JP3283144B2 - 受像シート材料、転写画像形成方法及び積層体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、感熱転写記録システム
において有用な受像シート材料、及び色材を含有する感
熱インキ層を熱ヘッドを用い、あるいはレーザー光を照
射して受像シート材料上に転写して画像を形成し、次い
で再転写して永久支持体上に画像を形成する画像形成方
法に関する。本発明の方法による画像は、特に印刷物近
似性に優れ、品質が高い。

【０００２】

【従来の技術】近年ＯＡ化の進展に伴い、電子写真方
式、インクジェット方式、感熱転写記録方式等の各種記
録方式を利用した複写機やプリンタ等がそれぞれの用途
に応じて用いられている。この画像形成には色材が用い
られ、通常、色材を含む組成物を溶融し、あるいは色材
を蒸発、昇華させて粘着、吸着、染着等の作用により記
録媒体、例えば紙やフィルムシート等の上に画像を得て
いる。

【０００３】これらのうち、特に感熱転写記録方式は操
作や保守が容易であること、装置の小型化、低コスト化
が可能であること等の利点を有している。この感熱転写
記録方式には、以下の２種類が従来から知られている。
すなわち、支持体上に溶融性インク層を有する転写シー
トをレーザーあるいは熱ヘッドによりイメージワイズに
（像様に）加熱して、該溶融性インクを感熱転写記録用
受像シートに溶融転写する熱溶融型転写方式と、支持体
上に熱拡散性色素（昇華性色素）を含むインク層を有す
る感熱転写記録用インクシートを用いて、感熱転写記録
用受像シートに前記熱拡散性色素を拡散転写する昇華型
染料転写方式の２種類である。

【０００４】昇華型染料転写方式は、熱ヘッドの熱的エ
ネルギーの変化に応じて色素の転写量を変化させて画像
の階調をコントロールすることができるので、シアン、
マゼンタ、イエローの重ね記録を行うことによって、色
の濃淡に連続的な変化を有するカラー画像が得られる利
点がある。しかし、この方式には以下のような問題点が
ある。 主として濃度階調を利用して画像の階調を再現するも
のであり、写真に類似する階調を好む民生用の一部の目
的には適しているが、例えば面積階調のみで階調再現を
している印刷分野で使用されているカラープルーフ用途
には適していない。 画像形成が染料の昇華を利用しているため、出来上が
り画像のエッジシャープネスが十分ではなく、又、太線
に比べ細線のベタ濃度が低くなる。このことは特に文字
画像の品質に関して大きな問題点となる。 画像の耐久性が低く耐熱性や耐光性が要求される分野
への展開が限定される。 感熱記録感度が熱溶融型転写方式に比べて低いため、
将来期待されている高解像力サーマルヘッドを用いる高
速記録材料として適していない。 熱溶融型転写材料に比べ感材が高価である。

【０００５】一方、熱溶融型転写方式は昇華型染料転写
方式に比べて、感熱感度が高い、画像の耐光性が優れて
いる、材料が安価である、等の利点があるが、一般的に
以下のような欠点がある。 階調再現が濃度階調ではなく２値記録であるため多階
調性に劣る。 通常、低融点の結晶性ワックスをインク層の結合剤と
しているため熱印字の際の滲みにより解像力が低下し、
転写画像の強度が低い。 結晶性ワックス類を用いると結晶相の光散乱により透
明な画像が得難い。

【０００６】このような状況に鑑み、本発明者等は従来
の昇華型染料転写方式や熱溶融型転写方式とは異なる、
２値記録の面積階調のみで多階調性の顔料カラー画像が
得られる新しい感熱記録材料として熱接着薄膜剥離方式
を先に提案した（特願平５−２６３６９５）。この方式
によれば、面積階調のみの顔料転写方式で従来の感熱転
写記録方式の問題点が大幅に改善された多階調高品質カ
ラー画像やモノクロ画像が達成され、これまでの民生用
のみならず印刷分野におけるカラープルーフ、版下原
稿、あるいは顔料の耐光性を活かしてカード分野、屋外
ディスプレー分野、メーターディスプレー分野などへの
展開が可能となる。

【０００７】一方、これら各種の感熱転写記録材料に使
用される被転写材についても種々の提案がなされてい
る。昇華型染料転写方式の受像媒体としては普通紙を用
いた場合には特に染着が起こり難く記録像の濃度が低い
ばかりでなく、経時によって著しく褪色現象を起こして
しまう。そのため、熱可塑性樹脂を主成分とする受像層
を普通紙上に設けた受像紙も提案されており、記録感
度、解像度、鮮明度、色濃度、等の改良が種々検討され
てきている。また、熱溶融型転写方式の被転写材につい
ても普通紙の使用が原理的には可能であるが転写表面の
平滑性やインク受理性に起因して転写ムラやドット抜け
等の欠点が生じ易く難点となっている。したがって、表
面平滑性、インクの転写受理性、定着性、階調性、鮮鋭
性、等を改良すべく種々の受像材料が検討されてきてい
る。ここでこれら各種の受像媒体の支持体としては普通
紙、合成紙、合成樹脂フィルムあるいは白色顔料等を充
填した白色ベース、等の専用の被転写材が使われてい
る。したがってこの方法では画像形成が可能な被転写材
は受像層が設けてある専用の紙あるいは樹脂シート等に
限定されるので、印刷物近似性を要求されるプルーフ用
途には品質が不十分であった。また、任意の所望する被
転写支持体に記録画像を転写する方法も公知である。特
開昭５２−２７６４２には転写層を中間受容体に加熱付
着させ、次にこの付着した転写物を紙等の被転写物に転
写する方法が記載されているが画像品質向上に関しては
何ら述べられていない。

【０００８】特開昭６３−８２７８６には、塗工層材料
に含まれるブチラ−ル以外の塗膜を構成する材料とし
て、熱転写層に含まれるブチラ−ル樹脂と同様に他の樹
脂やワックス等を選ぶ技術が記載され、樹脂例としては
フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ロジン
やポリアミド樹脂、スルホンアミド樹脂等の記載がなさ
れているがこれらを使用した場合、特にロジンやポリア
ミド樹脂の場合は著しくシャドウ部がつぶれてしまった
り、ポリアミド樹脂を使用した場合は再現階調性に対す
る温湿度の影響が大きいといった問題が有った。また、
添加量が多いと著しく受像層表面がベトツキ、ゴミ欠陥
やむらが増大する問題点があった。

【０００９】このように、感熱転写記録材料の被転写材
としてはこれまでに種々の受像シート材料が提案されて
いるが、面積階調のみの熱転写方式で記録感度、ドット
品質、階調再現性に優れた画像を得るにはいずれも不充
分であった。特に熱記録感度を高くしようとすると受像
層の熱接着温度を低くし粘着性が増す方向になり、ベト
ツキによるスティッキング現象の発生や記録後の画像保
存での耐接着性に問題が生ずる。このため、特に多階調
高品質カラー画像、例えば色校正用のカラープルーフと
して使用する場合には印刷本紙の質感再現、等の印刷物
近似性にも大きな問題があった。

