JP4396283B2 - パターン形成方法及び表示パネルの製造方法 - Google Patents
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Description
また、請求項2に記載のパターン形成方法は、請求項1に記載のパターン形成方法において、前記第1フォトレジスト膜と前記第2フォトレジスト膜は、互いに感光性化合物の含有率が異なっていることを特徴とするものである。
また、請求項3に記載のパターン形成方法は、請求項1または2に記載のパターン形成方法において、前記パターン材料膜は透明導電膜であり、複数の配線が微小な間隔で並設されたパターンに形成されることを特徴とするものである。
また、請求項4に記載の表示パネルの製造方法は、フォトリソグラフィーにより基板上に所定の微細パターンを形成する表示パネルの製造方法であって、基板上に一定の膜厚のパターン材料膜を一様に被着させる成膜工程と、前記パターン材料膜上に第1フォトレジスト膜を一様に積層する第1レジスト膜積層工程と、所定の開口パターンが穿設されたフォトマスクを介して前記第1フォトレジスト膜の表面に光を照射する第1露光工程と、光が照射された前記第1フォトレジスト膜を所定の現像液を用いて現像し前記第1フォトレジスト膜に前記フォトマスクの開口パターンに対応する第1レジストパターンを形成する第1現像工程と、前記第1レジストパターンが形成された第1フォトレジスト膜を介して前記パターン材料膜をエッチングする第1エッチング工程と、前記第1レジストパターンが形成された前記第1フォトレジスト膜を剥離する剥離工程と、エッチングされた前記パターン材料膜上に第2フォトレジスト膜を積層する第2レジスト膜積層工程と、前記第1露光工程で用いたフォトマスクを介して前記第2フォトレジスト膜の表面に光を照射する第2露光工程と、光が照射された前記第2フォトレジスト膜を所定の現像液を用いて現像し前記第2フォトレジスト膜に第2レジストパターンを形成する第2現像工程と、前記第2レジストパターンが形成された第2フォトレジスト膜を介して前記パターン材料膜をエッチングする第2エッチング工程と、を有し、前記第1露光工程における第1照射光と前記第2露光工程における第2照射光とが同じ光度で同じ光源から射出されるように設定し、且つ、前記第2フォトレジスト膜の前記第2照射光に対する感光度を前記第1フォトレジスト膜の前記第1照射光に対する感光度よりも低くなるように設定することで、前記第1レジストパターンが形成された第1フォトレジスト膜で被われない第1の露出エリア内に、前記第2レジストパターンが形成された第2フォトレジスト膜で被われない第2の露出エリアを形成することを特徴とするものである。
図1(a)〜(d)及び図2(a)〜(d)は、本発明の一実施形態であって高精細液晶表示パネルのガラス基板上に電極に接続したリード配線(以下、電極配線という)パターンを形成する方法を各工程毎に示す模式的断面図で、図1(a)〜(d)は前半の1次フォトリソプロセスを示し、図2(a)〜(d)は後半の2次フォトリソプロセスを示している。
例えば、異なる2種類の所望のレジストパターンを形成することは、上述した照射光の光度やフォトレジスト膜の感光度を変える方法に限らず、露光時間やフォトマスクとフォトレジスト膜面間の距離或いはフォトレジスト膜の膜厚を変えることによっても可能である。
2 パターン材料膜
3 第1フォトレジスト膜
3´、5 第2フォトレジスト膜
4 フォトマスク
S1、S2 電極基板
R1、R2 照射光
d、d´ 飽和感光領域
Claims (4)
- フォトリソグラフィーにより基板上に所定の微細パターンを形成するパターン形成方法であって、
基板上に一定の膜厚のパターン材料膜を一様に被着させる成膜工程と、
前記パターン材料膜上に第1フォトレジスト膜を一様に積層する第1レジスト膜積層工程と、
所定の開口パターンが穿設されたフォトマスクを介して前記第1フォトレジスト膜の表面に光を照射する第1露光工程と、
