JP2012221958A - 歪みのないtemの非点収差補正 - Google Patents

歪みのないtemの非点収差補正 Download PDF

Info

Publication number
JP2012221958A
JP2012221958A JP2012088781A JP2012088781A JP2012221958A JP 2012221958 A JP2012221958 A JP 2012221958A JP 2012088781 A JP2012088781 A JP 2012088781A JP 2012088781 A JP2012088781 A JP 2012088781A JP 2012221958 A JP2012221958 A JP 2012221958A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
astigmatism
corrector
astigmatism corrector
objective lens
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012088781A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5899033B2 (ja
Inventor
Bischoff Maarten
ビスホフ マールテン
Henstra Alexander
ヘンストゥラ アレクサンデル
Lukon Uwe
ルーケン ウヴェ
Christiaan Tiemeijier Peter
クリスティアーン ティーメイエール ペーテル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
FEI Co
Original Assignee
FEI Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by FEI Co filed Critical FEI Co
Publication of JP2012221958A publication Critical patent/JP2012221958A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5899033B2 publication Critical patent/JP5899033B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/153Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/153Correcting image defects, e.g. stigmators
    • H01J2237/1532Astigmatism

Abstract

【課題】2つの非点収差補正器の励起がそれぞれ異なることで生じるドリフトなしに、2つの面内での非点収差を補正し、同時にLDをも補正する。
【解決手段】光軸に沿って荷電粒子源202、収束光学系208、対物レンズ214、結像光学系216、及び検出系218,224で構成される荷電粒子線装置において、対物レンズ214と検出系218,224との間には、試料210を結像するときの非点収差を減少させるために第1非点収差補正器250および回折面が結像されるときの非点収差を減少させるために第2非点収差補正器252が設けられる。当該装置は、前記対物レンズ214と検出系218,224との間に、第3非点収差補正器254が設けられる結果、直線歪みを減少させる第3の自由度が生成されることを特徴とする。本発明は前記第1非点収差補正器250、第2非点収差補正器252、及び第3非点収差補正器254の使用方法に関する。
【選択図】図2