【００１０】更に、熱転写インキ層についても検討がな
され、例えば特開平５−２５４２５６には、ポリアミド
樹脂（ナイロン）バインダー中に顔料を添加したトナ−
層処方の記載がなされているが、この様なトナ−層では
ナイロンの凝集力が高いことによりドットのきれが悪
く、更に階調再現性や温湿度変化に弱いといった問題点
が有った。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、面積
階調のみの熱転写方式で記録感度、ドット品質、階調再
現性に優れ、ベトツキ、スティッキング現象の無い多階
調高品質カラー画像の形成を達成しうる感熱転写記録用
受像シート材料及びそれを用いた転写画像形成方法を提
供することにある。さらには印刷本紙に転写が可能で印
刷本紙の質感再現、画像の光沢、等の印刷物近似性に優
れた感熱転写記録用受像シート材料及び転写画像形成方
法を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、 １）熱転写可能なインキ層を有する転写材料から受像シ
ート材料上にインキ層を熱転写し、次いで永久支持体上
に再転写する転写画像の形成に用いる受像シート材料に
おいて、該受像シート材料が、支持体上に少なくとも２
層の受像層を有し、該受像層の少なくとも１層が永久支
持体に転写され、少なくとも該インキ層が転写される受
像層がポリビニルブチラール樹脂及び少なくとも下記一
般式（Ｉ）及び／又は一般式（ＩＩ）の繰り返し単位を
有する高分子化合物を含有することを特徴とする受像シ
ート材料、

【００１３】

【化２】

【００１４】〔式中のＲ₁は水素原子もしくはメチル
基、ＡはＡは−ＣＯＮＨＲ ₂ 、−ＣＯＮＲ ₂ Ｒ ₃ もしくは
含窒素ヘテロ環を表し、Ｒ ₂ およびＲ ₃ は各々独立に、水
素原子、炭素数１〜１８のアルキル基もしくは炭素数６
〜２０のアリール基（該アルキル基、アリール基はヒド
ロキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン、シ
アノ基の１つ以上、及びこれらの２種以上の組合せで置
換されてても良い）を表す。Ｒ₄は水素原子もしくはメ
チル基を、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈は、同一でも異なってもよい
炭素数１〜２５のアルキル基、炭素数７〜２５のアラル
キル基もしくは炭素数６〜２５のアリール基（該アルキ
ル基、アラルキル基、アリール基は、ヒドロキシ基、炭
素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン、シアノ基及びこ
れらの２種以上の組合せで置換されても良く、途中にエ
ーテル結合、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−及びこれらの２種
以上の組合せを介していてもよい）を、ＸはＣｌ、Ｂｒ
もしくはＩをそれぞれ示す。〕及び、２）支持体上に設
けた、３０〜７０重量部の顔料、２５〜６０重量部の軟
化点が４０〜１５０℃の非晶質有機高分子重合体を含
み、膜厚が０．２μｍ〜１．０μｍである熱転写可能な
インキ層を請求項１及び請求項２に記載の受像シート材
料に密着させ、熱転写により該受像シート材料上にイン
キ画像を形成し、次いで該インキ画像及び少なくとも１
層の受像層を永久支持体上に転写することを特徴とする
転写画像形成方法、により達成された。以下、本発明を
詳細に説明する。

【００１５】受像シートの支持体としては、化学的及び
熱的に安定であり、かつ撓曲性を有する物質が用いられ
る。必要に応じて化学光線透過性であってもよい。具体
的には、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィル
ム、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフイン
類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロ
ゲン化ビニル類、セルロースアセテート、ニトロセルロ
ース、セロハン等のセルロース誘導体、ポリアミド類、
ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド類、場合
によりポリエチレンフイルムをラミネートした紙なども
使用可能である。これらの中で特に好ましい物は、寸度
安定性及び透過性において優れた２軸延伸ポリエチレン
テレフタレートフイルムであるが、これらに限定される
ものではない。また、支持体の上に少なくとも２層を設
けるが、好ましくは支持体に接する層（以下受像一層と
記す）及びその上に設ける層（以下受像二層と記す）か
らなることが好ましい。

【００１６】これら支持体と受像一層の接着力をあげる
為にコロナ放電処理、グロー放電処理などの表面処理や
あるいはアンダーコート層を設けることも可能である。
アンダーコート層としては支持体と受像一層の接着力を
上げるものなら限定はないが、特にシランカップリング
剤等が好適である。

【００１７】次に受像一層について説明する。受像一層
の弾性率は２００ｋｇ・ｆ／ｃｍ²以下であることが好
ましい。この理由は弾性率の小さいポリマーを用いるこ
とにより受像層にクッション性が生じて、記録感度、ド
ット品質、階調再現性の向上が得られる。さらに記録す
る際に感熱記録材料と受像シート材料の間にゴミ等の異
物が存在した場合にも受像一層のクッション性がある為
に画像欠陥になりにくいという利点がある。また、画像
を受像シート材料に転写後、紙などの印刷本紙上に熱と
圧で再転写する際に該層が紙の凹凸に従って埋め込まれ
るので、紙との密着をよくし、受像二層を剥離した後に
表面をマット化等の特別な処理をしなくとも表面光沢が
印刷物に近似した画像が得られる。

【００１８】具体例としてはポリエチレン、ポリプロピ
レンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニルある
いはエチレンとアクリル酸エステルの如きエチレン共重
合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルの如き
塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリ
デン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、共重
合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロンの如きポ
リアミド樹脂、合成ゴム、塩化ゴム等の有機高分子物質
から少なくとも１つ選ばれるのが好ましい。これらの中
で特に重合度が２００〜２０００の、ポリ塩化ビニル、
塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、塩化ビニルとビニ
ルアルコールの共重合体、塩化ビニルと酢酸ビニルとマ
レイン酸の共重合体等が特に好適である。その理由とし
てポリ塩化ビニル及び塩化ビニル共重合体は（１）常温
での粘着性がほとんど無いこと、（２）弾性率が比較的
小さく、熱転写時に転写画像の凹凸に容易に追従可能な
こと、（３）相溶性の良好な可塑剤が豊富で実質的な弾
性率のコントロールが容易なこと、（４）共重合成分中
の水酸基あるいはカルボキシル基の効果で層間密着力の
コントロールが容易なこと、等が挙げられる。もちろん
これらの有機高分子中に受像シート支持体や、受像二層
との接着力を調整する為に、各種のポリマーや密着改良
剤あるいは界面活性剤や離型剤を加えることも可能であ
る。また弾性率を下げる目的で常温での粘着性が生じな
い範囲で粘着性ポリマーの一部併用も非常に有効であ
る。

【００１９】例えば、フッ素系の界面活性剤等を各層中
に利用することができ、添加により層間密着力が低下す
ると同時に熱転写インキ層と受像層表面の濡れ性が向上
し、ドット形状は良化する。但し、添加量が多すぎると
熱転写インキ層と受像層表面の接着力が低減するために
ドット形状が悪化してしまうので、離型剤や界面活性剤
の添加量は好ましくは０．０００１〜５％、特に好まし
くは０．００１〜３％である。塗布面状を良くするため
には、少量の界面活性剤の添加が好ましい。

【００２０】塩化ビニル系樹脂を使用する場合には、ポ
リ塩化ビニル及び塩化ビニル共重合体の安定化剤として
一般に知られるブチル錫系安定剤あるいはオクチル錫系
安定剤等の有機錫系安定剤を添加することも有効であ
る。

【００２１】受像一層の厚さは１μｍ〜５０μｍが好ま
しく、特に５μｍ〜３０μｍが好ましい。この理由の１
つは受像シート材料上に転写された画像を永久支持体に
転写する場合に永久支持体の表面の凹凸より厚くする必
要があること、第２の理由は４色のカラー画像が重なる
部分のレリーフ段差を充分に吸収しうる厚みが必要な為
である。さらに第３の理由は充分なクッション性を得る
為である。

