジ
ン、ジメチルアミノピリジン等の使用が好ましい。反応
温度としては室温から１００℃付近が好ましい。
【００３２】ポリビニルアセタール樹脂中の水酸基の
０．１〜１当量をアセトアセテート基（−ＯＣＯＣＨ2
ＣＯＭｅ）に変換した変性ポリビニルアセタール樹脂は
例えばポリビニルアセタール樹脂とジケテンとの付加反
応によって得られる。この反応においては酢酸ナトリウ
ム、イミダゾール等の使用が好ましい。反応温度として
は室温から８０℃付近が好ましい。
０．１〜１当量をアセトアセテート基（−ＯＣＯＣＨ2
ＣＯＭｅ）に変換した変性ポリビニルアセタール樹脂は
例えばポリビニルアセタール樹脂とジケテンとの付加反
応によって得られる。この反応においては酢酸ナトリウ
ム、イミダゾール等の使用が好ましい。反応温度として
は室温から８０℃付近が好ましい。
【００３３】これらの変性ポリビニルアセタール樹脂の
変性の割合（原料ポリビニルアセタール樹脂中の水酸基
に対する変換した官能基の当量）は０．１〜１当量が好
ましく、更に好ましくは０．２〜１当量である。０．１
当量未満では記録感度の湿度依存性が大きい。又これら
の反応の際には反応を効率的に進行させる為に反応試薬
を原料ポリビニルアセタール樹脂中の水酸基に対して１
当量以上用いる事も可能である。この場合においては反
応終了後に過剰の反応試薬を性能上で影響の無い範囲で
残存させたままでも、又必要に応じて精製除去しても良
い。また、一般にポリビニルアセタール樹脂中には水分
を含有する為、反応時には水との反応生成物も混入する
場合がある。この様な水との反応生成物は性能上で影響
の無い範囲で残存させたままでも、又必要に応じて精製
除去しても良く、又反応時又は反応前に脱水処理を施し
ても良い。これらの変性ポリビニルアセタール樹脂は単
独で用いても、あるいは２種以上の変性ポリビニルアセ
タール樹脂を併用してもよい。これらの変性ポリビニル
アセタール樹脂の含有量は、受像二層の全固形分中、好
ましくは４０重量％以上、より好ましくは５０重量％以
上、更に好ましくは６０重量％以上である。
変性の割合（原料ポリビニルアセタール樹脂中の水酸基
に対する変換した官能基の当量）は０．１〜１当量が好
ましく、更に好ましくは０．２〜１当量である。０．１
当量未満では記録感度の湿度依存性が大きい。又これら
の反応の際には反応を効率的に進行させる為に反応試薬
を原料ポリビニルアセタール樹脂中の水酸基に対して１
当量以上用いる事も可能である。この場合においては反
応終了後に過剰の反応試薬を性能上で影響の無い範囲で
残存させたままでも、又必要に応じて精製除去しても良
い。また、一般にポリビニルアセタール樹脂中には水分
を含有する為、反応時には水との反応生成物も混入する
場合がある。この様な水との反応生成物は性能上で影響
の無い範囲で残存させたままでも、又必要に応じて精製
除去しても良く、又反応時又は反応前に脱水処理を施し
ても良い。これらの変性ポリビニルアセタール樹脂は単
独で用いても、あるいは２種以上の変性ポリビニルアセ
タール樹脂を併用してもよい。これらの変性ポリビニル
アセタール樹脂の含有量は、受像二層の全固形分中、好
ましくは４０重量％以上、より好ましくは５０重量％以
上、更に好ましくは６０重量％以上である。
【００３４】また更に少なくとも下記一般式（ＩＩ）及
び／又は一般式（ＩＩＩ）の繰り返し単位を有する高分
子化合物と併用することが好ましい。
び／又は一般式（ＩＩＩ）の繰り返し単位を有する高分
子化合物と併用することが好ましい。
【００３５】
【化２】
【００３６】〔式中のＲ1は水素原子もしくはメチル
基、Ａはアミド結合を有する置換基もしくは含窒素ヘテ
ロ環、Ｒ4は水素原子もしくはメチル基、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8
は、同一でも異なってもよい炭素数１〜２５のアルキル
基、炭素数７〜２５のアラルキル基もしくは炭素数６〜
２５のアリール基（該アルキル基、アラルキル基、アリ
ール基は、ヒドロキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ
基、ハロゲン、シアノ基及びこれらの２種以上の組合せ
で置換されても良く、途中にエーテル結合、−ＯＣＯ
−、−ＣＯＯ−及びこれらの２種以上の組合せを介して
いてもよい）、ＸはＣｌ、ＢｒもしくはＩを示す。〕
基、Ａはアミド結合を有する置換基もしくは含窒素ヘテ
ロ環、Ｒ4は水素原子もしくはメチル基、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8
は、同一でも異なってもよい炭素数１〜２５のアルキル
基、炭素数７〜２５のアラルキル基もしくは炭素数６〜
２５のアリール基（該アルキル基、アラルキル基、アリ
ール基は、ヒドロキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ
基、ハロゲン、シアノ基及びこれらの２種以上の組合せ
で置換されても良く、途中にエーテル結合、−ＯＣＯ
−、−ＣＯＯ−及びこれらの２種以上の組合せを介して
いてもよい）、ＸはＣｌ、ＢｒもしくはＩを示す。〕
【００３７】一般式（ＩＩ）及び／又は一般式（ＩＩ
Ｉ）の繰り返し単位を有する高分子化合物は下記一般式
（ＩＶ）及び／又は（Ｖ）で示される単量体を常法に従
い適当な溶媒中又は無溶媒で重合開始剤の存在下で重
合、もしくは他の単量体と共重合させることにより得ら
れる。
Ｉ）の繰り返し単位を有する高分子化合物は下記一般式
（ＩＶ）及び／又は（Ｖ）で示される単量体を常法に従
い適当な溶媒中又は無溶媒で重合開始剤の存在下で重
合、もしくは他の単量体と共重合させることにより得ら
れる。
【００３８】
【化３】
【００３９】〔式中の記号は一般式（ＩＩ）、（ＩＩ
Ｉ）と同義である。〕
Ｉ）と同義である。〕
【００４０】一般式（ＩＶ）のＡがアミド結合を有する
置換基の場合としては例えばＣＯＮＨＲ2、ＣＯＮＲ2Ｒ
3が挙げられる。Ｒ2、Ｒ3は例えば各々独立に水素原
子、炭素原子数１〜１８のアルキル基もしくは炭素数６
〜２０のアリール基（該アルキル基、アリール基はヒド
ロキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン、シ
アノ基の１つ以上、及びこれらの２種以上の組合せで置
換されてても良い）、Ｒ 2とＲ3が結合して炭素数１〜２
０のアルキレン、アラルキレン（該アルキ レン、アラ
ルキレンは分岐を有してもよく、またエーテル結合、−
ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、及びこれらの２種以上の組合せ
を含んでもよい）、又、Ａが含窒素ヘテロ環の場合、イ
ミダゾール類、ピロリドン類、ピリジン類、カルバゾー
ル類等が挙げられ、それらは炭素数１〜５のアルキル
基、炭素数６〜１０のアリール基、ハロゲン、シアノ
基、及びこれら２種以上の組み合わせで置換されていて
もよい。
置換基の場合としては例えばＣＯＮＨＲ2、ＣＯＮＲ2Ｒ
3が挙げられる。Ｒ2、Ｒ3は例えば各々独立に水素原
子、炭素原子数１〜１８のアルキル基もしくは炭素数６
〜２０のアリール基（該アルキル基、アリール基はヒド
ロキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン、シ
アノ基の１つ以上、及びこれらの２種以上の組合せで置
換されてても良い）、Ｒ 2とＲ3が結合して炭素数１〜２
０のアルキレン、アラルキレン（該アルキ レン、アラ
ルキレンは分岐を有してもよく、またエーテル結合、−
ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、及びこれらの２種以上の組合せ
を含んでもよい）、又、Ａが含窒素ヘテロ環の場合、イ
ミダゾール類、ピロリドン類、ピリジン類、カルバゾー
ル類等が挙げられ、それらは炭素数１〜５のアルキル
基、炭素数６〜１０のアリール基、ハロゲン、シアノ
基、及びこれら２種以上の組み合わせで置換されていて
もよい。
【００４１】一般式（ＩＶ）のＡのより好ましい範囲は
アミド結合を有する置換基の場合、ＣＯＮＨＲ2、ＣＯ
ＮＲ2Ｒ3；Ｒ2は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル
基もしくは炭素数６〜１５のアリール基（該アルキル
基、アリール基はヒドロキシ基、炭素数１〜６のアルコ
キシ基）、Ａが含窒素ヘテロ環の場合は、イミダゾール
類、トリアゾール類が挙げられ、それらは炭素数１〜５
のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基で置換され
ていてもよい。
アミド結合を有する置換基の場合、ＣＯＮＨＲ2、ＣＯ
ＮＲ2Ｒ3；Ｒ2は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル
基もしくは炭素数６〜１５のアリール基（該アルキル
基、アリール基はヒドロキシ基、炭素数１〜６のアルコ
キシ基）、Ａが含窒素ヘテロ環の場合は、イミダゾール
類、トリアゾール類が挙げられ、それらは炭素数１〜５
のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基で置換され
ていてもよい。
【００４２】一般式（ＩＶ）で表される化合物の具体例
としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アルキル（メ
タ）アクリルアミド（該アルキル基としては、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル
基、ヘプチル基、オクチル基、エチルヘキシル基、シク
ロヘキシル基、ヒドロキシエチル基、ベンジル基などが
ある）、Ｎ−アリール（メタ）アクリルアミド（該アリ
ール基としては、例えばフェニル基、トリル基、ニトロ
フェニル基、ナフチル基、ヒドロキシフェニル基等があ
る）、Ｎ，Ｎ−ジアルキル（メタ）アクリルアミド（該
アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ブチ
ル基、イソブチル基、エチルヘキシル基、シクロヘキシ
ル基などがある）、Ｎ，Ｎ−ジアリール（メタ）アクリ
ルアミド、（該アリール基としては、例えばフェニル基
がある）、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル（メタ）アクリル
アミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチル（メタ）ア
クリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセ
チル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニ
ル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−メチルフェニ
ルスルホニル）（メタ）アクリルアミド、２および３お
よび４−ヒドロキシフェニルアクリルアミド、（メタ）
アクリロイルモルホリン、１−ビニルイミダゾール、１
−ビニル−２−メチルイミダゾール、１−ビニルトリア
ゾール、１−ビニル−３，５ジメチルイミダゾール、ビ
ニルピロリドン、４−ビニルピリジン、ビニルカルバゾ
ール、等が挙げられる。
としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アルキル（メ
タ）アクリルアミド（該アルキル基としては、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル
基、ヘプチル基、オクチル基、エチルヘキシル基、シク
ロヘキシル基、ヒドロキシエチル基、ベンジル基などが
ある）、Ｎ−アリール（メタ）アクリルアミド（該アリ
ール基としては、例えばフェニル基、トリル基、ニトロ
フェニル基、ナフチル基、ヒドロキシフェニル基等があ
る）、Ｎ，Ｎ−ジアルキル（メタ）アクリルアミド（該
アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ブチ
ル基、イソブチル基、エチルヘキシル基、シクロヘキシ
ル基などがある）、Ｎ，Ｎ−ジアリール（メタ）アクリ
ルアミド、（該アリール基としては、例えばフェニル基
がある）、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル（メタ）アクリル
アミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチル（メタ）ア
クリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセ
チル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニ
ル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−メチルフェニ
ルスルホニル）（メタ）アクリルアミド、２および３お
よび４−ヒドロキシフェニルアクリルアミド、（メタ）
アクリロイルモルホリン、１−ビニルイミダゾール、１
−ビニル−２−メチルイミダゾール、１−ビニルトリア
ゾール、１−ビニル−３，５ジメチルイミダゾール、ビ
ニルピロリドン、４−ビニルピリジン、ビニルカルバゾ
ール、等が挙げられる。
【００４３】一般式（Ｖ）のＲ4は水素原子もしくはメ
チル基、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8は、同一でも異なってもよい炭
素数１〜２５のアルキル基、炭素数７〜２５のアラルキ
ル基もしくは炭素数６〜２５のアリール基（該アルキル
