JPH0793119B2 - 電子顕微鏡 - Google Patents
電子顕微鏡Info
- Publication number
- JPH0793119B2 JPH0793119B2 JP63149655A JP14965588A JPH0793119B2 JP H0793119 B2 JPH0793119 B2 JP H0793119B2 JP 63149655 A JP63149655 A JP 63149655A JP 14965588 A JP14965588 A JP 14965588A JP H0793119 B2 JPH0793119 B2 JP H0793119B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- objective
- condenser lens
- crossover
- magnification
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
- H01J37/141—Electromagnetic lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
- H01J37/265—Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、電子顕微鏡に係り、特に、対物レンズによる
クロスオーバーの位置を常に対物絞りの位置にあるよう
にした電子顕微鏡に関するものである。
クロスオーバーの位置を常に対物絞りの位置にあるよう
にした電子顕微鏡に関するものである。
［従来の技術］ 電子顕微鏡においては、試料により回折され透過した電
子ビームのうちの所定のスポットだけを観察するため
に、対物絞りが用いられる。その構成を第５図に示す。
１は試料、２は第１コンデンサーレンズ、３は対物前方
レンズ、４は対物結像レンズ、５は対物絞りである。第
１コンデンサーレンズ２は試料１に対する電子ビームの
照射範囲を決める作用を行うものであり、対物前方レン
ズ３は、対物レンズの試料１より電子銃側にある磁界で
形成されるレンズである。
子ビームのうちの所定のスポットだけを観察するため
に、対物絞りが用いられる。その構成を第５図に示す。
１は試料、２は第１コンデンサーレンズ、３は対物前方
レンズ、４は対物結像レンズ、５は対物絞りである。第
１コンデンサーレンズ２は試料１に対する電子ビームの
照射範囲を決める作用を行うものであり、対物前方レン
ズ３は、対物レンズの試料１より電子銃側にある磁界で
形成されるレンズである。
第５図の構成において、図示しない電子銃から放射され
た電子ビームは、第１コンデンサーレンズ２により試料
１の所定の範囲に電子ビームが照射されるように絞られ
てＡ点でクロスオーバーを作り、対物前方レンズ３で略
平行ビームとなされ試料１に照射される。即ちクロスオ
ーバー点であるＡ点は対物前方レンズ３の焦点に位置す
る。試料１を透過した電子ビームは、対物結像レンズ４
によって絞られて後焦点面（Back focal Plane）でクロ
スオーバー（Ｂ点）を作り、対物絞り５を通り、図示し
ない中間レンズ、投影レンズ等により最終的にはスクリ
ーンに結像される。
た電子ビームは、第１コンデンサーレンズ２により試料
１の所定の範囲に電子ビームが照射されるように絞られ
てＡ点でクロスオーバーを作り、対物前方レンズ３で略
平行ビームとなされ試料１に照射される。即ちクロスオ
ーバー点であるＡ点は対物前方レンズ３の焦点に位置す
る。試料１を透過した電子ビームは、対物結像レンズ４
によって絞られて後焦点面（Back focal Plane）でクロ
スオーバー（Ｂ点）を作り、対物絞り５を通り、図示し
ない中間レンズ、投影レンズ等により最終的にはスクリ
ーンに結像される。
［発明が解決しようとする課題］ さて、対物絞り５は、観察しようとする所望のスポット
を形成するビームだけを通過させようとするものである
から、第５図に示すようにクロスオーバーＢの位置に正
しく配置され、しかも絞りの書込はできれば直径10μｍ
程度の小さいものであることが望ましい。
を形成するビームだけを通過させようとするものである
から、第５図に示すようにクロスオーバーＢの位置に正
しく配置され、しかも絞りの書込はできれば直径10μｍ
程度の小さいものであることが望ましい。
ところで、電子顕微鏡において倍率を変える場合には、
倍率によらず像をスクリーン一杯の大きさで写すように
するために、倍率に応じて試料に対する電子ビームの照
射領域も変えることが行われる。即ち、倍率によらず像
をスクリーン一杯の大きさに写すためには、倍率が大き
い場合には照射領域は狭くてもよく、倍率が小さい場合
には照射領域を広くする必要があるのである。当該照射