【００２２】次にこの上に設ける受像二層について説明
する。受像二層の目的は永久支持体への再転写時に受像
シート材料を剥離する際、受像一層と受像二層の間で層
間剥離をさせ、永久支持体上の画像上に薄い受像二層の
みを残し、永久支持体の凹凸により、特別なマット化処
理をほどこすことなく実際の印刷物の光沢に近似した画
像を得ることにある。さらに第２の目的は画像の耐傷性
の向上にある。

【００２３】受像二層の素材としては種々の物質が基本
的に可能であるが、受像二層を構成する有機高分子物質
として、ポリビニルブチラール樹脂と少なくとも上記一
般式（Ｉ）及び／又は一般式（ＩＩ）の繰り返し単位を
有する高分子化合物を含有することが好ましい。

【００２４】一般式（Ｉ）及び／又は一般式（ＩＩ）の
繰り返し単位を有する高分子化合物は下記一般式（ＩＩ
Ｉ）及び／又は（ＩＶ）で示される単量体を常法に従い
適当な溶媒中又は無溶媒で重合開始剤の存在下で重合、
もしくは他の単量体と共重合させることにより得られ
る。

【００２５】

【化３】

【００２６】一般式（ＩＩＩ）のＲ₁は水素原子もしく
はメチル基、Ａは−ＣＯＮＨＲ ₂ 、−ＣＯＮＲ ₂ Ｒ ₃ もし
くは含窒素ヘテロ環を表し、Ｒ ₂ およびＲ ₃ は各々独立
に、水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基もしくは炭
素数６〜２０のアリール基（該アルキル基、アリール基
はヒドロキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲ
ン、シアノ基の１つ以上、及びこれらの２種以上の組合
せで置換されてても良い）を表す。一般式（ＩＶ）のＲ
₄は水素原子もしくはメチル基を、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈は、同
様でも異なってもよい炭素数１〜２５のアルキル基、炭
素数７〜２５のアラルキル基もしくは炭素数６〜２５の
アリール基（該アルキル基、アラルキル基、アリール基
は、ヒドロキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロ
ゲン、シアノ基及びこれらの２種以上の組合せで置換さ
れても良く、途中にエーテル結合、−ＯＣＯ−、−ＣＯ
Ｏ−及びこれらの２種以上の組合せを介していてもよ
い）を、ＸはＣｌ、ＢｒもしくはＩをそれぞれ表す。

【００２７】一般式（ＩＩＩ）のＡが−ＣＯＮＨＲ ₂ も
しくは−ＣＯＮＲ ₂ Ｒ ₃ である場合において、Ｒ₂とＲ₃が
結合して炭素数１〜２０のアルキレン、アラルキレン
（該アルキレン、アラルキレンは分岐を有してもよく、
またエーテル結合、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、及びこれ
らの２種以上の組合せを含んでもよい）を形成してよ
く、又、Ａが含窒素ヘテロ環の場合、イミダゾール類、
ピロリドン類、ピリジン類、カルバゾール類等が挙げら
れ、それらは炭素数１〜５のアルキル基、炭素数６〜１
０のアリール基、ハロゲン、シアノ基及びこれら２種以
上の組み合わせで置換されていてもよい。

【００２８】一般式（ＩＩＩ）のＡのより好ましい範囲
は、ＡがＣＯＮＨＲ₂ およびＣＯＮＲ₂Ｒ₃ の場合は、Ｒ₂
が水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基もしくは炭素
数６〜１５のアリール基（該アルキル基、アリール基は
ヒドロキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ基）であり、
Ａが含窒素ヘテロ環の場合は、イミダゾール類、トリア
ゾール類が挙げられ、それらは炭素数１〜５のアルキル
基、炭素数６〜１０のアリール基で置換されていてもよ
い。

【００２９】一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の具体
例としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アルキル
（メタ）アクリルアミド（該アルキル基としては、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｔ−ブ
チル基、ヘプチル基、オクチル基、エチルヘキシル基、
シクロヘキシル基、ヒドロキシエチル基、ベンジル基な
どがある）、Ｎ−アリール（メタ）アクリルアミド（該
アリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、ニ
トロフェニル基、ナフチル基、ヒドロキシフェニル基等
がある）、Ｎ，Ｎ−ジアルキル（メタ）アクリルアミド
（該アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、
ブチル基、イソブチル基、エチルヘキシル基、シクロヘ
キシル基などがある）、Ｎ，Ｎ−ジアリール（メタ）ア
クリルアミド、（該アリール基としては、例えばフェニ
ル基がある）、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル（メタ）アク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチル（メ
タ）アクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ
−アセチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルス
ルホニル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−メチル
フェニルスルホニル）（メタ）アクリルアミド、２およ
び３および４−ヒドロキシフェニルアクリルアミド、
（メタ）アクリロイルモルホリン、１−ビニルイミダゾ
ール、１−ビニル−２−メチルイミダゾール、１−ビニ
ルトリアゾール、１−ビニル−３，５ジメチルイミダゾ
ール、ビニルピロリドン、４−ビニルピリジン、ビニル
カルバゾール、等が挙げられる。

【００３０】一般式（ＩＶ）のＲ₄は水素原子もしくは
メチル基、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈は、同一でも異なってもよい
炭素数１〜２５のアルキル基、炭素数７〜２５のアラル
キル基もしくは炭素数６〜２５のアリール基（該アルキ
ル基、アラルキル基、アリール基は、ヒドロキシ基、炭
素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン、シアノ基及びこ
れらの２種以上の組合せで置換されても良く、途中にエ
ーテル結合、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−及びこれらの２種
以上の組合せを介していてもよい）ＸはＣｌ、Ｂｒもし
くはＩを表す。

【００３１】一般式（ＩＶ）のより好ましい範囲はＲ₄
は水素原子もしくはメチル基、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈は同一で
も異なってもよく炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数
７〜１８のアラルキル基もしくは炭素数６〜２０のアリ
ール基（該アルキル基、アラルキル基、アリール基は、
炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン、シアノ基及び
これらの２種以上の組合せで置換されても良く、途中に
エーテル結合、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−及びこれらの２
種以上の組合せを介していてもよい）、ＸはＣｌ、Ｂｒ
もしくはＩを表す。

【００３２】一般式（ＩＶ）で表される化合物の具体例
としてはＮ，Ｎ，Ｎ−（トリアルキル）−Ｎ−（スチリ
ルメチル）−アンモニムクロリド、Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリ
アルキル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモニムブロ
ミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリアルキル）−Ｎ−（スチリル
メチル）−アンモニムヨーダイド（該アルキル基として
は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ｔ−ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル
基、イソオクチル基、ドデシル基、エチルヘキシル基、
シクロヘキシル基などがある）、Ｎ，Ｎ−（ジメチル）
−Ｎ−（ドデシル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモ
ニムクロリド、Ｎ，Ｎ−（ジメチル）−Ｎ−（ベンジ
ル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモニムクロリド、
Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリメトキシエチル）−Ｎ−（スチリル
メチル）−アンモニムクロリド、Ｎ，Ｎ−（ジメチル）
−Ｎ−（フェニル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモ
ニムクロリド等が挙げられる。