基、アラルキル基、アリール基は、ヒドロキシ基、炭素
数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン、シアノ基及びこれ
らの２種以上の組合せで置換されても良く、途中にエー
テル結合、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−及びこれらの２種以
上の組合せを介していてもよい）ＸはＣｌ、Ｂｒもしく
はＩを表す。
チル基、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8は、同一でも異なってもよい炭
素数１〜２５のアルキル基、炭素数７〜２５のアラルキ
ル基もしくは炭素数６〜２５のアリール基（該アルキル
基、アラルキル基、アリール基は、ヒドロキシ基、炭素
数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン、シアノ基及びこれ
らの２種以上の組合せで置換されても良く、途中にエー
テル結合、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−及びこれらの２種以
上の組合せを介していてもよい）ＸはＣｌ、Ｂｒもしく
はＩを表す。
【００４４】一般式（Ｖ）のより好ましい範囲はＲ4は
水素原子もしくはメチル基、Ｒ6、Ｒ 7、Ｒ8は同一でも
異なってもよく炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数７
〜１８のアラルキル基もしくは炭素数６〜２０のアリー
ル基（該アルキル基、アラルキル基、アリール基は、炭
素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン、シアノ基及びこ
れらの２種以上の組合せで置換されても良く、途中にエ
ーテル結合、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−及びこれらの２種
以上の組合せを介していてもよい）、ＸはＣｌ、Ｂｒも
しくはＩを表す。
水素原子もしくはメチル基、Ｒ6、Ｒ 7、Ｒ8は同一でも
異なってもよく炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数７
〜１８のアラルキル基もしくは炭素数６〜２０のアリー
ル基（該アルキル基、アラルキル基、アリール基は、炭
素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン、シアノ基及びこ
れらの２種以上の組合せで置換されても良く、途中にエ
ーテル結合、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−及びこれらの２種
以上の組合せを介していてもよい）、ＸはＣｌ、Ｂｒも
しくはＩを表す。
【００４５】一般式（Ｖ）で表される化合物の具体例と
してはＮ，Ｎ，Ｎ−（トリアルキル）−Ｎ−（スチリル
メチル）−アンモニムクロリド、Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリア
ルキル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモニムブロミ
ド、Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリアルキル）−Ｎ−（スチリルメ
チル）−アンモニムヨーダイド（該アルキル基として
は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ｔ−ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル
基、イソオクチル基、ドデシル基、エチルヘキシル基、
シクロヘキシル基などがある）、Ｎ，Ｎ−（ジメチル）
−Ｎ−（ドデシル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモ
ニムクロリド、Ｎ，Ｎ−（ジメチル）−Ｎ−（ベンジ
ル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモニムクロリド、
Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリメトキシエチル）−Ｎ−（スチリル
メチル）−アンモニムクロリド、Ｎ，Ｎ−（ジメチル）
−Ｎ−（フェニル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモ
ニムクロリド等が挙げられる。
してはＮ，Ｎ，Ｎ−（トリアルキル）−Ｎ−（スチリル
メチル）−アンモニムクロリド、Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリア
ルキル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモニムブロミ
ド、Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリアルキル）−Ｎ−（スチリルメ
チル）−アンモニムヨーダイド（該アルキル基として
は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ｔ−ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル
基、イソオクチル基、ドデシル基、エチルヘキシル基、
シクロヘキシル基などがある）、Ｎ，Ｎ−（ジメチル）
−Ｎ−（ドデシル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモ
ニムクロリド、Ｎ，Ｎ−（ジメチル）−Ｎ−（ベンジ
ル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモニムクロリド、
Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリメトキシエチル）−Ｎ−（スチリル
メチル）−アンモニムクロリド、Ｎ，Ｎ−（ジメチル）
−Ｎ−（フェニル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモ
ニムクロリド等が挙げられる。
【００４６】次に一般式（ＩＶ）及び／又は一般式
（Ｖ）で示される単量体と共重合可能な他の単量体の具
体例としては、（メタ）アクリル酸エステル類、（メ
タ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル
類、ビニルエステル類、スチレン類、クロトン酸エステ
ル類などから選ばれる重合性不飽和結合を有する化合物
が挙げられる。具体的には（メタ）アクリル酸エステル
類、例えばアルキル（メタ）アクリレート、又は置換
（メタ）アルキルアクリレート、（例えばメチル（メ
タ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロ
ピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アク
リレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メ
タ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シ
クロヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル
（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレー
ト、ｔ−オクチル（メタ）アクリレート、クロロエチル
（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒド
ロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシ
ブチル（メタ）アクリレート、２，２−ジメチル−３−
ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、５−ヒドロ
キシペンチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトー
ルモノ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリ
レート、メトキシベンジル（メタ）アクリレート、クロ
ロベンジル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）
アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリ
レート、フェノキシエチル（メタ）アクリレートな
ど）、アリール（メタ）アクリレート（例えばフェニル
（メタ）アクリレート、クレジル（メタ）アクリレー
ト、ナフチル（メタ）アクリレートなど）、スチレン
類、例えばスチレン、アルキルスチレン（例えばメチル
スチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エ
チルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレ
ン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロ
ロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エト
キシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレンな
ど）、アルコキシスチレン（例えばメトキシスチレン、
４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレ
ンなど）、ハロゲノスチレン（例えばクロロスチレン、
ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロ
スチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジ
ブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、
トリフルオロスチレン、２−ブロモ−４−トリフルオロ
スチレン、４−フルオロ−３−トリフルオロメチルスチ
レンなど）、ヒドロキシスチレン等；クロトン酸エステ
ル類、例えば、クロトン酸アルキル（例えばクロトン酸
ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネ
ートなど）、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イタコ
ン酸、（メタ）アクリロニトリルがある。
（Ｖ）で示される単量体と共重合可能な他の単量体の具
体例としては、（メタ）アクリル酸エステル類、（メ
タ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル
類、ビニルエステル類、スチレン類、クロトン酸エステ
ル類などから選ばれる重合性不飽和結合を有する化合物
が挙げられる。具体的には（メタ）アクリル酸エステル
類、例えばアルキル（メタ）アクリレート、又は置換
（メタ）アルキルアクリレート、（例えばメチル（メ
タ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロ
ピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アク
リレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メ
タ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シ
クロヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル
（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレー
ト、ｔ−オクチル（メタ）アクリレート、クロロエチル
（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒド
ロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシ
ブチル（メタ）アクリレート、２，２−ジメチル−３−
ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、５−ヒドロ
キシペンチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトー
ルモノ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリ
レート、メトキシベンジル（メタ）アクリレート、クロ
ロベンジル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）
アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリ
レート、フェノキシエチル（メタ）アクリレートな
ど）、アリール（メタ）アクリレート（例えばフェニル
（メタ）アクリレート、クレジル（メタ）アクリレー
ト、ナフチル（メタ）アクリレートなど）、スチレン
類、例えばスチレン、アルキルスチレン（例えばメチル
スチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エ
チルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレ
ン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロ
ロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エト
キシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレンな
ど）、アルコキシスチレン（例えばメトキシスチレン、
４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレ
ンなど）、ハロゲノスチレン（例えばクロロスチレン、
ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロ
スチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジ
ブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、
トリフルオロスチレン、２−ブロモ−４−トリフルオロ
スチレン、４−フルオロ−３−トリフルオロメチルスチ
レンなど）、ヒドロキシスチレン等；クロトン酸エステ
ル類、例えば、クロトン酸アルキル（例えばクロトン酸
ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネ
ートなど）、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イタコ
ン酸、（メタ）アクリロニトリルがある。
【００４７】この様な一般式（ＩＩ）及び／又は一般式
（ＩＩＩ）で示される繰り返し単位を有する重合体の好
ましい具体例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミ
ド／ブチル（メタ）アクリレ−ト共重合体、Ｎ，Ｎ−ジ
メチル（メタ）アクリルアミド／２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレ−ト共重合体、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メ
タ）アクリルアミド／ヘキシル（メタ）アクリレ−ト共
重合体、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド／ブチル
（メタ）アクリレ−ト共重合体、Ｎ−ブチル（メタ）ア
クリルアミド／２−エチルヘキシル（メタ）アクリレ−
ト共重合体、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド／ヘキ
シル（メタ）アクリレ−ト共重合体、（メタ）アクリロ
イルモルホリン／ブチル（メタ）アクリレ−ト共重合
体、（メタ）アクリロイルモルホリン／２−エチルヘキ
シル（メタ）アクリレ−ト共重合体、（メタ）アクリロ
イルモルホリン／ヘキシル（メタ）アクリレ−ト共重合
体、１−ビニルイミダゾ−ル／ブチル（メタ）アクリレ
−ト共重合体、１−ビニルイミダゾ−ル／２−エチルヘ
キシル（メタ）アクリレ−ト共重合体、１−ビニルイミ
ダゾ−ル／ヘキシル（メタ）アクリレ−ト共重合体、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド／ブチル（メタ）アク
リレ−ト／Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリヘキシル）−Ｎ−（スチ
リルメチル）−アンモニムクロリド共重合体、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアクリルアミド／ブチル（メタ）アクリレ−ト
／Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリオクチル）−Ｎ−（スチリルメチ
ル）−アンモニムクロリド共重合体、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アクリルアミド／ブチル（メタ）アクリレ−ト／Ｎ，
Ｎ，Ｎ−（トリドデシル）−Ｎ−（スチリルメチル）−
アンモニムクロリド共重合体、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリ
ルアミド／ブチル（メタ）アクリレ−ト／Ｎ，Ｎ，Ｎ−
（トリヘキシル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモニ
ムヨーダイド共重合体、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アク
リルアミド／ヘキシル（メタ）アクリレ−ト／Ｎ，Ｎ，
Ｎ−（トリヘキシル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アン
モニムクロリド共重合体、（メタ）アクリロイルモルホ
リン／２−エチルヘキシル（メタ）アクリレ−ト／Ｎ，
Ｎ−（ジメチル）−Ｎ−（ベンジル）−Ｎ−（スチリル
メチル）−アンモニムクロリド共重合体、Ｎ−ブチル
（メタ）アクリルアミド／ヘキシル（メタ）アクリレ−
ト／Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリメトキシエチル）−Ｎ−（スチ
リルメチル）−アンモニムクロリド共重合体、Ｎ，Ｎ，
Ｎ−（トリヘキシル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アン
モニムクロリド重合体等が挙げられる。また、好ましい
（ＩＩ）及び／又は（ＩＩＩ）の単位の含有率は５〜１
００モル％であり、更に好ましくは１０〜１００モル％
である。（ＩＩ）及び／又は（ＩＩＩ）の単位の含有率
が５モル％未満では画質品質が劣る。好ましい重量平均
分子量の範囲としては１０００〜２０００００であり更
に好ましくは２０００〜１０００００である。分子量が
１０００未満では製造が難しく２０万を越えると溶剤へ
の溶解性が低下する。
（ＩＩＩ）で示される繰り返し単位を有する重合体の好
ましい具体例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミ
ド／ブチル（メタ）アクリレ−ト共重合体、Ｎ，Ｎ−ジ
メチル（メタ）アクリルアミド／２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレ−ト共重合体、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メ
タ）アクリルアミド／ヘキシル（メタ）アクリレ−ト共
重合体、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド／ブチル
（メタ）アクリレ−ト共重合体、Ｎ−ブチル（メタ）ア
クリルアミド／２−エチルヘキシル（メタ）アクリレ−
ト共重合体、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド／ヘキ
シル（メタ）アクリレ−ト共重合体、（メタ）アクリロ
イルモルホリン／ブチル（メタ）アクリレ−ト共重合
体、（メタ）アクリロイルモルホリン／２−エチルヘキ
シル（メタ）アクリレ−ト共重合体、（メタ）アクリロ
イルモルホリン／ヘキシル（メタ）アクリレ−ト共重合
体、１−ビニルイミダゾ−ル／ブチル（メタ）アクリレ
−ト共重合体、１−ビニルイミダゾ−ル／２−エチルヘ
キシル（メタ）アクリレ−ト共重合体、１−ビニルイミ
ダゾ−ル／ヘキシル（メタ）アクリレ−ト共重合体、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド／ブチル（メタ）アク
リレ−ト／Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリヘキシル）−Ｎ−（スチ
リルメチル）−アンモニムクロリド共重合体、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアクリルアミド／ブチル（メタ）アクリレ−ト
／Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリオクチル）−Ｎ−（スチリルメチ
ル）−アンモニムクロリド共重合体、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アクリルアミド／ブチル（メタ）アクリレ−ト／Ｎ，
Ｎ，Ｎ−（トリドデシル）−Ｎ−（スチリルメチル）−
アンモニムクロリド共重合体、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリ
ルアミド／ブチル（メタ）アクリレ−ト／Ｎ，Ｎ，Ｎ−
（トリヘキシル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモニ
ムヨーダイド共重合体、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アク
リルアミド／ヘキシル（メタ）アクリレ−ト／Ｎ，Ｎ，
Ｎ−（トリヘキシル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アン
モニムクロリド共重合体、（メタ）アクリロイルモルホ
リン／２−エチルヘキシル（メタ）アクリレ−ト／Ｎ，
Ｎ−（ジメチル）−Ｎ−（ベンジル）−Ｎ−（スチリル
メチル）−アンモニムクロリド共重合体、Ｎ−ブチル
（メタ）アクリルアミド／ヘキシル（メタ）アクリレ−
ト／Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリメトキシエチル）−Ｎ−（スチ
リルメチル）−アンモニムクロリド共重合体、Ｎ，Ｎ，
Ｎ−（トリヘキシル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アン
モニムクロリド重合体等が挙げられる。また、好ましい
（ＩＩ）及び／又は（ＩＩＩ）の単位の含有率は５〜１
００モル％であり、更に好ましくは１０〜１００モル％
である。（ＩＩ）及び／又は（ＩＩＩ）の単位の含有率
が５モル％未満では画質品質が劣る。好ましい重量平均
分子量の範囲としては１０００〜２０００００であり更
に好ましくは２０００〜１０００００である。分子量が
１０００未満では製造が難しく２０万を越えると溶剤へ
の溶解性が低下する。
【００４８】受像二層中の一般式（ＩＩ）及び／又は
（ＩＩＩ）の繰り返し単位を有する高分子化合物の添加
量は、全固形分に対して、好ましくは０〜５０重量％で
ありこれ以上の添加では受像二層表面がべとつき取扱い
上支障をきたす。更に好ましくは０〜４０重量％、特に
好ましくは５〜４０重量％の範囲である。
（ＩＩＩ）の繰り返し単位を有する高分子化合物の添加
量は、全固形分に対して、好ましくは０〜５０重量％で
ありこれ以上の添加では受像二層表面がべとつき取扱い
上支障をきたす。更に好ましくは０〜４０重量％、特に
好ましくは５〜４０重量％の範囲である。
【００４９】受像二層中には更に必要に応じて、性能を
損なわない範囲でその他の樹脂を併用してもよい。これ
らの樹脂と併用が可能な樹脂は種々あるが例えばポリエ
チレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレ
ンと酢酸ビニルあるいはエチレンとアクリル酸エステル
あるいはエチレンとアクリル酸の如きエチレン共重合
体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルの如き塩
化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデ
ン共重合体、ポリスチレン、スチレンとマレイン酸エス
テルの如きスチレン共重合体、ポリアルキル（メタ）ア
クリレート（共）重合体、アルキル（メタ）アクリレー
トと（メタ）アクリル酸等の共重合体、ポリアルキル
（メタ）アクリルアミド等のポリ（メタ）アクリルアミ
ド（共）重合体、酢酸ビニル共重合体、ブチラール樹
脂、変性されたポリビニルアルコール、ポリビニルピロ
リドン、ポリエチレングリコール、共重合ナイロン、Ｎ
−アルコキシメチル化ナイロン 如きポリアミド樹脂、
合成ゴム、塩化ゴム、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、
ウレタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹
脂、マレイン酸樹脂、ヒドロキシスチレン共重合体、ス
ルフォンアミド樹脂、エステルガム、セルロース樹脂、
ニトロセルロース、ロジン、でんぷん、ポリエチレンイ
ミン等が挙げられる。
損なわない範囲でその他の樹脂を併用してもよい。これ
らの樹脂と併用が可能な樹脂は種々あるが例えばポリエ
チレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレ
ンと酢酸ビニルあるいはエチレンとアクリル酸エステル
あるいはエチレンとアクリル酸の如きエチレン共重合
体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルの如き塩
化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデ
ン共重合体、ポリスチレン、スチレンとマレイン酸エス
テルの如きスチレン共重合体、ポリアルキル（メタ）ア
クリレート（共）重合体、アルキル（メタ）アクリレー
トと（メタ）アクリル酸等の共重合体、ポリアルキル
（メタ）アクリルアミド等のポリ（メタ）アクリルアミ
ド（共）重合体、酢酸ビニル共重合体、ブチラール樹
