JPH0820638B2 - 液晶装置およびその作製方法 - Google Patents
液晶装置およびその作製方法Info
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- JPH0820638B2 JPH0820638B2 JP61186201A JP18620186A JPH0820638B2 JP H0820638 B2 JPH0820638 B2 JP H0820638B2 JP 61186201 A JP61186201 A JP 61186201A JP 18620186 A JP18620186 A JP 18620186A JP H0820638 B2 JPH0820638 B2 JP H0820638B2
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
Description
【発明の詳細な説明】 『発明の利用分野』 本発明は、液晶表示パネルに関するものであって、マ
イクロコンピュータ、ワードプロセッサまたはテレビ等
の表示部の薄型化を図る単純マトリックス方式の液晶装
置およびその作製方法に関する。
イクロコンピュータ、ワードプロセッサまたはテレビ等
の表示部の薄型化を図る単純マトリックス方式の液晶装
置およびその作製方法に関する。
『従来の技術』 従来の液晶表示装置に関しては、２つの透明基板の内
側にそれぞれ透明導電膜、配向膜が設けられ、この間に
液晶を充填して、２つの電極間に印加される「電圧の有
無」または「電圧の向き」により液晶の「オン」「オ
フ」を制御していた。そしてこの表示により、文字、グ
ラフまたは絵を表示するものである。
側にそれぞれ透明導電膜、配向膜が設けられ、この間に
液晶を充填して、２つの電極間に印加される「電圧の有
無」または「電圧の向き」により液晶の「オン」「オ
フ」を制御していた。そしてこの表示により、文字、グ
ラフまたは絵を表示するものである。
この単純マトリックス構成をさせた透光性導電膜であ
っても、Ｘ方向の電極・リード群およびＹ方向の電極・
リード群はともにフォトマスク、フォトレジストを用い
たフォトエッチングの工程を用いている。このため、単
純マトリックスというきわめて単純な電極・リード群で
あっても、きわめて精密なフォトエッチングプロセスを
用いることを常としていた。
っても、Ｘ方向の電極・リード群およびＹ方向の電極・
リード群はともにフォトマスク、フォトレジストを用い
たフォトエッチングの工程を用いている。このため、単
純マトリックスというきわめて単純な電極・リード群で
あっても、きわめて精密なフォトエッチングプロセスを
用いることを常としていた。
このため、電極・リードの作製に多くの工程を必要と
し、結果として、この作製によりパネル全体の価格上昇
は避けられないものとなってしまった。
し、結果として、この作製によりパネル全体の価格上昇
は避けられないものとなってしまった。
他方、本発明人はこの単純マトリックス構成を作製す
るに際し、基板上な周辺部を除き全面に極細（10〜100
μｍ）の巾の線状のレーザ光を照射して、この照射され
た部分のみを選択的に除去し、残された部分を電極・リ
ードとする構成を発明した。この方式を用いるならば、
基板上に周辺部を除き、全面に形成された透光性導電膜
に対し、フォトレジストのコート工程、プリベーク工
程、露光工程、現像工程、ポストベーク工程、透光性導
電膜のエッチング工程、レジストの剥離工程を経ること
なくパターニングすることが可能となる。
るに際し、基板上な周辺部を除き全面に極細（10〜100
μｍ）の巾の線状のレーザ光を照射して、この照射され
た部分のみを選択的に除去し、残された部分を電極・リ
ードとする構成を発明した。この方式を用いるならば、
基板上に周辺部を除き、全面に形成された透光性導電膜
に対し、フォトレジストのコート工程、プリベーク工
程、露光工程、現像工程、ポストベーク工程、透光性導
電膜のエッチング工程、レジストの剥離工程を経ること
なくパターニングすることが可能となる。
また従来方式においては、Ｘ方向の透明導電膜の電極
・リード群と、他方のＹ方向の透光性導電膜の電極・リ
ード群との位置合わせに関し、基板と周辺回路とのフレ
