JPH01319237A - 電子顕微鏡 - Google Patents
電子顕微鏡Info
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- JPH01319237A JPH01319237A JP63149655A JP14965588A JPH01319237A JP H01319237 A JPH01319237 A JP H01319237A JP 63149655 A JP63149655 A JP 63149655A JP 14965588 A JP14965588 A JP 14965588A JP H01319237 A JPH01319237 A JP H01319237A
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- Japan
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- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims abstract description 21
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 19
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
- H01J37/141—Electromagnetic lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
- H01J37/265—Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、電子顕微鏡に係り、特に、対物レンズによる
クロスオーバーの位置を常に対物絞りの位置にあるよう
にした電子顕微鏡に関するものである。
クロスオーバーの位置を常に対物絞りの位置にあるよう
にした電子顕微鏡に関するものである。
［従来の技術］
電子顕微鏡においては、試料により回折され透過した電
子ビームのうちの所定のスポットだけを観察するために
、対物絞りが用いられる。その構成を第５図に示す。１
は試料、２はブライトネスレンズ、３は対物前方レンズ
、４は対物結像レンズ、５は対物絞りである。ブライト
ネスレンズ２は試料１に対する電子ビームの照射範囲を
決める作用を行うものであり、対物前方レンズ３は、対
物レンズの試料１より電子銃側にある磁界で形成される
レンズである。
子ビームのうちの所定のスポットだけを観察するために
、対物絞りが用いられる。その構成を第５図に示す。１
は試料、２はブライトネスレンズ、３は対物前方レンズ
、４は対物結像レンズ、５は対物絞りである。ブライト
ネスレンズ２は試料１に対する電子ビームの照射範囲を
決める作用を行うものであり、対物前方レンズ３は、対
物レンズの試料１より電子銃側にある磁界で形成される
レンズである。
第５図の構成において、図示しない電子銃から放射され
た電子ビームは、ブライトネスレンズ２により試料１の
所定の範囲に電子ビームが照射されるように絞られてＡ
点でクロスオーバーを作り、対物前方レンズ３で略平行
ビームとなされ試料１に照射される。試料１を透過した
電子ビームは、対物結像レンズ４によって絞られて後焦
点面（Ｂａｃｋ ｆｏｃａｌ Ｐｌａｎｅ）でクロスオ
ーバー（Ｂ点）を作リ、対物絞り５を通り、図示しない
中間レンズ、投影レンズ等により最終的にはスクリーン
に結像される。
た電子ビームは、ブライトネスレンズ２により試料１の
所定の範囲に電子ビームが照射されるように絞られてＡ
点でクロスオーバーを作り、対物前方レンズ３で略平行
ビームとなされ試料１に照射される。試料１を透過した
電子ビームは、対物結像レンズ４によって絞られて後焦
点面（Ｂａｃｋ ｆｏｃａｌ Ｐｌａｎｅ）でクロスオ
ーバー（Ｂ点）を作リ、対物絞り５を通り、図示しない
中間レンズ、投影レンズ等により最終的にはスクリーン
に結像される。
［発明が解決しようとする課題］
さて、対物絞り５は、観察しようとする所望のスポット
を形成するビームだけを通過させようとするものである
から、第６図に示すようにクロスオーバーＢの位置に正
しく配置され、しかも絞りの開口はできれば直径１０μ
ｍ程度の小さいものであることが望ましい。
を形成するビームだけを通過させようとするものである
から、第６図に示すようにクロスオーバーＢの位置に正
しく配置され、しかも絞りの開口はできれば直径１０μ