脂、変性されたポリビニルアルコール、ポリビニルピロ
リドン、ポリエチレングリコール、共重合ナイロン、Ｎ
−アルコキシメチル化ナイロン 如きポリアミド樹脂、
合成ゴム、塩化ゴム、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、
ウレタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹
脂、マレイン酸樹脂、ヒドロキシスチレン共重合体、ス
ルフォンアミド樹脂、エステルガム、セルロース樹脂、
ニトロセルロース、ロジン、でんぷん、ポリエチレンイ
ミン等が挙げられる。
【００５０】これら樹脂の中には各種界面における接着
力の関係を満たす為に他の密着改良剤、離型剤、可塑
剤、界面活性剤等を添加することができるのは当然であ
る。
力の関係を満たす為に他の密着改良剤、離型剤、可塑
剤、界面活性剤等を添加することができるのは当然であ
る。
【００５１】受像二層に用いる塗布溶剤としては塗布時
における塗布溶剤の下層への浸透による受像一層と受像
二層の混ざり込みを防ぐ目的で、受像一層に用いた樹脂
を溶解もしくは膨潤させないような塗布溶剤を用いるこ
とが必要である。例えば、各種の溶剤に対して比較的溶
解性の良好な塩化ビニル系の樹脂を受像一層に使った場
合にはアルコール系もしくは水系の塗布溶剤を使用する
ことが好ましい。
における塗布溶剤の下層への浸透による受像一層と受像
二層の混ざり込みを防ぐ目的で、受像一層に用いた樹脂
を溶解もしくは膨潤させないような塗布溶剤を用いるこ
とが必要である。例えば、各種の溶剤に対して比較的溶
解性の良好な塩化ビニル系の樹脂を受像一層に使った場
合にはアルコール系もしくは水系の塗布溶剤を使用する
ことが好ましい。
【００５２】受像二層の膜厚としては、０．１μｍ〜１
０μｍ位が好ましく特に０．５μｍ〜５μｍが好まし
い。膜厚が厚すぎると永久支持体の表面の凹凸感が損な
われ、光沢が出過ぎて印刷物近似性を悪くする。
０μｍ位が好ましく特に０．５μｍ〜５μｍが好まし
い。膜厚が厚すぎると永久支持体の表面の凹凸感が損な
われ、光沢が出過ぎて印刷物近似性を悪くする。
【００５３】永久支持体への転写時に受像シート材料を
剥離する際、受像一層の有機高分子物質と受像二層の有
機高分子物質の間で層間剥離を起こさせるには、各層間
の密着力のバランスが重要であるが、層間密着力のコン
トロールにおいて本発明で利用した重層塗布時の混合を
防ぐ為に塗布溶剤の選択の他に、親水性ポリマーと親油
性ポリマーあるいは極性ポリマーと非極性ポリマーの組
み合わせといった素材の選択、シランカップリング剤等
の密着改良剤、フッ素系やシリコーン系の離型効果を有
する各種添加剤、界面活性剤．可塑剤等を受像一層ある
いは受像二層に添加することが有効である。
剥離する際、受像一層の有機高分子物質と受像二層の有
機高分子物質の間で層間剥離を起こさせるには、各層間
の密着力のバランスが重要であるが、層間密着力のコン
トロールにおいて本発明で利用した重層塗布時の混合を
防ぐ為に塗布溶剤の選択の他に、親水性ポリマーと親油
性ポリマーあるいは極性ポリマーと非極性ポリマーの組
み合わせといった素材の選択、シランカップリング剤等
の密着改良剤、フッ素系やシリコーン系の離型効果を有
する各種添加剤、界面活性剤．可塑剤等を受像一層ある
いは受像二層に添加することが有効である。
【００５４】受像二層、即ち、熱転写可能なインキ層を
受容する層の上には、受像層の滑り性や耐傷性を向上さ
せる目的で、上塗層として、種々の離型剤や滑剤の層を
設けることができる。具体的には、例えばパルミチン
酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、ステアリン酸亜鉛の
如き脂肪酸金属塩類、脂肪酸エステル類もしくはその部
分ケン化物、脂肪酸アミド類等の脂肪酸誘導体、高級ア
ルコール類、多価アルコール類のエテル等誘導体、パラ
フインワックス、カルナバワックス、モンタンワック
ス、ミツロウ、木ロウ、キヤンデリラワックス等のワッ
クス類、更には長鎖脂肪族基を有するアンモニウム塩、
ピリジニウム塩等のカチオン性界面活性剤、或いは同様
に長鎖脂肪族基を有するアニオン、ノニオン界面活性
剤、パーフロロ系界面活性剤等、から１種以上選択して
用いることができる。
受容する層の上には、受像層の滑り性や耐傷性を向上さ
せる目的で、上塗層として、種々の離型剤や滑剤の層を
設けることができる。具体的には、例えばパルミチン
酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、ステアリン酸亜鉛の
如き脂肪酸金属塩類、脂肪酸エステル類もしくはその部
分ケン化物、脂肪酸アミド類等の脂肪酸誘導体、高級ア
ルコール類、多価アルコール類のエテル等誘導体、パラ
フインワックス、カルナバワックス、モンタンワック
ス、ミツロウ、木ロウ、キヤンデリラワックス等のワッ
クス類、更には長鎖脂肪族基を有するアンモニウム塩、
ピリジニウム塩等のカチオン性界面活性剤、或いは同様
に長鎖脂肪族基を有するアニオン、ノニオン界面活性
剤、パーフロロ系界面活性剤等、から１種以上選択して
用いることができる。
【００５５】上記受像一層と受像二層の間には、転写性
の調整等の目的で、中間層を設けることもできる。又、
支持体の受像一層と受像二層を設けていない側に受像シ
ート同士の滑り性や耐傷性を向上させる目的の層を設け
てもよい。
の調整等の目的で、中間層を設けることもできる。又、
支持体の受像一層と受像二層を設けていない側に受像シ
ート同士の滑り性や耐傷性を向上させる目的の層を設け
てもよい。
【００５６】次に、本発明に有用な、支持体上に熱転写
可能なインキ層を有する転写材料（以下、「熱転写シー
ト」と称する）について説明する。
可能なインキ層を有する転写材料（以下、「熱転写シー
ト」と称する）について説明する。
【００５７】熱転写シートの支持体としては、従来の溶
融転写や昇華転写用支持体として公知の種々の支持体が
使用されるが、通常のサーマルヘッド転写感材と同様に
厚み５μｍ前後の裏面に離型処理を施したポリエステル
フィルムが特に好ましい。
融転写や昇華転写用支持体として公知の種々の支持体が
使用されるが、通常のサーマルヘッド転写感材と同様に
厚み５μｍ前後の裏面に離型処理を施したポリエステル
フィルムが特に好ましい。
【００５８】熱転写シートのインキ層は、主成分として
着色材（主に顔料）、非晶質有機高分子結合体を含有す
る。顔料としては種々の公知の顔料が使用でき、例えば
カーボンブラック、アゾ系、フタロシアニン系、キナク
リドン系、チオインジゴ系、アンスラキノン系、イソイ
ンドリン系などの顔料が挙げられる。これらは２種以上
組み合わせて使用することも可能であり、又色相調整の
ため公知の染料を添加しても良い。
着色材（主に顔料）、非晶質有機高分子結合体を含有す
る。顔料としては種々の公知の顔料が使用でき、例えば
カーボンブラック、アゾ系、フタロシアニン系、キナク
リドン系、チオインジゴ系、アンスラキノン系、イソイ
ンドリン系などの顔料が挙げられる。これらは２種以上
組み合わせて使用することも可能であり、又色相調整の
ため公知の染料を添加しても良い。
【００５９】非晶質有機高分子結合体は、軟化点が５０
℃〜１５０℃の範囲にあることが好ましく、例えばブチ
ラール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエチレンイミン樹
脂、スルホンアミド樹脂、ポリエステルポリオール樹
脂、石油樹脂、スチレン、ビニルトルエン、α−メチル
スチレン、２−メチルスチレン、クロルスチレン、ビニ
ル安息香酸、ビニルベンゼンスルホン酸ソーダ、アミノ
スチレン等のスチレン及びその誘導体、置換体の単独重
合体や共重合体、メチルメタクリレート、エチルメタク
リレート、ブチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメ
タクリレート等のメタクリル酸エステル類及びメタクリ
ル酸、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチ
ルアクリレート、α−エチルヘキシルアクリレート等の
アクリル酸エステル及びアクリル酸、ブタジエン、イソ
プレン等のジエン類、アクリロニトリル、ビニルエーテ
ル類、マレイン酸及びマレイン酸エステル類、無水マレ
イン酸、ケイ皮酸、塩化ビニル、酢酸ビニル等のビニル
系単量体の単独あるいは他の単量体等との共重合体を用
いることができる。これらの樹脂は２種以上混合して用
いることもできる。
℃〜１５０℃の範囲にあることが好ましく、例えばブチ
ラール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエチレンイミン樹
脂、スルホンアミド樹脂、ポリエステルポリオール樹
脂、石油樹脂、スチレン、ビニルトルエン、α−メチル
スチレン、２−メチルスチレン、クロルスチレン、ビニ
ル安息香酸、ビニルベンゼンスルホン酸ソーダ、アミノ
スチレン等のスチレン及びその誘導体、置換体の単独重
合体や共重合体、メチルメタクリレート、エチルメタク
リレート、ブチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメ
タクリレート等のメタクリル酸エステル類及びメタクリ
ル酸、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチ
ルアクリレート、α−エチルヘキシルアクリレート等の
アクリル酸エステル及びアクリル酸、ブタジエン、イソ
プレン等のジエン類、アクリロニトリル、ビニルエーテ
ル類、マレイン酸及びマレイン酸エステル類、無水マレ
イン酸、ケイ皮酸、塩化ビニル、酢酸ビニル等のビニル
系単量体の単独あるいは他の単量体等との共重合体を用
いることができる。これらの樹脂は２種以上混合して用
いることもできる。
【００６０】これらの内、後に述べる本発明の特徴であ
る分散性の観点からブチラール樹脂やスチレン／マレイ
ン酸ハーフエステル樹脂などが特に好ましい。これら樹
脂の軟化点は５０℃〜１５０℃の範囲にあるのが好まし
い。１５０℃を越えると熱記録感度が低く、他方５０℃
未満ではインキ層の耐接着性が劣る。
る分散性の観点からブチラール樹脂やスチレン／マレイ
ン酸ハーフエステル樹脂などが特に好ましい。これら樹
脂の軟化点は５０℃〜１５０℃の範囲にあるのが好まし
い。１５０℃を越えると熱記録感度が低く、他方５０℃
未満ではインキ層の耐接着性が劣る。
【００６１】これらインキ層には、熱印字の際のインキ
層の支持体からの離型性及び熱感度向上の観点から種々
の離型剤や軟化剤をインキ層総量に対して１重量％から
２０重量％の範囲で加えることも可能である。具体的に
は、例えばパルミチン酸、ステアリン酸等の高級脂肪
酸、ステアリン酸亜鉛の如き脂肪酸金属塩類、脂肪酸エ
ステル類もしくはその部分ケン化物、脂肪酸アミド類等
の脂肪酸誘導体、高級アルコール類、多価アルコール類
のエテル等誘導体、パラフインワックス、カルナバワッ
クス、モンタンワックス、ミツロウ、木ロウ、キヤンデ
リラワックス等のワックス類、粘度平均分子量が約１，
０００から約１０，０００程度の低分子量ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフイン
類、或いはオレフイン、α−オレフイン類と無水マレイ
ン酸、アクリル酸、メタクリル酸等の有機酸、酢酸ビニ
ル等との低分子量共重合体、低分子量酸化ポリオレフイ
ン、ハロゲン化ポリオレフイン類、ラウリルメタクリレ
ート、ステアリルメタクリレート等長鎖アルキル側鎖を
有するメタクリル酸エステル、アクリル酸エステル又は
パーフロロ基を有するアクリル酸エステル、メタクリル
酸エステル類の単独もしくはスチレン類等のビニル系単
量体との共重合体、ポリジメチルシロキサン、ポリジフ
エニルシロキサン等の低分子量シリコーンレジン及びシ
リコーン変性有機物質等、更には長鎖脂肪族基を有する
アンモニウム塩、ピリジニウム塩等のカチオン性界面活
性剤、或いは同様に長鎖脂肪族基を有するアニオン、ノ
ニオン界面活性剤、パーフロロ系界面活性剤等、から１
種以上選択して用いることができる。
層の支持体からの離型性及び熱感度向上の観点から種々
の離型剤や軟化剤をインキ層総量に対して１重量％から
２０重量％の範囲で加えることも可能である。具体的に
は、例えばパルミチン酸、ステアリン酸等の高級脂肪
酸、ステアリン酸亜鉛の如き脂肪酸金属塩類、脂肪酸エ
ステル類もしくはその部分ケン化物、脂肪酸アミド類等
の脂肪酸誘導体、高級アルコール類、多価アルコール類
のエテル等誘導体、パラフインワックス、カルナバワッ
クス、モンタンワックス、ミツロウ、木ロウ、キヤンデ
リラワックス等のワックス類、粘度平均分子量が約１，
０００から約１０，０００程度の低分子量ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフイン
類、或いはオレフイン、α−オレフイン類と無水マレイ
ン酸、アクリル酸、メタクリル酸等の有機酸、酢酸ビニ
ル等との低分子量共重合体、低分子量酸化ポリオレフイ
ン、ハロゲン化ポリオレフイン類、ラウリルメタクリレ
ート、ステアリルメタクリレート等長鎖アルキル側鎖を
有するメタクリル酸エステル、アクリル酸エステル又は
パーフロロ基を有するアクリル酸エステル、メタクリル
酸エステル類の単独もしくはスチレン類等のビニル系単
量体との共重合体、ポリジメチルシロキサン、ポリジフ
エニルシロキサン等の低分子量シリコーンレジン及びシ
リコーン変性有機物質等、更には長鎖脂肪族基を有する
アンモニウム塩、ピリジニウム塩等のカチオン性界面活
性剤、或いは同様に長鎖脂肪族基を有するアニオン、ノ