Description

本発明は、荷電粒子ビームを放出する荷電粒子源を備える荷電粒子装置であって、当該荷電粒子装置内では、前記ビームが進行する方向に従って、収束光学系、対物レンズ、試料位置、結像光学系、及び検出系と続き、前記対物レンズと検出系との間には、前記検出系上で試料を結像するときの非点収差を減少させるために第1非点収差補正器が設けられ、かつ、前記検出系上で回折面が結像されるときの非点収差を減少させるために第2非点収差補正器が設けられる、荷電粒子装置に関する。
本発明はさらに、当該荷電粒子装置の使用方法に関する。
当該荷電粒子装置は、透過型電子顕微鏡(TEM)の形態で当業者に知られている。
TEMでは、典型的には厚さが2nm〜1μmの試料−たとえば生体材料の薄片又は半導体材料の薄いスライス−が、電子ビームにより照射される。電子のエネルギーは、たとえば50〜400keVの間で調節可能である。ただしその範囲とは異なるエネルギーを用いるTEMが用いられていることも知られている。試料は、TEMの対物レンズ内又はその付近に設けられる。それにより、対物レンズは、たとえば20倍の倍率で試料の第1像を生成する。
当業者に知られているように、TEMは2つの主要な動作モードを有する。そのうちの1つが、試料が検出系上で結像されるモードで、もう1つは、対物レンズの後焦点面が検出系上で結像されるモードである。後焦点面は、試料の回折パターンを含む。検出系はたとえば、蛍光スクリーン又はCOMS検出器であって良い。試料は、たとえば106倍の倍率で、検出器上で結像されて良い。106倍の倍率に相当する解像度は100pm以下である。
典型的なTEMには、対物レンズの後に2つの非点収差補正器が備えられる。1つは、結像モード(試料が結像されるとき)における非点収差を補正する対物レンズに近接する面内に設けられ、もう1つは、回折モード(回折パターンが結像されるとき)における非点収差補正をする第1中間結像面に近接して設けられる。
結像モードでは、試料はたとえば、TEMの蛍光スクリーン又は他の検出器−たとえばCCDカメラ又はCMOSカメラ等−上で結像される。対物レンズ用の非点収差補正器は、対物レンズの非点収差を補正するのに用いられる。調節は、試料の像を観察することによって行われる。
回折モードでは、試料はたとえば、TEMの蛍光スクリーン又は他の検出器−たとえばCCDカメラ又はCMOSカメラ等−上で結像される。回折レンズ用の非点収差補正器は、回折レンズの非点収差を補正するのに用いられる。調節は、回折パターンの像を観察することによって行われる。
非点収差の補正を行うのに1つの非点収差補正器を用いることの問題は、直線歪み(linear distortion)(LD)が生じることである。LDが生じると、2つの垂直方向での倍率がそれぞれ異なってしまう。このことは図1に図示されている。図1Aは、非点収差を有するビームを概略的に図示している。図1Aでは、一の方向での対物レンズの強度は、他の方向での対物レンズの強度とわずかに異なっている。これは、たとえば対物レンズの形状の不完全さに起因すると考えられる。本願発明者等は、対物レンズが最も弱くなる面となるようにXZ平面を選び、かつ、対物レンズが最も強くなる面となるようにYZ平面を選んだ。XZ平面での焦点は、YZ平面での焦点とはわずかに異なる。図1Bでは、これは非点収差補正器で補正され、かつ、XZ平面での焦点とYZ平面での焦点とは一致する。しかし、角度βxとβyは同一ではなく、XZ平面での角度倍率は、YZ平面での角度倍率とは異なるので、XZ平面での空間倍率とYZ平面での空間倍率とは異なる。
非点収差補正器が、XZ平面とYZ平面でそれぞれ異なる効果を有するので、1つの非点収差補正器のみを用いることによって導入される倍率誤差は、直線歪み(LD)である。LDでは、X方向での倍率とY方向での倍率とが異なる。
図1Cは、第2非点収差補正器を用いることによるこの問題の解決法を図示している。
回折モードにおけるLDを補正するための2つの非点収差補正器の使用は、非特許文献1から既知である。非特許文献1では、倍率誤差は楕円誤差と呼ばれる。この誤差を決定するため、TEMの対物レンズ用の非点収差補正器は任意の値に設定され、それに従って回折レンズ用の非点収差補正器は回折像での非点収差を最小限にするように調節され、回折パターンでのLD(ここでは楕円歪みと呼ぶ)が測定される。これが、対物レンズ用の非点収差補正器の様々な値について繰り返されることで、全ての対物レンズ用の非点収差補正器(及びそれに対応する最適化された回折レンズ用の非点収差補正器の設定)についてのLDを表す2次元等高プロットが生成される。
ウエハ上のレチクルを結像すると同時にリソグラフィ装置におけるLDを補正するのに2つの非点収差補正器を使用ことは特許文献1から既知である。特許文献1は、レチクルが、倍率の調節が可能な2重レンズによって結像される装置について記載している。2つのレンズの各々は、非点収差補正器によって取り囲まれている。2つのレンズのうちの一は、主として2重レンズの非点収差を補正するのに用いられる。2つのレンズのうちの他は、主としてLDを補正するのに用いられる。
上述した2つの例は、2つの非点収差補正器によって非点収差とLDを同時に調節することが原理的に可能であり、また既知であることを示している。
当業者に知られているように、非点収差補正器の位置を任意に選ぶことはできない。非点収差補正器で用いられる磁場又は静電場の強度は、軸への距離に対して1次関数的に変化するからである。従って、小さな直径のビームの非点収差補正は、大きな直径のビームの非点収差補正よりも、非点収差補正器の励起を大きくする必要がある。よってビームがクロスオーバーを有する像では、非点収差補正器さえも非点収差補正効果を有していない。さらに非点収差補正器の効果は、その非点収差補正器と、像が生成される面との間の距離に対して1次関数的に変化する。よって中間像に対して外れるビームについては、非点収差補正器の効果は、像が生成される面への非点収差補正器の距離の2乗に比例する。
従って、非点収差補正器は、ビームが大きな直径を有する位置に設けられ、かつ像が生成される面から離れていることが好ましい。
TEMは2つの動作モードを有する。2つの動作モードのうちの一では、結像面が結像される。2つの動作モードのうちの他では、回折面が結像される。そのため典型的なTEMには、試料と結像系との間に2つの非点収差補正器が備えられる。2つの非点収差補正器のうちの一は、像が結像されるときの画像における非点収差を補正する対物レンズに近接する面内に設けられる。2つの非点収差補正器のうちの他は、回折面が結像されるときの回折面における非点収差を補正回折レンズ(つまり対物レンズ後の結像系の第1レンズ)付近に設けられる。