【００３３】次に一般式（ＩＩＩ）及び／又は一般式
（ＩＶ）で示される単量体と共重合可能な他の単量体の
具体例としては、（メタ）アクリル酸エステル類、（メ
タ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル
類、ビニルエステル類、スチレン類、クロトン酸エステ
ル類などから選ばれる重合性不飽和結合を有する化合物
が挙げられる。具体的には（メタ）アクリル酸エステル
類、例えばアルキル（メタ）アクリレート、又は置換
（メタ）アルキルアクリレート、（例えばメチル（メ
タ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロ
ピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アク
リレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メ
タ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シ
クロヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル
（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレー
ト、ｔ−オクチル（メタ）アクリレート、クロロエチル
（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒド
ロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシ
ブチル（メタ）アクリレート、２，２−ジメチル−３−
ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、５−ヒドロ
キシペンチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトー
ルモノ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリ
レート、メトキシベンジル（メタ）アクリレート、クロ
ロベンジル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）
アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリ
レート、フェノキシエチル（メタ）アクリレートな
ど）、アリール（メタ）アクリレート（例えばフェニル
（メタ）アクリレート、クレジル（メタ）アクリレー
ト、ナフチル（メタ）アクリレートなど）、スチレン
類、例えばスチレン、アルキルスチレン（例えばメチル
スチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エ
チルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレ
ン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロ
ロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エト
キシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレンな
ど）、アルコキシスチレン（例えばメトキシスチレン、
４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレ
ンなど）、ハロゲノスチレン（例えばクロロスチレン、
ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロ
スチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジ
ブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、
トリフルオロスチレン、２−ブロモ−４−トリフルオロ
スチレン、４−フルオロ−３−トリフルオロメチルスチ
レンなど）、ヒドロキシスチレン等；クロトン酸エステ
ル類、例えば、クロトン酸アルキル（例えばクロトン酸
ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネ
ートなど）、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イタコ
ン酸、（メタ）アクリロニトリルがある。

【００３４】この様な一般式（Ｉ）及び／又は一般式
（ＩＩ）で示される繰り返し単位を有する重合体の好ま
しい具体例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド
／ブチル（メタ）アクリレ−ト共重合体、Ｎ，Ｎ−ジメ
チル（メタ）アクリルアミド／２−エチルヘキシル（メ
タ）アクリレ−ト共重合体、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）
アクリルアミド／ヘキシル（メタ）アクリレ−ト共重合
体、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド／ブチル（メ
タ）アクリレ−ト共重合体、Ｎ−ブチル（メタ）アクリ
ルアミド／２−エチルヘキシル（メタ）アクリレ−ト共
重合体、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド／ヘキシル
（メタ）アクリレ−ト共重合体、（メタ）アクリロイル
モルホリン／ブチル（メタ）アクリレ−ト共重合体、
（メタ）アクリロイルモルホリン／２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレ−ト共重合体、（メタ）アクリロイル
モルホリン／ヘキシル（メタ）アクリレ−ト共重合体、
１−ビニルイミダゾ−ル／ブチル（メタ）アクリレ−ト
共重合体、１−ビニルイミダゾ−ル／２−エチルヘキシ
ル（メタ）アクリレ−ト共重合体、１−ビニルイミダゾ
−ル／ヘキシル（メタ）アクリレ−ト共重合体、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアクリルアミド／ブチル（メタ）アクリレ−
ト／Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリヘキシル）−Ｎ−（スチリルメ
チル）−アンモニムクロリド共重合体、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアクリルアミド／ブチル（メタ）アクリレ−ト／Ｎ，
Ｎ，Ｎ−（トリオクチル）−Ｎ−（スチリルメチル）−
アンモニムクロリド共重合体、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリ
ルアミド／ブチル（メタ）アクリレ−ト／Ｎ，Ｎ，Ｎ−
（トリドデシル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモニ
ムクロリド共重合体、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド
／ブチル（メタ）アクリレ−ト／Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリヘ
キシル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモニムヨーダ
イド共重合体、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミ
ド／ヘキシル（メタ）アクリレ−ト／Ｎ，Ｎ，Ｎ−（ト
リヘキシル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモニムク
ロリド共重合体、（メタ）アクリロイルモルホリン／２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレ−ト／Ｎ，Ｎ−（ジ
メチル）−Ｎ−（ベンジル）−Ｎ−（スチリルメチル）
−アンモニムクロリド共重合体、Ｎ−ブチル（メタ）ア
クリルアミド／ヘキシル（メタ）アクリレ−ト／Ｎ，
Ｎ，Ｎ−（トリメトキシエチル）−Ｎ−（スチリルメチ
ル）−アンモニムクロリド共重合体、Ｎ，Ｎ，Ｎ−（ト
リヘキシル）−Ｎ−（スチリルメチル）−アンモニムク
ロリド重合体等が挙げられる。また、好ましい（Ｉ）及
び／又は（ＩＩ）の単位の含有率は５〜１００モル％で
あり、更に好ましくは１０〜１００モル％である。
（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）の単位の含有率が５モル％未
満では画質品質が劣る。好ましい重量平均分子量の範囲
としては１０００〜２０００００であり更に好ましくは
２０００〜１０００００である。分子量が１０００未満
では製造が難しく２０万を越えると溶剤への溶解性が低
下する。

【００３５】これらの樹脂と併用が可能な樹脂は種々あ
るが例えばポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオ
レフィン、エチレンと酢酸ビニルあるいはエチレンとア
クリル酸エステルあるいはエチレンとアクリル酸の如き
エチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸
ビニルの如き塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデ
ン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレン
とマレイン酸エステルの如きスチレン共重合体、体、酢
酸ビニル共重合体、ブチラール樹脂、変成されたポリビ
ニルアルコール、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチ
ル化ナイロン 如きポリアミド樹脂、合成ゴム、塩化ゴ
ム、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、尿
素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、マレイン酸樹
脂、ヒドロキシスチレン共重合体、スルフォンアミド樹
脂、エステルガム、セルロース樹脂、ロジン、等が挙げ
られる。

【００３６】これら樹脂に添加される一般式（Ｉ）及び
／又は（ＩＩ）の繰り返し単位を有する高分子化合物の
添加量は、好ましくは５〜５０重量％でありこれ以上の
添加では受像二層表面がべとつき取扱い上支障をきた
す。特に好ましい範囲としては１０〜３０重量％であ
る。

【００３７】これら樹脂の中には各種界面における接着
力の関係を満たす為に他の密着改良剤、離型剤、可塑
剤、界面活性剤等を添加することができるのは当然であ
る。

【００３８】受像二層に用いる塗布溶剤としては塗布時
における塗布溶剤の下層への浸透による受像一層と受像
二層の混ざり込みを防ぐ目的で、受像一層に用いた樹脂
を溶解もしくは膨潤させないような塗布溶剤を用いるこ
とが必要である。例えば、各種の溶剤に対して比較的溶
解性の良好な塩化ビニル系の樹脂を受像一層に使った場
合にはアルコール系もしくは水系の塗布溶剤を使用する
ことが好ましい。

【００３９】受像二層の膜厚としては、０．１μｍ〜１
０μｍ位が好ましく特に０．５μｍ〜５μｍが好まし
い。膜厚が厚すぎると永久支持体の表面の凹凸感が損な
われ、光沢が出過ぎて印刷物近似性を悪くする。

【００４０】永久支持体への転写時に受像シート材料の
剥離で層間剥離を受像一層の有機高分子物質と受像二層
の有機高分子物質の間で起こさせるには各層間の密着力
のバランスが重要であるが、層間密着力のコントロール
において本発明で利用した重層塗布時の混合を防ぐ為に
塗布溶剤の選択の他に、親水性ポリマーと親油性ポリマ
ーあるいは極性ポリマーと非極性ポリマーの組み合わせ
といった素材の選択、シランカップリング剤等の密着改
良剤、フッ素系やシリコーン系の離型硬化を有する各種
添加剤、界面活性剤．可塑剤等を受像一層あるいは受像
二層に添加することが有効である。