ニオン界面活性剤、パーフロロ系界面活性剤等、から１
種以上選択して用いることができる。
【００６２】これら熱転写可能なインキ層の光学濃度
は、先に述べた理由により、白色支持体上に熱転写した
際にその反射濃度が１．０以上なければならない。ま
た、膜厚は０．２μｍから１．０μｍの範囲が好まし
い。１．０μｍよりも大きな厚いインキ層においては面
積階調のみによる階調再現性において、シャドウ部がつ
ぶれやすかったり、ハイライト部がとびやすかったりし
て、結果的に階調再現性が劣ることになる。一方、０．
２μｍより下の膜厚では、所定の濃度を出すことが難し
い。
は、先に述べた理由により、白色支持体上に熱転写した
際にその反射濃度が１．０以上なければならない。ま
た、膜厚は０．２μｍから１．０μｍの範囲が好まし
い。１．０μｍよりも大きな厚いインキ層においては面
積階調のみによる階調再現性において、シャドウ部がつ
ぶれやすかったり、ハイライト部がとびやすかったりし
て、結果的に階調再現性が劣ることになる。一方、０．
２μｍより下の膜厚では、所定の濃度を出すことが難し
い。
【００６３】これらの薄膜で所定の濃度を出すために
は、該インキ層中、顔料が３０重量部〜７０重量部、非
晶質有機高分子結合体が２５重量〜６０重量部で、必要
に応じ添加される離型性物質や軟膜剤の総量が１重量部
〜１５重量部であることが好ましい。顔料比率がこれ以
下では上記所定の膜厚で所定の濃度を出すことが難し
い。また、顔料の粒径は顔料の７０％以上が１．０μｍ
以下であることが必要である。粒径が大きい場合にはカ
ラー再現時の各色の重なり部の透明性が損なわれ、かつ
先の膜厚と濃度の関係の両者を満たすことが困難にな
る。
は、該インキ層中、顔料が３０重量部〜７０重量部、非
晶質有機高分子結合体が２５重量〜６０重量部で、必要
に応じ添加される離型性物質や軟膜剤の総量が１重量部
〜１５重量部であることが好ましい。顔料比率がこれ以
下では上記所定の膜厚で所定の濃度を出すことが難し
い。また、顔料の粒径は顔料の７０％以上が１．０μｍ
以下であることが必要である。粒径が大きい場合にはカ
ラー再現時の各色の重なり部の透明性が損なわれ、かつ
先の膜厚と濃度の関係の両者を満たすことが困難にな
る。
【００６４】これら顔料の、非晶質有機高分子結合体へ
の分散に関しては、適切な溶剤を加えて、ボールミルを
初めとする塗料分野で使用される種々の分散方法が適用
される。
の分散に関しては、適切な溶剤を加えて、ボールミルを
初めとする塗料分野で使用される種々の分散方法が適用
される。
【００６５】上記熱転写可能なインキ層は主成分が顔料
と非晶質の有機高分子結合体であり、かつ従来のワック
ス溶融型に比べ、顔料比率も高く、通常の溶融型に比べ
熱転写時の粘度が１０2〜１０3cps のように低くなるこ
とはなく、１５０℃の温度において少く共１０4cpsより
も高いので、本発明は、受容シートの熱接着性、あるい
はカラー像作成の場合はインキ層間の熱接着性を利用し
た薄膜剥離現像タイプの画像形成であるということがで
きる。このことがインキ層の薄層化の効果と相いまっ
て、高解像力性を維持した上で、シャドウ部からハイラ
イト部に到る広い階調再現を可能にし、かつエッジシャ
ープネスを良好にし、更に１００％の画像の転写を可能
にすることにより、例えば４ポイントの小さな文字とベ
タ部の濃度の均一性を実現した。以下、本発明を実施例
により更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
と非晶質の有機高分子結合体であり、かつ従来のワック
ス溶融型に比べ、顔料比率も高く、通常の溶融型に比べ
熱転写時の粘度が１０2〜１０3cps のように低くなるこ
とはなく、１５０℃の温度において少く共１０4cpsより
も高いので、本発明は、受容シートの熱接着性、あるい
はカラー像作成の場合はインキ層間の熱接着性を利用し
た薄膜剥離現像タイプの画像形成であるということがで
きる。このことがインキ層の薄層化の効果と相いまっ
て、高解像力性を維持した上で、シャドウ部からハイラ
イト部に到る広い階調再現を可能にし、かつエッジシャ
ープネスを良好にし、更に１００％の画像の転写を可能
にすることにより、例えば４ポイントの小さな文字とベ
タ部の濃度の均一性を実現した。以下、本発明を実施例
により更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
【００６６】
＜変性ポリビニルアセタール樹脂の合成＞ 合成例１ ポリビニルブラチール（積水化学工業（株）製、エスレ
ックＢ ＢＸ−１０）１０５．１部をアセトン３８９．
７部に溶解した。ここにブチルイソシアネート２４．８
部（水酸基に対して０．５当量）を添加した。更にジブ
チル錫ジアセテート０．０３部を加え、３０℃で１０時
間加熱撹拌を行なった。この溶液を水５ｌに注いで再沈
精製し、更に水洗、乾燥する事によりポリビニルブチラ
ール中の水酸基をウレタン基に変換した樹脂（樹脂Ｎ
ｏ．１）１２０．６部を得た。
ックＢ ＢＸ−１０）１０５．１部をアセトン３８９．
７部に溶解した。ここにブチルイソシアネート２４．８
部（水酸基に対して０．５当量）を添加した。更にジブ
チル錫ジアセテート０．０３部を加え、３０℃で１０時
間加熱撹拌を行なった。この溶液を水５ｌに注いで再沈
精製し、更に水洗、乾燥する事によりポリビニルブチラ
ール中の水酸基をウレタン基に変換した樹脂（樹脂Ｎ
ｏ．１）１２０．６部を得た。
【００６７】合成例２〜１３ 表−１に示した樹脂、イソシアネートを用いて合成例１
と同様にして変性ポリビニルアセタール樹脂（樹脂Ｎ
ｏ．２〜１３）を得た。 表−１．合成した変性ポリビニルアセタール樹脂 ──────────────────────────────────── 合成例 樹脂Ｎｏ． 原料樹脂 イソシアネート（水酸基に対する当量） ──────────────────────────────────── ２ ２ ＢＸ−１０ ブチルイソシアネート（１．０） ３ ３ 〃 ｎ−プロピルイソシアネート（１．０） ４ ４ 〃 シクロヘキシルイソシアネート（０．２） ５ ５ 〃 シクロヘキシルイソシアネート（０．５） ６ ６ 〃 シクロヘキシルイソシアネート（１．０） ７ ７ フェニルイソシアネート（１．０） ８ ８ ＃２０００Ｌ ブチルイソシアネート（１．０） ９ ９ 〃 シクロヘキシルイソシアネート（１．０） １０ １０ ＫＳ−１０ ブチルイソシアネート（１．０） １１ １１ 〃 ｎ−プロピルイソシアネート（１．０） １２ １２ ＢＬ−ＳＨ ブチルイソシアネート（１．０） １３ １３ 〃 シクロヘキシルイソシアネート（１．０） ──────────────────────────────────── ＢＸ−１０，ＢＬ−ＳＨ：積水化学工業（株）製ポリビニルブチラール エスレックスＢシリーズ ＫＳ−１０：積水化学工業（株）製ポリビニルブチラールホルマール エスレックスＫシリーズ ＃２０００Ｌ：電気化学工業（株）製ポリビニルブチラール
と同様にして変性ポリビニルアセタール樹脂（樹脂Ｎ
ｏ．２〜１３）を得た。 表−１．合成した変性ポリビニルアセタール樹脂 ──────────────────────────────────── 合成例 樹脂Ｎｏ． 原料樹脂 イソシアネート（水酸基に対する当量） ──────────────────────────────────── ２ ２ ＢＸ−１０ ブチルイソシアネート（１．０） ３ ３ 〃 ｎ−プロピルイソシアネート（１．０） ４ ４ 〃 シクロヘキシルイソシアネート（０．２） ５ ５ 〃 シクロヘキシルイソシアネート（０．５） ６ ６ 〃 シクロヘキシルイソシアネート（１．０） ７ ７ フェニルイソシアネート（１．０） ８ ８ ＃２０００Ｌ ブチルイソシアネート（１．０） ９ ９ 〃 シクロヘキシルイソシアネート（１．０） １０ １０ ＫＳ−１０ ブチルイソシアネート（１．０） １１ １１ 〃 ｎ−プロピルイソシアネート（１．０） １２ １２ ＢＬ−ＳＨ ブチルイソシアネート（１．０） １３ １３ 〃 シクロヘキシルイソシアネート（１．０） ──────────────────────────────────── ＢＸ−１０，ＢＬ−ＳＨ：積水化学工業（株）製ポリビニルブチラール エスレックスＢシリーズ ＫＳ−１０：積水化学工業（株）製ポリビニルブチラールホルマール エスレックスＫシリーズ ＃２０００Ｌ：電気化学工業（株）製ポリビニルブチラール
【００６８】合成例１４ ポリビニルブラチール（積水化学工業（株）製、エスレ
ックＢ ＢＸ−１０）１０５．１部をメチルエチルケト
ン２３２．１部に溶解した。ここにブチルイソシアネー
ト４９．６部（水酸基に対して１．０当量）を添加し
た。更にジブチル錫ジアセテート０．０９部を加え、４
０℃で６時間加熱撹拌を行なう事によりポリビニルブチ
ラール中の水酸基をウレタン基に変換した樹脂（樹脂Ｎ
ｏ．１４）の４０重量％メチルエチルケトン溶液を得
た。
ックＢ ＢＸ−１０）１０５．１部をメチルエチルケト
ン２３２．１部に溶解した。ここにブチルイソシアネー
ト４９．６部（水酸基に対して１．０当量）を添加し
た。更にジブチル錫ジアセテート０．０９部を加え、４
０℃で６時間加熱撹拌を行なう事によりポリビニルブチ
ラール中の水酸基をウレタン基に変換した樹脂（樹脂Ｎ
ｏ．１４）の４０重量％メチルエチルケトン溶液を得
た。
【００６９】合成例１５〜１７ 合成例６、１０、１２に用いた樹脂、イソシアネートを
用いて合成例１４と同様にして変性ポリビニルアセター
ル樹脂（樹脂Ｎｏ．１５〜１７）の４０重量％メチルエ
チルケトン溶液を得た。
用いて合成例１４と同様にして変性ポリビニルアセター
ル樹脂（樹脂Ｎｏ．１５〜１７）の４０重量％メチルエ
チルケトン溶液を得た。
【００７０】合成例１８ ポリビニルブラチール（積水化学工業（株）製、エスレ
ックＢ ＢＸ−１０）６３．１部、トリエチルアミン２
２．８部、ジメチルアミノピリジン０．７部をアセトン
１８９．３部に溶解した。ここに無水フタル酸４４．４
部（水酸基に対して１．０当量）を添加した。室温で１
０時間反応させた後、この溶液を水５ｌに注いで再沈精
製し、更に水洗、乾燥する事によりポリビニルブチラー
ル中の水酸基をフタル酸半エステル基に変換した樹脂
（樹脂Ｎｏ．１８）８７．６部を得た。
ックＢ ＢＸ−１０）６３．１部、トリエチルアミン２
２．８部、ジメチルアミノピリジン０．７部をアセトン
１８９．３部に溶解した。ここに無水フタル酸４４．４
部（水酸基に対して１．０当量）を添加した。室温で１
０時間反応させた後、この溶液を水５ｌに注いで再沈精
製し、更に水洗、乾燥する事によりポリビニルブチラー
ル中の水酸基をフタル酸半エステル基に変換した樹脂
（樹脂Ｎｏ．１８）８７．６部を得た。
【００７１】合成例１９ 乾燥テトラヒドロフラン１３６部に水素化ナトリウム
（油性）８．８部を添加した。ここにポリビニルブラチ
ール（積水化学工業（株）製、エスレックＢ ＢＸ−１
０）４２．０部を少しずつ添加した。１時間室温で撹拌
した後ベンジルブロマイド３４．２部（水酸基に対して
１．０当量）を滴下した。この溶液を還流下で１０時間
加熱撹拌した。反応液を塩酸９ｍｌを含む水３ｌに注い
で再沈精製し、更に水洗、乾燥する事によりポリビニル
ブチラール中の水酸基をベンジルエーテル基に変換した
樹脂（樹脂Ｎｏ．１９）４３．９部を得た。
（油性）８．８部を添加した。ここにポリビニルブラチ
ール（積水化学工業（株）製、エスレックＢ ＢＸ−１
０）４２．０部を少しずつ添加した。１時間室温で撹拌
した後ベンジルブロマイド３４．２部（水酸基に対して
１．０当量）を滴下した。この溶液を還流下で１０時間
加熱撹拌した。反応液を塩酸９ｍｌを含む水３ｌに注い
で再沈精製し、更に水洗、乾燥する事によりポリビニル
ブチラール中の水酸基をベンジルエーテル基に変換した
樹脂（樹脂Ｎｏ．１９）４３．９部を得た。
【００７２】合成例２０ ポリビニルブラチール（積水化学工業（株）製、エスレ
ックＢ ＢＸ−１０）６３．１部、酢酸ナトリウム０．
４９部をアセトン１８９．３部に溶解した。ここにジケ
テン２５．２部（水酸基に対して１．０当量）を添加し
た。この溶液を還流下で１０時間加熱撹拌した。反応液
を水５ｌに注いで再沈精製し、更に水洗、乾燥する事に
よりポリビニルブチラール中の水酸基をアセチルアセト
ネート基に変換した樹脂（樹脂Ｎｏ．２０）７５．３部
を得た。
ックＢ ＢＸ−１０）６３．１部、酢酸ナトリウム０．
４９部をアセトン１８９．３部に溶解した。ここにジケ
テン２５．２部（水酸基に対して１．０当量）を添加し
た。この溶液を還流下で１０時間加熱撹拌した。反応液
を水５ｌに注いで再沈精製し、更に水洗、乾燥する事に
よりポリビニルブチラール中の水酸基をアセチルアセト
ネート基に変換した樹脂（樹脂Ｎｏ．２０）７５．３部
を得た。
【００７３】＜一般式（ＩＩ）及び／又は（ＩＩＩ）の
繰り返し単位を有する高分子化合物の合成＞ 合成例２１ プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル１７０部を窒
素気流下８０℃にて加熱攪拌し、２，２’−アゾビス
（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．０７部を加え
３０分間攪拌した。これにブチルアクリレート３１．６
部、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド２４．４部、２，
２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）
０．０７部を３０分間かけて滴下した。滴下終了の３０
分後と１時間後に更に２，２’−アゾビス（２，４−ジ
メチルバレロニトリル）をそれぞれ０．１５部添加し、
更に４時間加熱攪拌し、高分子化合物（樹脂Ｎｏ．２