その結果として生じる2つの自由度(各非点収差補正器につき1つの自由度)は、対物レンズ面と回折レンズ面における非点収差を補正するのに用いられる。
2つの非点収差補正器が協働することで、結合した作用が起こる仮想面を生成することができる。この結合した作用は、非点収差の補正とLDの補正であって良い。この面は、対物レンズが存在する面又は回折面と一致するように選ばれて良い。
2つの非点収差補正器を用いて、2つのモードにおける非点収差を補正し、かつLDをも補正するときに問題が生じる。それは、モードを切り換えるときに、非点収差補正器の励起を変更しなければならないことである。このことは以下のように説明される。結像モードでは、結像用の非点収差補正器が非点収差を補正するのに用いられ、他の非点収差補正器−回折用の非点収差補正器−はLDを補正するのに用いられる。回折モードでは、回折用の非点収差補正器が非点収差を補正するのに用いられ、他の非点収差補正器−結像用の非点収差補正器−はLDを補正するのに用いられる。励起を変更することで、非点収差補正器のコイルに異なるオーム性の熱−典型的には数ワットの変化−が発生する。その結果、温度ドリフトに起因する像のドリフトが起こる。必要とされる安定化時間は数十分のオーダーである。また特に鉄ヨークが用いられるときには、ヒステリシスが生じる恐れがある。
米国特許第6388261号明細書
ホー他(Hou et al.), Microsc Microanal 第14巻、2008年、pp.1126
2つの非点収差補正器の励起がそれぞれ異なることで生じるドリフトなしに、2つの面内での非点収差を補正し、同時にLDをも補正する方法が必要とされる。
本発明は、上記問題の解決法を供することを目的とする。
上記目的のため、本発明によるTEMは、対物レンズと検出系との間に、第3非点収差補正器が設けられる結果、直線歪みを減少させる第3の自由度が生成されることを特徴する。
本発明は、結像モードの非点収差と回折モードの非点収差のいずれもLDがない状態で可能となるように、3つの非点収差補正器を励起することが可能であるという知見に基づいている。従ってエネルギーの散逸の変化は起こらないので、前記非点収差補正器のエネルギーの散逸の変化によるドリフトは導入されない。
前記非点収差補正器が互いの上で結像されない、つまり独立した非点収差補正器からなる組でなければならないことは、当業者には明らかである。
前記3つの非点収差補正器は、前記対物レンズと結像光学系との間に設けられることが好ましい。よって前記結像光学系の全てのレンズが、前記非点収差補正器と結像面との間に存在するので、前記結像光学系の倍率は、非点収差補正器の励起を変更することなく変更することができる。また前記結像光学系のレンズが拡大像を生成するので、非点収差補正器が、より「ビームの下流」に設けられるときには、非点収差補正器の効果は、より小さくなり、前記励起は、より大きくなければならなくなる。前記非点収差補正器と結像面を前記対物レンズと結像光学系との間に設けることの別な利点は、磁気レンズが回転を導入するので、前記対物レンズと非点収差補正器との間のレンズの励起が変化するときに、前記非点収差補正器の向きもまた変化しなければならない結果、動作がより複雑になることである。この容積内に前記非点収差補正器を設ける他の利点は、前記非点収差補正器の間にレンズが存在しないため、一の非点収差補正器が他の非点収差補正器上に結像されることで、自由度が2に減少するといった(倍率の設定についての)変化が生じないことである。
ほとんどの非点収差は、対物レンズによって導入され、回折レンズによってはあまり導入されないことに留意して欲しい(結像面に近接するレンズの効果は無視できる)。結像系の他のレンズの効果は無視できる。よってこれらのレンズの倍率の変化は、非点収差に影響を及ぼさない。
当該装置にはユーザーインターフェースが備えられていることが好ましい。前記ユーザーインターフェースでは、結像モードでの非点収差、回折モードでの非点収差、及びLDの補正は、互いに独立して制御される。
前記3つの非点収差補正器の使用方法は、結像モードでの非点収差を減少させる第1非点収差補正器を励起する手順、回折モードでの非点収差を減少させる第2非点収差補正器を励起する手順、及び、直線歪みを減少させる第3非点収差補正器を励起する手順を有することを特徴とする。当該方法には、前記第1非点収差補正器はLDには影響せずに結像モードにおける非点収差にのみ影響し、前記第2非点収差補正器はLDには影響せずに回折モードにおける非点収差にのみ影響し、かつ、前記第3非点収差補正器は主としてLDには影響して結像モード及び回折モードにおける非点収差にはわずかしか影響しないような、前記第1非点収差補正器、前記第2非点収差補正器、及び前記第3非点収差補正器にとっての理想位置が存在することに留意することが重要である。実際には、機械的制約ゆえに、これらの理想位置に前記第1非点収差補正器、前記第2非点収差補正器、及び前記第3非点収差補正器を載置することは常に可能ではなく、これらの理想位置の付近に載置することもある。よってたとえば、前記第1非点収差補正器は、純粋に結像に係る非点収差だけに影響するのではなく、回折に係る非点収差やLDにもわずかに影響する。その場合、各々が前記3つの非点収差補正器を様々な比で同時に変更する3つの新たな制御を行うことで、新たな制御の各々は、結像に係る非点収差のみ、回折に係る非点収差のみ、又はLDのみに影響することが可能である。
当該方法の結果、前記3つの非点収差補正器が励起されることで、3つの要求全て(結像モードでの非点収差、回折モードでの非点収差、及びLDがゼロとなること)が同時に満足されることで、一のモードから他のモードに変更するときに励起の変更が必要なくなる。
ここで図面を用いることによって本発明を説明する。図中、同一参照番号は対応する特徴部位を指称する。
A-Cは、一組の非点収差補正器の動作を概略的に表している。 本発明による装置を概略的に表している。 図2の詳細である試料と回折レンズとの間の部分を概略的に表している。
図1Aは、レンズ104によって集束されるビーム100を概略的に表している。ビーム100とレンズ104のいずれも、軸102を中心にとる。レンズ104は、クロスオーバー位置Fでビーム100を集束させる。しかし非点収差のため、XZ平面でのクロスオーバーFxは、YZ平面でのクロスオーバーFyとはわずかに異なる。