ｍ程度の小さいものであることが望ましい。
ところで、電子顕微鏡において倍率を変える場合には、
倍率によらず像をスクリーン−杯の大きさで写すように
するために、倍率に応じて試料に対する電子ビームの照
射領域も変えることが行われる。即ち、倍率によらず像
をスクリーン−杯の大きさに写すためには、倍率が大き
い場合には照射領域は狭くてもよく、倍率が小さい場合
には照射領域を広くする必要があるのである。当該照射
領域の調整はブライトネスレンズ２の［を変えることで
行われるが、対物レンズはほぼ固定のレンズであるため
に、ブライトネスレンズ２をＩ整して照射領域を変える
とクロスオーバーＢの位置が２軸（光軸）上を移動して
しまう。その様子を第６図、第７図に示す。第６図は倍
率が大きい場合、第７図は倍率が小さい場合である。な
お、第８図、第７図において破線は回折電子線を示す。
倍率によらず像をスクリーン−杯の大きさで写すように
するために、倍率に応じて試料に対する電子ビームの照
射領域も変えることが行われる。即ち、倍率によらず像
をスクリーン−杯の大きさに写すためには、倍率が大き
い場合には照射領域は狭くてもよく、倍率が小さい場合
には照射領域を広くする必要があるのである。当該照射
領域の調整はブライトネスレンズ２の［を変えることで
行われるが、対物レンズはほぼ固定のレンズであるため
に、ブライトネスレンズ２をＩ整して照射領域を変える
とクロスオーバーＢの位置が２軸（光軸）上を移動して
しまう。その様子を第６図、第７図に示す。第６図は倍
率が大きい場合、第７図は倍率が小さい場合である。な
お、第８図、第７図において破線は回折電子線を示す。
しかし、このようにクロスオーバーＢの位置が移動して
しまうと、第６図の場合には余分な電子ビームも対物絞
り５を通過することとなり、また、第７図の場合には対
物絞り５によって所望の視野が不必要に制限されてしま
う、という事態が生じ、十分な観測ができないものであ
った。
しまうと、第６図の場合には余分な電子ビームも対物絞
り５を通過することとなり、また、第７図の場合には対
物絞り５によって所望の視野が不必要に制限されてしま
う、という事態が生じ、十分な観測ができないものであ
った。
これに対する解決策として、対物絞り５の機械的位置を
倍率に応じて調整する、あるいは絞りの開口を直径５０
〜１００μｍ程度の大きさとするという手段も考えられ
るが、前者については、調整機構が複雑でかつ調整に手
間が掛かり、更に物理的に当該調整機構を設けることが
できない場合もあり、後者については、対応も容易で実
際的ではあるが、開口の直径が５０〜１００μｍ程度も
あるのでは精度よい像は望むべくもないものであった。
倍率に応じて調整する、あるいは絞りの開口を直径５０
〜１００μｍ程度の大きさとするという手段も考えられ
るが、前者については、調整機構が複雑でかつ調整に手
間が掛かり、更に物理的に当該調整機構を設けることが
できない場合もあり、後者については、対応も容易で実
際的ではあるが、開口の直径が５０〜１００μｍ程度も
あるのでは精度よい像は望むべくもないものであった。
以上の議論は、倍率は変えずに単に照射領域だけを変え
た場合にも同様である。
た場合にも同様である。
本発明は、上記の課題を解決するものであって、クロス
オーバーＢの位置を常に対物絞り５の位置にあるように
した電子顕微鏡を提供することを目的とするものである
。
オーバーＢの位置を常に対物絞り５の位置にあるように
した電子顕微鏡を提供することを目的とするものである
。
［課題を解決するための手段］
上記の目的を達成するために、本発明の電子顕微鏡は、
対物レンズと、該対物レンズより電子銃側に配置される
ブライトネスレンズとの間にコンデンサーレンズを設け
、該コンデンサーレンズの励磁を倍率または試料に対す
る電子ビームの照射領域の調整に連動して可変すること
により対物レンズによるクロスオーバーの位置が常に対
物絞りの位置にあるようにすることを特徴とする。
対物レンズと、該対物レンズより電子銃側に配置される
ブライトネスレンズとの間にコンデンサーレンズを設け
、該コンデンサーレンズの励磁を倍率または試料に対す
る電子ビームの照射領域の調整に連動して可変すること
により対物レンズによるクロスオーバーの位置が常に対
物絞りの位置にあるようにすることを特徴とする。
［作用］
本発明に係る電子顕微鏡においては、ブライトネスレン
ズと対物レンズの間にコンデンサーレンズを設け、該コ
ンデンサーレンズの励磁を、倍率または照射領域の調整
に対応して、クロスオーバーの位置は固定のまま対物前