【００４１】受像二層、即ち、熱転写可能なインキ層を
受容する層の上には、受像層の滑り性や耐傷性を向上さ
せる目的で、上塗層として、種々の離型剤や滑剤の層を
設けることができる。具体的には、例えばパルミチン
酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、ステアリン酸亜鉛の
如き脂肪酸金属塩類、脂肪酸エステル類もしくはその部
分ケン化物、脂肪酸アミド類等の脂肪酸誘導体、高級ア
ルコール類、多価アルコール類のエテル等誘導体、パラ
フインワックス、カルナバワックス、モンタンワック
ス、ミツロウ、木ロウ、キヤンデリラワックス等のワッ
クス類、更には長鎖脂肪族基を有するアンモニウム塩、
ピリジニウム塩等のカチオン性界面活性剤、或いは同様
に長鎖脂肪族基を有するアニオン、ノニオン界面活性
剤、パーフロロ系界面活性剤等、から１種以上選択して
用いることができる。

【００４２】上記受像一層と受像二層の間には、転写性
の調整等の目的で、中間層を設けることもできる。

【００４３】次に、本発明に有用な、熱転写可能なイン
キ層を有する転写材料（以下、「熱転写シート」と称す
る）について説明する。

【００４４】熱転写シートの支持体としては、従来の溶
融転写や昇華転写用支持体として公知の種々の支持体が
使用されるが、通常のサーマルヘッド転写感材と同様に
厚み５μｍ前後の裏面に離型処理を施したポリエステル
フィルムが特に好ましい。

【００４５】熱転写シートのインキ層に含まれる顔料と
しては種々の公知の顔料が使用でき、例えばカーボンブ
ラック、アゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、
チオインジゴ系、アンスラキノン系、イソインドリン系
などの顔料が挙げられる。これらは２種以上組み合わせ
て使用することも可能であり、又色相調整のため公知の
染料を添加しても良い。

【００４６】熱転写シートのインキ層に含まれる、軟化
点が５０℃〜１５０℃の非晶質有機高分子結合体として
は、例えばブチラール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエチ
レンイミン樹脂、スルホンアミド樹脂、ポリエステルポ
リオール樹脂、石油樹脂、スチレン、ビニルトルエン、
α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、クロルスチ
レン、ビニル安息香酸、ビニルベンゼンスルホン酸ソー
ダ、アミノスチレン等のスチレン及びその誘導体、置換
体の単独重合体や共重合体、メチルメタクリレート、エ
チルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ヒドロキ
シエチルメタクリレート等のメタクリル酸エステル類及
びメタクリル酸、メチルアクリレート、エチルアクリレ
ート、ブチルアクリレート、α−エチルヘキシルアクリ
レート等のアクリル酸エステル及びアクリル酸、ブタジ
エン、イソプレン等のジエン類、アクリロニトリル、ビ
ニルエーテル類、マレイン酸及びマレイン酸エステル
類、無水マレイン酸、ケイ皮酸、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル等のビニル系単量体の単独あるいは他の単量体等との
共重合体を用いることができる。これらの樹脂は２種以
上混合して用いることもできる。

【００４７】これらの内、後に述べる本発明の特徴であ
る分散性の観点からブチラール樹脂やスチレン／マレイ
ン酸ハーフエステル樹脂などが特に好ましい。これら樹
脂の軟化点は５０℃〜１５０℃の範囲で選ばれるべきで
ある。１５０℃を越えると熱記録感度が低く、他方５０
℃未満ではインキ層の耐接着性が劣る。

【００４８】これらインキ層には、熱印字の際のインキ
層の支持体からの離型性及び熱感度向上の観点から種々
の離型剤や軟化剤をインキ層総量に対して１重量％から
２０重量％の範囲で加えることも可能である。具体的に
は、例えばパルミチン酸、ステアリン酸等の高級脂肪
酸、ステアリン酸亜鉛の如き脂肪酸金属塩類、脂肪酸エ
ステル類もしくはその部分ケン化物、脂肪酸アミド類等
の脂肪酸誘導体、高級アルコール類、多価アルコール類
のエテル等誘導体、パラフインワックス、カルナバワッ
クス、モンタンワックス、ミツロウ、木ロウ、キヤンデ
リラワックス等のワックス類、粘度平均分子量が約１，
０００から約１０，０００程度の低分子量ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフイン
類、或いはオレフイン、α−オレフイン類と無水マレイ
ン酸、アクリル酸、メタクリル酸等の有機酸、酢酸ビニ
ル等との低分子量共重合体、低分子量酸化ポリオレフイ
ン、ハロゲン化ポリオレフイン類、ラウリルメタクリレ
ート、ステアリルメタクリレート等長鎖アルキル側鎖を
有するメタクリル酸エステル、アクリル酸エステル又は
パーフロロ基を有するアクリル酸エステル、メタクリル
酸エステル類の単独もしくはスチレン類等のビニル系単
量体との共重合体、ポリジメチルシロキサン、ポリジフ
エニルシロキサン等の低分子量シリコーンレジン及びシ
リコーン変性有機物質等、更には長鎖脂肪族基を有する
アンモニウム塩、ピリジニウム塩等のカチオン性界面活
性剤、或いは同様に長鎖脂肪族基を有するアニオン、ノ
ニオン界面活性剤、パーフロロ系界面活性剤等、から１
種以上選択して用いることができる。

【００４９】これら熱転写可能なインキ層の光学濃度
は、先に述べた理由により、白色支持体上に熱転写した
際にその反射濃度が１．０以上なければならない。又膜
厚は０．２μｍから１．０μｍの範囲が好ましい。１．
０μｍよりも大きな厚いインキ層においては面積階調の
みによる階調再現性において、シャドウ部がつぶれやす
かったり、ハイライト部がとびやすかったりして、結果
的に階調再現性が劣ることになる。一方、０．２μｍよ
り下の膜厚では、所定の濃度を出すことが難しい。

【００５０】これらの薄膜で所定の濃度を出すために
は、該インキ層中、顔料が３０重量部から７０重量部、
非晶質有機高分子結合体が２５重量〜６０重量部で、必
要に応じ添加される離型性物質や軟膜剤の総量が１重量
部から１５重量部であることが好ましい。顔料比率がこ
れ以下では上記所定の膜厚で所定の濃度を出すことが難
しい。又顔料の粒径は顔料の７０％以上が１．０μｍ以
下であることが必要である。粒径が大きい場合にはカラ
ー再現時の各色の重なり部の透明性が損なわれ、かつ先
の膜厚と濃度の関係の両者を満たすことが困難になる。

【００５１】これら顔料の、非晶質有機高分子結合体へ
の分散に関しては、適切な溶剤を加えて、ボールミルを
初めとする塗料分野で使用される種々の分散方法が適用
される。

【００５２】上記熱転写可能なインキ層は主成分が顔料
と非晶質の有機高分子結合体であり、かつ従来のワック
ス溶融型に比べ、顔料比率も高く、通常の溶融型に比べ
熱転写時の粘度が１０²〜１０³cps のように低くなるこ
とはなく、１５０℃の温度において少く共１０⁴cpsより
も高いので、本発明は、受容シートの熱接着性、あるい
はカラー像作成の場合はインキ層間の熱接着性を利用し
た薄膜剥離現像タイプの画像形成であるということがで
きる。このことがインキ層の薄層化の効果と相いまっ
て、高解像力性を維持した上で、シャドウ部からハイラ
イト部に到る広い階調再現を可能にし、かつエッジシャ
ープネスを良好にし、更に１００％の画像の転写を可能
にすることにより、例えば４ポイントの小さな文字とベ
タ部の濃度の均一性を実現した。以下、本発明を実施例
により更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。