キシブルコネクタによる連結の際にはきわめて精密に実
行することが必要とされていた。このため、第１図
（９）に示す如く、パネルの周辺部においてパネルの封
止用樹脂に接触することなく電極・リードを配設するこ
とが重要であった。
・リード群と、他方のＹ方向の透光性導電膜の電極・リ
ード群との位置合わせに関し、基板と周辺回路とのフレ
キシブルコネクタによる連結の際にはきわめて精密に実
行することが必要とされていた。このため、第１図
（９）に示す如く、パネルの周辺部においてパネルの封
止用樹脂に接触することなく電極・リードを配設するこ
とが重要であった。
第１図に従来の液晶表示装置の縦断面図が示されてい
る。
る。
この図面において、液晶表示用の２つの透明基板
（１），（１′）の周辺部には液晶が外部にもれないよ
う樹脂とスペーサ（７）とを混合したシール材（６）が
設けられ、２つの基板間を一定に保っている。かつこの
封止用樹脂が電極・リード（２），（２′）と決して触
れることのないように注意が払われている。もしこの電
極の一部が樹脂（６）に覆われると、その部分には液晶
（５）が充填されず表示不可能領域となるからである。
このため、電極・リードの端部と樹脂（６）との端部の
間（９）は３〜5mmもあけておくことが一般的である。
（１），（１′）の周辺部には液晶が外部にもれないよ
う樹脂とスペーサ（７）とを混合したシール材（６）が
設けられ、２つの基板間を一定に保っている。かつこの
封止用樹脂が電極・リード（２），（２′）と決して触
れることのないように注意が払われている。もしこの電
極の一部が樹脂（６）に覆われると、その部分には液晶
（５）が充填されず表示不可能領域となるからである。
このため、電極・リードの端部と樹脂（６）との端部の
間（９）は３〜5mmもあけておくことが一般的である。
『本発明が解決しようとする問題点』 しかしこの間隙（９）は製造プロセスにおけるマージ
ンとしてとらえられ、本来表示部をより大きくするため
には全く不要なものであった。
ンとしてとらえられ、本来表示部をより大きくするため
には全く不要なものであった。
加えて電極・リードと周辺回路用のPCB（プラスチッ
ク基板）との連結はこれまできわめて精密なはりあわせ
による電気的連結を必要としていた。
ク基板）との連結はこれまできわめて精密なはりあわせ
による電気的連結を必要としていた。
しかしこの精密はフレキシブル配線群により、それぞ
れのリードが数百μｍ間隔に精密に配設され、かつそれ
ぞれが液晶表示パネルの電極・リードと一対一の対応を
して連結する。加えて、電気的分離領域において、それ
ぞれの電極・リードが隣の電極・リードとの電気的ショ
ートを防ぐという精密なパターンを互いに位置合わせす
ることはきわめて高度な技術を必要とし、製造歩留まり
の低下及び製造価値の上昇を誘発してしまった。
れのリードが数百μｍ間隔に精密に配設され、かつそれ
ぞれが液晶表示パネルの電極・リードと一対一の対応を
して連結する。加えて、電気的分離領域において、それ
ぞれの電極・リードが隣の電極・リードとの電気的ショ
ートを防ぐという精密なパターンを互いに位置合わせす
ることはきわめて高度な技術を必要とし、製造歩留まり
の低下及び製造価値の上昇を誘発してしまった。
『問題を解決するための手段』 本発明は上記問題を解決するために、第１の基板上に
Ｘ方向にストライプ状に設けられた複数の導電性薄膜
と、第２の基板上にＹ方向にストライプ状に設けられた
複数の導電性薄膜とを有し、前記第１の基板上に設けら
れた導電性薄膜と前記第２の基板上に設けられた導電性
薄膜とを、液晶および該液晶の周囲に設けた封止用の有
機樹脂を介して対抗させて設けた液晶表示装置におい
て、前記有機樹脂によって形成される前記液晶が存在す
る表示領域が、前記第１の基板上に設けられた複数の導
電性薄膜と前記第２の基板上に設けられた複数の導電性
薄膜とが重なる領域の内側に設けられていることを特徴
とする液晶装置である。
Ｘ方向にストライプ状に設けられた複数の導電性薄膜
と、第２の基板上にＹ方向にストライプ状に設けられた
複数の導電性薄膜とを有し、前記第１の基板上に設けら
れた導電性薄膜と前記第２の基板上に設けられた導電性
薄膜とを、液晶および該液晶の周囲に設けた封止用の有
機樹脂を介して対抗させて設けた液晶表示装置におい
て、前記有機樹脂によって形成される前記液晶が存在す
る表示領域が、前記第１の基板上に設けられた複数の導
電性薄膜と前記第２の基板上に設けられた複数の導電性
薄膜とが重なる領域の内側に設けられていることを特徴
とする液晶装置である。
また本発明は、第１の基板上にＸ方向にストライプ状
に設けられた複数の導電性薄膜と、第２の基板上にＹ方
向にストライプ状に設けられた複数の導電性薄膜とを、
液晶および該液晶の周囲に設けた封止用の有機樹脂を介
して対抗させて設けるに際し、前記有機樹脂によって形
成される前記液晶が存在する表示領域が、前記第１の基
板上に設けられた複数の導電性薄膜と前記第２の基板上
に設けられた複数の導電性薄膜とが重なる領域の内側に
設けられるように前記有機樹脂を設けることを特徴とす
る液晶装置の作製方法である。
に設けられた複数の導電性薄膜と、第２の基板上にＹ方
向にストライプ状に設けられた複数の導電性薄膜とを、
液晶および該液晶の周囲に設けた封止用の有機樹脂を介
して対抗させて設けるに際し、前記有機樹脂によって形
成される前記液晶が存在する表示領域が、前記第１の基
板上に設けられた複数の導電性薄膜と前記第２の基板上
に設けられた複数の導電性薄膜とが重なる領域の内側に
設けられるように前記有機樹脂を設けることを特徴とす
る液晶装置の作製方法である。
すなわち本発明は、第１の基板と第２の基板を対抗さ
せて形成される、Ｘ方向とＹ方向のストライプ状の導電
性薄膜群が向かい合って重なっている領域の内側に、表
示を行うための液晶が存在する表示領域が設けられるよ
うに、封止用の有機樹脂を設けたものである。
せて形成される、Ｘ方向とＹ方向のストライプ状の導電
性薄膜群が向かい合って重なっている領域の内側に、表
示を行うための液晶が存在する表示領域が設けられるよ
うに、封止用の有機樹脂を設けたものである。
したがって本発明は、上下のパネル（基板）の位置合
わせに対し、きわめて大きなマージンを与えるものであ
る。
わせに対し、きわめて大きなマージンを与えるものであ
る。
本発明を実施するに際し、Ｘ方向の透明導電膜の電極
・リード群とＹ方向の透明導電膜の電極・リード群は周
辺部（透明導電膜の被膜作製の際、反対面及び側周辺に
導電膜材料がまわりこむことを防ぐ意味での周辺部）を
除く全面に形成することは有効である。
・リード群とＹ方向の透明導電膜の電極・リード群は周
辺部（透明導電膜の被膜作製の際、反対面及び側周辺に
導電膜材料がまわりこむことを防ぐ意味での周辺部）を
除く全面に形成することは有効である。
即ち、まず基板上の周辺部を除く全面に透明導電膜を
形成する。さらに実施例に従いエキシマレーザ光を用い
線状のパターニングを行う。さらにこのパターニングに
より一方の電極・リード群はＸ方向に、また他方の電極
・リード群はＹ方向に配設する。この後、スペーサを用
いつつ、周辺部を所定の電極間隔とするように樹脂封止
を行う。この液晶の領域を除き、かつ上下の電極間隔を
一定にするための樹脂は、第４図に示す如く、Ｘ方向ま
たはＹ方向の電極・リード部の周辺部に位置する電極・
リードをも覆って封止をさせる。このことにより、本発
明においては２つのパネルの精密な位置合わせをまった
く必要としない。ただ、２つのパネルがはりあわせた後
再び剥離しない程度に十分の強度を有せしめることが重
要である。
形成する。さらに実施例に従いエキシマレーザ光を用い
線状のパターニングを行う。さらにこのパターニングに
より一方の電極・リード群はＸ方向に、また他方の電極
・リード群はＹ方向に配設する。この後、スペーサを用
いつつ、周辺部を所定の電極間隔とするように樹脂封止
を行う。この液晶の領域を除き、かつ上下の電極間隔を
一定にするための樹脂は、第４図に示す如く、Ｘ方向ま
たはＹ方向の電極・リード部の周辺部に位置する電極・
リードをも覆って封止をさせる。このことにより、本発
明においては２つのパネルの精密な位置合わせをまった
く必要としない。ただ、２つのパネルがはりあわせた後
再び剥離しない程度に十分の強度を有せしめることが重
要である。
この単純マトリックスにおいて、外部回路との連結用
のフレキシブル配線は、さらにその内側のＸ方向の電極
・リード群（第４図（Ｃ）では（30′）に対応）または
Ｙ方向の電極・リード群（第４図（Ｃ）では（31′）に
対応）と連結すればよい。
のフレキシブル配線は、さらにその内側のＸ方向の電極
・リード群（第４図（Ｃ）では（30′）に対応）または
Ｙ方向の電極・リード群（第４図（Ｃ）では（31′）に
対応）と連結すればよい。
『作用』 かくすることにより、単純マトリックスの電極群を作
るに際し、フォトエッチング工程を必要としなくなっ
た。また、上下のパネルのはり合わせの際、精密な位置
合わせが不要となった。
るに際し、フォトエッチング工程を必要としなくなっ
た。また、上下のパネルのはり合わせの際、精密な位置
合わせが不要となった。
さらに、周辺回路構成用のPCBとのフレキシブル配線
による連結も精密な位置合わせを不要にできた。
による連結も精密な位置合わせを不要にできた。
これらにより、これまで大型化に最も重要な信頼性低
下の原因であった外部回路と液晶表示装置との連結部に
おける信頼性の低下を完全に防ぐことができるようにな
った。
下の原因であった外部回路と液晶表示装置との連結部に
おける信頼性の低下を完全に防ぐことができるようにな
った。
以下に実施例に従い、本発明を説明する。
『実施例』 実施例１ 第２図は本発明の液晶表示装置の作製に必要な透明導
電膜のパターニングをレジストレスであってかつフォト
マスクを用いることにより実施したものである。
電膜のパターニングをレジストレスであってかつフォト
マスクを用いることにより実施したものである。
第２図にエキシマレーザを用いた本発明のレーザ加工
の系統図を記す。エキシマレーザ（17）（波長248nm,Eg
＝5.0eV）を用いた。すると、初期の光ビーム（18）は1
6mm×20mmを有し、効率３％であるため、350mJを有す
る。さらにこのビームをビームエキスパンダ（16）にて
長面積化または大面積化した、即ち16mm×300mmに拡大
した（第２図（11）） この装置に5.6×10-2mJ/mm2をエネルギ密度で得た。
の系統図を記す。エキシマレーザ（17）（波長248nm,Eg
＝5.0eV）を用いた。すると、初期の光ビーム（18）は1
6mm×20mmを有し、効率３％であるため、350mJを有す
る。さらにこのビームをビームエキスパンダ（16）にて
長面積化または大面積化した、即ち16mm×300mmに拡大
した（第２図（11）） この装置に5.6×10-2mJ/mm2をエネルギ密度で得た。
更に合成石英製のシリンドリカルレンズ（14）で加工
面での開溝巾がマスクを用いない場合100μｍとなるべ
く集光（12−１）した。石英板のマスク（３）を用い
た。このマスクの下側にクロム、MoSi2等の耐熱性遮光
材（３′）が選択的に設けられ、マスクを構成してい
る。ここで集光光（12−１）より選択的に一部の光（12
−１）を選び、被加工面（２）に照射する。
面での開溝巾がマスクを用いない場合100μｍとなるべ
く集光（12−１）した。石英板のマスク（３）を用い
た。このマスクの下側にクロム、MoSi2等の耐熱性遮光
材（３′）が選択的に設けられ、マスクを構成してい
る。ここで集光光（12−１）より選択的に一部の光（12
−１）を選び、被加工面（２）に照射する。
かくして長さ30cm、巾20μのスリット状のビーム（12
−２）を基板（１）上の被加工物（２）に線状に照射
し、加工を行い、開溝（８）を形成した。
−２）を基板（１）上の被加工物（２）に線状に照射
し、加工を行い、開溝（８）を形成した。
被加工面として、ガラス状の透明導電膜（Eg＝3.5e
V）を有する基板（１）に対し、エキシマレーザ（Quest
ec Inc.製）を用いた。
V）を有する基板（１）に対し、エキシマレーザ（Quest
ec Inc.製）を用いた。
パルス光はKrF248nmとした。光学的エネルギバンド巾
が5.0eVであるため、十分光を吸収し、透明導電膜のみ
を選択的に加工し得るからである。
が5.0eVであるため、十分光を吸収し、透明導電膜のみ
を選択的に加工し得るからである。
パルス巾20n秒、繰り返し周波数１〜100Hz、例えば10
Hz、また、被加工物はガラス基板上のCTF（透光性導電
膜）である酸化スズ（SnO2)を用いた。