図1Bは、非点収差補正器106の効果を概略的に表している。非点収差補正器は、一の面(XZ平面)内で正の強度を有し、かつ、該一の面に対して垂直な面(YZ平面)内で大きさの等しい負の強度を有するレンズとして考えることができる。XZ片面に関する非点収差補正器の強度は、Ai=Δr’/rで定義される。ここでΔr’は、軸102からある距離で非点収差補正器に衝突する粒子線の角度変化(傾斜の変化)である。
その結果、レンズとクロスオーバーとの間に非点収差補正器が設けられるときに、非点収差が補正され、その結果、XZ平面でのクロスオーバーとYZ平面でのクロスオーバーとが一致する。しかしXZ平面での開口角βxとYZ平面での開口角βyとは異なる。その結果、XZ平面での倍率MxとYZ平面での倍率Myとが異なる。なぜならMx・βx=My・βyだからである。
図1Cは、追加の非点収差補正器108を導入することによって、両方向での倍率を同一にしながら非点収差を補正することが可能なのかを概略的に表している。
図2は、結像モードでの本発明によるTEMを概略的に表している。
図2は、光軸200に沿って電子ビームを放出する電子源202を図示している。ビームは、位置合わせコイル204によって光軸200を中心にとる。ビームの開口角は、ビームを制限するアパーチャ206によって制限される。よって前記ビームは、収束レンズ208によって試料210へ向かうようにコリメート(収束)される。試料210は、光軸200に対して位置設定されるように試料ホルダ212上に載置される。試料210は、対物レンズ214の磁場中に存在する。それにより中間像が生成される。結像光学系内の投影レンズ216はこの像をさらに拡大する。その結果、顕著に拡大された像が、蛍光スクリーン218内に生成される。蛍光スクリーン218はヒンジ222上に載置され、かつビーム路から外れることができる。これにより、他の種類の検出器−たとえばCMOSカメラ224−上に像を生成することが可能となる。当該顕微鏡はさらに、筐体226、真空管228、及び1つ以上の真空ポンプ230(たとえばイオンゲッターポンプ(IGP)、ターボ分子ポンプ(TMP)、油拡散ポンプ(ODP)等から選ばれ、必要な場合には、所謂プレ真空ポンプによって補助される)を有する。さらに当該顕微鏡は、ユーザーによる当該顕微鏡の制御を可能にする制御装置(図示されていない)、及び、たとえば検出器224によって生成される像の表示を可能にする表示装置(図示されていない)を有する。
当該顕微鏡はまた、試料210と第1結像面との間に3つの非点収差補正器をも有する。対物レンズ用の非点収差補正器250は、主として試料210を結像するときの非点収差を減少させる。回折レンズ用の非点収差補正器252は、主として回折面を結像するときの非点収差を減少させる。LD用の非点収差補正器254は、主として直線歪みを減少させる。
従来技術に係る顕微鏡にはLD用の非点収差補正器が備えられていないことに留意して欲しい。
動作時、電子源202は、典型的には50〜400keVの調節可能なエネルギーを有する電子ビームを生成する。前記ビームは光軸200を中心にとる。開口角(つまりは電流)は、ビームを制限するアパーチャ206によって制限される。よって収束レンズ208は、前記ビームを試料210へ向かって収束させる。よって収束レンズ208は、試料210上での前記ビームの発散/収束及び照射される試料210の領域を決定する。
試料210は典型的には2nm〜1μmの厚さを有する。衝突する電子の多くは試料210を通り抜けて進行する。しかし試料210を通り抜けて進行する電子の多くは試料210と相互作用する。その相互作用は、吸収、散乱、及び/又はエネルギー損失でありうる。吸収された電子は、像中での強度の変動を引き起こす。散乱された電子は、非散乱電子の干渉する結果、位相コントラスト像となる。エネルギー損失は、空間的な電子エネルギー損失分光によって可視化することができる。
結像モードでは、対物レンズ214は、試料210の拡大中間像を生成する。前記拡大中間像は、投影レンズ216によってさらに拡大されて、スクリーン218又は検出器224上には像が生成される。
回折モードでは、試料ではなく、回折面が結像される。回折面−対物レンズ214の後焦点面と一致又は近接する面−内では、ある角度で試料210を飛び出す全ての電子が1点に集束される。その結果、回折情報は、試料の結構構造の情報を得るのに利用することができる。
これはTEMを非常に概略的に表したものであり、一般的にTEMは、多くの素子−たとえば検出器、(電子源202と試料210との間に設けられる)収束用の非点収差補正器、たとえばX線を検出するため(試料を取り囲まれた)検出器、(試料及び/又は検出器を極低温に維持する)極低温シールド−を有することに留意して欲しい。
図3は、図2の詳細を概略的に表している。図3では、対物レンズ214、非点収差補正器250、252、254、及び回折レンズ306(試料210に対して最近接する結像光学系216のレンズ)だけでなく、試料210と該試料210の第1中間像304も図示されている。図3はまた、次式によって(複素座標、つまりx+iy)で表される2つの主光線u(302)とv(301)をも表している。
Figure 2012221958
本発明は以下の知見に基づいている。
N個の非点収差補正器を有する光学系について、次式のように書くことができる。
Figure 2012221958
ここで、Aiはi(1≦i≦N)番目の非点収差補正器の強度である。Aimageは結像面内での非点収差で、Aimageは回折面内での非点収差で、DはLDである。各非点収差補正器の強度はAiによって定義される。
後で考えると、式[1]、[2]、[3]の全てがゼロとなる解を得るのに必要な非点収差補正器が少なくとも3つであることは明らかである。3つの非点収差補正器を用いる結果は、3つの要求を同時に満たす3つの非点収差補正器すべてについての固有の解であり、それゆえに、結像モードと回折モードとの間で変化するときにも、前記非点収差補正器の強度/励起は変更する必要がない。このため、当該装置のオーム性加熱及びそれに伴うドリフトが回避される。
100 ビーム
102 光軸
104 レンズ
106 非点収差補正器
108 非点収差補正器
200 光軸
202 荷電粒子源
204 位置合わせコイル
206 ビーム制限アパーチャ
208 収束光学系
210 試料
212 試料ホルダ
214 対物レンズ
216 結像光学系
218 検出系
220 覗き窓
222 ヒンジ
224 検出系
226 筐体
228 真空管
230 真空ポンプ
250 第1非点収差補正器
252 第2非点収差補正器
254 第3非点収差補正器
301 主光線
302 主光線
304 第1中間像
306 回折レンズ

