JP2008263090A - パターンジェネレータ、パターン形成装置及びパターン生成方法 - Google Patents
パターンジェネレータ、パターン形成装置及びパターン生成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008263090A JP2008263090A JP2007105363A JP2007105363A JP2008263090A JP 2008263090 A JP2008263090 A JP 2008263090A JP 2007105363 A JP2007105363 A JP 2007105363A JP 2007105363 A JP2007105363 A JP 2007105363A JP 2008263090 A JP2008263090 A JP 2008263090A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- opening
- light
- patterns
- pattern generator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】アクティブマスク14には、パターンジェネレータ22A〜22Eが設けられている。パターンジェネレータ22A〜22Eのそれぞれは、X軸方向に関して所定間隔で、かつY軸方向に関して所定距離ずつずれて配置された複数の開口パターン群を含む。また、各開口パターン群は、Y軸方向に所定間隔で配置された複数の開口パターンをそれぞれ含む。従って、各パターンジェネレータには、全体として見ると、Y軸方向に関して、一定間隔(所定間隔より狭い間隔)で開口パターンが存在する。また、複数の開口パターン群の照明光ILの入射側には、複数の開口パターンのそれぞれに照明光ILを集光するマクロレンズアレイが配置されている。プレートPのX軸方向移動に同期して、複数の開口パターンは、開閉機構によって個別に開閉される。
【選択図】図1
Description
Claims (36)
- 照明光を部分的に透過させて所定の面上に形成すべきパターンを生成するパターンジェネレータであって、
前記所定面とは異なる面上に、第1方向に所定間隔で配置された複数の開口パターンをそれぞれ含む複数の開口パターン群が、前記面内で第1方向に直交する第2方向に関して所定間隔で、かつ前記第1方向に関して所定距離ずつずれて配置されてなる開口パターン部と;
前記開口パターン部の前記照明光の入射側に配置され、前記複数の開口パターンのそれぞれに前記照明光を集光する集光部と;
前記複数の開口パターンを個別に開閉可能な開閉機構と;を備えるパターンジェネレータ。 - 前記開口パターン部の複数の開口パターン群は、前記集光部の前記照明光の射出側に配置された基板に形成されている請求項1に記載のパターンジェネレータ。
- 前記基板は、透明基板であり、
前記複数の開口パターン群は、前記透明基板の一方の面に形成されている請求項2に記載のパターンジェネレータ。 - 前記複数の開口パターン群と前記集光部とは、同一の透明基板の一方の面と他方の面にそれぞれ形成されている請求項1に記載のパターンジェネレータ。
- 前記複数の開口パターン群は、前記透明基板の一方の面に形成された遮光膜中に形成されている請求項3又は4に記載のパターンジェネレータ。
- 前記集光部は、前記複数の開口パターンに対応する配置の複数の集光素子部を有する請求項1〜5のいずれか一項に記載のパターンジェネレータ。
- 前記集光部は、前記各集光素子部としてマイクロレンズを有するマイクロレンズアレイである請求項6に記載のパターンジェネレータ。
- 前記複数の開口パターン群同士のずれ量である前記所定距離は、前記各開口パターン群に含まれる各開口パターンの前記第1方向のサイズに応じた距離である、請求項1〜7のいずれか一項に記載のパターンジェネレータ。
- 前記開口パターン部には、前記各開口パターン群に含まれる複数の開口パターンの配列ピッチを、各開口パターンの前記第1方向のサイズで除した数の開口パターン群が含まれる請求項1〜8のいずれか一項に記載のパターンジェネレータ。
- 前記開口パターン部の複数の開口パターン群と、前記開閉機構とは、同一の基板上に形成されている請求項1〜9のいずれか一項に記載のパターンジェネレータ
- 前記開閉機構は、前記複数の開口パターンに個別に対応する複数のシャッタ部材と、該複数のシャッタ部材を個別に駆動する駆動機構を含む請求項1〜10のいずれか一項に記載のパターンジェネレータ。
- 前記駆動機構は、静電力により前記シャッタ部材を駆動する請求項11に記載のパターンジェネレータ。
- 前記所定面とは異なる面上に、前記開口パターン部は、前記第1方向に所定距離離れて複数配置され、
各開口パターン部の前記照明光の入射側に、それぞれ対応する複数の集光部が配置され、
前記開閉機構は、前記複数の開口パターン部にそれぞれ含まれる複数の開口パターンを個別に開閉可能である請求項1〜12のいずれか一項に記載のパターンジェネレータ。 - 前記所定面とは異なる面上に、前記開口パターン部は、前記第2方向に離れて複数配置され、
各開口パターン部の前記照明光の入射側に、それぞれ対応する複数の集光部が配置され、
前記開閉機構は、前記複数の開口パターン部にそれぞれ含まれる複数の開口パターンを個別に開閉可能である請求項1〜13のいずれか一項に記載のパターンジェネレータ。 - 所定の面上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
請求項1〜14のいずれか一項に記載のパターンジェネレータと;
前記所定の面上に形成すべきパターン情報に基づいて、前記パターンジェネレータの前記開閉機構を制御する制御装置と;を備えるパターン形成装置。 - 前記パターンジェネレータで生成されたパターンを前記所定の面上に形成する光学系をさらに備える請求項15に記載のパターン形成装置。
- 前記所定の面上で物体を保持する移動体と;
該移動体と前記パターンジェネレータとを前記第2方向へ相対移動させる相対移動装置と;
をさらに備え、
前記制御装置は、前記パターン情報に基づいて、前記開閉機構と前記相対移動装置とを同期して制御する請求項15又は16に記載のパターン形成装置。 - 前記制御装置は、前記パターン情報に基づいて、前記開閉機構と前記相対移動装置とを同期して制御するとともに、複数の特定開口パターンの開度を調整する請求項17に記載のパターン形成装置。
- 所定の面上に形成すべきパターンを生成するパターン生成方法であって、
