JPS6054434A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPS6054434A JPS6054434A JP58162564A JP16256483A JPS6054434A JP S6054434 A JPS6054434 A JP S6054434A JP 58162564 A JP58162564 A JP 58162564A JP 16256483 A JP16256483 A JP 16256483A JP S6054434 A JPS6054434 A JP S6054434A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- pattern
- display panel
- matrix display
- transmissive liquid
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
- G03F7/70291—Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は透過形液晶マトリックスディスプレイパネルを
ホトマスクとしたホトレジストの露光装置に関する。
ホトマスクとしたホトレジストの露光装置に関する。
Ｐ Ｃ板や容積の半導体基板、更には絶縁物基板上にこ
れらの基板材料とけ異なる金属膜、半導体膜、絶縁膜あ
るいけ有機膜を付着し所望のパターンを形成するに際し
、エツチング加工の保護材料として一般的にはホトレジ
ストが用いられる。又、このときホトレジストに所望の
パターンの光を与える為にカラス板やフィルム上にあら
かじめ黒もしく ｉｊ： 、ｌレンジ色的の紫外線を透
過しないパターンを形成したマスクを採用する。［７か
し、こうしたマスクではエマルジョンやガラスに黴が生
えたり、こすり傷が発生１．て被加工物に欠陥パターン
を作ってしまうことが多くあった。この為に同一パター
ンの加工を多−に行うに際し７ては交換用のマスクを必
輩とｊ−ていた。
れらの基板材料とけ異なる金属膜、半導体膜、絶縁膜あ
るいけ有機膜を付着し所望のパターンを形成するに際し
、エツチング加工の保護材料として一般的にはホトレジ
ストが用いられる。又、このときホトレジストに所望の
パターンの光を与える為にカラス板やフィルム上にあら
かじめ黒もしく ｉｊ： 、ｌレンジ色的の紫外線を透
過しないパターンを形成したマスクを採用する。［７か
し、こうしたマスクではエマルジョンやガラスに黴が生
えたり、こすり傷が発生１．て被加工物に欠陥パターン
を作ってしまうことが多くあった。この為に同一パター
ンの加工を多−に行うに際し７ては交換用のマスクを必
輩とｊ−ていた。
このようなマスクの製作にあたっては手動の作画機でパ
ターンを作り次いで写真技術で拡大−縮少して作るばか
りでなく、税在ではほとんどコンピュータを用いて作画
のスピードアップを図ることができる。
ターンを作り次いで写真技術で拡大−縮少して作るばか
りでなく、税在ではほとんどコンピュータを用いて作画
のスピードアップを図ることができる。
しかし実際にはコンピュータでパターン処理したのちパ
ターンジェネレータなどにより一担磁気テープに変換し
写真縮少するなど種々の工程を経て作られる為にマスク
は高価なものとなっていた。
ターンジェネレータなどにより一担磁気テープに変換し
写真縮少するなど種々の工程を経て作られる為にマスク
は高価なものとなっていた。
近年に於いてこうしたホトマスクの欠点を解決すべく方
法に電子ビーム露光が出現している。この方法を簡略し
て言えばあらかじめ所定のパターンデータを入力してお
き、コンピュータで処理し、このデータにより電子ビー
ムがホトレジスト上を走査することにより露光する手段
である。しかしながらこの方法では１ビームの走査の為
に大面積にパターンを描く場合などでは非常に多くの時
間を必要としていた。
法に電子ビーム露光が出現している。この方法を簡略し
て言えばあらかじめ所定のパターンデータを入力してお
き、コンピュータで処理し、このデータにより電子ビー