方レンズに対する電子ビームの開き角を変えるように調
整することによって、対物レンズによるクロスオーバー
の位置を倍率によらず固定となるようにしたので、対物
絞りの開口を１０μｍ程度の小さなものとすることがで
きるものである。
ズと対物レンズの間にコンデンサーレンズを設け、該コ
ンデンサーレンズの励磁を、倍率または照射領域の調整
に対応して、クロスオーバーの位置は固定のまま対物前
方レンズに対する電子ビームの開き角を変えるように調
整することによって、対物レンズによるクロスオーバー
の位置を倍率によらず固定となるようにしたので、対物
絞りの開口を１０μｍ程度の小さなものとすることがで
きるものである。
［実施例］
実施例を説明する前に、クロスオーバーＢの位置を一定
とするにはどのようにすればよいかを考えてみる。上述
したように対物レンズは固定のレンズと考えてよいから
、第５図において、クロスオーバーＢの位置はクロスオ
ーバーＡの位置が決まれば一義的に決定されることにな
る。つまり、り（コスオーバーＢの位置を常に対物絞り
５の位置にあるようにするには、クロスオーバーＡの位
置が常に一定であるようにすればよいことがわかる。
とするにはどのようにすればよいかを考えてみる。上述
したように対物レンズは固定のレンズと考えてよいから
、第５図において、クロスオーバーＢの位置はクロスオ
ーバーＡの位置が決まれば一義的に決定されることにな
る。つまり、り（コスオーバーＢの位置を常に対物絞り
５の位置にあるようにするには、クロスオーバーＡの位
置が常に一定であるようにすればよいことがわかる。
そして、クロスオーバーＡが固定された場合には試料１
に対する電子ビームの照射領域はＡ点における電子ビー
ムの開き角αによって一義的に決うてしまうから、結局
、クロスオーバーＡ点を固定し、Ａ点での電子ビームの
開き角αを調整できるようにすれば、クロスオーバー８
点の位置を固定したまま試料１に対する電子ビームの照
射領域を任意に変えることができることになる。
に対する電子ビームの照射領域はＡ点における電子ビー
ムの開き角αによって一義的に決うてしまうから、結局
、クロスオーバーＡ点を固定し、Ａ点での電子ビームの
開き角αを調整できるようにすれば、クロスオーバー８
点の位置を固定したまま試料１に対する電子ビームの照
射領域を任意に変えることができることになる。
以上の考察により、本発明に係る電子顕微鏡においては
、ブライトネスレンズ２と対物前方レンズ３の間にコン
デンサーレンズを設けることとしたのである。
、ブライトネスレンズ２と対物前方レンズ３の間にコン
デンサーレンズを設けることとしたのである。
第１図に１実施例の構成を示す。図中、８はコンデンサ
ーレンズ、７は制御装置、８は記憶装置、９は入力装置
を示し、第３図と同じものについては同一の番号を付す
。
ーレンズ、７は制御装置、８は記憶装置、９は入力装置
を示し、第３図と同じものについては同一の番号を付す
。
第１図において、入力装置９から倍率が入力されると制
御装置７は、記憶装置８に格納されているテーブルから
、中間レンズ、投影レンズ等の投影系レンズ（図示せず
）の励磁電流を求め、投影系の各レンズに当該倍率に対
応した励磁電流を供給すると共に、ブライトネスレンズ
２には、後述するクロスオーバーＣ点が所定の位置にく
るような励磁電流を供給する。この処理は、倍率に対す
る励磁電流値をテーブルとして記憶装置８に格納してお
き、入力された倍率値によって該テーブルを参照するこ
とによって行うことができる。更に、制御装置７はコン
デンサーレンズ６に対して、入力された倍率値に対応し
た励磁電流を供給する。
御装置７は、記憶装置８に格納されているテーブルから
、中間レンズ、投影レンズ等の投影系レンズ（図示せず
）の励磁電流を求め、投影系の各レンズに当該倍率に対
応した励磁電流を供給すると共に、ブライトネスレンズ
２には、後述するクロスオーバーＣ点が所定の位置にく
るような励磁電流を供給する。この処理は、倍率に対す
る励磁電流値をテーブルとして記憶装置８に格納してお
き、入力された倍率値によって該テーブルを参照するこ
とによって行うことができる。更に、制御装置７はコン
デンサーレンズ６に対して、入力された倍率値に対応し
た励磁電流を供給する。
コンデンサーレンズ６に対する励磁電流の供給は、上述
したように、クロスオーバーＡ点の位置を変えずに電子
ビームの開き角αの大きさを変えるように行われるが、
第６図、第７図を参照すれば容易に理解できるように、
倍率が大きい程りロスオーバーＡ点での開き角αが大き