前記所定面とは異なる面上に、第1方向に所定間隔で配置された複数の開口パターンをそれぞれ含む複数の開口パターン群を、前記面内で第1方向に直交する第2方向に関して所定間隔で、かつ前記第1方向に関して所定距離ずつずらして配置する第1工程と;
前記所定の面上に形成すべきパターン情報に基づいて、前記複数の開口パターンを個別に開閉しつつ、前記複数の開口パターンのそれぞれに集光部を介して照明光を照射する第2工程と;を含むパターン生成方法。 - 前記集光部として、前記複数の開口パターンに対応する配置の複数の集光素子部を有する光学部材が用いられる請求項19に記載のパターン生成方法。
- 前記複数の開口パターン群同士のずれ量である前記所定距離は、前記各開口パターン群に含まれる各開口パターンの前記第1方向のサイズに応じた距離である、請求項19又は20に記載のパターン生成方法。
- 前記複数の開口パターン群には、各開口パターン群に含まれる複数の開口パターンの配列ピッチを、各開口パターンの前記第1方向のサイズで除した数の開口パターン群が含まれる請求項19〜21のいずれか一項に記載のパターン生成方法。
- 前記第2工程の結果、前記複数の開口パターンの一部を透過した照明光を、光学系を介して前記所定の面上に投射する第3工程をさらに含む請求項19〜22のいずれか一項に記載のパターン生成方法。
- 前記第2工程では、前記複数の開口パターンを個別に開閉するのと同期して、前記複数の開口パターン群と物体とを前記第2方向に相対移動する請求項19〜23のいずれか一項に記載のパターン生成方法。
- 前記第2工程では、前記複数の開口パターンの一部で、その開度が調整されるように前記複数の開口パターンを個別に開閉する請求項19〜24のいずれか一項に記載のパターン生成方法。
- 前記所定の面上で複数のパターン同士を繋ぎ合わせて形成する際に、前記複数のパターン同士のつなぎ部に対応する一部の複数の開口パターンで、その開度が調整されるように、前記複数の開口パターンを個別に開閉する請求項25に記載のパターン生成方法。
- 照明光を部分的に透過させて所定の面上に形成すべきパターンを生成するパターンジェネレータであって、
前記所定面とは異なる面上に、第1方向に所定間隔で配置された複数の光透過部を有する光透過部群を複数備え、
前記光透過部群は、前記第1方向と直交する第2方向に関して互いに異なる位置に配置されるとともに、前記複数の光透過部群のうちの1つに含まれる前記光透過部が、前記第1方向に関して、前記複数の光透過部群のうちの前記1つを除いた他の光透過部群に含まれる光透過部いずれとも異なる位置に配置されているパターンジェネレータ。 - 前記光透過部群内において、前記光透過部同士の間隔が等間隔である請求項27に記載のパターンジェネレータ。
- 前記光透過部から射出される前記照明光を発生する光源を更に備える請求項27又は28に記載のパターンジェネレータ。
- 前記光源と、前記複数の光透過部群との間に設けられ、前記光源からの前記照明光を前記複数の光透過部のそれぞれに集光する集光部を更に備える請求項29に記載のパターンジェネレータ。
- 前記各光透過部は、開口パターンである請求項27〜29のいずれか一項に記載のパターンジェネレータ。
- 前記複数の光透過部群に含まれる複数の光透過部それぞれに対応して設けられ、対応する前記光透過部から前記照明光を射出させる第1状態と、射出させない第2状態との間で個別にスイッチングするスイッチング機構を更に備える請求項27〜31のいずれか一項に記載のパターンジェネレータ。
- 所定の面上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
請求項32に記載のパターンジェネレータと;
前記所定の面上に形成すべきパターン情報に基づいて、前記パターンジェネレータの前記スイッチング機構を制御する制御装置と;を備えるパターン形成装置。 - 前記パターンジェネレータで生成されたパターンを前記所定の面上に形成する光学系をさらに備える請求項33に記載のパターン形成装置。
- 前記所定の面上で物体を保持する移動体と;
該移動体と前記パターンジェネレータとを前記第2方向へ相対移動させる相対移動装置と;
をさらに備え、
前記制御装置は、前記パターン情報に基づいて、前記スイッチング機構と前記相対移動装置とを同期して制御する請求項33又は34に記載のパターン形成装置。 - 所定の面上に配置された物体にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記所定の面とは異なる面上に所定間隔を隔てて配置された第1光透過部及び第2光透過部を含む光透過部郡と;
前記第1光透過部と前記第2光透過部との両方に接する第1の線と平行な方向に、前記光透過部郡と前記物体とを相対的に駆動する駆動装置と;を備えるパターン形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007105363A JP5034632B2 (ja) | 2007-04-12 | 2007-04-12 | パターンジェネレータ、パターン形成装置及びパターン生成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007105363A JP5034632B2 (ja) | 2007-04-12 | 2007-04-12 | パターンジェネレータ、パターン形成装置及びパターン生成方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012079236A Division JP5403297B2 (ja) | 2012-03-30 | 2012-03-30 | パターンジェネレータ、パターン形成装置及び露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008263090A true JP2008263090A (ja) | 2008-10-30 |
JP5034632B2 JP5034632B2 (ja) | 2012-09-26 |
Family
ID=39985335
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007105363A Active JP5034632B2 (ja) | 2007-04-12 | 2007-04-12 | パターンジェネレータ、パターン形成装置及びパターン生成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5034632B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010098371A1 (ja) * | 2009-02-26 | 2010-09-02 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置 |