Hz、また、被加工物はガラス基板上のCTF（透光性導電
膜）である酸化スズ（SnO2)を用いた。
この被膜に加工を行うと、１回のみの線状のパルス光
の照射でスリット（８）が完全に白濁化されCTFが微粉
末になった。これをアセトン水溶液にての超音波洗浄
（周波数29KHz）を約１〜10分行いこのCTFを除去した。
下地のソータガラスはまったく損傷を受けていなかっ
た。
の照射でスリット（８）が完全に白濁化されCTFが微粉
末になった。これをアセトン水溶液にての超音波洗浄
（周波数29KHz）を約１〜10分行いこのCTFを除去した。
下地のソータガラスはまったく損傷を受けていなかっ
た。
第３図は第２図におけるレーザビーム光の状態を解説
したものである。即ち、レーザ光より照射された状態は
第３図（Ａ）の矩形（18）となる。これがエキスパンダ
にて長さ方向に拡大（11）され、第３図（Ｂ）を得る。
さらにフォトマスクにより一部周辺（12−１）が除去さ
れ、極細の開溝（12−２）が第３図（Ｃ−１）・・（Ｃ
−３）の如く形成される。ビーム光（12−１）の巾は10
0μｍとし、マスクで一部が遮光されたビームの巾は（1
2−２）の20μｍとした。この時、単純に中央部のみマ
スクで選択すると第３図（Ｃ−１）を得る。また端部を
太くすると第３図（Ｃ−２）を得る。この図面におい
て、端部にはマスクがない場合である。端部を太くしつ
つも、この太さ、形状をマスクで規定すると第３図（Ｃ
−３）となる。第３図（Ｃ−３）は第３図（Ｃ−１），
（Ｃ−２）に比べわかりやすくするため、図面を拡大し
てある。
したものである。即ち、レーザ光より照射された状態は
第３図（Ａ）の矩形（18）となる。これがエキスパンダ
にて長さ方向に拡大（11）され、第３図（Ｂ）を得る。
さらにフォトマスクにより一部周辺（12−１）が除去さ
れ、極細の開溝（12−２）が第３図（Ｃ−１）・・（Ｃ
−３）の如く形成される。ビーム光（12−１）の巾は10
0μｍとし、マスクで一部が遮光されたビームの巾は（1
2−２）の20μｍとした。この時、単純に中央部のみマ
スクで選択すると第３図（Ｃ−１）を得る。また端部を
太くすると第３図（Ｃ−２）を得る。この図面におい
て、端部にはマスクがない場合である。端部を太くしつ
つも、この太さ、形状をマスクで規定すると第３図（Ｃ
−３）となる。第３図（Ｃ−３）は第３図（Ｃ−１），
（Ｃ−２）に比べわかりやすくするため、図面を拡大し
てある。
この作業を繰り返すことにより、第４図（Ａ−１），
（Ａ−２）に示された単純マトリックスの電極・リード
群を得ることができる。
（Ａ−２）に示された単純マトリックスの電極・リード
群を得ることができる。
第４図を以下に説明する。
実施例２ 第４図は実施例１により得られた透明導電膜を用いた
電極・リード群により液晶表示装置を作った例である。
電極・リード群により液晶表示装置を作った例である。
第４図（Ａ−１），（Ａ−２）は、一対のガラス基板
（１），（１′）を有する。その内側にＸ方向の電極・
リード（２′）及びＹ方向の電極・リード（２′）を有
する。
（１），（１′）を有する。その内側にＸ方向の電極・
リード（２′）及びＹ方向の電極・リード（２′）を有
する。
この一対のパネルを一定の間隔とし、周辺部を有機樹
脂（６）により封止すると、この有機樹脂は基板の周辺
のみでなく、一部の電極上面（30−１），（30−２）を
も覆って、それぞれの基板（１），（１′）を近接固定
せしめている。図面ではＹ方向の電極・リードにおける
端部のすべて（30−１）を覆っている。この平面図を第
４図（Ｃ）に示す。図面より明らかな如く、ここではＹ
方向の電極・リード（30−３）及びＸ方向の電極・リー
ド（31−３）をマージンをとるため使用せず、表示に直
接用いる電極・リードは（30′），（31′）の領域であ
る。即ちこの領域の電極・リードと周辺回路が設けら
れ、PCBとをフレキシブル配線で連結させた。この配線
の合わせ精度の誤差により、未使用の電極・リードを１
つ（30−３），（31−３）有するが、これはない場合ま
たは２つまたはそれ以上生ずる場合もあり得る。
脂（６）により封止すると、この有機樹脂は基板の周辺
のみでなく、一部の電極上面（30−１），（30−２）を