くなるようになされなければならない。つまり、倍率と
コンデンサーレンズ６の励磁の関係は第２図に示すよう
な関数とする必要がある。例えば、スクリーンの直径を
１６０ ｍ−とすると倍率５０００倍では試料上では直
径３２μｍの範囲を照射すればよいので、この照射範囲
に対応するＡ点での電子ビームの開き角αを得るような
条件にコンデンサーレンズ６の励磁を決めるのである。
したように、クロスオーバーＡ点の位置を変えずに電子
ビームの開き角αの大きさを変えるように行われるが、
第６図、第７図を参照すれば容易に理解できるように、
倍率が大きい程りロスオーバーＡ点での開き角αが大き
くなるようになされなければならない。つまり、倍率と
コンデンサーレンズ６の励磁の関係は第２図に示すよう
な関数とする必要がある。例えば、スクリーンの直径を
１６０ ｍ−とすると倍率５０００倍では試料上では直
径３２μｍの範囲を照射すればよいので、この照射範囲
に対応するＡ点での電子ビームの開き角αを得るような
条件にコンデンサーレンズ６の励磁を決めるのである。
他の倍率においても同様である。コンデンサーレンズ６
の励磁を以上のように行うには、記憶装置８に第２図に
示す曲線を数式として格納しておき、入力された倍率を
代入することによって励磁電流を求めるか、または第２
図に示す関数を予めテーブルとして記憶装置８に格納し
ておき、入力された倍率から該テーブルを参照して励磁
電流を求めることによって所定の励磁電流を供給するこ
とができる。
の励磁を以上のように行うには、記憶装置８に第２図に
示す曲線を数式として格納しておき、入力された倍率を
代入することによって励磁電流を求めるか、または第２
図に示す関数を予めテーブルとして記憶装置８に格納し
ておき、入力された倍率から該テーブルを参照して励磁
電流を求めることによって所定の励磁電流を供給するこ
とができる。
第３図、第４図に異なる倍率におけるクロスオーバーの
様子を示す。なお、図中の１０は絞りであり、電子顕微
鏡には通常設けられているものである。第３図は倍率が
大きい場合を示す。この場合、ブライトネスレンズ２は
クロスオーバーＣ点が図の位置、即ち、ブライトネスレ
ンズ２の下にできるクロスオーバーＣ点はコンデンサー
レンズ６に近いとこ°ろにあるように励磁され、従って
クロスオーバーＣ点での開き角は小さくなっている。
様子を示す。なお、図中の１０は絞りであり、電子顕微
鏡には通常設けられているものである。第３図は倍率が
大きい場合を示す。この場合、ブライトネスレンズ２は
クロスオーバーＣ点が図の位置、即ち、ブライトネスレ
ンズ２の下にできるクロスオーバーＣ点はコンデンサー
レンズ６に近いとこ°ろにあるように励磁され、従って
クロスオーバーＣ点での開き角は小さくなっている。
そしてコンデンサーレンズ６は第２図から分かるように
強励磁になされるので、その結果クロスオーバーＡ点は
所定の位置に生じ、かつその開き角αは小さくなり、試
料１に対する電子ビームの照射範囲は狭くなる。
強励磁になされるので、その結果クロスオーバーＡ点は
所定の位置に生じ、かつその開き角αは小さくなり、試
料１に対する電子ビームの照射範囲は狭くなる。
第４図は倍率が小さい場合であり、この場合にはブライ
トネスレンズ２によるクロスオーバーＣ点の位置は第３
図の場合よりコンデンサーレンズ６から離れた位置にあ
って、０点での開き角は大きいものとなる。そしてこの
場合、コンデンサーレンズ６は弱励磁になされるので、
クロスオーバーＡ点における開き角αも大きくなり照射
範囲は広くなる。なお、このときのクロスオーバーＡ点
の位置は第３図におけるクロスオーバーＡ点の位置と同
じ位置にあることは当然である。
トネスレンズ２によるクロスオーバーＣ点の位置は第３
図の場合よりコンデンサーレンズ６から離れた位置にあ
って、０点での開き角は大きいものとなる。そしてこの
場合、コンデンサーレンズ６は弱励磁になされるので、
クロスオーバーＡ点における開き角αも大きくなり照射
範囲は広くなる。なお、このときのクロスオーバーＡ点
の位置は第３図におけるクロスオーバーＡ点の位置と同
じ位置にあることは当然である。
なお、以上の説明ではコンデンサーレンズ６の励磁を倍
率に応じて変化させる例をとりあげたが、倍率は変えず
に照射範囲だけを変える場合にも同様に行うことができ
る。つまり、記憶装置８にブライトネスレンズ２の励磁
電流に対するコンデンサーレンズ６の励磁電流をテーブ
ルとして格納しておき、ブライトネスレンズ２の励磁電
流により該テーブルを参照することによってコンデンサ