【００５３】

【実施例】

合成例１ ＜高分子化合物（１）の合成＞プロピレングリコ−ルモ
ノメチルエ−テル１７０部を窒素気流下８０℃にて加熱
撹拌し、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロ
ニトリル）０．０７部を加え３０分間撹拌した。これに
ブチルアクリレート３１．６部、Ｎ，Ｎ−ジメチルアク
リルアミド２４．４部、２，２’−アゾビス（２，４−
ジメチルバレロニトリル）０．０７部を３０分間かけて
滴下した。滴下終了の３０分後と１時間後に更に２，
２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を
それぞれ０．１５部添加し、更に４時間加熱撹拌し、高
分子化合物（１）の２８％プロピレングリコ−ルモノメ
チルエ−テル溶液を得た。重量平均分子量は（ポリスチ
レン換算）１３０００であった。

【００５４】合成例２〜５ 表１に示したモノマーを用いて高分子化合物（２）〜
（５）を合成例１と同様にして合成した。 表１：高分子化合物（２）〜（５） ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 合成例 モノマー （ｍｏｌ比） 重量平均分子量 ──────────────────────────────────── ２ ヘキシルアクリレート／ アクリロイルモルホリン＝（１／１） ３１０００ ３ ブチルメタクリレート／ ビニルイミダゾール＝（１／１） １６０００ ４ ブチルメタクリレート／ Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド／ Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリヘキシル）−Ｎ−（スチリルメチル） −アンモニウムクロリド＝（５／５／１） ３９００ ５ ブチルメタクリレート／ Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド／ Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリオクチル）−Ｎ−（スチリルメチル） −アンモニウムクロリド＝（５／５／１） ５４００ ６ Ｎ，Ｎ，Ｎ−（トリヘキシル）−Ｎ−（スチリルメチル） −アンモニウムクロリド ３８００ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

【００５５】実施例１ ＜受像シ−ト材料の作成＞下記の組成を有する受像一層
及び受像二層用の塗布液を調整した。 （受像一層用塗布液） ・結合剤 塩ビ・酢ビ共重合体 ２５重量部 （ＭＰＲ−ＴＳＬ、日信化学（株）製） ・可塑剤 ジブチルオクチルフタレ−ト １２重量部 （ＤＯＰ、大八化学（株）製） ・界面活性剤 ４重量部 （商品名メガファックＦ−１７７Ｐ、大日本インキ化学工業（株）製） ・溶剤 メチルエチルケトン ７５重量部 （受像二層用塗布液） ・結合剤 ポリビニルブチラ−ル １６重量部 （デンカブチラ−ル＃２０００−Ｌ、電気化学工業（株）製） ・高分子化合物（１） ４重量部 ・界面活性剤 ０．５重量部 （商品名メガファックＦ−１７７Ｐ、大日本インキ化学工業（株）製） ・溶剤 ｎ−プロピルアルコ−ル ２００重量部

【００５６】厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレ
−ト（ＰＥＴ）フィルムを支持体上に、回転塗布機（ホ
エラ−）を使用して上記受像一層用塗布液を３００ｒｐ
ｍで塗布し、１００℃のオ−ブン中で２分間乾燥した。
得られた受像一層の膜厚は２０μｍであった。上記受像
一層上に、回転塗布機（ホエラ−）を使用して上記受像
二層用塗布液を２００ｒｐｍで塗布し、１００℃のオ−
ブン中で２分間乾燥した。得られた受像二層の膜厚は２
μｍであった。

【００５７】＜熱転写シートの作成＞次いで下記の３種
のインキ層用顔料分散液を調整した。 ・ブチラ−ル樹脂 １２重量部 （デンカブチラ−ル＃２０００−Ｌ、電気化学工業（株）製） ・顔料 Ａ Ｂ Ｃ シアン顔料（ＣＩ．Ｐ．Ｂ．１５：４） １２重量部 − − マゼンタ顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．５７：１） − １２重量部 − イエロ−顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．１４） − − １２重量部 ・分散助剤 ソルスパ−スＳ−２００００ ０．８重量部 （ＩＣＩジャパン（株）） ・溶剤 ｎ−プロピルアルコ−ル １１０重量部

【００５８】上記Ａ，Ｂ，Ｃの顔料分散液各々１０重量
部に対しステアリン酸アミド０．２４重量部、ｎ−プロ
ピルアルコ−ル６０重量部を加え塗布液とし、厚み５μ
ｍの裏面に離型処理されたポリエステルフィルム（帝人
（株）製）に乾燥膜厚Ａが０．３６μｍ、Ｂが０．３８
μｍ、Ｃが０．４２μｍになるように塗布し熱転写シー
トを作成した。まずシアンの熱転写シ−トと受像シ−ト
材料を重ね、副走査分割法によるサ−マルヘッド記録装
置（試作実験機）により印字した。この原理は７５μｍ
Ｘ５０μｍのヘッドを５０μｍ方向に微小送り３μｍピ
ッチでオンオフする事により面積階調のみの多段階変調
を行う方式である。このシアンの熱転写シ−トを剥離
し、受像シ−ト材料上に面積階調のみよりなる画像を形
成させた。次にマゼンタの熱転写シ−トをシアン画像が
形成されている受像シ−ト材料に重ね、位置を合わせて
同様に印字し、該熱転写シ−トを剥離する事により受像
シ−ト材料上にマゼンタ画像、同様にしてイエロ−画像
を形成させ受像シ−ト材料上に面積階調のみよりなるカ
ラ−画像を形成させた。次にカラ−画像が形成された受
像シ−ト材料をア−ト紙と重ね１３０℃、４．５Ｋｇ／
ｃｍの圧で４ｍ／ｓｅｃの熱ロ−ラ−を通した後、受像
シ−ト材料のポリエステルフィルムを剥しインク画像が
のった受像二層をア−ト紙上に転写し、カラ−画像形成
させた。このカラ−画像はリス原稿から作成したケミカ
ルプル−フ（富士写真フィルム（株）製、商品名カラ−
ア−ト）とカラ−画像の近似性が非常に良好であった。
なおこの際の各単色の反射濃度は下記の通りであっ
た。 また、４Ｐの文字の濃度をミクロデンシトメ−タ−で測
定したが、ベタ部の濃度と同様であった。階調再現性は
５％〜９５％が再現され、ゴミによる欠陥もなくドット
形状が良好で更に、紙の凹凸に追随した表面がマット化
され表面光沢が印刷物に非常に近似した画像であった。

【００５９】実施例２ 実施例１と同様に受像シ−トを作成した。 （受像一層用塗布液） ・結合剤 エチレン・エチルアクリレ−ト共重合体 ２０重量部 （エバフレックスＡ−７０９、三井石油化学（株）製） ・溶剤 トルエン １００重量部 （受像二層用塗布液） ・結合剤 ポリビニルブチラ−ル １６重量部 （デンカブチラ−ル＃２０００−Ｌ、電気化学工業（株）製） ・高分子化合物（２） ４重量部 ・界面活性剤 ０．５重量部 （商品名メガファックＦ−１７７Ｐ、大日本インキ化学工業（株）製） ・溶剤 ｎ−プロピルアルコ−ル ２００重量部

【００６０】得られた受像シ−トと実施例１と同様にし
て作成した感熱転写材料を使用して実施例１と同様にし
てカラ−画像を形成し、画像の評価を行った。その評価
結果を表２に示す。

【００６１】実施例３〜６ 実施例１の受像一層を用い、受像二層の高分子化合物
（１）の代わりに高分子化合物（３）〜（６）を用いた
以外は実施例１と同様にして受像シートを作成した。こ
の受像シートを用い実施例１と同様にカラー画像を形成
し、画像の評価を行なった。その評価結果を表２に示
す。