JP2012242454A (ja) * | 2011-05-16 | 2012-12-10 | V Technology Co Ltd | 露光装置及び遮光板 |
JP2013050709A (ja) * | 2011-07-29 | 2013-03-14 | V Technology Co Ltd | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 |
WO2016204267A1 (ja) * | 2015-06-17 | 2016-12-22 | 株式会社ニコン | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6054434A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-03-28 | Toshiba Corp | 露光装置 |
JPS6362230A (ja) * | 1986-09-02 | 1988-03-18 | Nikon Corp | 露光装置 |
JPH0423314A (ja) * | 1990-05-15 | 1992-01-27 | Kawasaki Steel Corp | 露光装置 |
JPH0513303A (ja) * | 1991-07-02 | 1993-01-22 | Canon Inc | 縮少投影露光装置 |
JP2000228357A (ja) * | 1999-01-06 | 2000-08-15 | Cleo Srl | 高解像度投影方法 |
JP2003068634A (ja) * | 2001-08-23 | 2003-03-07 | Toshiyuki Horiuchi | 液晶マトリックス投影露光装置および液晶マトリックス投影露光方法 |
WO2004010228A2 (en) * | 2002-07-22 | 2004-01-29 | Massachussets Institute Of Technology | Maskless lithography using an array of diffractive focusing elements |
JP2004303951A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2004327660A (ja) * | 2003-04-24 | 2004-11-18 | Nikon Corp | 走査型投影露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2005277153A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像露光装置 |
JP2005277128A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Canon Inc | 露光装置、および、デバイス製造方法 |
-
2007
- 2007-04-12 JP JP2007105363A patent/JP5034632B2/ja active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6054434A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-03-28 | Toshiba Corp | 露光装置 |
JPS6362230A (ja) * | 1986-09-02 | 1988-03-18 | Nikon Corp | 露光装置 |
JPH0423314A (ja) * | 1990-05-15 | 1992-01-27 | Kawasaki Steel Corp | 露光装置 |
JPH0513303A (ja) * | 1991-07-02 | 1993-01-22 | Canon Inc | 縮少投影露光装置 |
JP2000228357A (ja) * | 1999-01-06 | 2000-08-15 | Cleo Srl | 高解像度投影方法 |
JP2003068634A (ja) * | 2001-08-23 | 2003-03-07 | Toshiyuki Horiuchi | 液晶マトリックス投影露光装置および液晶マトリックス投影露光方法 |
WO2004010228A2 (en) * | 2002-07-22 | 2004-01-29 | Massachussets Institute Of Technology | Maskless lithography using an array of diffractive focusing elements |
JP2004303951A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2004327660A (ja) * | 2003-04-24 | 2004-11-18 | Nikon Corp | 走査型投影露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2005277153A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像露光装置 |
JP2005277128A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Canon Inc | 露光装置、および、デバイス製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010098371A1 (ja) * | 2009-02-26 | 2010-09-02 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置 |
JP2010197822A (ja) * | 2009-02-26 | 2010-09-09 | V Technology Co Ltd | 露光装置 |
US8953146B2 (en) | 2009-02-26 | 2015-02-10 | V Technology Co., Ltd. | Exposure apparatus for improving alignment accuracy of a pattern generated by light modulating elements |
JP2012242454A (ja) * | 2011-05-16 | 2012-12-10 | V Technology Co Ltd | 露光装置及び遮光板 |