領域の調整は第１コンデンサーレンズ２の励磁を変える
ことで行われるが、対物レンズはほぼ固定のレンズであ
るために、第１コンデンサーレンズ２を調整して照射領
域を変えるとクロスオーバーＢの位置がｚ軸（光軸）上
を移動してしまう。その様子を第６図、第７図に示す。
第６図は倍率が大きい場合、第７図は倍率が小さい場合
である。なお、第６図、第７図において破線は回折電子
線を示す。
倍率によらず像をスクリーン一杯の大きさで写すように
するために、倍率に応じて試料に対する電子ビームの照
射領域も変えることが行われる。即ち、倍率によらず像
をスクリーン一杯の大きさに写すためには、倍率が大き
い場合には照射領域は狭くてもよく、倍率が小さい場合
には照射領域を広くする必要があるのである。当該照射
領域の調整は第１コンデンサーレンズ２の励磁を変える
ことで行われるが、対物レンズはほぼ固定のレンズであ
るために、第１コンデンサーレンズ２を調整して照射領
域を変えるとクロスオーバーＢの位置がｚ軸（光軸）上
を移動してしまう。その様子を第６図、第７図に示す。
第６図は倍率が大きい場合、第７図は倍率が小さい場合
である。なお、第６図、第７図において破線は回折電子
線を示す。
しかし、このようにクロスオーバーＢの位置が移動して
しまうと、第６図の場合には余分な電子ビームも対物絞
り５を通過することとなり、また、第７図の場合には対
物絞り５によって所望の視野が不必要に制限されてしま
う、という事態が生じ、十分な観測ができないものであ
った。
しまうと、第６図の場合には余分な電子ビームも対物絞
り５を通過することとなり、また、第７図の場合には対
物絞り５によって所望の視野が不必要に制限されてしま
う、という事態が生じ、十分な観測ができないものであ
った。
これに対する解決策として、対物絞り５の機械的位置を
倍率に応じて調整する、あるいは絞りの開口を直径50〜
100μｍ程度の大きさとするという手段も考えられる
が、前者については、調整機構が複雑でかつ調整に手間
が掛かり、更に物理的に当該調整機構を設けることがで
きない場合もあり、後者については、対応も容易で実際
的ではあるが、開口の直径が50〜100μｍ程度もあるの
では精度よい像は望むべくもないものであった。
倍率に応じて調整する、あるいは絞りの開口を直径50〜
100μｍ程度の大きさとするという手段も考えられる
が、前者については、調整機構が複雑でかつ調整に手間
が掛かり、更に物理的に当該調整機構を設けることがで
きない場合もあり、後者については、対応も容易で実際
的ではあるが、開口の直径が50〜100μｍ程度もあるの
では精度よい像は望むべくもないものであった。
以上の議論は、倍率は変えずに単に照射領域だけを変え
た場合にも同様である。
た場合にも同様である。
本発明は、上記の課題を解決するものであって、クロス
オーバーＢの位置を常に対物絞り５の位置にあるように
した電子顕微鏡を提供することを目的とするものであ
る。
オーバーＢの位置を常に対物絞り５の位置にあるように
した電子顕微鏡を提供することを目的とするものであ
る。
［課題を解決するための手段］ 上記の目的を達成するために、本発明の電子顕微鏡は、
対物前方レンズと対物結像レンズとを備える対物レンズ
と、対物前方レンズの電子銃側に配置された第１コンデ
ンサーレンズと、対物前方レンズと第１コンデンサーレ
ンズの間に配置された第２コンデンサーレンズとを備え
る電子顕微鏡であって、第２コンデンサーレンズの励磁
は、第１コンデンサーレンズの励磁の変化に連動して、
そのクロスオーバーの位置が常に対物前方レンズの焦点
の位置に形成されるように制御されることを特徴とす
る。
対物前方レンズと対物結像レンズとを備える対物レンズ
と、対物前方レンズの電子銃側に配置された第１コンデ
ンサーレンズと、対物前方レンズと第１コンデンサーレ
ンズの間に配置された第２コンデンサーレンズとを備え
る電子顕微鏡であって、第２コンデンサーレンズの励磁
は、第１コンデンサーレンズの励磁の変化に連動して、
そのクロスオーバーの位置が常に対物前方レンズの焦点
の位置に形成されるように制御されることを特徴とす
る。
［作用］ 本発明に係る電子顕微鏡においては、第１コンデンサー
レンズと対物レンズの対物前方レンズとの間に第２コン
デンサーレンズが設けられている。そして、この第２コ
ンデンサーレンズの励磁は、第１コンデンサーレンズの
励磁の変化に連動して、そのクロスオーバーの位置が常
に対物前方レンズの焦点の位置に形成されるように制御
される。
レンズと対物レンズの対物前方レンズとの間に第２コン
デンサーレンズが設けられている。そして、この第２コ
ンデンサーレンズの励磁は、第１コンデンサーレンズの
励磁の変化に連動して、そのクロスオーバーの位置が常
に対物前方レンズの焦点の位置に形成されるように制御
される。