【００６２】実施例７ 実施例１の受像一層を用い、受像二層に添加剤としてポ
リエチレンイミン（日本触媒（株）製ＳＰ−２００）を
１重量部加えた以外は実施例１と同様にして受像シート
を作成した。この受像層を用い実施例１と同様にカラー
画像を形成したが、非常にドット形状の良好な画像であ
った。

【００６３】実施例８ 界面活性剤の量を４重量部の代わりに０．０１重量部と
した以外は実施例１と同様にして受像シートを作成し、
同様の評価を行ったところ、同様の良好な結果を得た。

【００６４】実施例９ （１）熱転写シ−トの作成 （a）光熱変換層の作成 ＜塗布液用母液の調製＞ ・カ−ボン ブラック（三菱化成株式会社製、 三菱カ−ボンブラック、MK−１００、C.I.Pigment Black 7） ２０重量部 ・分散助剤（ジョンソンポリマ−株式会社製、ジョンクリル Ｊ−６２の３０％水溶液） ６重量部 ・イオン交換水 ８０重量部 ・イソプロピルアルコ−ル ２０重量部 ・ガラスビ−ズ １００重量部 上記の成分を、ペイントシェ−カ−（東洋精機株式会社
製）を使用して２時間分散処理して母液を調製した。

【００６５】 ＜塗布液の調製＞ ・上記の母液 １００重量部 ・ポリビニルアルコ−ル（クラレ株式会社製、ポバ−ル タイプ２０５） ３重量部 ・イソプロピルアルコ−ル １００重量部 ・イオン交換水 ４５０重量部 上記の成分をスタ−ラ−で攪拌しながらに混合して、光
熱変換層用塗布液を調製した。

【００６６】＜支持体の準備＞光熱変換層の塗布厚さ７
５μｍのポリエチレンテレフタレ−トの上に、下塗り層
として、スチレン−ブタジエン共重合体（厚さ０．５μ
ｍ）、ゼラチン（厚さ０．１μｍ）をこの順に設けたフ
ィルムを、熱転写シ−ト用支持体として準備した。この
支持体の上に、上記光熱変換層用塗布液を、回転塗布機
（ホエラ−）を使用して１分間塗布し、塗布物を１００
℃のオ−ブン中で２分間乾燥して、光熱変換層（触針式
膜厚計による膜厚：０．３μｍ、波長４８８nmでの光吸
収率９０％）を作成した。同じ試料を、走査型電子顕微
鏡により断面観察したところ、平均膜厚は０.３μｍ で
あった。

【００６７】 （b）熱剥離層の積層 ＜塗布液の調製＞ ・ニトロセルロ−ス（ダイセル株式会社製、タイプ ＲＳ１／２） １重量部 ・メチルエチルケトン １００重量部 ・プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テルアセテ−ト ２０重量部 上記の成分をスタ−ラ−で攪拌下に混合して、熱剥離層
塗布液を調製した。

【００６８】＜熱剥離層の塗布と膜厚測定＞上記熱転写
シ−ト用支持体に設けた光熱変換層の表面に、上記熱剥
離層用塗布液を、回転塗布機（ホエラ−）を使用して１
分間塗布し、塗布物を１００℃のオ−ブン中で２分間乾
燥した。また、上記熱剥離層塗布液を用い、平滑な表面
を有するポリエステルフィルム上に同条件で塗布乾燥し
た。触針式膜厚計でその時の膜厚を測定したところ０．
１μｍであった。

【００６９】 （c）画像形成層（マゼンタ）の積層 ＜塗布液用母液の調製＞ ・ポリビニルブチラ−ル（電気化学工業株式会社製、デンカブチラ−ル ＃２０００−Ｌ）の２０重量％溶液（溶媒：ｎ−プロピルアルコ−ル） ６３重量部 ・色材（マゼンタ顔料、東洋インキ株式会社製、リオノ−ルレッド ６Ｂ４２９０Ｇ、C.I.Pigment Red 57:1) １２重量部 ・分散助剤（ICI株式会社製、ソルスパ−スＳ−２０，０００） ０.８重量部 ・ｎ−プロピルアルコ−ル ６０重量部 ・ガラスビ−ズ １００重量部 上記の成分を、ペイントシェ−カ−（東洋精機株式会社
製）を使用して２時間分散処理して母液を調製した。

【００７０】 ＜塗布液の調製＞ ・上記の母液 １０重量部 ・n-プロピルアルコ−ル ６０重量部 ・界面活性剤（大日本インキ株式会社製、メガファックＦ−１７６ＰＦ） ０.０５重量部 上記の成分をスタ−ラ−で攪拌下に混合して、マゼンタ
用画像形成層塗布液を調製した。

【００７１】＜マゼンタ用画像形成層塗布液の塗布、膜
厚の測定＞上記熱転写シ−ト用支持体に設けた熱剥離層
の表面に、上記画像形成層用塗布液を、回転塗布機（ホ
エラ−）を使用して１分間塗布し、塗布物を１００℃の
オ−ブン中で２分間乾燥して、マクベス濃度計での光学
濃度は０.７の画像形成層を積層し、熱転写シ−トを作
成した。上記画像形成層用塗布液を同条件でポリエステ
ルフィルム（１００μｍ厚）に塗布、乾燥し、膜厚を測
定したところ０．３μｍであった。走査型電子顕微鏡に
より、熱転写シ−トのマゼンタ画像形成層の膜厚を、断
面観察法により測定したところ、平均はほぼ０．３μｍ
であった。

【００７２】（２）受像シート材料の作成 実施例１と同様にして、受像シート材料を作成した。

【００７３】（３）積層体の作成 上記のようにして作成した熱転写シートと受像シート材
料を、表面温度７０℃、圧力４.５ｋｇ／ｃｍ²のヒート
ローラに速度２００ｃｍ／分の速度で通し、受像層と熱
転写可能なインキ層とが実質的に均一に接触するように
積層体を作成した。ここで圧力は、富士写真フィルム株
式会社製の圧力測定用感圧発色材料（プレスケ−ル）を
用い、室温のロ−ラを通して測定した。

【００７４】（４）上記のようにして得られた積層体
を、熱転写シート支持体がレーザ光入射面、受像シート
材料支持体が回転ドラム面と接するように、真空吸着用
のサクション穴の開いた回転ドラムに巻き付け、真空引
き、固定した。波長８３０nmの半導体レーザ光を、光熱
変換層上で８μｍのスポット状に集光し、回転ドラムの
回転方向（主走査方向）に対し直角方向に移動（副走
査）しつつ記録画像に応じてレーザー光を変調し、下記
の条件でレーザ記録を行なった。 レーザパワー １００ｍＷ 主走査速度 ８ｍ／秒 副走査ピッチ（１回転当たりの副走査量） ５μｍ

【００７５】（５）記録後、上記積層体をドラムから取
り外し、受像シート材料と熱転写シートを手により、引
き離したところ、レーザ照射部のみの画像形成層が受像
層に転写していることが、明瞭に観察された。更に、光
学顕微鏡により転写画像を観察したところ、２００線／
インチの網点が３〜９８％の範囲で再現されていた。網
点形状も良好であった。

【００７６】実施例１０ 受像層に添加する化合物を、化合物（１）から化合物
（４）に代えた以外は実施例９と同様にして画像を形成
し同様にして評価したところ、２００線／インチの網点
が４〜９６％の範囲で再現されていた。網点形状も良好
であった。