ーレンズ６の励磁電流を制御するようにすればよい。
率に応じて変化させる例をとりあげたが、倍率は変えず
に照射範囲だけを変える場合にも同様に行うことができ
る。つまり、記憶装置８にブライトネスレンズ２の励磁
電流に対するコンデンサーレンズ６の励磁電流をテーブ
ルとして格納しておき、ブライトネスレンズ２の励磁電
流により該テーブルを参照することによってコンデンサ
ーレンズ６の励磁電流を制御するようにすればよい。
［発明の効果コ
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、対物
レンズによるクロスオーバーの位置が倍率によらず常に
対物絞りの位置にあるようにできるので、対物絞りの径
を１０μｍ程度の小さいものとすることができ、しかも
このような小さな絞りを用いた場合にも視野がカットさ
れることは全くないものである。
レンズによるクロスオーバーの位置が倍率によらず常に
対物絞りの位置にあるようにできるので、対物絞りの径
を１０μｍ程度の小さいものとすることができ、しかも
このような小さな絞りを用いた場合にも視野がカットさ
れることは全くないものである。
第１図は本発明に係る電子顕微鏡の１実施例の構成を示
す図、第２図は倍率とコンデンサーレンズの励磁との関
係を示す図、第３図は倍率が大きい場合のクロスオーバ
ーの位置を示す図、第４図は倍率が小さい場合のクロス
オーバーの位置を示す図、第５図は従来の構成を示す図
、第６図、第７図は第５図に示す従来例におけるクロス
オーバーの位置を示す図であり、第６図は倍率が大きい
場合の図、第７図は倍率が小さい場合の図である。 １・・・試料、２・・・ブライトネスレンズ、３・・・
対物前方レンズ、４・・・対物結像レンズ、５・・・対
物絞り、６・・・コンデンサーレンズ、７・・・制御装
置、８・・・記憶装置、９・・・入力装置。 出 願 人 日本電子株式会社 代理人 弁理士 菅 井 英 雄（外４名）第１図 第２図
す図、第２図は倍率とコンデンサーレンズの励磁との関
係を示す図、第３図は倍率が大きい場合のクロスオーバ
ーの位置を示す図、第４図は倍率が小さい場合のクロス
オーバーの位置を示す図、第５図は従来の構成を示す図
、第６図、第７図は第５図に示す従来例におけるクロス
オーバーの位置を示す図であり、第６図は倍率が大きい
場合の図、第７図は倍率が小さい場合の図である。 １・・・試料、２・・・ブライトネスレンズ、３・・・
対物前方レンズ、４・・・対物結像レンズ、５・・・対
物絞り、６・・・コンデンサーレンズ、７・・・制御装
置、８・・・記憶装置、９・・・入力装置。 出 願 人 日本電子株式会社 代理人 弁理士 菅 井 英 雄（外４名）第１図 第２図
Claims (2)
- （１）対物レンズと、該対物レンズより電子銃側に配置
されるブライトネスレンズとの間にコンデンサーレンズ
を設け、該コンデンサーレンズの励磁を倍率または試料
に対する電子ビームの照射領域の調整に連動して可変す
ることにより対物レンズによるクロスオーバーの位置が
常に対物絞りの位置にあるようにすることを特徴とする
電子顕微鏡。 - （２）上記コンデンサーレンズは上記対物レンズの対物
前方レンズに対する開き角を制御することを特徴とする
請求項１記載の電子顕微鏡。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63149655A JPH0793119B2 (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 電子顕微鏡 |
| US07/366,692 US4963737A (en) | 1988-06-17 | 1989-06-15 | Transmission electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63149655A JPH0793119B2 (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 電子顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01319237A true JPH01319237A (ja) | 1989-12-25 |
| JPH0793119B2 JPH0793119B2 (ja) | 1995-10-09 |
Family