Claims (5)

  1. 荷電粒子ビームを放出する荷電粒子源を備える荷電粒子装置であって、
    当該荷電粒子装置内では、前記ビームが進行する方向に従って、収束光学系、試料位置、対物レンズ、結像光学系、及び検出系と続き、
    前記対物レンズと検出系との間には、前記検出系上で試料を結像するときの非点収差を減少させるために第1非点収差補正器が設けられ、かつ、前記検出系上で回折面が結像されるときの非点収差を減少させるために第2非点収差補正器が設けられ、前記対物レンズと検出系との間に第3非点収差補正器が設けられ、その結果、直線歪みを減少させる第3の自由度が生成されることを特徴する、荷電粒子装置。
  2. 前記第1非点収差補正器、前記第2非点収差補正器、及び、前記第3非点収差補正器が、前記対物レンズと結像光学系との間に設けられ、
    その結果、前記第1非点収差補正器、前記第2非点収差補正器、及び、前記第3非点収差補正器の励起は、前記結像光学系の設定が変更されたときにも、変更される必要がない、
    請求項1に記載の装置。
  3. ユーザーインターフェースを有する制御装置を備える請求項1又は2に記載の装置であって、
    前記ユーザーインターフェースは、前記第1非点収差補正器、前記第2非点収差補正器、及び、前記第3非点収差補正器を制御する制御を示し、
    前記制御は、結像に係る非点収差、回折に係る非点収差、及び直線歪みに係る非点収差が、互いに独立した制御となるように、前記第1非点収差補正器、前記第2非点収差補正器、及び、前記第3非点収差補正器を制御する、
    装置。
  4. 透過型電子顕微鏡又は走査透過型電子顕微鏡である、請求項1乃至3のいずれかに記載の装置。
  5. 請求項1乃至4のいずれかに記載の装置の使用方法であって:
    前記試料を結像するときの非点収差を減少させるように前記第1非点収差補正器を励起する手順;
    前記回折面が結像されるときの非点収差を減少させるように前記第2非点収差補正器を励起する手順;及び、
    直線歪みを減少させるように前記第3非点収差補正器を励起する手順;
    を有することを特徴とする方法。
JP2012088781A 2011-04-13 2012-04-09 歪みのないtemの非点収差補正 Active JP5899033B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP11162275.9A EP2511936B1 (en) 2011-04-13 2011-04-13 Distortion free stigmation of a TEM
EP11162275.9 2011-04-13

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012221958A true JP2012221958A (ja) 2012-11-12
JP5899033B2 JP5899033B2 (ja) 2016-04-06

Family

ID=44483767

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012088781A Active JP5899033B2 (ja) 2011-04-13 2012-04-09 歪みのないtemの非点収差補正

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8569693B2 (ja)
EP (1) EP2511936B1 (ja)
JP (1) JP5899033B2 (ja)
CN (1) CN102737933B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017526101A (ja) * 2014-07-22 2017-09-07 インテリジェント ヴァイルス イメージング インコーポレイテッド 非点収差を自動補正するための方法