ムがホトレジスト上を走査することにより露光する手段
である。しかしながらこの方法では１ビームの走査の為
に大面積にパターンを描く場合などでは非常に多くの時
間を必要としていた。
本発明はこのような現状に対処なされたもので、複雑な
マスク製作を必要とせずに所望のパターンが速やかに作
ることのできる露光装置を提供することにある。
マスク製作を必要とせずに所望のパターンが速やかに作
ることのできる露光装置を提供することにある。
〔発明の概曹−１
本発明の電光装置ｔ ＋ｊ従来方式の露光装置とはまっ
たく異なっている。すなわち、被加工物の上面に形成さ
れたホトレジストに選択的な光パターンを照射する為の
マスクとして、透過形液晶マトリックスディスプレイを
用いている。そうして、この透過形液晶マトリックスデ
ィスプレイに所望のパターンを描き出す為の駆動回路が
接続されている。この駆動回路は各槓のパターンを演算
しパターン処理するコンピータに結ばれており、透過形
液晶マトリックスアイスゾレイにパターンデータを送る
か送らないかは、このコンピュータに指示を与えるか、
駆動回路にその機能を持たせることによって実現する。
たく異なっている。すなわち、被加工物の上面に形成さ
れたホトレジストに選択的な光パターンを照射する為の
マスクとして、透過形液晶マトリックスディスプレイを
用いている。そうして、この透過形液晶マトリックスデ
ィスプレイに所望のパターンを描き出す為の駆動回路が
接続されている。この駆動回路は各槓のパターンを演算
しパターン処理するコンピータに結ばれており、透過形
液晶マトリックスアイスゾレイにパターンデータを送る
か送らないかは、このコンピュータに指示を与えるか、
駆動回路にその機能を持たせることによって実現する。
゛本発明によれは即座にパターンを作り出したり変更１
．たりすることのできる液晶マトリックスディスゲ１／
イをマスクとして用いている為に、非常に手間のかかる
マスク製作を必要とせず、従ってパターン作成から露光
゛までの時間が大幅に短縮できる。
．たりすることのできる液晶マトリックスディスゲ１／
イをマスクとして用いている為に、非常に手間のかかる
マスク製作を必要とせず、従ってパターン作成から露光
゛までの時間が大幅に短縮できる。
又、マスク交換も不要となるばかりでなく、同一パター
ンの反転も容易に出来るので、ネガレジストとポジレジ
ストの選択も自由となる。
ンの反転も容易に出来るので、ネガレジストとポジレジ
ストの選択も自由となる。
更には、従来のように使用後のマスク保存や再使用の際
しての洗浄もいらず、すべてはコンピ−タや磁気テープ
に記憶させておけばそれでよい。
しての洗浄もいらず、すべてはコンピ−タや磁気テープ
に記憶させておけばそれでよい。
以下本発明の具体的な実施例を説明する。
第１図は本発明の露光装置を概略的に示すものである。
第１図に第２図（ａｌ〜（Ｃ）を併用して説明すると、
まず約２１１１ＩＩ厚の透明ガラス板からなる第１の基
板１１上に透明導電膜パターン２２を形成し、又このガ
ラス板に対向する約０．５ ｍ厚の透明ガラス板からな
る第２の基板１３上にも同様の透明導電膜パターン２１
を形成する。
まず約２１１１ＩＩ厚の透明ガラス板からなる第１の基
板１１上に透明導電膜パターン２２を形成し、又このガ
ラス板に対向する約０．５ ｍ厚の透明ガラス板からな
る第２の基板１３上にも同様の透明導電膜パターン２１
を形成する。
そして、この第１の基板１１および第２の基板１３のす
き間に液晶１２を注入して一体化する。
き間に液晶１２を注入して一体化する。
このとき、第１の基板１１の透明導電膜パターン２２と
第２の基板１３の透明導電膜パターン２１とは互いが直
交しており、この交差部には画素が形成されている。
第２の基板１３の透明導電膜パターン２１とは互いが直
交しており、この交差部には画素が形成されている。
この液晶１２はＴＮ（ツイストネマティック）であり、
第１の基板１１と第２の基板１３の各々に形成された透
明導電膜パターン２１．２２の交点に電圧が印加すると
、光を透過するトッドマトリックス型の透過形マトリッ
クスディスプレイパネルである。
第１の基板１１と第２の基板１３の各々に形成された透