光が照射された前記第1フォトレジスト膜を所定の現像液を用いて現像し前記第1フォトレジスト膜に前記フォトマスクの開口パターンに対応する第1レジストパターンを形成する第1現像工程と、
前記第1レジストパターンが形成された第1フォトレジスト膜を介して前記パターン材料膜をエッチングする第1エッチング工程と、
前記第1レジストパターンが形成された前記第1フォトレジスト膜を剥離する剥離工程と、
エッチングされた前記パターン材料膜上に第2フォトレジスト膜を積層する第2レジスト膜積層工程と、
前記第1露光工程で用いたフォトマスクを介して前記第2フォトレジスト膜の表面に光を照射する第2露光工程と、
光が照射された前記第2フォトレジスト膜を所定の現像液を用いて現像し前記第2フォトレジスト膜に第2レジストパターンを形成する第2現像工程と、
前記第2レジストパターンが形成された第2フォトレジスト膜を介して前記パターン材料膜をエッチングする第2エッチング工程と、
を有し、
前記第1露光工程における第1照射光と前記第2露光工程における第2照射光とが同じ光度で同じ光源から射出されるように設定し、且つ、前記第2フォトレジスト膜の前記第2照射光に対する感光度を前記第1フォトレジスト膜の前記第1照射光に対する感光度よりも低くなるように設定することで、前記第1レジストパターンが形成された第1フォトレジスト膜で被われない第1の露出エリア内に、前記第2レジストパターンが形成された第2フォトレジスト膜で被われない第2の露出エリアを形成することを特徴とするパターン形成方法。 - 前記第1フォトレジスト膜と前記第2フォトレジスト膜は、互いに感光性化合物の含有率が異なっていることを特徴とする請求項1に記載のパターン形成方法。
- 前記パターン材料膜は透明導電膜であり、複数の配線が微小な間隔で並設されたパターンに形成されることを特徴とする請求項1または2に記載のパターン形成方法。
- フォトリソグラフィーにより基板上に所定の微細パターンを形成する表示パネルの製造方法であって、
基板上に一定の膜厚のパターン材料膜を一様に被着させる成膜工程と、
前記パターン材料膜上に第1フォトレジスト膜を一様に積層する第1レジスト膜積層工程と、
所定の開口パターンが穿設されたフォトマスクを介して前記第1フォトレジスト膜の表面に光を照射する第1露光工程と、
光が照射された前記第1フォトレジスト膜を所定の現像液を用いて現像し前記第1フォトレジスト膜に前記フォトマスクの開口パターンに対応する第1レジストパターンを形成する第1現像工程と、
前記第1レジストパターンが形成された第1フォトレジスト膜を介して前記パターン材料膜をエッチングする第1エッチング工程と、
前記第1レジストパターンが形成された前記第1フォトレジスト膜を剥離する剥離工程と、
エッチングされた前記パターン材料膜上に第2フォトレジスト膜を積層する第2レジスト膜積層工程と、
前記第1露光工程で用いたフォトマスクを介して前記第2フォトレジスト膜の表面に光を照射する第2露光工程と、
光が照射された前記第2フォトレジスト膜を所定の現像液を用いて現像し前記第2フォトレジスト膜に第2レジストパターンを形成する第2現像工程と、
前記第2レジストパターンが形成された第2フォトレジスト膜を介して前記パターン材料膜をエッチングする第2エッチング工程と、
を有し、
前記第1露光工程における第1照射光と前記第2露光工程における第2照射光とが同じ光度で同じ光源から射出されるように設定し、且つ、前記第2フォトレジスト膜の前記第2照射光に対する感光度を前記第1フォトレジスト膜の前記第1照射光に対する感光度よりも低くなるように設定することで、前記第1レジストパターンが形成された第1フォトレジスト膜で被われない第1の露出エリア内に、前記第2レジストパターンが形成された第2フォトレジスト膜で被われない第2の露出エリアを形成することを特徴とする表示パネルの製造方法。
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