DE873729C - Einrichtung zur Verminderung des astigmatischen Fehlers elektronenoptischer Systeme - Google Patents
Einrichtung zur Verminderung des astigmatischen Fehlers elektronenoptischer SystemeInfo
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- DE873729C DE873729C DES20955A DES0020955A DE873729C DE 873729 C DE873729 C DE 873729C DE S20955 A DES20955 A DE S20955A DE S0020955 A DES0020955 A DE S0020955A DE 873729 C DE873729 C DE 873729C
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
- Man kann den Astigmatismus von- Elektronenlinsen dadurch beseitigen, daß man geeignete zusätzliche Hilfselektroden und/oder Magnetpole vorsieht, durch die vorzugsweise einstellbare, nicht rotationssymmetrische Felder erzeugt werden können. Diese Einrichtungen bezeichnet man als Stigmator. Solche Stigmatonen dienen dazu, ein Feld aufzubauen, das die abbil-' denden Elektronen derart ablenkt, daß der astigma-. tische Fehler behoben wird. Je nach der Entfernung des Stigmatörs vom Objektiv tritt bei der Korrektion des Astigmatismus eine mehr oder weniger starke Verzeichnung auf, die man mit in Kauf nehmen muB. Es ist bekannt, die Verzeichnung durch Anbringen eines zweiten Stigmators zu beseitigen, der sich im Strahlengang hinter dem Projektiv befindet. Durch diesen zweiten Stigmator wird die Abbildungsgüte wegen der geringen Apertur hinter den Projektiven nicht mehr beeinflußt.
- Die Erfindung bezieht sich "auf eine Vorrichtung zur Verminderung des astigmatischen Fehlers elektronenoptischer Systeme, bestehend aus zwei in Strahlrichtung hintereinander angeordneten Systemen von zusätzlichen Hilfselektroden und/oder Magnetpolen, die vorzugsweise einstellbare, nicht rotationssymmetrische Felder erzeugen können und zur Kompensation- von ,Symmetriefehlern dienen, bei der jedoch die beiden Kompensationseinrichtungen zwischen Objektiv und Projektiv hintereinander und in verschiedenem Abstand vom Objektiv zur optischen Achse möglichst genau zentriert sind und die Korrekturfelder einen Winkel von möglichst genau 9o° miteinander bilden.
- Es ergibt sich dabei der Vorteil, daß diese Vorrichtung auch für Apparate mit nur einer Linse verwertbar ist.
- Besonders bequem wird die Bedienung der Vorrichtung gemäß der Erfindung, wenn die Elektroden der beiden Kompensationseinrichtungen über unveränderliche Schaltelemente fest- rriiteinander derart verbünden sind, daß sie nur gemeinsam geschaltet werden können.
- Dabei gibt es zwei Möglichkeiten. Einmallassen sich die Verzeichnungen gerade kompensieren, wenn . an beide Teilsysteme die gleiche Spannung angelegt ist. Dazu müssen jedoch die Elektroden in beiden Systemen entsprechend angepäßt werden. Ist dies nicht der Fäll, so heben sich die Verzeichnungen erst dann auf, wenn die Spannungen an den beiden Teilsystemen in einem bestimmten Verhältnis zueinander stehen. Die Figuren zeigen in- zum Teil schematischer Darstellung j e ein Beispiel der Ausführung eines elektronenoptischen Systems üblicher Bauart und ein weiteres, bei dem von der Lehre der Erfindung Gebrauch gemacht worden ist.
- Fig. i zeigt ein astigmatisches Objektiv 2, das das Objekt i in die Ebene 5 abbilden soll. Sowohl auf der x-Seite als auch auf der y-Seite treten die Strahlen unter dem Winkel 8 gegen die optische Achse aus und werden in der astigmatischen Linse 2 auf der y-Seite stärker als auf der x-Seite gebrochen. Die Pole 3 und q. des einfachen Stigmators brechen die beiden Strahlen um die Winkel a verschieden stark; jedoch so, daß das scharfe Bild in der Ebene 5 entsteht. Da jedoch y i * y 2 ist, ist das Bild verzeichnet.
- Bei Verwendung eines verzeichnungsfreien Stigmators nach der Erfindung nehmen die Strahlen zunächst gemäß Fig. z den gleichen Weg wie bei der in Fig. z dargestellten Anordnung. Jedoch erfahren die Strählen durch das Feld der Elektroden 6 und 7 des verzeichnungsfreien Stigmators eine weitere Ablenkung um die Winkel fl; so daß sie beide die Bildebene 8 an der gleichen Stelle durchstoßen und darüber hinaus mit der optischen Achse zwei untereinander gleiche Winkel y 1 und y 2 bilden. Damit ist das Bild unverzeichnet.
Claims (2)
- PATENTANSPRÜCHE:-i. Einrichtung zur Verminderung des astigmatischen Fehlers elektronenoptischer Systeme, bestehend aus zwei in Strahlrichtung hintereinander angeordneten Systemen zusätzlicher Hilfselektroden und/oder Magnetpole, die vorzugsweise einstellbare, nicht rotationssymmetrische Felder erzeugen können, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Kompensationseinrichtungen zwischen Objektiv und Pröjektiv hintereinander und in verschiedenem Abstand vorn Objektiv zur optischen Achse möglichst genau zentriert sind und die Korrekturfelder einen Winkel von möglichst genau 9o° miteinander bilden.
- 2. Einrichtung nach Anspruch z; dadurch gekennzeichnet, daß die Elektroden der beiden Kompensationseinrichtungen über unveränderliche Schaltelemente fest miteinander derart verbunden sind, daß sie nur gemeinsam geschaltet werden können.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES20955A DE873729C (de) | 1950-11-21 | 1950-11-21 | Einrichtung zur Verminderung des astigmatischen Fehlers elektronenoptischer Systeme |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES20955A DE873729C (de) | 1950-11-21 | 1950-11-21 | Einrichtung zur Verminderung des astigmatischen Fehlers elektronenoptischer Systeme |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE873729C true DE873729C (de) | 1953-04-16 |
Family
ID=7476254
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DES20955A Expired DE873729C (de) | 1950-11-21 | 1950-11-21 | Einrichtung zur Verminderung des astigmatischen Fehlers elektronenoptischer Systeme |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE873729C (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1187335B (de) * | 1958-04-24 | 1965-02-18 | Tesla Np | Vorrichtung zur Kompensation des axialen Astigmatismus von Elektronenlinsen |
EP2511936A1 (de) * | 2011-04-13 | 2012-10-17 | Fei Company | Verzerrungsfreie Stigmation eines TEM |
-
1950
- 1950-11-21 DE DES20955A patent/DE873729C/de not_active Expired
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1187335B (de) * | 1958-04-24 | 1965-02-18 | Tesla Np | Vorrichtung zur Kompensation des axialen Astigmatismus von Elektronenlinsen |
EP2511936A1 (de) * | 2011-04-13 | 2012-10-17 | Fei Company | Verzerrungsfreie Stigmation eines TEM |
US8569693B2 (en) | 2011-04-13 | 2013-10-29 | Fei Company | Distortion free stigmation of a TEM |
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