１）の２８％プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル
溶液を得た。重量平均分子量は（ポリスチレン換算）１
３０００であった。
繰り返し単位を有する高分子化合物の合成＞ 合成例２１ プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル１７０部を窒
素気流下８０℃にて加熱攪拌し、２，２’−アゾビス
（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．０７部を加え
３０分間攪拌した。これにブチルアクリレート３１．６
部、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド２４．４部、２，
２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）
０．０７部を３０分間かけて滴下した。滴下終了の３０
分後と１時間後に更に２，２’−アゾビス（２，４−ジ
メチルバレロニトリル）をそれぞれ０．１５部添加し、
更に４時間加熱攪拌し、高分子化合物（樹脂Ｎｏ．２
１）の２８％プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル
溶液を得た。重量平均分子量は（ポリスチレン換算）１
３０００であった。
【００７４】合成例２２〜２４ 表−２．に示したモノマーを用いて合成例２１と同様に
処理する事で高分子化合物（樹脂Ｎｏ．２２〜２４）を
得た。 表−２．合成した高分子化合物 ──────────────────────────────────── 合成例 （樹脂Ｎｏ．） 原料モノマー （ｍｏｌ比） 重量平均分子量 ──────────────────────────────────── ２２ ブチルメタクリレート／ １６０００ ビニルイミダゾール＝（１／１） ２３ Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリヘキシル）−Ｎ− ３８００ （スチリルメチル）−アンモニウムクロリド ２４ ブチルメタクリレート／ ３９００ Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド／ Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリヘキシル）−Ｎ−（スチリルメチル） −アンモニウムクロリド＝（５／５／１） ────────────────────────────────────
処理する事で高分子化合物（樹脂Ｎｏ．２２〜２４）を
得た。 表−２．合成した高分子化合物 ──────────────────────────────────── 合成例 （樹脂Ｎｏ．） 原料モノマー （ｍｏｌ比） 重量平均分子量 ──────────────────────────────────── ２２ ブチルメタクリレート／ １６０００ ビニルイミダゾール＝（１／１） ２３ Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリヘキシル）−Ｎ− ３８００ （スチリルメチル）−アンモニウムクロリド ２４ ブチルメタクリレート／ ３９００ Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド／ Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリヘキシル）−Ｎ−（スチリルメチル） −アンモニウムクロリド＝（５／５／１） ────────────────────────────────────
【００７５】実施例１ ＜受像シ−ト材料の作成＞下記の組成を有する受像一層
及び受像二層用の塗布液を調整した。 （受像一層用塗布液） ・結合剤 塩ビ・酢ビ共重合体 ２５重量部 （ＭＰＲ−ＴＳＬ、日信化学（株）製） ・可塑剤 ジブチルオクチルフタレ−ト １２重量部 （ＤＯＰ、大八化学（株）製） ・界面活性剤 ４重量部 （商品名メガファックＦ−１７７Ｐ、大日本インキ化学工業（株）製） ・溶剤 メチルエチルケトン ７５重量部 （受像二層用塗布液） ・樹脂Ｎｏ．１ １６重量部 ・樹脂Ｎｏ．２４ ４重量部 ・ポリエチレンイミン樹脂 ０．５重量部 （商品名 ポリエチレンイミンＳＰ−２００ 日本触媒（株）製） ・界面活性剤 ０．５重量部 （商品名メガファックＦ−１７７Ｐ、大日本インキ化学工業（株）製） ・溶剤 ｎ−プロピルアルコ−ル ２００重量部
及び受像二層用の塗布液を調整した。 （受像一層用塗布液） ・結合剤 塩ビ・酢ビ共重合体 ２５重量部 （ＭＰＲ−ＴＳＬ、日信化学（株）製） ・可塑剤 ジブチルオクチルフタレ−ト １２重量部 （ＤＯＰ、大八化学（株）製） ・界面活性剤 ４重量部 （商品名メガファックＦ−１７７Ｐ、大日本インキ化学工業（株）製） ・溶剤 メチルエチルケトン ７５重量部 （受像二層用塗布液） ・樹脂Ｎｏ．１ １６重量部 ・樹脂Ｎｏ．２４ ４重量部 ・ポリエチレンイミン樹脂 ０．５重量部 （商品名 ポリエチレンイミンＳＰ−２００ 日本触媒（株）製） ・界面活性剤 ０．５重量部 （商品名メガファックＦ−１７７Ｐ、大日本インキ化学工業（株）製） ・溶剤 ｎ−プロピルアルコ−ル ２００重量部
【００７６】厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレ
−ト（ＰＥＴ）フィルム支持体上に、回転塗布機（ホエ
ラ−）を使用して上記受像一層用塗布液を３００ｒｐｍ
で塗布し、１００℃のオ−ブン中で２分間乾燥した。得
られた受像一層の膜厚は２０μｍであった。上記受像一
層上に、回転塗布機（ホエラ−）を使用して上記受像二
層用塗布液を２００ｒｐｍで塗布し、１００℃のオ−ブ
ン中で２分間乾燥した。得られた受像二層の膜厚は２μ
ｍであった。
−ト（ＰＥＴ）フィルム支持体上に、回転塗布機（ホエ
ラ−）を使用して上記受像一層用塗布液を３００ｒｐｍ
で塗布し、１００℃のオ−ブン中で２分間乾燥した。得
られた受像一層の膜厚は２０μｍであった。上記受像一
層上に、回転塗布機（ホエラ−）を使用して上記受像二
層用塗布液を２００ｒｐｍで塗布し、１００℃のオ−ブ
ン中で２分間乾燥した。得られた受像二層の膜厚は２μ
ｍであった。
【００７７】＜熱転写シートの作成＞次いで下記の３種
のインキ層用顔料分散液を調整した。 ・ブチラ−ル樹脂 １２重量部 （デンカブチラ−ル＃２０００−Ｌ、電気化学工業（株）製） ・顔料 Ａ Ｂ Ｃ シアン顔料（ＣＩ．Ｐ．Ｂ．１５：４） １２重量部 マゼンタ顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．５７：１） − １２重量部 イエロ−顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．１４） − − １２重量部 ・分散助剤 ソルスパ−スＳ−２００００ ０．８重量部 （ＩＣＩジャパン（株）） ・溶剤 ｎ−プロピルアルコ−ル １１０重量部
のインキ層用顔料分散液を調整した。 ・ブチラ−ル樹脂 １２重量部 （デンカブチラ−ル＃２０００−Ｌ、電気化学工業（株）製） ・顔料 Ａ Ｂ Ｃ シアン顔料（ＣＩ．Ｐ．Ｂ．１５：４） １２重量部 マゼンタ顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．５７：１） − １２重量部 イエロ−顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．１４） − − １２重量部 ・分散助剤 ソルスパ−スＳ−２００００ ０．８重量部 （ＩＣＩジャパン（株）） ・溶剤 ｎ−プロピルアルコ−ル １１０重量部
【００７８】上記Ａ，Ｂ，Ｃの顔料分散液各々１０重量
部に対しステアリン酸アミド０．２４重量部、ｎ−プロ
ピルアルコ−ル６０重量部を加え塗布液とし、厚み５μ
ｍの裏面に離型処理されたポリエステルフィルム（帝人
（株）製）に乾燥膜厚Ａが０．３６μｍ、Ｂが０．３８
μｍ、Ｃが０．４２μｍになるように塗布し熱転写シー
トを作成した。まずシアンの熱転写シ−トと受像シ−ト
材料を重ね、副走査分割法によるサ−マルヘッド記録装
置（試作実験機）により印字した。この原理は７５μｍ
Ｘ５０μｍのヘッドを５０μｍ方向に微小送り３μｍピ
ッチでオンオフする事により面積階調のみの多段階変調
を行う方式である。このシアンの熱転写シ−トを剥離
し、受像シ−ト材料上に面積階調のみよりなる画像を形
成させた。次にマゼンタの熱転写シ−トをシアン画像が
形成されている受像シ−ト材料に重ね、位置を合わせて
同様に印字し、該熱転写シ−トを剥離する事により受像
シ−ト材料上にマゼンタ画像、同様にしてイエロ−画像
を形成させ受像シ−ト材料上に面積階調のみよりなるカ
ラ−画像を形成させた。次にカラ−画像が形成された受
像シ−ト材料をア−ト紙と重ね１３０℃、４．５Ｋｇ／
ｃｍの圧で４ｍ／ｓｅｃの熱ロ−ラ−を通した後、受像
シ−ト材料のポリエステルフィルムを剥しインク画像が
のった受像二層をア−ト紙上に転写し、カラ−画像形成
させた。このカラ−画像はリス原稿から作成したケミカ
ルプル−フ（富士写真フィルム（株）製、商品名カラ−
ア−ト）とカラ−画像の近似性が非常に良好であった。
なおこの際の各単色の反射濃度は下記の通りであっ
た。 また、４Ｐの文字の濃度をミクロデンシトメ−タ−で測
定したが、ベタ部の濃度と同様であった。階調再現性は
５％〜９５％が再現され、ゴミによる欠陥もなくドット
形状が良好で更に、紙の凹凸に追随した表面がマット化
され表面光沢が印刷物に非常に近似した画像であった。
部に対しステアリン酸アミド０．２４重量部、ｎ−プロ
ピルアルコ−ル６０重量部を加え塗布液とし、厚み５μ
ｍの裏面に離型処理されたポリエステルフィルム（帝人
（株）製）に乾燥膜厚Ａが０．３６μｍ、Ｂが０．３８
μｍ、Ｃが０．４２μｍになるように塗布し熱転写シー
トを作成した。まずシアンの熱転写シ−トと受像シ−ト
材料を重ね、副走査分割法によるサ−マルヘッド記録装
置（試作実験機）により印字した。この原理は７５μｍ
Ｘ５０μｍのヘッドを５０μｍ方向に微小送り３μｍピ
ッチでオンオフする事により面積階調のみの多段階変調
を行う方式である。このシアンの熱転写シ−トを剥離
し、受像シ−ト材料上に面積階調のみよりなる画像を形
成させた。次にマゼンタの熱転写シ−トをシアン画像が
形成されている受像シ−ト材料に重ね、位置を合わせて
同様に印字し、該熱転写シ−トを剥離する事により受像
シ−ト材料上にマゼンタ画像、同様にしてイエロ−画像
を形成させ受像シ−ト材料上に面積階調のみよりなるカ
ラ−画像を形成させた。次にカラ−画像が形成された受
像シ−ト材料をア−ト紙と重ね１３０℃、４．５Ｋｇ／
ｃｍの圧で４ｍ／ｓｅｃの熱ロ−ラ−を通した後、受像
シ−ト材料のポリエステルフィルムを剥しインク画像が
のった受像二層をア−ト紙上に転写し、カラ−画像形成
させた。このカラ−画像はリス原稿から作成したケミカ
ルプル−フ（富士写真フィルム（株）製、商品名カラ−
ア−ト）とカラ−画像の近似性が非常に良好であった。
なおこの際の各単色の反射濃度は下記の通りであっ
た。 また、４Ｐの文字の濃度をミクロデンシトメ−タ−で測
定したが、ベタ部の濃度と同様であった。階調再現性は
５％〜９５％が再現され、ゴミによる欠陥もなくドット
形状が良好で更に、紙の凹凸に追随した表面がマット化
され表面光沢が印刷物に非常に近似した画像であった。
【００７９】実施例２〜２５、比較例１〜９ 実施例１における合成例１の変性ポリビニルブチラール
樹脂（樹脂ＮＯ．１）、高分子化合物（樹脂ＮＯ．２
４）を表−２．に示した組成に変更する他は実施例１と
同様にして受像シートを作成した。この受像シートを用
い実施例１と同様にカラー画像を形成し、画像の評価を
行なった。評価結果を表−３に示す。
樹脂（樹脂ＮＯ．１）、高分子化合物（樹脂ＮＯ．２
４）を表−２．に示した組成に変更する他は実施例１と
同様にして受像シートを作成した。この受像シートを用
い実施例１と同様にカラー画像を形成し、画像の評価を
行なった。評価結果を表−３に示す。
【００８０】 表−３．受像二層の例 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 変性ホ゜リヒ゛ニル 高分子 その他の樹脂 その他の樹脂 アセタール樹脂 化合物 ──────────────────────────────────── 樹脂 添加 樹脂 添加 樹脂名 添加 樹脂名 添加 Ｎｏ 量 Ｎｏ 量 量 量 ──────────────────────────────────── 実施例 １ 1 16 24 4 − − SP-200 0.5 実施例 ２ 2 16 24 4 − − SP-200 0.5 実施例 ３ 3 16 24 4 − − SP-200 0.5 実施例 ４ 4 16 24 4 − − SP-200 0.5 実施例 ５ 5 12.8 24 4 BL-SH 3.2 SP-200 0.5 実施例 ６ 6 12.8 24 4 BL-SH 3.2 SP-200 0.5 実施例 ７ 7 16 24 4 − − SP-200 0.5 実施例 ８ 8 16 24 4 − − SP-200 0.5 実施例 ９ 9 16 24 4 − − SP-200 0.5 実施例１０ 10 16 24 4 − − SP-200 0.5 実施例１１ 11 16 24 4 − − SP-200 0.5 実施例１２ 12 16 24 4 − − SP-200 0.5 実施例１３ 13 16 24 4 − − SP-200 0.5 実施例１４ 14 40 24 4 − − SP-200 0.5 実施例１５ 15 40 24 4 − − SP-200 0.5 実施例１６ 16 40 24 4 − − SP-200 0.5 実施例１７ 17 40 24 4 − − SP-200 0.5 実施例１８ 18 40 24 4 − − SP-200 0.5 実施例１９ 19 16 24 4 − − SP-200 0.5 実施例２０ 20 12.8 24 4 BL-SH 3.2 − − 実施例２１ 2 16 21 4 − − − − 実施例２２ 2 16 22 4 − − − − 実施例２３ 2 16 23 4 − − − − 実施例２４ 2 20 − − − − − − 実施例２５ 9 20 − − − − − − ──────────────────────────────────── 比較例 １ − − 24 4 BX-10 16 SP-200 0.5 比較例 ２ − − 24 4 BL-SH 16 SP-200 0.5 比較例 ３ − − 24 4 2000L 16 SP-200 0.5 比較例 ４ − − 24 4 KS-10 16 SP-200 0.5 比較例 ５ − − − − BX-10 16 SP-200 0.5 比較例 ６ − − − − BL-SH 16 SP-200 0.5 比較例 ７ − − − − 2000L 16 SP-200 0.5 比較例 ８ − − − − KS-10 16 − − ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ BL-SH ：積水化学工業（株）製ポリビニルブチラール エスレックＢシリーズ SP-200：日本触媒（株）製 ポリエチレンイミン