明導電膜パターン２１．２２の交点に電圧が印加すると
、光を透過するトッドマトリックス型の透過形マトリッ
クスディスプレイパネルである。
この、Ｌうな構造からなる液晶マトリックスディスプレ
イパネルｌは駆動回路３からの信号走査により表示駆動
される。ぞう１．てこの透過形液晶マ］・リックスディ
スプレイパネル１１の上面から紫外線を含む光りが照射
され、駆動回路３より与えられる１ｄ＠の走査によって
所望の画素部の液晶１２を透過１〜だ光が第２のガラス
基板１３の面側に保持した被露光物体２に当てられる。
イパネルｌは駆動回路３からの信号走査により表示駆動
される。ぞう１．てこの透過形液晶マ］・リックスディ
スプレイパネル１１の上面から紫外線を含む光りが照射
され、駆動回路３より与えられる１ｄ＠の走査によって
所望の画素部の液晶１２を透過１〜だ光が第２のガラス
基板１３の面側に保持した被露光物体２に当てられる。
駆動回路３の役割は特定のパターンを記憶したメモリ素
子を備え、カウンタのアドレッシング走査にパターンデ
ータを出力し、透過形液晶マトリックスディスプレイパ
ネル１を表示駆動するようにしてもよいが、理想的には
任意なパターンデータの出力を速やかに作る為に、パタ
ーンの作画処理を行なえる計算機４の出カバターン・デ
ータを受入して表示駆動する。
子を備え、カウンタのアドレッシング走査にパターンデ
ータを出力し、透過形液晶マトリックスディスプレイパ
ネル１を表示駆動するようにしてもよいが、理想的には
任意なパターンデータの出力を速やかに作る為に、パタ
ーンの作画処理を行なえる計算機４の出カバターン・デ
ータを受入して表示駆動する。
第３図（ａ）〜（Ｃ）は液晶マトリックスディスプレイ
パネル１を構成する他の実施例を説明するものである。
パネル１を構成する他の実施例を説明するものである。
透明ガラス基板１１上にアドレスライン２２ａ 、２２
ｂを形成し、酸化膜２６でその表面を覆う。次にアモル
ファスシリコンの薄膜トランジスタ２４．２４ａ 、２
４ｂを形成し、その両端にはソースおよびドレイン電極
となる配線ノくターン２１ａ＋２１ｂを形成する。一方
もう一枚の透過ガラス基板１３上には透明導電膜２５を
形成し、２枚の透明ガラス基板１１．１３のすき間には
液晶１２を注入保持する。第３図（ａ）のようにアドレ
ス電極２２ａ 、２２ｂでスイッチオンされたアモルフ
ァスシリコン薄膜トランジスター２４によりデータ電極
２１ａ、２１ｂより信号電圧が与えられ、共通電位電極
２５との間の液晶セル２３が駆動され、表示される。こ
のような’Ｉ’ＦＴ２４ 液晶セル２３で構成された画
素セル２７ａ 、２７ｂがマトリックス状に配列されて
、液晶マトリックスディスプレイパネル１を構成してい
る。
ｂを形成し、酸化膜２６でその表面を覆う。次にアモル
ファスシリコンの薄膜トランジスタ２４．２４ａ 、２
４ｂを形成し、その両端にはソースおよびドレイン電極
となる配線ノくターン２１ａ＋２１ｂを形成する。一方
もう一枚の透過ガラス基板１３上には透明導電膜２５を
形成し、２枚の透明ガラス基板１１．１３のすき間には
液晶１２を注入保持する。第３図（ａ）のようにアドレ
ス電極２２ａ 、２２ｂでスイッチオンされたアモルフ
ァスシリコン薄膜トランジスター２４によりデータ電極
２１ａ、２１ｂより信号電圧が与えられ、共通電位電極
２５との間の液晶セル２３が駆動され、表示される。こ
のような’Ｉ’ＦＴ２４ 液晶セル２３で構成された画
素セル２７ａ 、２７ｂがマトリックス状に配列されて
、液晶マトリックスディスプレイパネル１を構成してい
る。
第４図はフォトマスクとなる透過形液晶マトリックスデ
ィスプレイパネル１と被露光物体２の搭載ステージの動
きを説明する為の断面図である。
ィスプレイパネル１と被露光物体２の搭載ステージの動
きを説明する為の断面図である。
第５図を併用してその動色を説明すると、ます塔載ステ
ージ５は被露光物体２を載置した際にＸ（横）方向、
Ｙ ｌ）方向および回転θにより透過形液晶マトリック
スディスプレイ１との整合が行なわれる。次Ｋｕ機４お
よび駆動回路３に送られる表示走査により、所定の画素