これによって、対物レンズの対物結像レンズによるクロ
スオーバーの位置は第１コンデンサーレンズの励磁の如
何に拘わらず常に一定になされるので、対物絞りの開口
を10μｍ程度の小さなものとすることができる。
スオーバーの位置は第１コンデンサーレンズの励磁の如
何に拘わらず常に一定になされるので、対物絞りの開口
を10μｍ程度の小さなものとすることができる。
ここで、第２コンデンサーレンズは、請求項２に記載の
ように、対物レンズの対物前方レンズに対する電子ビー
ムの開き角を制御するものとすれば、試料に対する電子
ビームの照射領域を任意に変えることができる。
ように、対物レンズの対物前方レンズに対する電子ビー
ムの開き角を制御するものとすれば、試料に対する電子
ビームの照射領域を任意に変えることができる。
［実施例］ 実施例を説明する前に、クロスオーバーＢの位置を一定
とするにはどのようにすればよいかを考えてみる。上述
したように対物レンズは固定のレンズと考えてよいか
ら、第５図において、クロスオーバーＢの位置はクロス
オーバーＡの位置が決まれば一義的に決定されることに
なる。つまり、クロスオーバーＢの位置を常に対物絞り
５の位置にあるようにするには、クロスオーバーＡの位
置が常に一定であるようにすればよいことがわかる。そ
して、クロスオーバーＡが固定された場合には試料１に
対する電子ビームの照射領域はＡ点における電子ビーム
の開き角αによって一義的に決ってしまうから、結局、
クロスオーバーＡ点を固定し、Ａ点での電子ビームの開
き角αを調整できるようにすれば、クロスオーバーＢ点
の位置を固定したまま試料１に対する電子ビームの照射
領域を任意に変えることができることになる。
とするにはどのようにすればよいかを考えてみる。上述
したように対物レンズは固定のレンズと考えてよいか
ら、第５図において、クロスオーバーＢの位置はクロス
オーバーＡの位置が決まれば一義的に決定されることに
なる。つまり、クロスオーバーＢの位置を常に対物絞り
５の位置にあるようにするには、クロスオーバーＡの位
置が常に一定であるようにすればよいことがわかる。そ
して、クロスオーバーＡが固定された場合には試料１に
対する電子ビームの照射領域はＡ点における電子ビーム
の開き角αによって一義的に決ってしまうから、結局、
クロスオーバーＡ点を固定し、Ａ点での電子ビームの開
き角αを調整できるようにすれば、クロスオーバーＢ点
の位置を固定したまま試料１に対する電子ビームの照射
領域を任意に変えることができることになる。
以上の考察により、本発明に係る電子顕微鏡において
は、第１コンデンサーレンズ２と対物前方レンズ３の間
に第２コンデンサーレンズを設けることとしたのであ
る。
は、第１コンデンサーレンズ２と対物前方レンズ３の間
に第２コンデンサーレンズを設けることとしたのであ
る。
第１図に１実施例の構成を示す。図中、６は第２コンデ
ンサーレンズ、７は制御装置、８は記憶装置、９は入力
装置を示し、第３図と同じものについては同一の番号を
付す。
ンサーレンズ、７は制御装置、８は記憶装置、９は入力
装置を示し、第３図と同じものについては同一の番号を
付す。
第１図において、入力装置９から倍率が入力されると制
御装置７は、記憶装置８に格納されているテーブルか
ら、中間レンズ、投影レンズ等の投影系レンズ（図示せ
ず）の励磁電流を求め、投影系の各レンズに当該倍率に
対応した励磁電流を供給すると共に、第１コンデンサー
レンズ２には、後述するクロスオーバーＣ点が所定の位
置にくるような励磁電流を供給する。この処理は、倍率
に対する励磁電流値をテーブルとして記憶装置８に格納
しておき、入力された倍率値によって該テーブルを参照
することによって行うことができる。更に、制御装置７
は第２コンデンサーレンズ６に対して、入力された倍率
値に対応した励磁電流を供給する。
御装置７は、記憶装置８に格納されているテーブルか
ら、中間レンズ、投影レンズ等の投影系レンズ（図示せ
ず）の励磁電流を求め、投影系の各レンズに当該倍率に
対応した励磁電流を供給すると共に、第１コンデンサー
レンズ２には、後述するクロスオーバーＣ点が所定の位
置にくるような励磁電流を供給する。この処理は、倍率
に対する励磁電流値をテーブルとして記憶装置８に格納
しておき、入力された倍率値によって該テーブルを参照
することによって行うことができる。更に、制御装置７
は第２コンデンサーレンズ６に対して、入力された倍率
値に対応した励磁電流を供給する。
第２コンデンサーレンズ６に対するレンズ電流の供給
は、上述したように、クロスオーバーＡ点の位置を変え
ずに電子ビームの開き角αの大きさを変えるように行わ
れるが、第６図、第７図を参照すれば容易に理解できる
ように、倍率が大きい程クロスオーバーＡ点での開き角
αが大きくなるようになされなければならない。つま
り、倍率と第２コンデンサーレンズ６の励磁の関係は第
２図に示すような関数とする必要がある。例えば、スク
リーンの直径を160mmとすると倍率5000倍では試料上で
直径32μｍの範囲を照射すればよいので、この照射範囲
に対応するＡ点での電子ビームの開き角αを得るような
条件に第２コンデンサーレンズ６の励磁を決めるのであ
る。他の倍率においても同様である。第２コンデンサー
レンズ６の励磁を以上のように行うには、記憶装置８に
第２図に示す曲線を数式として格納しておき、入力され
た倍率を代入することによって励磁電流を求めるか、ま
たは第２図に示す関数を予めテーブルとして記憶装置８
に格納しておき、入力された倍率から該テーブルを参照
して励磁電流を求めることによって所定の励磁電流を供
給することができる。
は、上述したように、クロスオーバーＡ点の位置を変え
ずに電子ビームの開き角αの大きさを変えるように行わ
れるが、第６図、第７図を参照すれば容易に理解できる
ように、倍率が大きい程クロスオーバーＡ点での開き角
αが大きくなるようになされなければならない。つま
り、倍率と第２コンデンサーレンズ６の励磁の関係は第
２図に示すような関数とする必要がある。例えば、スク
リーンの直径を160mmとすると倍率5000倍では試料上で
直径32μｍの範囲を照射すればよいので、この照射範囲
に対応するＡ点での電子ビームの開き角αを得るような
条件に第２コンデンサーレンズ６の励磁を決めるのであ
る。他の倍率においても同様である。第２コンデンサー
レンズ６の励磁を以上のように行うには、記憶装置８に
第２図に示す曲線を数式として格納しておき、入力され
た倍率を代入することによって励磁電流を求めるか、ま
たは第２図に示す関数を予めテーブルとして記憶装置８
に格納しておき、入力された倍率から該テーブルを参照
して励磁電流を求めることによって所定の励磁電流を供
給することができる。
第３図、第４図に異なる倍率におけるクロスオーバーの
様子を示す。なお、図中の10は絞りであり、電子顕微鏡
には通常設けられているものである。第３図は倍率が大
きい場合を示す。この場合、第１コンデンサーレンズ２
はクロスオーバーＣ点が図の位置、即ち、第１コンデン
サーレンズ２の下にできるクロスオーバーＣ点は第２コ
ンデンサーレンズ６に近いところにあるように励磁さ
れ、従ってクロスオーバーＣ点での開き角は小さくなっ
ている。そして第２コンデンサーレンズ６は第２図から
分かるように強励磁になされるので、その結果クロスオ
ーバーＡ点は所定の位置に生じ、かつその開き角αは小
さくなり、試料１に対する電子ビームの照射範囲が狭く
なる。
様子を示す。なお、図中の10は絞りであり、電子顕微鏡
には通常設けられているものである。第３図は倍率が大
きい場合を示す。この場合、第１コンデンサーレンズ２
はクロスオーバーＣ点が図の位置、即ち、第１コンデン
サーレンズ２の下にできるクロスオーバーＣ点は第２コ
ンデンサーレンズ６に近いところにあるように励磁さ
れ、従ってクロスオーバーＣ点での開き角は小さくなっ
ている。そして第２コンデンサーレンズ６は第２図から
分かるように強励磁になされるので、その結果クロスオ
ーバーＡ点は所定の位置に生じ、かつその開き角αは小
さくなり、試料１に対する電子ビームの照射範囲が狭く
なる。
第４図は倍率が小さい場合であり、この場合には第１コ
ンデンサーレンズ２によるクロスオーバーＣ点の位置は
第３図の場合より第２コンデンサーレンズ６から離れた
位置にあって、Ｃ点での開き角は大きいものとなる。そ
してこの場合、第２コンデンサーレンズ６は弱励磁にな
されるので、クロスオーバーＡ点における開き角αも大
きくなり照射範囲は広くなる。なお、このときのクロス
オーバーＡ点の位置は第３図におけるクロスオーバーＡ
点の位置と同じ位置にあることは当然である。
ンデンサーレンズ２によるクロスオーバーＣ点の位置は
第３図の場合より第２コンデンサーレンズ６から離れた
位置にあって、Ｃ点での開き角は大きいものとなる。そ
してこの場合、第２コンデンサーレンズ６は弱励磁にな
されるので、クロスオーバーＡ点における開き角αも大
きくなり照射範囲は広くなる。なお、このときのクロス
オーバーＡ点の位置は第３図におけるクロスオーバーＡ
点の位置と同じ位置にあることは当然である。
ここで、第３図、第４図におけるクロスオーバーＡ点の
位置が対物前方レンズ３の焦点の位置にあることは、第
３図及び第４図において電子ビームが対物前方レンズ３
で平行ビームとなされて試料１に照射されていること、
及び第５図に関する説明から明らかである。
位置が対物前方レンズ３の焦点の位置にあることは、第
３図及び第４図において電子ビームが対物前方レンズ３
で平行ビームとなされて試料１に照射されていること、
及び第５図に関する説明から明らかである。
なお、以上の説明では第２コンデンサーレンズ６の励磁
を倍率に応じて変化させる例をとりあげたが、倍率は変
えずに照射範囲だけを変える場合にも同様に行うことが
できる。つまり、記憶装置８に第１コンデンサーレンズ
２の励磁電流に対する第２コンデンサーレンズ６の励磁
電流をテーブルとして格納しておき、第１コンデンサー
レンズ２の励磁電流により該テーブルを参照することに
よって第２コンデンサーレンズ６の励磁電流を制御する
ようにすればよい。
を倍率に応じて変化させる例をとりあげたが、倍率は変
えずに照射範囲だけを変える場合にも同様に行うことが
できる。つまり、記憶装置８に第１コンデンサーレンズ
２の励磁電流に対する第２コンデンサーレンズ６の励磁
電流をテーブルとして格納しておき、第１コンデンサー
レンズ２の励磁電流により該テーブルを参照することに
よって第２コンデンサーレンズ６の励磁電流を制御する
ようにすればよい。
［発明の効果］ 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、対物
レンズによるクロスオーバーの位置が倍率によらず常に
対物絞りの位置にあるようにできるので、対物絞りの径
を10μｍ程度の小さいものとすることができ、しかもこ
のような小さな絞りを用いた場合にも視野がカットされ
ることは全くないものである。
レンズによるクロスオーバーの位置が倍率によらず常に
対物絞りの位置にあるようにできるので、対物絞りの径
を10μｍ程度の小さいものとすることができ、しかもこ
のような小さな絞りを用いた場合にも視野がカットされ
ることは全くないものである。
第１図は本発明に係る電子顕微鏡の１実施例の構成を示
す図、第２図は倍率と第２コンデンサーレンズの励磁と
の関係を示す図、第３図は倍率が大きい場合のクロスオ
ーバーの位置を示す図、第４図は倍率が小さい場合のク
ロスオーバーの位置を示す図、第５図は従来の構成を示
す図、第６図、第７図は第５図に示す従来例におけるク
ロスオーバーの位置を示す図であり、第６図は倍率が大
きい場合の図、第７図は倍率が小さい場合の図である。 １……試料、２……第１コンデンサーレンズ、３……対
物前方レンズ、４……対物結像レンズ、５……対物絞
り、６……第２コンデンサーレンズ、７……制御装置、
８……記憶装置、９……入力装置。
す図、第２図は倍率と第２コンデンサーレンズの励磁と
の関係を示す図、第３図は倍率が大きい場合のクロスオ
ーバーの位置を示す図、第４図は倍率が小さい場合のク
ロスオーバーの位置を示す図、第５図は従来の構成を示
す図、第６図、第７図は第５図に示す従来例におけるク
ロスオーバーの位置を示す図であり、第６図は倍率が大
きい場合の図、第７図は倍率が小さい場合の図である。 １……試料、２……第１コンデンサーレンズ、３……対
物前方レンズ、４……対物結像レンズ、５……対物絞
り、６……第２コンデンサーレンズ、７……制御装置、
８……記憶装置、９……入力装置。
Claims (2)
- 【請求項１】対物前方レンズと対物結像レンズとを備え
る対物レンズと、 対物前方レンズの電子銃側に配置された第１コンデンサ
ーレンズと、 対物前方レンズと第１コンデンサーレンズの間に配置さ
れた第２コンデンサーレンズと を備える電子顕微鏡であって、 第２コンデンサーレンズの励磁は、第１コンデンサーレ
ンズの励磁の変化に連動して、そのクロスオーバーの位
置が常に対物前方レンズの焦点の位置に形成されるよう
に制御される ことを特徴とする電子顕微鏡。 - 【請求項２】上記第２コンデンサーレンズは上記対物レ
ンズの対物前方レンズに対する電子ビームの開き角を制
御することを特徴とする請求項１記載の電子顕微鏡。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63149655A JPH0793119B2 (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 電子顕微鏡 |
| US07/366,692 US4963737A (en) | 1988-06-17 | 1989-06-15 | Transmission electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63149655A JPH0793119B2 (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 電子顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01319237A JPH01319237A (ja) | 1989-12-25 |
| JPH0793119B2 true JPH0793119B2 (ja) | 1995-10-09 |
Family
ID=15479964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63149655A Expired - Fee Related JPH0793119B2 (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 電子顕微鏡 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4963737A (ja) |
| JP (1) | JPH0793119B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2685603B2 (ja) * | 1989-10-20 | 1997-12-03 | 日本電子株式会社 | 電子線装置 |
| JP5462434B2 (ja) * | 2007-07-13 | 2014-04-02 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子ビーム装置、及び荷電粒子ビーム顕微鏡 |
| JP6242745B2 (ja) | 2014-05-13 | 2017-12-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び当該装置を用いる検査方法 |
| JP6951123B2 (ja) * | 2017-05-23 | 2021-10-20 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP2019169362A (ja) * | 2018-03-23 | 2019-10-03 | 株式会社日立製作所 | 電子ビーム装置 |
| JP6995103B2 (ja) * | 2019-11-15 | 2022-01-14 | 日本電子株式会社 | 透過電子顕微鏡および透過電子顕微鏡の制御方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3715582A (en) * | 1970-02-13 | 1973-02-06 | Hitachi Ltd | Method of and apparatus for attaining focusing following variation in magnification in electron microscope |
| NL175245C (nl) * | 1977-05-26 | 1984-10-01 | Philips Nv | Elektronenmicroscoop met hulplens en elektromagnetische lens hiervoor. |
| JPS6019622B2 (ja) * | 1978-09-01 | 1985-05-17 | 株式会社国際精工 | 透過型電子顕微鏡の集束レンズ系 |
| JPS5765655A (en) * | 1980-10-07 | 1982-04-21 | Internatl Precision Inc | Electron microscope |
| JPS60220541A (ja) * | 1984-04-17 | 1985-11-05 | Jeol Ltd | 透過電子顕微鏡 |
| JPS614142A (ja) * | 1984-06-16 | 1986-01-10 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡 |
| JPS61193349A (ja) * | 1985-02-21 | 1986-08-27 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡における電子線照射方法 |
-
1988
- 1988-06-17 JP JP63149655A patent/JPH0793119B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-06-15 US US07/366,692 patent/US4963737A/en not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 上田良二編「電子顕微鏡」共立出版（昭５７−９−１）Ｐ．７９ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4963737A (en) | 1990-10-16 |
| JPH01319237A (ja) | 1989-12-25 |
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