【００８１】 表−４．組成物の評価結果 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ト゛ット 階調性 表面 スティック ゴミ 湿度 品質 ヘ゛トツキ インク゛ 欠陥 依存性 ──────────────────────────────── 実施例 １ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例 ２ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例 ３ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例 ４ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例 ５ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例 ６ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例 ７ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例 ８ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例 ９ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例１０ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例１１ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例１２ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例１３ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例１４ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例１５ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例１６ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例１７ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例１８ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例１９ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例２０ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例２１ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例２２ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例２３ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例２４ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 実施例２５ 良好 良好 良好 良好 良好 良好 ──────────────────────────────── 比較例 １ 良好 良好 良好 良好 良好 不良 比較例 ２ 良好 良好 不良 良好 不良 良好 比較例 ３ 良好 良好 不良 良好 良好 不良 比較例 ４ 不良 良好 良好 良好 良好 不良 比較例 ５ 不良 不良 良好 良好 良好 不良 比較例 ６ 不良 不良 不良 良好 不良 良好 比較例 ７ 不良 良好 不良 良好 不良 不良 比較例 ８ 不良 不良 良好 良好 良好 不良 比較例 ９ 良好 良好 不良 良好 良好 不良 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【００８２】＜湿度依存性の評価方法＞２５℃、相対湿
度２０％の低湿条件下で実施例１に示した様に画像を形
成した。この条件下で網点面積率が５０％となる印字エ
ネルギーを求める。この印字エネルギーを用いて２５
℃、相対湿度８０％の高湿条件下において画像印字を行
ない、その際の網点面積率を測定した。この網点面積率
が６８％以下（湿度１０％当たりの変化率として３％以
下）のものを良好、それ以上のものを不良と評価した。
度２０％の低湿条件下で実施例１に示した様に画像を形
成した。この条件下で網点面積率が５０％となる印字エ
ネルギーを求める。この印字エネルギーを用いて２５
℃、相対湿度８０％の高湿条件下において画像印字を行
ない、その際の網点面積率を測定した。この網点面積率
が６８％以下（湿度１０％当たりの変化率として３％以
下）のものを良好、それ以上のものを不良と評価した。
【００８３】実施例２６ （１）熱転写シ−トの作成 （a）光熱変換層の作成 ＜塗布液用母液の調製＞ ・カ−ボン ブラック（三菱化成株式会社製、 三菱カ−ボンブラック、MK−１００、C.I.Pigment Black 7） ２０重量部 ・分散助剤（ジョンソンポリマ−株式会社製、ジョンクリル Ｊ−６２の３０％水溶液） ６重量部 ・イオン交換水 ８０重量部 ・イソプロピルアルコ−ル ２０重量部 ・ガラスビ−ズ １００重量部 上記の成分を、ペイントシェ−カ−（東洋精機株式会社
製）を使用して２時間分散処理して母液を調製した。
製）を使用して２時間分散処理して母液を調製した。
【００８４】 ＜塗布液の調製＞ ・上記の母液 １００重量部 ・ポリビニルアルコ−ル（クラレ株式会社製、ポバ−ル タイプ２０５） ３重量部 ・イソプロピルアルコ−ル １００重量部 ・イオン交換水 ４５０重量部 上記の成分をスタ−ラ−で撹拌しながらに混合して、光
熱変換層用塗布液を調製した。
熱変換層用塗布液を調製した。
【００８５】＜支持体の準備＞光熱変換層の塗布厚さ７
５μｍのポリエチレンテレフタレ−トの上に、下塗り層
として、スチレン−ブタジエン共重合体（厚さ０．５μ
ｍ）、ゼラチン（厚さ０．１μｍ）をこの順に設けたフ
ィルムを、熱転写シ−ト用支持体として準備した。この
支持体の上に、上記光熱変換層用塗布液を、回転塗布機
（ホエラ−）を使用して１分間塗布し、塗布物を１００
℃のオ−ブン中で２分間乾燥して、光熱変換層（触針式
膜厚計による膜厚：０．３μｍ、波長４８８nmでの光吸
収率９０％）を作成した。同じ試料を、走査型電子顕微
鏡により断面観察したところ、平均膜厚は０.３μｍ で
あった。
５μｍのポリエチレンテレフタレ−トの上に、下塗り層
として、スチレン−ブタジエン共重合体（厚さ０．５μ
ｍ）、ゼラチン（厚さ０．１μｍ）をこの順に設けたフ
ィルムを、熱転写シ−ト用支持体として準備した。この
支持体の上に、上記光熱変換層用塗布液を、回転塗布機
（ホエラ−）を使用して１分間塗布し、塗布物を１００
℃のオ−ブン中で２分間乾燥して、光熱変換層（触針式
膜厚計による膜厚：０．３μｍ、波長４８８nmでの光吸
収率９０％）を作成した。同じ試料を、走査型電子顕微
鏡により断面観察したところ、平均膜厚は０.３μｍ で
あった。
【００８６】（b）熱剥離層の積層 ＜塗布液の調製＞ ・ニトロセルロ−ス（ダイセル株式会社製、タイプ ＲＳ１／２） １重量部 ・メチルエチルケトン １００重量部 ・プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テルアセテ−ト ２０重量部 上記の成分をスタ−ラ−で撹拌下に混合して、熱剥離層
塗布液を調製した。
塗布液を調製した。
【００８７】＜熱剥離層の塗布と膜厚測定＞上記熱転写
シ−ト用支持体に設けた光熱変換層の表面に、上記熱剥
離層用塗布液を、回転塗布機（ホエラ−）を使用して１
分間塗布し、塗布物を１００℃のオ−ブン中で２分間乾
燥した。また、上記熱剥離層塗布液を用い、平滑な表面
を有するポリエステルフィルム上に同条件で塗布乾燥し
た。触針式膜厚計でその時の膜厚を測定したところ０．
１μｍであった。
シ−ト用支持体に設けた光熱変換層の表面に、上記熱剥
離層用塗布液を、回転塗布機（ホエラ−）を使用して１
分間塗布し、塗布物を１００℃のオ−ブン中で２分間乾
燥した。また、上記熱剥離層塗布液を用い、平滑な表面
を有するポリエステルフィルム上に同条件で塗布乾燥し
た。触針式膜厚計でその時の膜厚を測定したところ０．
１μｍであった。
【００８８】（c）画像形成層（マゼンタ）の積層 ＜塗布液用母液の調製＞ ・ポリビニルブチラ−ル（電気化学工業株式会社製、デンカブチラ−ル ＃２０００−Ｌ）の２０重量％溶液（溶媒：ｎ−プロピルアルコ−ル） ６３重量部 ・色材（マゼンタ顔料、東洋インキ株式会社製、リオノ−ルレッド ６Ｂ４２９０Ｇ、C.I.Pigment Red 57:1) １２重量部 ・分散助剤（ICI株式会社製、ソルスパ−スＳ−２０，０００） ０.８重量部 ・ｎ−プロピルアルコ−ル ６０重量部 ・ガラスビ−ズ １００重量部 上記の成分を、ペイントシェ−カ−（東洋精機株式会社
製）を使用して２時間分散処理して母液を調製した。
製）を使用して２時間分散処理して母液を調製した。
【００８９】 ＜塗布液の調製＞ ・上記の母液 １０重量部 ・n-プロピルアルコ−ル ６０重量部 ・界面活性剤（大日本インキ株式会社製、メガファックＦ−１７６ＰＦ） ０.０５重量部 上記の成分をスタ−ラ−で撹拌下に混合して、マゼンタ
用画像形成層塗布液を調製した。
用画像形成層塗布液を調製した。
【００９０】＜マゼンタ用画像形成層塗布液の塗布、膜
厚の測定＞上記熱転写シ−ト用支持体に設けた熱剥離層
の表面に、上記画像形成層用塗布液を、回転塗布機（ホ
エラ−）を使用して１分間塗布し、塗布物を１００℃の
オ−ブン中で２分間乾燥して、マクベス濃度計での光学
濃度は０.７の画像形成層を積層し、熱転写シ−トを作
成した。上記画像形成層用塗布液を同条件でポリエステ
ルフィルム（１００μｍ厚）に塗布、乾燥し、膜厚を測
定したところ０．３μｍであった。走査型電子顕微鏡に
より、熱転写シ−トのマゼンタ画像形成層の膜厚を、断
面観察法により測定したところ、平均はほぼ０．３μｍ
であった。
厚の測定＞上記熱転写シ−ト用支持体に設けた熱剥離層
の表面に、上記画像形成層用塗布液を、回転塗布機（ホ
エラ−）を使用して１分間塗布し、塗布物を１００℃の
オ−ブン中で２分間乾燥して、マクベス濃度計での光学
濃度は０.７の画像形成層を積層し、熱転写シ−トを作
成した。上記画像形成層用塗布液を同条件でポリエステ
ルフィルム（１００μｍ厚）に塗布、乾燥し、膜厚を測
定したところ０．３μｍであった。走査型電子顕微鏡に
より、熱転写シ−トのマゼンタ画像形成層の膜厚を、断
面観察法により測定したところ、平均はほぼ０．３μｍ
であった。
【００９１】（２）受像シート材料の作成 実施例１と同様にして、受像シート材料を作成した。
【００９２】（３）積層体の作成 上記のようにして作成した熱転写シートと受像シート材
料を、表面温度７０℃、圧力４.５ｋｇ／ｃｍ2のヒート
ローラに速度２００ｃｍ／分の速度で通し、受像層と熱
転写可能なインキ層とが実質的に均一に接触するように
積層体を作成した。ここで圧力は、富士写真フィルム株
式会社製の圧力測定用感圧発色材料（プレスケ−ル）を
用い、室温のロ−ラを通して測定した。
料を、表面温度７０℃、圧力４.５ｋｇ／ｃｍ2のヒート
ローラに速度２００ｃｍ／分の速度で通し、受像層と熱
転写可能なインキ層とが実質的に均一に接触するように
積層体を作成した。ここで圧力は、富士写真フィルム株
式会社製の圧力測定用感圧発色材料（プレスケ−ル）を
用い、室温のロ−ラを通して測定した。
【００９３】（４）上記のようにして得られた積層体
を、熱転写シート支持体がレーザ光入射面、受像シート
材料支持体が回転ドラム面と接するように、真空吸着用
のサクション穴の開いた回転ドラムに巻き付け、真空引
き、固定した。波長８３０nmの半導体レーザ光を、光熱
変換層上で８μｍのスポット状に集光し、回転ドラムの
回転方向（主走査方向）に対し直角方向に移動（副走