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2584584A1 (en) 2011-10-19 2013-04-24 FEI Company Method for adjusting a STEM equipped with an aberration corrector
EP2704177B1 (en) 2012-09-04 2014-11-26 Fei Company Method of investigating and correcting aberrations in a charged-particle lens system
EP2966668B1 (en) 2014-07-10 2016-10-12 Fei Company Method of calibrating a scanning transmission charged-particle microscope
US9928989B2 (en) 2014-07-22 2018-03-27 Intelligent Virus Imaging Inc. Method for automatic correction of astigmatism
US9978557B2 (en) 2016-04-21 2018-05-22 Fei Company System for orienting a sample using a diffraction pattern
JP6783124B2 (ja) * 2016-11-28 2020-11-11 日本電子株式会社 走査透過電子顕微鏡および画像生成方法
CN107796837B (zh) * 2017-10-09 2019-10-29 南京大学 一种成像装置、成像方法及成像系统
US10522323B2 (en) * 2018-04-05 2019-12-31 Fei Company Electron energy loss spectroscopy with adjustable energy resolution
EP3591685A1 (en) * 2018-07-06 2020-01-08 FEI Company Electron microscope with improved imaging resolution
US11211223B1 (en) * 2020-08-25 2021-12-28 Fei Company System and method for simultaneous phase contrast imaging and electron energy-loss spectroscopy
US20220328284A1 (en) * 2021-03-31 2022-10-13 Fei Company Method to correct first order astigmatism and first order distortion in multi-beam scanning electron microscopes
CN113906545A (zh) * 2021-09-03 2022-01-07 长江存储科技有限责任公司 通过显微镜检查进行倾斜表征的方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000100364A (ja) * 1998-09-25 2000-04-07 Nikon Corp 荷電粒子線転写装置