も覆って、それぞれの基板（１），（１′）を近接固定
せしめている。図面ではＹ方向の電極・リードにおける
端部のすべて（30−１）を覆っている。この平面図を第
４図（Ｃ）に示す。図面より明らかな如く、ここではＹ
方向の電極・リード（30−３）及びＸ方向の電極・リー
ド（31−３）をマージンをとるため使用せず、表示に直
接用いる電極・リードは（30′），（31′）の領域であ
る。即ちこの領域の電極・リードと周辺回路が設けら
れ、PCBとをフレキシブル配線で連結させた。この配線
の合わせ精度の誤差により、未使用の電極・リードを１
つ（30−３），（31−３）有するが、これはない場合ま
たは２つまたはそれ以上生ずる場合もあり得る。
「効果」 本発明は以上に示す如く、透明基板上の透明導電膜の
パターニングをレジストレスプロセスを用い、エキシマ
レーザ光による線スクライブプロセスにより実施した。
このため、透光性基板上の導電膜のパターニングが廉価
となる。しかしこの工程には欠点とされている任意形状
を有せしめ得ないことに関しては、本発明の目的の単純
マトリックス構成の液晶表示装置においては何ら欠点と
ならないことも判明した。また、実施例１で示した如
く、周辺部の一部の電極・リードを周辺部の樹脂封止材
により覆って実施させた。このため２つのパネルの位置
合わせを精密に行うことを不要とさせた。
パターニングをレジストレスプロセスを用い、エキシマ
レーザ光による線スクライブプロセスにより実施した。
このため、透光性基板上の導電膜のパターニングが廉価
となる。しかしこの工程には欠点とされている任意形状
を有せしめ得ないことに関しては、本発明の目的の単純
マトリックス構成の液晶表示装置においては何ら欠点と
ならないことも判明した。また、実施例１で示した如
く、周辺部の一部の電極・リードを周辺部の樹脂封止材
により覆って実施させた。このため２つのパネルの位置
合わせを精密に行うことを不要とさせた。
さらにこの有効なＸ方向、Ｙ方向に単純マトリックス
化された電極・リード表示と外部回路で連結も精密に位
置合わせを必要としなかった。
化された電極・リード表示と外部回路で連結も精密に位
置合わせを必要としなかった。
もちろんIC（集積回路）をこの透明基板の周辺部にオ
ンチップ化（チップのまま装着）することにより低価格
化を図ることに有効である。
ンチップ化（チップのまま装着）することにより低価格
化を図ることに有効である。
本発明において、一対の電極・リードまたは透過型の
液晶表示装置においては双方を透光性とすることが有効
であった。他方反射型の表示装置において、その反射面
を一方の液晶に密接した電極・リードとすることも可能
である。かかる場合、偏光板も１枚でよく、低価格化が
可能であり、この場合は電極・リードは一方は透光性導
電膜よりなり、他方は反射性の金属により設けることが
好ましい。本発明の液晶表示装置において一対の電極間
には配向膜、液晶が充填され、また必要に応じカラーフ
ィルタを内臓させ得る。
液晶表示装置においては双方を透光性とすることが有効
であった。他方反射型の表示装置において、その反射面
を一方の液晶に密接した電極・リードとすることも可能
である。かかる場合、偏光板も１枚でよく、低価格化が
可能であり、この場合は電極・リードは一方は透光性導
電膜よりなり、他方は反射性の金属により設けることが
好ましい。本発明の液晶表示装置において一対の電極間
には配向膜、液晶が充填され、また必要に応じカラーフ
ィルタを内臓させ得る。
第１図は従来の液晶表示装置の縦断面図を示す。 第２図は本発明のための導電膜の作製例用のエキシマレ
ーザを２回用いた光学系を示す。 第３図は第２図で形成される光パターンを示す。 第４図は本発明の液晶表示装置の工程及び完成例の縦断
面図及び平面図の一部を拡大して示す。
ーザを２回用いた光学系を示す。 第３図は第２図で形成される光パターンを示す。 第４図は本発明の液晶表示装置の工程及び完成例の縦断
面図及び平面図の一部を拡大して示す。
Claims (2)
- 【請求項１】第１の基板上にＸ方向にストライプ状に設
けられた複数の導電性薄膜と、 第２の基板上にＹ方向にストライプ状に設けられた複数
の導電性薄膜とを有し、 前記第１の基板上に設けられた導電性薄膜と前記第２の