ID=15479964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63149655A Expired - Fee Related JPH0793119B2 (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 電子顕微鏡 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4963737A (ja) |
| JP (1) | JPH0793119B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009021156A (ja) * | 2007-07-13 | 2009-01-29 | Hitachi Ltd | 荷電粒子ビーム装置、及び荷電粒子ビーム顕微鏡 |
| WO2015174221A1 (ja) * | 2014-05-13 | 2015-11-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び当該装置を用いる検査方法 |
| KR20190111730A (ko) * | 2018-03-23 | 2019-10-02 | 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 | 전자빔 장치 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2685603B2 (ja) * | 1989-10-20 | 1997-12-03 | 日本電子株式会社 | 電子線装置 |
| JP6951123B2 (ja) * | 2017-05-23 | 2021-10-20 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP6995103B2 (ja) * | 2019-11-15 | 2022-01-14 | 日本電子株式会社 | 透過電子顕微鏡および透過電子顕微鏡の制御方法 |
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| JPS61193349A (ja) * | 1985-02-21 | 1986-08-27 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡における電子線照射方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3715582A (en) * | 1970-02-13 | 1973-02-06 | Hitachi Ltd | Method of and apparatus for attaining focusing following variation in magnification in electron microscope |
| NL175245C (nl) * | 1977-05-26 | 1984-10-01 | Philips Nv | Elektronenmicroscoop met hulplens en elektromagnetische lens hiervoor. |
| JPS5765655A (en) * | 1980-10-07 | 1982-04-21 | Internatl Precision Inc | Electron microscope |
| JPS60220541A (ja) * | 1984-04-17 | 1985-11-05 | Jeol Ltd | 透過電子顕微鏡 |
| JPS614142A (ja) * | 1984-06-16 | 1986-01-10 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡 |
-
1988
- 1988-06-17 JP JP63149655A patent/JPH0793119B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-06-15 US US07/366,692 patent/US4963737A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
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Also Published As
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