Family Cites Families (78)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE873729C (de) * 1950-11-21 1953-04-16 Sueddeutsche Lab G M B H Einrichtung zur Verminderung des astigmatischen Fehlers elektronenoptischer Systeme
US2919381A (en) 1956-07-25 1959-12-29 Farrand Optical Co Inc Electron lens
NL7012388A (ja) 1970-08-21 1972-02-23
NL7404363A (nl) 1974-04-01 1975-10-03 Philips Nv Elektronenmikroskoop met energieanalysator.
US4095104A (en) 1975-09-01 1978-06-13 U.S. Philips Corporation Electron microscope
JPS5423476A (en) * 1977-07-25 1979-02-22 Akashi Seisakusho Kk Composite electron lens
NL7906632A (nl) 1979-09-05 1981-03-09 Philips Nv Automatische bundelcorrektie in stem.
DE2937004C2 (de) 1979-09-13 1984-11-08 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 8000 München Chromatisch korrigierte Ablenkvorrichtung für Korpuskularstrahlgeräte
US4303864A (en) 1979-10-25 1981-12-01 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Sextupole system for the correction of spherical aberration
US4389571A (en) 1981-04-01 1983-06-21 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Multiple sextupole system for the correction of third and higher order aberration
US4414474A (en) 1982-02-17 1983-11-08 University Patents, Inc. Corrector for axial aberrations in electron optic instruments
NL8304217A (nl) 1983-12-07 1985-07-01 Philips Nv Automatisch instelbare electronenmicroscoop.
AT388628B (de) 1986-01-31 1989-08-10 Ims Ionen Mikrofab Syst Einrichtung fuer projektionsgeraete
US4899091A (en) * 1984-05-29 1990-02-06 Tektronix, Inc. Cathode-ray-tube astigmatism correction apparatus
EP0175933A1 (de) 1984-09-21 1986-04-02 Siemens Aktiengesellschaft Rasterlinsen-System ohne Ablenkfarbfehler zur Materialbearbeitung mit Korpuskularstrahlen
DE8634545U1 (ja) 1986-12-23 1987-05-21 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen, De
JPH01264149A (ja) 1988-04-15 1989-10-20 Hitachi Ltd 荷電粒子線応用装置
DE3841715A1 (de) 1988-12-10 1990-06-13 Zeiss Carl Fa Abbildender korrektor vom wien-typ fuer elektronenmikroskope
EP0451370B1 (en) 1990-04-12 1996-03-27 Koninklijke Philips Electronics N.V. Correction system for a charged-particle beam apparatus
NL9100294A (nl) 1991-02-20 1992-09-16 Philips Nv Geladen deeltjesbundelinrichting.
DE69322890T2 (de) 1992-02-12 1999-07-29 Koninkl Philips Electronics Nv Verfahren zur Verringerung einer räumlichen energiedispersiven Streuung eines Elektronenstrahlenbündels und eine für den Einsatz eines solchen Verfahrens geeignete Elektronenstrahlvorrichtung
DE4204512A1 (de) 1992-02-15 1993-08-19 Haider Maximilian Dipl Phys Dr Elektronenoptisches korrektiv
DE4216730C2 (de) 1992-05-20 2003-07-24 Advantest Corp Rasterelektronenstrahlgerät
US5336891A (en) 1992-06-16 1994-08-09 Arch Development Corporation Aberration free lens system for electron microscope
EP0647960B1 (en) 1993-05-21 1997-03-26 Koninklijke Philips Electronics N.V. Energy filter with correction of a second-order chromatic aberration
ES2101465T3 (es) 1993-09-17 1997-07-01 Essilor Int Procedimiento de medicion absoluta de la estructura geometrica u optica de un componente optico y dispositivo para su puesta en practica.
KR19990028770A (ko) 1996-05-21 1999-04-15 엠. 제이. 엠. 반캄 입자-광학 장치에서 렌즈 수차를 교정하기 위한 교정장치
US5798524A (en) 1996-08-07 1998-08-25 Gatan, Inc. Automated adjustment of an energy filtering transmission electron microscope
DE19633496B4 (de) 1996-08-20 2006-06-08 Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh Monchromator für die Elektronenoptik, insbesondere Elketronenmikroskopie
WO1998012732A1 (en) 1996-09-20 1998-03-26 Philips Electronics N.V. Correction device for correcting chromatic aberration in particle-optical apparatus
WO1998025293A2 (en) 1996-12-03 1998-06-11 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method of operating a particle-optical apparatus
US6301008B1 (en) 1997-03-27 2001-10-09 Philips Semiconductor, Inc. Arrangement and method for calibrating optical line shortening measurements
EP0981829B1 (en) 1997-11-20 2008-01-30 Fei Company Electrostatic device for correcting chromatic aberration in a particle-optical apparatus
JP2001511303A (ja) 1997-12-11 2001-08-07 フィリップス エレクトロン オプティクス ビー ヴィ 粒子−光学装置における球面収差補正用の補正デバイス
DE69822802T2 (de) 1997-12-22 2004-08-05 Fei Co., Hillsboro Korrigiervorrichtung zur behebung des chromatischen fehlers in korpuskularoptischen geräten
DE19802409B4 (de) 1998-01-23 2006-09-21 Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh Anordnung zur Korrektur des Öffnungsfehlers dritter Ordnung einer Linse, insbesondere der Objektivlinse eines Elektronenmikroskops
US6426501B1 (en) 1998-05-27 2002-07-30 Jeol Ltd. Defect-review SEM, reference sample for adjustment thereof, method for adjustment thereof, and method of inspecting contact holes
DE69827791T2 (de) 1998-09-23 2005-04-21 Advantest Corp Vorrichtung zur Reduzierung der Energieverteilung eines Teilchenstrahls und Teilchenstrahlgerät mit einer solchen Anordnung
US6248486B1 (en) 1998-11-23 2001-06-19 U.S. Philips Corporation Method of detecting aberrations of an optical imaging system
US6368763B2 (en) 1998-11-23 2002-04-09 U.S. Philips Corporation Method of detecting aberrations of an optical imaging system
WO2000036630A1 (en) 1998-12-17 2000-06-22 Philips Electron Optics B.V. Particle-optical apparatus involving detection of auger electrons
JP4093662B2 (ja) 1999-01-04 2008-06-04 株式会社日立製作所 走査形電子顕微鏡
DE60033767T2 (de) 1999-06-22 2007-11-15 Fei Co., Hillsboro Korpuskularoptisches gerät mit einer teilchenquelle umschaltbar zwischen hoher helligkeit und grossem strahlstrom
DE10003127A1 (de) 2000-01-26 2001-08-02 Ceos Gmbh Verfahren zur Ermittlung geometrisch optischer Abbildungsfehler
US6943351B2 (en) * 2000-02-19 2005-09-13 Multibeam Systems, Inc. Multi-column charged particle optics assembly
EP1150327B1 (en) 2000-04-27 2018-02-14 ICT, Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Multi beam charged particle device
JP2002042707A (ja) * 2000-07-25 2002-02-08 Jeol Ltd 非点収差補正装置
US6552340B1 (en) 2000-10-12 2003-04-22 Nion Co. Autoadjusting charged-particle probe-forming apparatus
JP3951590B2 (ja) * 2000-10-27 2007-08-01 株式会社日立製作所 荷電粒子線装置
DE10107910A1 (de) * 2001-02-20 2002-08-22 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Teilchenstrahlsystem mit einem Spiegelkorrektor
WO2002103337A2 (en) 2001-06-15 2002-12-27 Ebara Corporation Electron beam apparatus and method for using said apparatus
CN100341106C (zh) 2001-10-10 2007-10-03 应用材料以色列有限公司 对准带电颗粒束列的方法与装置
ATE484840T1 (de) * 2001-10-10 2010-10-15 Applied Materials Israel Ltd Verfahren und vorrichtung zur ausrichtung einer säule für strahlen geladener teilchen
US6723997B2 (en) 2001-10-26 2004-04-20 Jeol Ltd. Aberration corrector for instrument utilizing charged-particle beam
JP3914750B2 (ja) 2001-11-20 2007-05-16 日本電子株式会社 収差補正装置を備えた荷電粒子線装置
DE10159454B4 (de) 2001-12-04 2012-08-02 Carl Zeiss Nts Gmbh Korrektor zur Korrektion von Farbfehlern erster Ordnung, ersten Grades
DE10159308A1 (de) 2001-12-04 2003-06-12 Ceos Gmbh Teilchenoptischer Korrektor
DE10217507B4 (de) 2002-04-19 2005-02-10 Schönhense, Gerd, Prof. Dr. Anordnung zur Abbildung des von einer Probe gepulst emittierten Teilchenensembles auf einem Detektor
US6924488B2 (en) 2002-06-28 2005-08-02 Jeol Ltd. Charged-particle beam apparatus equipped with aberration corrector
JP4204902B2 (ja) 2002-06-28 2009-01-07 日本電子株式会社 収差補正装置を備えた荷電粒子ビーム装置
US6770887B2 (en) 2002-07-08 2004-08-03 Ondrej L. Krivanek Aberration-corrected charged-particle optical apparatus
DE10235456B4 (de) 2002-08-02 2008-07-10 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Elektronenmikroskopiesystem
JP3968334B2 (ja) 2002-09-11 2007-08-29 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置及び荷電粒子線照射方法
NL1024192C2 (nl) 2003-08-29 2005-03-01 Fei Co Werkwijze voor het focusseren in een deeltjes-optisch toestel met behulp van astigmatisme in de deeltjesbundel.
US7164128B2 (en) 2003-11-25 2007-01-16 Hitachi High-Technologies Corporation Method and apparatus for observing a specimen
NL1025500C2 (nl) 2004-02-17 2005-08-19 Fei Co Deeltjesbron met selecteerbare bundelstroom en energiespreiding.
JP4351108B2 (ja) 2004-04-07 2009-10-28 日本電子株式会社 Semの収差自動補正方法及び収差自動補正装置
US7378667B2 (en) 2005-04-05 2008-05-27 Fei Company Particle-optical appliance provided with aberration-correcting means
NL1029847C2 (nl) 2005-09-01 2007-03-05 Fei Co Werkwijze voor het bepalen van lensfouten in een deeltjes-optisch apparaat.
JP4851148B2 (ja) 2005-09-27 2012-01-11 日本電子株式会社 電子顕微鏡
EP1783811A3 (en) 2005-11-02 2008-02-27 FEI Company Corrector for the correction of chromatic aberrations in a particle-optical apparatus
JP4790567B2 (ja) 2005-11-30 2011-10-12 日本電子株式会社 ロンチグラムを用いた収差測定方法及び収差補正方法及び電子顕微鏡
EP1796130A1 (en) 2005-12-06 2007-06-13 FEI Company Method for determining the aberration coefficients of the aberration function of a particle-optical lens.
EP2065752A1 (en) * 2007-11-23 2009-06-03 Koninklijke Philips Electronics N.V. Optical illumination apparatus for illuminating a sample with a line beam
EP2166557A1 (en) 2008-09-22 2010-03-24 FEI Company Method for correcting distortions in a particle-optical apparatus
WO2011052333A1 (ja) * 2009-10-26 2011-05-05 株式会社日立ハイテクノロジーズ 走査荷電粒子線装置、及び色球面収差補正方法
EP2325862A1 (en) 2009-11-18 2011-05-25 Fei Company Corrector for axial aberrations of a particle-optical lens
DE102010054541A1 (de) * 2010-12-15 2012-06-21 Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh Korrektor