セルより光を透過させ被情光物体２の表面に斜線で示し
た一部から光パターンを照射する。このとき画素セルは
限ぎられた大きさをもつものであり、従って短ザク状の
露光となる。そこで連続したパターンの光照射を行うに
あたっては次のような機構と手法を行う。すなわちまず
第５図Ａのように行ったのち同一の光パターン駆動で塔
載ステージ５かもしくはフォトマスク１をＢのように動
かし、Ａとけ同一の光パターン駆動により露光する。横
方向だけに連続したパターンを作るにはこの操作を行う
だけでよいが、縦方向にも連続するパターンを作る場所
にはＣ，Ｄの動きを追加して展開することによって作ら
れる。
ージ５は被露光物体２を載置した際にＸ（横）方向、
Ｙ ｌ）方向および回転θにより透過形液晶マトリック
スディスプレイ１との整合が行なわれる。次Ｋｕ機４お
よび駆動回路３に送られる表示走査により、所定の画素
セルより光を透過させ被情光物体２の表面に斜線で示し
た一部から光パターンを照射する。このとき画素セルは
限ぎられた大きさをもつものであり、従って短ザク状の
露光となる。そこで連続したパターンの光照射を行うに
あたっては次のような機構と手法を行う。すなわちまず
第５図Ａのように行ったのち同一の光パターン駆動で塔
載ステージ５かもしくはフォトマスク１をＢのように動
かし、Ａとけ同一の光パターン駆動により露光する。横
方向だけに連続したパターンを作るにはこの操作を行う
だけでよいが、縦方向にも連続するパターンを作る場所
にはＣ，Ｄの動きを追加して展開することによって作ら
れる。
第６図は本発明の露光装置を構成する他の実施例を示す
ものである。一般的に被露光物体２への露光が初回であ
るならばフォトマスク１と被露光物体２との正確なマス
ク合せは不要であるが、被露光物体２がすでに何らかの
パターン形成されたものであるならば、フォトマスク１
と被露光物体２との位置合せが必要となる。光検出セン
サ６はフォトマスク１の上面側に位置して少なくとも２
つ以上具備されており、この光検出の情報は計算機４等
に入力されていて露光装置の動きを制御する。
ものである。一般的に被露光物体２への露光が初回であ
るならばフォトマスク１と被露光物体２との正確なマス
ク合せは不要であるが、被露光物体２がすでに何らかの
パターン形成されたものであるならば、フォトマスク１
と被露光物体２との位置合せが必要となる。光検出セン
サ６はフォトマスク１の上面側に位置して少なくとも２
つ以上具備されており、この光検出の情報は計算機４等
に入力されていて露光装置の動きを制御する。
この位置合せ時に露光前に光が被露光物体２に照射する
ことを防ぐ為にすべての画素セルを光しゃ断の状態にし
ておくか、紫外線カットのフォルターフを具備すること
によって行なわれる。
ことを防ぐ為にすべての画素セルを光しゃ断の状態にし
ておくか、紫外線カットのフォルターフを具備すること
によって行なわれる。
次に第７図はフォトマスクとなる透過形液晶マトリック
スディスプレイパネル１の有効な画素セルの大きさを説
明する為の平面図である。通常ドツトマトリックスやア
クティブマトリックスで構成ｊ−た液晶マトリックスデ
ィスプレイパネル１の口 画素の大きさけ５０μｍ 〜２００１目ｎ口と大きなも
のとなっており、緻密な光のパターンが作れない。
スディスプレイパネル１の有効な画素セルの大きさを説
明する為の平面図である。通常ドツトマトリックスやア
クティブマトリックスで構成ｊ−た液晶マトリックスデ
ィスプレイパネル１の口 画素の大きさけ５０μｍ 〜２００１目ｎ口と大きなも
のとなっており、緻密な光のパターンが作れない。
そこで画素セル２３の大きさを横ピッチＸ、縦ピッチＹ
のそれぞれ１／２か、これより＋ｘ、十ｙとすこし大き
いイ１〜とすることによって、第４図、第５図で説明１
７た露光装置の動きと組合せて画素ピッチの手分の細か
さてパターンを作ることが出来た。
のそれぞれ１／２か、これより＋ｘ、十ｙとすこし大き
いイ１〜とすることによって、第４図、第５図で説明１
７た露光装置の動きと組合せて画素ピッチの手分の細か
さてパターンを作ることが出来た。
４、 回向のｖ１申な四１明