査）しつつ記録画像に応じてレーザー光を変調し、下記
の条件でレーザ記録を行なった。 レーザパワー １００ｍＷ 主走査速度 ８ｍ／秒 副走査ピッチ（１回転当たりの副走査量） ５μｍ
を、熱転写シート支持体がレーザ光入射面、受像シート
材料支持体が回転ドラム面と接するように、真空吸着用
のサクション穴の開いた回転ドラムに巻き付け、真空引
き、固定した。波長８３０nmの半導体レーザ光を、光熱
変換層上で８μｍのスポット状に集光し、回転ドラムの
回転方向（主走査方向）に対し直角方向に移動（副走
査）しつつ記録画像に応じてレーザー光を変調し、下記
の条件でレーザ記録を行なった。 レーザパワー １００ｍＷ 主走査速度 ８ｍ／秒 副走査ピッチ（１回転当たりの副走査量） ５μｍ
【００９４】（５）記録後、上記積層体をドラムから取
り外し、受像シート材料と熱転写シートを手により、引
き離したところ、レーザ照射部のみの画像形成層が受像
層に転写していることが、明瞭に観察された。更に、光
学顕微鏡により転写画像を観察したところ、２００線／
インチの網点が３〜９８％の範囲で再現されていた。網
点形状も良好であった。
り外し、受像シート材料と熱転写シートを手により、引
き離したところ、レーザ照射部のみの画像形成層が受像
層に転写していることが、明瞭に観察された。更に、光
学顕微鏡により転写画像を観察したところ、２００線／
インチの網点が３〜９８％の範囲で再現されていた。網
点形状も良好であった。
【００９５】
【発明の効果】本発明の受像シート材料、転写画像形成
方法及び積層体により、記録感度、ドット品質（網点形
状）、諧調再現性（網点再現性）が良く、ベタツキやス
ティキング、ゴミ欠陥も無く、更に記録感度の湿度依存
性も少なく印刷物近似性の良い画像を提供することがで
きる。
方法及び積層体により、記録感度、ドット品質（網点形
状）、諧調再現性（網点再現性）が良く、ベタツキやス
ティキング、ゴミ欠陥も無く、更に記録感度の湿度依存
性も少なく印刷物近似性の良い画像を提供することがで
きる。
Claims (6)
- 【請求項１】 熱転写可能なインキ層を有する転写材料
から受像シート材料上にインキ層を熱転写し、次いで永
久支持体上に再転写する転写画像の形成に用いる受像シ
ート材料において、該受像シート材料が、支持体上に少
なくとも２層の受像層を有し、該受像層の少なくとも１
層が永久支持体に転写され、少なくとも該インキ層が転
写される受像層がポリビニルアセタール樹脂中の水酸基
の０．１〜１当量を下記一般式（Ｉ）で示される基に変
換した樹脂を含有する事を特徴とする受像シート材料。 −Ｏ−Ｗ （Ｉ） 〔式中、Ｗは−ＣＯＮＨ−Ｙ1、−ＣＯＯ−Ｙ2、−
Ｙ3、−ＳｉＹ4Ｙ5Ｙ6、ＳＯ 2Ｙ7、−ＣＯ−Ｚ1−ＣＯ
ＯＨ、−ＣＯＣＨ2ＣＯＭｅ、 Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、Ｙ4、Ｙ5、Ｙ6、Ｙ7は炭素数１〜２０
の１価の有機基、 Ｚ1は炭素数１〜２０の２価の有機基、を示す。〕 - 【請求項２】 熱転写可能なインキ層を有する転写材料
から受像シート材料上にインキ層を熱転写し、次いで永
久支持体上に再転写する転写画像の形成に用いる受像シ
ート材料において、該受像シート材料が、支持体上に少
なくとも２層の受像層を有し、該受像層の少なくとも１
層が永久支持体に転写され、少なくとも該インキ層が転
写される受像層が（ａ）ポリビニルアセタール樹脂中の
水酸基の０．１〜１当量を下記一般式（Ｉ）で示される
基に変換した樹脂及び（ｂ）少なくとも下記一般式（Ｉ
Ｉ）及び／又は一般式（ＩＩＩ）の繰り返し単位を有す
る高分子化合物を含有することを特徴とする受像シート
材料。 −Ｏ−Ｗ （Ｉ） 〔式中、Ｗは−ＣＯＮＨ−Ｙ1、−ＣＯＯ−Ｙ2、−
Ｙ3、−ＳｉＹ4Ｙ5Ｙ6、ＳＯ 2Ｙ7、−ＣＯ−Ｚ1−ＣＯ
ＯＨ、−ＣＯＣＨ2ＣＯＭｅ、 Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、Ｙ4、Ｙ5、Ｙ6、Ｙ7は炭素数１〜２０
の１価の有機基、 Ｚ1は炭素数１〜２０の２価の有機基、を示す。〕 【化１】 〔式中、Ｒ1は水素原子もしくはメチル基、Ａはアミド
結合を有する置換基もしくは含窒素ヘテロ環、Ｒ4は水
素原子もしくはメチル基、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8は、同一でも
異なってもよい炭素数１〜２５のアルキル基、炭素数７
〜２５のアラルキル基もしくは炭素数６〜２５のアリー
ル基（該アルキル基、アラルキル基、アリール基は、ヒ
ドロキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン、
シアノ基及びこれらの２種以上の組合せで置換されても
良く、途中にエーテル結合、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−及
びこれらの２種以上の組合せを介していてもよい）、Ｘ
はＣｌ、ＢｒもしくはＩを示す。〕 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２においてポリビニ
ルアセタール樹脂中の水酸基を変換した樹脂がポリビニ
ルアセタール樹脂と単官能イソシアネートの付加物であ
る事を特徴とする受像シート材料。 - 【請求項４】 請求項１、請求項２又は請求項３におい
て、該ポリビニルアセタール樹脂がポリビニルブチラー
ルである事を特徴とする受像シート材料。 - 【請求項５】 支持体上に設けた、３０〜７０重量部の
顔料、２５〜６０重量部の軟化点が４０〜１５０℃の非
晶質有機高分子重合体を含み、膜厚が０．２μｍ〜１．
０μｍである熱転写可能なインキ層を請求項１、請求項
２、請求項３又は請求項４に記載の受像シート材料に密
着させ、熱転写により該受像シート材料上にインキ画像
を形成し、次いで該インキ画像及び少なくとも受像層の
１層を永久支持体上に転写することを特徴とする転写画
像形成方法。 - 【請求項６】 支持体上に設けた、３０〜７０重量部の
顔料、２５〜６０重量部の軟化点が４０〜１５０℃の非
晶質有機高分子重合体を含み、膜厚が０．２μｍ〜１．
０μｍである熱転写可能なインキ層と、請求項１、請求
項２、請求項３又は請求項４に記載の受像層とを密着さ
せたことを特徴とする積層体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04705595A JP3773966B2 (ja) | 1995-03-07 | 1995-03-07 | 受像シート材料、転写画像形成方法及び積層体 |
| DE1996605141 DE69605141T2 (de) | 1995-03-07 | 1996-03-06 | Bildempfangsmaterialblatt, bildförmiges Verfahren durch Übertragung und Verbundfolie |
| EP19960103496 EP0730978B1 (en) | 1995-03-07 | 1996-03-06 | Image-receiving sheet material, method for forming transfer image and laminate |
| US08/612,436 US5576140A (en) | 1995-03-07 | 1996-03-07 | Image-receiving sheet material, method for forming transfer image and laminate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04705595A JP3773966B2 (ja) | 1995-03-07 | 1995-03-07 | 受像シート材料、転写画像形成方法及び積層体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08238858A true JPH08238858A (ja) | 1996-09-17 |
| JP3773966B2 JP3773966B2 (ja) | 2006-05-10 |
Family
ID=12764482
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04705595A Expired - Fee Related JP3773966B2 (ja) | 1995-03-07 | 1995-03-07 | 受像シート材料、転写画像形成方法及び積層体 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5576140A (ja) |
| EP (1) | EP0730978B1 (ja) |
| JP (1) | JP3773966B2 (ja) |
| DE (1) | DE69605141T2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| EP1226972A2 (en) | 2001-01-24 | 2002-07-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Multicolor image-forming material. |
| EP1226973A2 (en) | 2001-01-26 | 2002-07-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Multi-color image-forming material and multi-color image-forming process |
| EP1238817A2 (en) | 2001-03-05 | 2002-09-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Multicolor image-forming material and multicolor image-forming method |
| JP2002274045A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-25 | Ricoh Co Ltd | 熱転写記録媒体 |
| US6689717B2 (en) | 2000-06-23 | 2004-02-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image receiving sheet and transfer image forming method |
| US6962893B2 (en) | 2001-08-31 | 2005-11-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image-forming material, image formation method and method for manufacturing color proof |
| JPWO2013172432A1 (ja) * | 2012-05-17 | 2016-01-12 | 太陽インキ製造株式会社 | アルカリ現像型の熱硬化性樹脂組成物、プリント配線板 |
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|---|---|---|---|---|
| WO1998030392A1 (en) * | 1997-01-07 | 1998-07-16 | Polaroid Corporation | Ink jet recording sheet |
| JP4090184B2 (ja) * | 2000-08-07 | 2008-05-28 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録用シート |
| US20020058130A1 (en) * | 2000-09-14 | 2002-05-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image-receiving material for electrophotography |
| JP2003300382A (ja) * | 2002-04-08 | 2003-10-21 | Konica Minolta Holdings Inc | 熱転写中間転写媒体を用いた画像形成方法 |
| US20060139995A1 (en) * | 2004-12-28 | 2006-06-29 | Ali Keshavarzi | One time programmable memory |
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|---|---|---|---|---|
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| JPS5227642A (en) * | 1975-08-27 | 1977-03-02 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Laser heating transfer recording process |
| JPS6382786A (ja) * | 1986-09-26 | 1988-04-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 熱転写記録方法 |
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