【００７７】比較例１ 受像二層に高分子化合物（１）を用いなかった以外は実
施例１と同様にして受像シ−トを作成した。この受像シ
−トを用い実施例１と同様にカラ−画像を形成したが、
ドット形状が悪く、再現階調性に劣るものであった。

【００７８】比較例２ 受像二層に高分子化合物（１）を用いず、代わりにフェ
ノ−ルレジン（住友デュレス製：商品名フェノ−ルホル
ムアルデヒド重縮合物。ＰＲ−５１６００Ｂ、分子量約
４５０、融点５５℃）を添加した以外は実施例１と同様
にして受像シ−トを作成した。この受像シ−トを用い実
施例１と同様にカラ−画像を形成したが、ドット形状が
悪く、再現階調性に劣り、更に表面にベトツキ感があっ
た。

【００７９】比較例３ 受像二層に高分子化合物（１）を用いず、代わりにロジ
ン（荒川化学工業（株）製：商品名ＫＲ−６１０水添ロ
ジン、軟化点８５℃）を添加した以外は実施例１と同様
にして受像シ−トを作成した。この受像シ−トを用い実
施例１と同様にカラ−画像を形成したが、ドット形状が
悪く、シャドウ部の再現階調性に劣ったものであった。

【００８０】比較例４ 受像二層に高分子化合物（１）を用いず、代わりにナイ
ロン（ダイセル化学（株）製、ダイアミドＸ−１８７
４）を添加した以外は実施例１と同様にして受像シ−ト
を作成した。この受像シ−トを用い実施例１と同様にカ
ラ−画像を形成したが、受像シ−ト表面がべとつき、更
にゴミ欠陥が多く、画質の劣るものであった。

【００８１】比較例５ マゼンタの転写シート作成において、ブチラ−ル樹脂の
添加量を１２重量部から３６重量部に変え、膜厚を０．
３８μｍから１．１４μｍに変えた熱転写シ−トを用
い、実施例１と同様の受像シ−トを用いて実施例１と同
様にカラ−画像を形成したところ、トナ−層のきれが非
常に悪く、ハイライトとシャドウ部の再現性が非常に悪
く非常にドット品質の悪い画像であった。

【００８２】比較例６ 受像シート材料として比較例１で作成したものを用いた
以外は、実施例４と同様にして画像を作成した。同様に
して網点を観察したところ、８〜９２％の網点しか再現
されず、形状不揃いであった。

【００８３】表２に評価結果をまとめて示す。 表２：評価結果 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 受像二層 受像層膜厚 ドット 階調 表面 ステイッ ゴミ 添加化合物 一層 二層 品質 性 ヘ゛トツキ キンク゛ 欠陥 ──────────────────────────────────── 実施例１ 化合物（１） 20μm 2μm ○ Ｏ Ｏ Ｏ １０ 実施例２ 化合物（２） 20μm 2μm ○ Ｏ Ｏ Ｏ ６ 実施例３ 化合物（３） 20μm 2μm ○ Ｏ Ｏ Ｏ ６ 実施例４ 化合物（４） 20μm 2μm ◎ Ｏ Ｏ Ｏ ６ 実施例５ 化合物（５） 20μm 2μm ◎ Ｏ Ｏ Ｏ ６ 実施例６ 化合物（６） 20μm 2μm ◎ Ｏ Ｏ Ｏ ９ 実施例７ 化合物（１） 20μm 2μm ◎ Ｏ Ｏ Ｏ １１ ホ゜リエチレンイミン 実施例８ 化合物（１） 20μm 2μm ◎ Ｏ Ｏ Ｏ ９ 界面活性剤0.01部 ──────────────────────────────────── 比較例１ − 20μm 2μm △ △ Ｏ Ｏ ９ 比較例２ フェノ-ル樹脂 20μm 2μm × × × × ７０ 比較例３ ロジン 20μm 2μm △ × △ △ ５０ 比較例４ ナイロン 20μm 2μm △ △ △ △ ６０ 比較例５ 化合物（１） 20μm 2μm × × Ｏ Ｏ １０ （感熱転写層膜厚1.14μｍ） ──────────────────────────────────── 網点形状 網点再現％ 実施例９ 化合物（１） 20μm 2μm 良好 ３−９８ 実施例１０化合物（４） 20μm 2μm 良好 ４−９６ 比較例６ − 20μm 2μm 不良 ８−９２ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ＊ゴミ欠陥（Ａ４サイズを計数）

【００８４】

【発明の効果】本発明の受像シート材料、転写画像形成
方法及び積層体により、記録感度、ドット品質（網点形
状）、諧調再現性（網点再現性）が良く、更にスティキ
ングやゴミ欠陥の少ない印刷物近似性の良い画像を提供
することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平８−58253（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−197862（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−236985（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−113894（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B41M 5/38 - 5/40

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 熱転写可能なインキ層を有する転写材料
   から受像シート材料上にインキ層を熱転写し、次いで永
   久支持体上に再転写する転写画像の形成に用いる受像シ
   ート材料において、該受像シート材料が、支持体上に少
   なくとも２層の受像層を有し、該受像層の少なくとも１
   層が永久支持体に転写され、少なくとも該インキ層が転
   写される受像層がポリビニルブチラール樹脂及び少なく
   とも下記一般式（Ｉ）及び／又は一般式（ＩＩ）の繰り
   返し単位を有する高分子化合物を含有することを特徴と
   する受像シート材料。 【化１】 〔式中のＲ₁は水素原子もしくはメチル基、Ａは−ＣＯ
   ＮＨＲ ₂ 、−ＣＯＮＲ ₂ Ｒ ₃ もしくは含窒素ヘテロ環を表
   し、Ｒ ₂ およびＲ ₃ は各々独立に、水素原子、炭素数１〜
   １８のアルキル基もしくは炭素数６〜２０のアリール基
   （該アルキル基、アリール基はヒドロキシ基、炭素数１
   〜６のアルコキシ基、ハロゲン、シアノ基の１つ以上、
   及びこれらの２種以上の組合せで置換されてても良い）
   を表す。Ｒ₄は水素原子もしくはメチル基を、Ｒ₆、
   Ｒ₇、Ｒ₈は、同一でも異なってもよい炭素数１〜２５の
   アルキル基、炭素数７〜２５のアラルキル基もしくは炭
   素数６〜２５のアリール基（該アルキル基、アラルキル
   基、アリール基は、ヒドロキシ基、炭素数１〜６のアル
   コキシ基、ハロゲン、シアノ基及びこれらの２種以上の
   組合せで置換されても良く、途中にエーテル結合、−Ｏ
   ＣＯ−、−ＣＯＯ−及びこれらの２種以上の組合せを介
   していてもよい）を、ＸはＣｌ、ＢｒもしくはＩをそれ
   ぞれ示す。〕
2. 【請求項２】 支持体上に設けた、３０〜７０重量部の
   顔料、２５〜６０重量部の軟化点が４０〜１５０℃の非
   晶質有機高分子重合体を含み、膜厚が０．２μｍ〜１．
   ０μｍである熱転写可能なインキ層を請求項１に記載の
   受像シート材料に密着させ、熱転写により該受像シート
   材料上にインキ画像を形成し、次いで該インキ画像及び
   少なくとも受像層の１層を永久支持体上に転写すること
   を特徴とする転写画像形成方法。
3. 【請求項３】 支持体上に設けた、３０〜７０重量部の
   顔料、２５〜６０重量部の軟化点が４０〜１５０℃の非
   晶質有機高分子重合体を含み、膜厚が０．２μｍ〜１．
   ０μｍである熱転写可能なインキ層と、請求項１に記載
   の受像層とを密着させたことを特徴とする積層体。