基板上に設けられた導電性薄膜とを、 液晶および該液晶の周囲に設けた封止用の有機樹脂を介
して対抗させて設けた液晶表示装置において、 前記有機樹脂によって形成される前記液晶が存在する表
示領域が、 前記第１の基板上に設けられた複数の導電性薄膜と前記
第２の基板上に設けられた複数の導電性薄膜とが重なる
領域の内側に設けられていることを特徴とする液晶装
置。 - 【請求項２】第１の基板上にＸ方向にストライプ状に設
けられた複数の導電性薄膜と、 第２の基板上にＹ方向にストライプ状に設けられた複数
の導電性薄膜とを、 液晶および該液晶の周囲に設けた封止用の有機樹脂を介
して対抗させて設けるに際し、 前記有機樹脂によって形成される前記液晶が存在する表
示領域が、 前記第１の基板上に設けられた複数の導電性薄膜と前記
第２の基板上に設けられた複数の導電性薄膜とが重なる
領域の内側に設けられるように前記有機樹脂を設けるこ
とを特徴とする液晶装置の作製方法。
Priority Applications (10)
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| CN 90102570 CN1015940B (zh) | 1986-08-08 | 1987-08-07 | 液晶器件基片的制备方法 |
| CN87105511A CN1014098B (zh) | 1986-08-08 | 1987-08-07 | 具有无用电极条的液晶器件及其制造方法 |
| DE8787307065T DE3782381T2 (de) | 1986-08-08 | 1987-08-10 | Fluessigkristall-vorrichtung und verfahren zu ihrer herstellung. |
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| US07/222,635 US4927493A (en) | 1986-08-08 | 1988-07-21 | Method for manufacturing liquid crystal device having electrode strips of no use |
| US07/222,634 US4954217A (en) | 1986-08-08 | 1988-07-21 | Method for manufacturing liquid crystal device having electrode strips of no use |
| US07/283,794 US4974939A (en) | 1986-08-08 | 1988-12-13 | Liquid crystal device having electrode strips in the peripheral seal |
| US07/470,732 US4975145A (en) | 1986-08-08 | 1990-01-26 | Method for manufacturing liquid crystal device having electrode strips of no use |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61186201A JPH0820638B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 液晶装置およびその作製方法 |
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|---|---|
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Family
ID=16184146
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
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| JP (1) | JPH0820638B2 (ja) |
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