嶋１図は本発明臓光装置を概略的示す一部断面図を含１
１ｒフｊｌツク図、第２図（ｄ）〜ｉｃ） Ｆｉトッド
マトリックス型透過形液晶マトリックスディスプレイパ
ネルの結線等１１１１回路パターンの平面図および断面
図、第３図ｔｊ薄膜トランジスタを組合せたアクアイブ
マトリックス型透過形液茜マトリックスディヌプレイパ
ネルの結線図とパターン平面図および断面図、第４図は
本発明の露光装置のフォトマスクと被加工物体塔載ステ
ージの動きを説明する為の断面図、第５図はフォトマス
クとなる透過形液晶マトリックスディスプレイパネル内
の画素パターンの動きを説明する為の模式的平面図、第
６図は本発明の他の実施例を概略的に示す断面図、第７
図は透過形液晶マ） ＩＪソックスィスプレイパネルの
画素ピッチと画素サイズを模式的に示す平面図である。
１ｒフｊｌツク図、第２図（ｄ）〜ｉｃ） Ｆｉトッド
マトリックス型透過形液晶マトリックスディスプレイパ
ネルの結線等１１１１回路パターンの平面図および断面
図、第３図ｔｊ薄膜トランジスタを組合せたアクアイブ
マトリックス型透過形液茜マトリックスディヌプレイパ
ネルの結線図とパターン平面図および断面図、第４図は
本発明の露光装置のフォトマスクと被加工物体塔載ステ
ージの動きを説明する為の断面図、第５図はフォトマス
クとなる透過形液晶マトリックスディスプレイパネル内
の画素パターンの動きを説明する為の模式的平面図、第
６図は本発明の他の実施例を概略的に示す断面図、第７
図は透過形液晶マ） ＩＪソックスィスプレイパネルの
画素ピッチと画素サイズを模式的に示す平面図である。
１・・・液晶透過形マトリックスディスプレイパネル
２・・・被露光物体
３・・・駆動回路
４・・・画像作画処理計算機
１１．１３・・・透明ガラス板
１２・・・液晶
２１．２１８，２１ｂ、２１Ｃ・・・データライン２２
．２２ａ、２２ｂ、２２Ｃ・・・アドレスライン２３．
２３ａ、２３ｂ、２３Ｘ、２３Ｙ・・・液晶画素セル２
４ 、２４ ａ 、 ２４１） ・−’ＩＩ’ Ｆ”Ｉ
”２５・・・共通電位電極 ２ （５・・・ゲート酸化膜 ２７．２７ａ、２７ｂ、２７Ｘ ・・・液晶画素セル５
・・・被露光物体塔載ステージ ６・・・光検出センザ Ｘ・・・横方向画素寸法 Ｙ・・・縦方向画素寸法 ７・・・フィルタ 代理人 弁理士 則 近 憲 佑（ほか１名）第 １
厘 ム 第 ２ 図 ｔｔｌン （ｂ） ｔｌｔｌ ｔｌＢ 、、６゜ （Ｃ） （Ｃン 第 ４ 図 Ｌ ｉ ： １ １ ｎ β 第 ６ｆｉ
．２２ａ、２２ｂ、２２Ｃ・・・アドレスライン２３．
２３ａ、２３ｂ、２３Ｘ、２３Ｙ・・・液晶画素セル２
４ 、２４ ａ 、 ２４１） ・−’ＩＩ’ Ｆ”Ｉ
”２５・・・共通電位電極 ２ （５・・・ゲート酸化膜 ２７．２７ａ、２７ｂ、２７Ｘ ・・・液晶画素セル５
・・・被露光物体塔載ステージ ６・・・光検出センザ Ｘ・・・横方向画素寸法 Ｙ・・・縦方向画素寸法 ７・・・フィルタ 代理人 弁理士 則 近 憲 佑（ほか１名）第 １
厘 ム 第 ２ 図 ｔｔｌン （ｂ） ｔｌｔｌ ｔｌＢ 、、６゜ （Ｃ） （Ｃン 第 ４ 図 Ｌ ｉ ： １ １ ｎ β 第 ６ｆｉ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）ホトマスクとしての透過形液晶マトリックスティス
プレィパネルと、該透過形液晶マトリックスディスプレ
イパネルを駆動する為の駆動回路と、該駆動回路にパタ
ーン情報を送シ込むパターン処理回路とを備えたことを
特徴とする露光装置。 ２）前記透過形液晶マトリックスディスプレイパネルは
互いに直交する透明導電膜パターンがそれぞれ液晶をは
さむように２枚の透明基板上に形成されたトッドマトリ
ックスであることを特徴とする特許 ３）前記透過形液晶マトリックスディスプレイパネルは
薄膜トランジスタを備えたアクティブマトリックスであ
ることを特徴とする前記％許請求の範囲第１項記載の露
光装置。 ４）被無党物体を載置するステージが横方向。 縦方向および回転の動きを持つ機構を備えるとともに前
記透過形液晶マトリックスディスプレイパネルの画素ピ
ッチ以下のピッチで前記ステージもしくは前記透過形液
晶マトリックスディスプレイパネルを保持する治具が縦
，横に動く機構ｆ具備したことを特徴とする前記特許請
求の範囲第１項記載の露光装置。 ５）前記透過形液晶マトリックスディスプレイパネルの
上面に位置して少なくとも２つの光検出センサを具備し
前記被露光物体の作画パターンに前記透過形液晶マトリ
ックスディスプレイパネルのパターンを位置合せる機構
を備えたことを特徴とする前記特許請求の範囲第１項記
載の露光装置。 ６）前記透過形液晶マトリックスディスプレイパネルの
画素サイズは少なくとも一辺の長さが画素ピッチの１／
２かこれよりやや大きい大きさをもつことを特徴とする
前記特許請求の範囲第１項記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58162564A JPS6054434A (ja) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58162564A JPS6054434A (ja) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6054434A true JPS6054434A (ja) | 1985-03-28 |
Family
ID=15756983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58162564A Pending JPS6054434A (ja) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6054434A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS609973A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-01-19 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 防水加工布 |
| JPS6244718A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パタ−ン露光装置 |
| JPS6461733A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-08 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacture of matrix type display device |
| JPH0284583A (ja) * | 1988-05-17 | 1990-03-26 | Dow Corning Ltd | 繊維状物質の処理方法 |
| WO1994021469A1 (en) * | 1993-03-15 | 1994-09-29 | King Jim Co., Ltd. | Seal manufacturing apparatus |
| US5745222A (en) * | 1994-08-23 | 1998-04-28 | King Jim Co. | Apparatus for making a stamp from an original picture |
| JP2003068634A (ja) * | 2001-08-23 | 2003-03-07 | Toshiyuki Horiuchi | 液晶マトリックス投影露光装置および液晶マトリックス投影露光方法 |
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| JP2012138622A (ja) * | 2012-03-30 | 2012-07-19 | Nikon Corp | パターンジェネレータ、パターン形成装置及び露光装置 |
-
1983
- 1983-09-06 JP JP58162564A patent/JPS6054434A/ja active Pending
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