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000100364A (ja) * 1998-09-25 2000-04-07 Nikon Corp 荷電粒子線転写装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017526101A (ja) * 2014-07-22 2017-09-07 インテリジェント ヴァイルス イメージング インコーポレイテッド 非点収差を自動補正するための方法

Also Published As

Publication number Publication date
US8569693B2 (en) 2013-10-29
CN102737933B (zh) 2016-01-20
EP2511936A1 (en) 2012-10-17
EP2511936B1 (en) 2013-10-02
US20130062520A1 (en) 2013-03-14
CN102737933A (zh) 2012-10-17
JP5899033B2 (ja) 2016-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5899033B2 (ja) 歪みのないtemの非点収差補正
JP4620981B2 (ja) 荷電粒子ビーム装置
JP5601838B2 (ja) 粒子光学装置
JP4553889B2 (ja) 粒子光学レンズの収差関数における収差係数の決定方法
JP6490772B2 (ja) 荷電粒子ビーム装置
JP6173862B2 (ja) 電子顕微鏡
JP6320186B2 (ja) 荷電粒子線応用装置
US9613779B2 (en) Scanning transmission electron microscope with variable axis objective lens and detective system
US8541739B2 (en) Precession diffraction charged particle beam system
CN108463869B (zh) 带电粒子束装置及其光轴调整方法
JP2007128893A (ja) 粒子光学装置における色収差の補正用の補正器
WO2014115708A1 (ja) 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法
US20130320210A1 (en) Charged Particle Beam System and Method of Axial Alignment of Charged Particle Beam
JP3867048B2 (ja) モノクロメータ及びそれを用いた走査電子顕微鏡
JP4851268B2 (ja) 収差補正方法および電子線装置
TWI622077B (zh) 帶電粒子束裝置、用於帶電粒子束裝置的系統、及用於操作帶電粒子束裝置的方法
JP2021022564A (ja) ローレンツem用補正器転送光学系
JP5452722B2 (ja) 収差補正装置およびそれを用いた荷電粒子線装置
WO2023139631A1 (ja) 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置におけるビームの偏向方法
JP6808772B2 (ja) エネルギーフィルタおよび荷電粒子線装置
JP6959969B2 (ja) 荷電粒子線装置
TW202236342A (zh) 帶電粒子束設備、掃描電子顯微鏡和操作帶電粒子束設備的方法
JP2005310512A (ja) 電子光学システム及び電子顕微鏡

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150303

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20151117

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160209

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160301

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160307

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5899033

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250