JP2013050709A (ja) * | 2011-07-29 | 2013-03-14 | V Technology Co Ltd | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 |
WO2016204267A1 (ja) * | 2015-06-17 | 2016-12-22 | 株式会社ニコン | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
JPWO2016204267A1 (ja) * | 2015-06-17 | 2018-04-12 | 株式会社ニコン | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5034632B2 (ja) | 2012-09-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5630634B2 (ja) | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 | |
TW200944963A (en) | Stage drive method and stage unit, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
KR20090039664A (ko) | 마이크로 액츄에이터, 광학 유닛 및 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법 | |
JP2009117837A (ja) | 移動体装置、パターン形成装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 | |
WO2009087805A1 (ja) | 空間光変調器、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
US20110212389A1 (en) | Focus test mask, focus measurement method, exposure method and exposure apparatus | |
JP2007049165A (ja) | リソグラフィ装置及びメトロロジ・システムを使用するデバイス製造方法 | |
JP2010087513A (ja) | 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 | |
JP5261442B2 (ja) | リソグラフィ投影装置 | |
JP5034632B2 (ja) | パターンジェネレータ、パターン形成装置及びパターン生成方法 | |
JP2007318069A (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法、投影光学系 | |
KR101760843B1 (ko) | 마스크 정렬 마크, 포토마스크, 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스의 제조 방법 | |
JP2009031169A (ja) | 位置検出装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 | |
JP5403297B2 (ja) | パターンジェネレータ、パターン形成装置及び露光装置 | |
JP2007142084A (ja) | 露光方法及びデバイス製造方法 | |
JP2007025085A (ja) | 露光装置、光学素子アレー及びマルチスポットビームジェネレータ、並びにデバイス製造方法 | |
JP2011228556A (ja) | 可変スリット装置、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP2010272631A (ja) | 照明装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2008177308A (ja) | 位置検出装置、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
KR20050092434A (ko) | 노광 장치 | |
JP2009020395A (ja) | 露光装置の構成部品、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法及びデバイス | |
TW201439589A (zh) | 空間光調變器及其驅動方法、以及曝光方法及裝置 | |
JP2012069654A (ja) | 空間光変調器、照明装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 | |
JP6729663B2 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
JP2008262997A (ja) | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100303 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110301 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120123 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120201 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120330 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120605 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120618 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150713 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5034632 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150713 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |