JPS60220541A - 透過電子顕微鏡 - Google Patents
透過電子顕微鏡Info
- Publication number
- JPS60220541A JPS60220541A JP59077110A JP7711084A JPS60220541A JP S60220541 A JPS60220541 A JP S60220541A JP 59077110 A JP59077110 A JP 59077110A JP 7711084 A JP7711084 A JP 7711084A JP S60220541 A JPS60220541 A JP S60220541A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- objective lens
- yoke
- sample
- focusing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
- H01J37/141—Electromagnetic lenses
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は透過″重子顕微鏡の電子線照射レンズ系の改良
に関りる。
に関りる。
最近の透過電子顕微鏡に、１−３いては、試料に関Ｊる
透過像を観察づるだ４Ｊｃなく、透過像中の極微小領域
の物性分析を１”ｊなうことが重要となってきている。
透過像を観察づるだ４Ｊｃなく、透過像中の極微小領域
の物性分析を１”ｊなうことが重要となってきている。
この分析を行なうためには、試料上で数ｎ ｒＴ＋乃至
故−１−ｎ ｍに集束された電子線によって照射される
極微小領域に充分な電子線電流（明るさ）を与えること
ｌ）；必すリで−その１： １ｌ）Ｌ：雷：１′−鈴の
φφに寄与する最終段の集束レンズとして球面収差係数
の小さいレンズを使用することが要求される。
故−１−ｎ ｍに集束された電子線によって照射される
極微小領域に充分な電子線電流（明るさ）を与えること
ｌ）；必すリで−その１： １ｌ）Ｌ：雷：１′−鈴の
φφに寄与する最終段の集束レンズとして球面収差係数
の小さいレンズを使用することが要求される。
又、透過電子顕微鏡像観察時と極微小領域分析時とで対
物レンズの励磁を変えることは視野の対応性を持たせる
ことを難しくするのぐ、透過電子顕微鏡像観察時と極微
小領域分析時とで対物レンズの励磁を一定に保つことが
要求される。このような要求を満たすため、強く励磁さ
れた対物レンズ磁場内のＧ Ｏ（ｃｏｎｄｅｎｓｅ ｏ
ｂｊｅｃｔｉｖｅ）位置と称される位置に試お１を配置
する試料観察が従来より行われＣいる。
物レンズの励磁を変えることは視野の対応性を持たせる
ことを難しくするのぐ、透過電子顕微鏡像観察時と極微
小領域分析時とで対物レンズの励磁を一定に保つことが
要求される。このような要求を満たすため、強く励磁さ
れた対物レンズ磁場内のＧ Ｏ（ｃｏｎｄｅｎｓｅ ｏ
ｂｊｅｃｔｉｖｅ）位置と称される位置に試お１を配置
する試料観察が従来より行われＣいる。
第１図及び第２図は、夫々対物レンズのＣＯ位置に試料
を配置して透過電子顕微鏡像ｒＩＡ察のモード（Ｔ ［
Ｍモード）と分析モードに設定した場合における電子線
経路を示す略図である。これらの図において、観察づべ
ぎ辞膜状試斜１は対物レンズの磁場内に配置されるので
対物レンズは試料１より上の前方対物レンズ２と試料１
より下の後方対物レンズ３に分けて考えることができる
。これらのレンズにより試料の上方無限遠の点を試料上
に結像りる条件と試料から出た電子線を試料の下ノ”ｉ
ｊｉｌｔ限；仝で結像り゛る条件を対物レンズの励磁
を変化さＵないで満足さＵることができる。試料１を照
Ｇ’ｌ ！Ｉ’る電子線４は電子銃５より発散し、該発
散電子線４は第１．第２集束レンズ６ａ 、６ｂ 、第
３集束レンズ７及び前記前方対物レンズ２により順次床
束される。試１′３＋ １を透過した電子線は対物レン
ズ絞り８を通過して中間レンズ等から構成される結（象
レンズ系（図示−ＩＥＪ’）に導かれる。第１図に示？
ＪＴ’ Ｅ Ｍモードにおいては、電子線４は集束レン
ズ７により前方対物レンズ２の前方焦点位置゛Ｐ１に電
子銃５のり［１スオーバ像を結像する。
を配置して透過電子顕微鏡像ｒＩＡ察のモード（Ｔ ［
Ｍモード）と分析モードに設定した場合における電子線
経路を示す略図である。これらの図において、観察づべ
ぎ辞膜状試斜１は対物レンズの磁場内に配置されるので
対物レンズは試料１より上の前方対物レンズ２と試料１
より下の後方対物レンズ３に分けて考えることができる
。これらのレンズにより試料の上方無限遠の点を試料上
に結像りる条件と試料から出た電子線を試料の下ノ”ｉ
ｊｉｌｔ限；仝で結像り゛る条件を対物レンズの励磁
を変化さＵないで満足さＵることができる。試料１を照
Ｇ’ｌ ！Ｉ’る電子線４は電子銃５より発散し、該発
散電子線４は第１．第２集束レンズ６ａ 、６ｂ 、第
３集束レンズ７及び前記前方対物レンズ２により順次床
束される。試１′３＋ １を透過した電子線は対物レン
ズ絞り８を通過して中間レンズ等から構成される結（象
レンズ系（図示−ＩＥＪ’）に導かれる。第１図に示？
ＪＴ’ Ｅ Ｍモードにおいては、電子線４は集束レン
ズ７により前方対物レンズ２の前方焦点位置゛Ｐ１に電
子銃５のり［１スオーバ像を結像する。
このクロスオーバ像から発散する電子線は前方対物レン
ズ２により光軸に平行なビームとなって試わ１１を照射
する。このとぎ平行電子線によって照射される試料領域
（の幅）は、第２集束レンズ７に設（すられるレンズ絞
り９と点Ｐ１ま、での距１１ｆｆＭ及び絞り９の穴径ｄ
によって決まる。試料１を透過し！ご電子線は、結像レ
ンズ系を構成する後方対物レンズ３により、その後焦面
に設置される対物レンズの絞り８の位置に集束した後、
絞り８を通過して結像レンズ系（図示せず）に導かれる
。結像レンズ系は、対物レンズを除いて中間レンズ等が
電子顕微鏡像を結像するように調整されており、蛍光板
（図示駄ず）上に透過電子顕微鏡像を結像りる。このよ
うなＴＥＭモードにおいて蛍光板上の試料像を観察し、
像中に分析したい箇所を、捜し出した後に、試料装置（
図示せず）を操作して電子線に対する試料の位置を移動
して蛍光板の中心（光軸）に分析したい箇所がくるよう
に調整づ−る。
ズ２により光軸に平行なビームとなって試わ１１を照射
する。このとぎ平行電子線によって照射される試料領域
（の幅）は、第２集束レンズ７に設（すられるレンズ絞
り９と点Ｐ１ま、での距１１ｆｆＭ及び絞り９の穴径ｄ
によって決まる。試料１を透過し！ご電子線は、結像レ
ンズ系を構成する後方対物レンズ３により、その後焦面
に設置される対物レンズの絞り８の位置に集束した後、
絞り８を通過して結像レンズ系（図示せず）に導かれる
。結像レンズ系は、対物レンズを除いて中間レンズ等が
電子顕微鏡像を結像するように調整されており、蛍光板
（図示駄ず）上に透過電子顕微鏡像を結像りる。このよ
うなＴＥＭモードにおいて蛍光板上の試料像を観察し、
像中に分析したい箇所を、捜し出した後に、試料装置（
図示せず）を操作して電子線に対する試料の位置を移動
して蛍光板の中心（光軸）に分析したい箇所がくるよう
に調整づ−る。
このような分析箇所の設定が完了した後、照射レンズ系
を第２図に示ず分析モードに切替える。この分析モード
においては、電子線４は集束レンズにより前方対物レン
ズ２から充分離れた上方（無餞遠とみなず）の点Ｐ２に
電子銃５のクロスオーバー像を結像し、このクロスオー
バ像は更に前方対物レンズ２により試料１上に縮小結像
される。
を第２図に示ず分析モードに切替える。この分析モード
においては、電子線４は集束レンズにより前方対物レン
ズ２から充分離れた上方（無餞遠とみなず）の点Ｐ２に
電子銃５のクロスオーバー像を結像し、このクロスオー
バ像は更に前方対物レンズ２により試料１上に縮小結像
される。
このとき試料照ｔＡ電子線の開き角αは第２集束レンズ
７のレンズ絞り９の穴径ｄによって決まる。
７のレンズ絞り９の穴径ｄによって決まる。
試料を透過した電子線は絞り８を透過して対物レンズを
除き回折パターンを結像するように調整された結像レン
ズ系に導かれ、蛍光板上に回折パターンを表示覆る。あ
るいは、試料を透過した電子線を−［ネルギーアナライ
ザーに導いて、試料透過電子線の１ネルギ一分析を行っ
たり、試ｆ＋１から発生するＸ線を検出し−（元素分析
が行われる。更に、対物レンズの上方に偏向コイルを設
【プ、該偏向コイルに走査信号を供給して試料面を電子
線によって走査し、電子線の走査と同期した陰極線管の
輝１臭変調信号として試料から検出される二次電子等を
用いることによつＣ走査電子顕微鏡として使用覆ること
もできる。
除き回折パターンを結像するように調整された結像レン
ズ系に導かれ、蛍光板上に回折パターンを表示覆る。あ
るいは、試料を透過した電子線を−［ネルギーアナライ
ザーに導いて、試料透過電子線の１ネルギ一分析を行っ
たり、試ｆ＋１から発生するＸ線を検出し−（元素分析
が行われる。更に、対物レンズの上方に偏向コイルを設
【プ、該偏向コイルに走査信号を供給して試料面を電子
線によって走査し、電子線の走査と同期した陰極線管の
輝１臭変調信号として試料から検出される二次電子等を
用いることによつＣ走査電子顕微鏡として使用覆ること
もできる。
このような手順によって、従来装置にお【プるＴＥ Ｍ
モードと分析モードの切替えが行われるが、Ｔ Ｅ Ｍ
’Ｅ−ドにおりる観察視野が極めで狭いという問題が
ある。この視野を広くづるためには、第３集束レンズ（
一般的には最終段の集束レンズ）の絞り９の穴径ｄを大
ぎくするかレンズ絞りつと前方対物レンズの前焦点Ｐ１
までの距１１１１１Ｍをできるだ（プ短くすればよい。
モードと分析モードの切替えが行われるが、Ｔ Ｅ Ｍ
’Ｅ−ドにおりる観察視野が極めで狭いという問題が
ある。この視野を広くづるためには、第３集束レンズ（
一般的には最終段の集束レンズ）の絞り９の穴径ｄを大
ぎくするかレンズ絞りつと前方対物レンズの前焦点Ｐ１
までの距１１１１１Ｍをできるだ（プ短くすればよい。
しかし、電子銃から発散する電子線の発散角の問題等か
らレンズ絞りの穴径ｄを一定値以上に大きくすることは
できない。
らレンズ絞りの穴径ｄを一定値以上に大きくすることは
できない。
そこで、レンズ絞り９と前方対物レンズの前焦点までの
距離Ｍをできるだ番プ知くＪるＩＣめ、特開昭５３−１
４７−４５８号公報に開示されるように第２集束レンズ
と前方対物レンズとの間に新たなレンズを付加づること
が提案されている。この装置によれば、距１ｉｆｌ１Ｍ
を短くすることができるが、新たに（＝Ｊ加される補助
レンズは本来の対物レンズのヨークそのものを利用Ｊる
ものｅあるため、補助レンズの励磁を変化させると試料
の上下に形成される対物レンズ磁場の強度が変化してし
まい、ＴＥＭモードと分析モードを切替えた場合に軸が
一致しなくなり視野の対応が正確でなくなるという欠点
がある。
距離Ｍをできるだ番プ知くＪるＩＣめ、特開昭５３−１
４７−４５８号公報に開示されるように第２集束レンズ
と前方対物レンズとの間に新たなレンズを付加づること
が提案されている。この装置によれば、距１ｉｆｌ１Ｍ
を短くすることができるが、新たに（＝Ｊ加される補助
レンズは本来の対物レンズのヨークそのものを利用Ｊる
ものｅあるため、補助レンズの励磁を変化させると試料
の上下に形成される対物レンズ磁場の強度が変化してし
まい、ＴＥＭモードと分析モードを切替えた場合に軸が
一致しなくなり視野の対応が正確でなくなるという欠点
がある。
本発明は、このｊ：うな問題を解決して、新／ｊに設り
る補助レンズと本来の対物レンズとの相互干渉を生じる
ことなく、補助レンズのレンズ磁場位置と前方対物レン
ズの前焦点までの距離Ｍを短くＪることを目的とするも
のである。
る補助レンズと本来の対物レンズとの相互干渉を生じる
ことなく、補助レンズのレンズ磁場位置と前方対物レン
ズの前焦点までの距離Ｍを短くＪることを目的とするも
のである。
本発明装置６の構成は、対物レンズと電子銃との間に複
数段の集束レンズを設けた装置に；Ｊ３いて、最終段の
集束レンズの対物レンズ側磁極片を一外側に凸な円錐状
に形成づると共に、前記対物レンズの集束レンズ側ヨー
クに円錐状の窪みを形成したことを特徴どづるものであ
る。
数段の集束レンズを設けた装置に；Ｊ３いて、最終段の
集束レンズの対物レンズ側磁極片を一外側に凸な円錐状
に形成づると共に、前記対物レンズの集束レンズ側ヨー
クに円錐状の窪みを形成したことを特徴どづるものであ
る。
第３図は、本発明の一実加例装買の断面を示１」略四乙
・ある。第３図におい−Ｃ１光ｌｌｌ１ｌｌｚに対称に
第３集東レンズ７及び対物レンズ１０が設りられ、その
間に最終段集束（補助）レンズ１１が設置される。）Ｊ
物しンズ１０は、レンズコイル１２と、該レンズコイル
１２を包むレンズヨーク１３と、五１−り内側に配置さ
れ非磁性スムーザ１４′ｃ一体化された二つの磁極片１
５ａ、１５ｂから構成され、レンズコイル１２と上部（
集束レンズ側）レンズヨーク１３ａ＆の間に形成される
空間Ｍには、レンズヨーク１３を貫通して試料装置１６
や対物レンズ絞り機構（図示けず）が組込まれる。該試
Ｆｌ装置１′“７１６の先端部にはスペーサ１４に穿Ｉ
これた穴を通っＣ試わ１を磁極片１５ａ、１５ｂの略中
間に位置させる試料ホルダー１７が取付けられている。
・ある。第３図におい−Ｃ１光ｌｌｌ１ｌｌｚに対称に
第３集東レンズ７及び対物レンズ１０が設りられ、その
間に最終段集束（補助）レンズ１１が設置される。）Ｊ
物しンズ１０は、レンズコイル１２と、該レンズコイル
１２を包むレンズヨーク１３と、五１−り内側に配置さ
れ非磁性スムーザ１４′ｃ一体化された二つの磁極片１
５ａ、１５ｂから構成され、レンズコイル１２と上部（
集束レンズ側）レンズヨーク１３ａ＆の間に形成される
空間Ｍには、レンズヨーク１３を貫通して試料装置１６
や対物レンズ絞り機構（図示けず）が組込まれる。該試
Ｆｌ装置１′“７１６の先端部にはスペーサ１４に穿Ｉ
これた穴を通っＣ試わ１を磁極片１５ａ、１５ｂの略中
間に位置させる試料ホルダー１７が取付けられている。
試料装置１６には、試料を光軸Ｚに垂直な平面内で移動
させる機構の他に試料ボルダ１７の軸の回りに試料を回
転させる傾斜機構が備えられており、該傾斜機構を作動
させると試料装置１６全体が試料ホルダー１７と共に試
料ホルダー１７の軸の回りに回転する。、そのため、上
側！ｌ極片１５ａの下端面にりも上側の領域にも空間Ｍ
を設りることか必要となる。本発明においては、この空
間Ｍを確保するため上部ヨーク＜ｄ３よび上磁極片１５
ａ ）の中央部に窪みを形成することにより、対物レ
ンズの構造にお番プるＣＯ位置をできるだ【プ集束レン
ズに近い上側に位置させている。又、一般に対物レンズ
を強く励磁すると大ぎな磁束が流れるレンズヨークは磁
気飽和に近い状態となり、レンズヨークから漏洩する磁
束も多くなる。従って、第３図のように上側ヨーク１３
ａを磁極片からできるだけ遠ざけるように上側へ傾りる
（即ち上側レンズヨークの上面に凹部を設ける）ことは
、レンズヨークからの耐波磁束を減少させるという効果
をももたらず。
させる機構の他に試料ボルダ１７の軸の回りに試料を回
転させる傾斜機構が備えられており、該傾斜機構を作動
させると試料装置１６全体が試料ホルダー１７と共に試
料ホルダー１７の軸の回りに回転する。、そのため、上
側！ｌ極片１５ａの下端面にりも上側の領域にも空間Ｍ
を設りることか必要となる。本発明においては、この空
間Ｍを確保するため上部ヨーク＜ｄ３よび上磁極片１５
ａ ）の中央部に窪みを形成することにより、対物レ
ンズの構造にお番プるＣＯ位置をできるだ【プ集束レン
ズに近い上側に位置させている。又、一般に対物レンズ
を強く励磁すると大ぎな磁束が流れるレンズヨークは磁
気飽和に近い状態となり、レンズヨークから漏洩する磁
束も多くなる。従って、第３図のように上側ヨーク１３
ａを磁極片からできるだけ遠ざけるように上側へ傾りる
（即ち上側レンズヨークの上面に凹部を設ける）ことは
、レンズヨークからの耐波磁束を減少させるという効果
をももたらず。
第３集束レンズ７は、レンズコイル１８とヨーク１９か
らなり、そのレンズ磁場中心には絞り榔１１４２０によ
り絞りが挿入される。第３集束レンズ７の三１−り下面
に偏向」イル２１及び保持具２２を介しＣ最終段集束（
補助）レンズ１１が取イリりられＣいる。？ｉｌｉ助レ
ンズ１１は、レンズコイル２３、上側ヨーク２４及び下
側ヨーク２５がらなり、］・１ＩＩＩＩ ＝＋−り２５
は対物レンズ側に凸な円錐状になつＣいる。ヌ、上側磁
極ハ２４も下側に凸な円錐状をしＣいるため、２つのヨ
ークの環状端面の間に形成されるレンズ磁場は補助レン
ズ内部の最も上側に位置リ−るようになる。その結果、
補助レンズの構造にＪ３けるレンズ主面の位置をＪ：り
対物レンズに近づ【プることが可能となる。
らなり、そのレンズ磁場中心には絞り榔１１４２０によ
り絞りが挿入される。第３集束レンズ７の三１−り下面
に偏向」イル２１及び保持具２２を介しＣ最終段集束（
補助）レンズ１１が取イリりられＣいる。？ｉｌｉ助レ
ンズ１１は、レンズコイル２３、上側ヨーク２４及び下
側ヨーク２５がらなり、］・１ＩＩＩＩ ＝＋−り２５
は対物レンズ側に凸な円錐状になつＣいる。ヌ、上側磁
極ハ２４も下側に凸な円錐状をしＣいるため、２つのヨ
ークの環状端面の間に形成されるレンズ磁場は補助レン
ズ内部の最も上側に位置リ−るようになる。その結果、
補助レンズの構造にＪ３けるレンズ主面の位置をＪ：り
対物レンズに近づ【プることが可能となる。
このＪ：うにして、補助レンズ１１と対物レンズの上側
ヨーク１”３ａとの間には略等しい間隔の隙間が形成さ
れるようにレンズが配属され、この隙間にＸ線分析装置
のＸ線検出部２６．二次電子検出器２７及び偏向コイル
２８等を組込むことが可能となる。Ｘ線検出部２６をこ
のような隙間に配置することにより、必然的に試料１か
ら発生するＸ線に対する取出し角度が高くなりＸ線分析
に好ましい結果を与える。
ヨーク１”３ａとの間には略等しい間隔の隙間が形成さ
れるようにレンズが配属され、この隙間にＸ線分析装置
のＸ線検出部２６．二次電子検出器２７及び偏向コイル
２８等を組込むことが可能となる。Ｘ線検出部２６をこ
のような隙間に配置することにより、必然的に試料１か
ら発生するＸ線に対する取出し角度が高くなりＸ線分析
に好ましい結果を与える。
第４図及び第５図は、第３図の実施例装置にお（プるＴ
［Ｍモードと分析モードの電子光学系を第１図及び第２
図に対応させ−Ｃ表わしｔｃものである。
［Ｍモードと分析モードの電子光学系を第１図及び第２
図に対応させ−Ｃ表わしｔｃものである。
第４図の光学図に示すＴＥＭモードにおいて、第３集束
レンズ７によっ′Ｃ補助レンズ１１の上方位置Ｐ１′に
結像したクロスオーバ像は補助レンズ１１により前方対
物レンズ２の前焦点位置Ｐ１に結像している。このよう
に、位置Ｐ１’ に形成される開き角の大ぎな電子線に
よるクロスオーバ像を略１対１の関係で位置Ｐ１にもっ
てくることがｅぎるので、第１図の場合に比較して電子
線に照射される試料領域を大幅に拡げることができる。
レンズ７によっ′Ｃ補助レンズ１１の上方位置Ｐ１′に
結像したクロスオーバ像は補助レンズ１１により前方対
物レンズ２の前焦点位置Ｐ１に結像している。このよう
に、位置Ｐ１’ に形成される開き角の大ぎな電子線に
よるクロスオーバ像を略１対１の関係で位置Ｐ１にもっ
てくることがｅぎるので、第１図の場合に比較して電子
線に照射される試料領域を大幅に拡げることができる。
これに対して、第３図の装置による分析モードの光学図
は基本的に第２図に示す従来の光学図と同じである。即
ち、第５図においては補助レンズ１１の励磁をＴ、ＥＭ
モードの場合よりも弱めているが、更に弱めて零に設定
しても差し支えない。
は基本的に第２図に示す従来の光学図と同じである。即
ち、第５図においては補助レンズ１１の励磁をＴ、ＥＭ
モードの場合よりも弱めているが、更に弱めて零に設定
しても差し支えない。
以上のように、対物レンズとその前段に配置される最終
段集束（補助）レンズを本発明に従って構成づることに
より、対物レンズの励磁を変化させずにＴＥ、Ｍモード
と分析モードにＪ５ｉノる試料照射位置の対応を保ちな
がら行なうことが可能どなるだりでなく、ＴＥＭモード
における電子顕微鏡像の視野を従来よりも大幅に拡げる
ことが可能どなる。そのため、電子顕微鏡による試料中
の微小領域の物性分析がより迅速且つ正確に行な４つれ
るようになる。
段集束（補助）レンズを本発明に従って構成づることに
より、対物レンズの励磁を変化させずにＴＥ、Ｍモード
と分析モードにＪ５ｉノる試料照射位置の対応を保ちな
がら行なうことが可能どなるだりでなく、ＴＥＭモード
における電子顕微鏡像の視野を従来よりも大幅に拡げる
ことが可能どなる。そのため、電子顕微鏡による試料中
の微小領域の物性分析がより迅速且つ正確に行な４つれ
るようになる。
第１図は従来の透過電子顕微鏡におりる透過電子顕微鏡
像観察のモード時の電子線経路を承り略図、′Ｅ３２図
は従来の透過電子顕微鏡におりる分析モードＩＩ；ｊの
電子線経路を示づ略図、第３図は本発明の一実施例装置
を示す略図、第４図は本発明装置にお（）る透過電子顕
微鏡像観察のモード時の電子線経路を示づ略図、及び第
５図は本発明装置にＪ３りる分析モード時の電子線経路
をポリ−略図である。 １：試料、２：前方対物レンズ、３：後方対物レンズ、
４：電子線、５：電子銃、６ａ：第１集束レンズ、６ｂ
：第２集束レンズ、７：第３集束レンズ、８：対物レン
ズ絞り、９：第３集束レンズ絞り、１０：対物レンズ絞
り、１１：補助レンズ、１２：レンズコイル、１３：レ
ンズヨーク、１４：非磁性スペー→ノ、１５ａ、 １５
ｂ：磁極片、１６：試料装置、１７：試料ホルダー、１
８；レンズコイル、１９：ヨーク、２０：絞りＩ火構、
２１：偏向コイル、２２：保持具、２３：レンズコイル
、２４：上側ヨーク、２５：下側ヨーク、２６：ＸＲ１
検出部、２７：二次電子検出器、２８二偏向コイル。 特許出願人 日本電子株式会社 代表者 伊藤 −夫 第４図
像観察のモード時の電子線経路を承り略図、′Ｅ３２図
は従来の透過電子顕微鏡におりる分析モードＩＩ；ｊの
電子線経路を示づ略図、第３図は本発明の一実施例装置
を示す略図、第４図は本発明装置にお（）る透過電子顕
微鏡像観察のモード時の電子線経路を示づ略図、及び第
５図は本発明装置にＪ３りる分析モード時の電子線経路
をポリ−略図である。 １：試料、２：前方対物レンズ、３：後方対物レンズ、
４：電子線、５：電子銃、６ａ：第１集束レンズ、６ｂ
：第２集束レンズ、７：第３集束レンズ、８：対物レン
ズ絞り、９：第３集束レンズ絞り、１０：対物レンズ絞
り、１１：補助レンズ、１２：レンズコイル、１３：レ
ンズヨーク、１４：非磁性スペー→ノ、１５ａ、 １５
ｂ：磁極片、１６：試料装置、１７：試料ホルダー、１
８；レンズコイル、１９：ヨーク、２０：絞りＩ火構、
２１：偏向コイル、２２：保持具、２３：レンズコイル
、２４：上側ヨーク、２５：下側ヨーク、２６：ＸＲ１
検出部、２７：二次電子検出器、２８二偏向コイル。 特許出願人 日本電子株式会社 代表者 伊藤 −夫 第４図
Claims (1)
- 対物レンズと電子銃との間に複数段の集束レンズを設け
た装置においＣ１最終段の集束レンズのλ・１物４レン
ズ側磁極片を外側に凸な円錐状に形成づると其に、前記
対物レンズの集束レンズ側ヨークの中央部に円ｉｌｌ状
の窪みを形成したことを特徴と４−るｊΔ過電子顕微鏡
。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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| JP59077110A JPS60220541A (ja) | 1984-04-17 | 1984-04-17 | 透過電子顕微鏡 |
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Patent Citations (1)
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| EXPY | Cancellation because of completion of term |